JP3456755B2 - Reflector plate and strobe reflector umbrella using the same - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、反射体に関するもので
あり、さらに詳しくは、ストロボ用の反射傘に好適に用
いることができる反射体とその反射傘に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflector, and more particularly, it relates to a reflector which can be preferably used as a reflector for a strobe and the reflector.

【０００２】[0002]

【従来の技術】ストロボ用の反射傘として従来、表面を
研磨したアルミの板を板金加工により成形加工したもの
が用いられてきたが、近年、レンズ付きフィルムの様な
簡便なカメラにもストロボが装備されるようになり、ス
トロボのシステム全体として見た場合に、軽量化および
小型化が重要視されるようになってきた。ストロボに用
いるキセノンランプを放電させるためのコンデンサーが
ストロボの回路において大きな割合を占めており、上記
コンデンサーを小さくすることは、ストロボシステム全
体としての小型化ばかりでなく低コスト化につながり産
業上きわめて重要である。このコンデンサーを小型化す
る１つの方法は、キセノンランプから放射される光を効
率的に被写体に到達させるために、上記の表面研磨した
アルミに代わって、より反射率の高い銀を用いることが
１つの解決法として考えられる。本発明者らは、アルミ
よりも可視光領域で反射率が高く、かつ、アルミ板と同
様に板金加工や打ち抜き加工が可能な反射板に関する技
術を開示した（例えば特開平５−１６２２２７号）。2. Description of the Related Art Conventionally, as a reflector for a strobe, an aluminum plate whose surface has been polished is formed by sheet metal processing, but in recent years, strobes have been used for a simple camera such as a film with a lens. As a result of being equipped, the weight and size of the strobe system have come to be emphasized in terms of the entire strobe system. Capacitors for discharging xenon lamps used in strobes occupy a large proportion in strobe circuits, and reducing the size of the above capacitors not only leads to downsizing of the entire strobe system but also to cost reduction, which is extremely important in industry. Is. One way to miniaturize this condenser is to use silver, which has a higher reflectance, instead of the above-mentioned surface-polished aluminum so that the light emitted from the xenon lamp can efficiently reach the subject. Considered as one solution. The present inventors have disclosed a technique relating to a reflector having a higher reflectance in the visible light region than aluminum and capable of sheet metal working and punching similar to an aluminum plate (for example, JP-A-5-162227).

【０００３】本発明者らが提案した反射板は、透明高分
子フィルム（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）、接着層（Ｃ）、板
状成形体（Ｄ）が、ＡＢＣＤの順に形成されたものであ
って、銀薄膜表面を直接大気に暴露することがなく、銀
薄膜表面の腐食の問題等を解決し、銀を用いた反射体の
耐侯性を飛躍的に向上させるものであった。本発明者ら
はそこで、透明高分子フィルムにポリエチレンテレフタ
レートを用い、板状成形体にアルミニウムを用いた上記
銀の反射体を打ち抜き加工し、ストロボ用に板金加工
し、実際にストロボに用い１０〜５０回発光させたとこ
ろ、当該反射板の高分子フィルム層表面が黒化するとい
う予期せざる問題に遭遇した。しかして、実際に使用さ
れる反射体では、少なくとも５０回の発光に対して黒化
しないことが望まれる。そこで、黒化の原因を本発明者
等が鋭意調査したところ、意外なことに、発光を誘起さ
せるためにランプの外部から印加する高電圧の高周波ト
リガに黒化の原因があることを発見した。そこで、この
問題を解決する方法を鋭意研究したところ、該反射体
に、誘電正接が０．００２５以下の透明高分子フィルム
を用いることで上記の問題を一応解決できることを見い
だした。そこで、さらに誘電正接が０．００２５以下の
透明高分子フィルムを用いた上記反射板をストロボ装置
に実装することにより、発光試験をつづけたところ、フ
ィルムの黒化はなくなったものの、銀薄膜層に亀裂が入
り反射率が低下するという別の問題に遭遇した。この問
題を解決するために、本発明者等がさらにさらに鋭意研
究を重ねたところ、誘電正接が低い高分子層と高い高分
子層を重ねて用いることにより、フィルムの黒化と銀薄
膜層の亀裂発生の両方を防ぐとができることを見いだし
本発明に到達した。本発明はかかる知見に基づいてなさ
れるに至ったものである。In the reflector proposed by the present inventors, a transparent polymer film (A), a silver thin film layer (B), an adhesive layer (C) and a plate-shaped molded body (D) are formed in the order of ABCD. However, the surface of the silver thin film was not directly exposed to the atmosphere, the problem of corrosion of the surface of the silver thin film was solved, and the weather resistance of the reflector using silver was dramatically improved. Therefore, the inventors of the present invention used polyethylene terephthalate for the transparent polymer film, punched out the above silver reflector using aluminum for the plate-shaped molded body, processed sheet metal for strobe, and actually used it for strobe. When light was emitted 50 times, an unexpected problem was encountered in which the surface of the polymer film layer of the reflector was blackened. Therefore, it is desired that the actually used reflector does not blacken at least 50 times of light emission. Therefore, as a result of diligent investigations by the present inventors on the cause of blackening, it was surprisingly discovered that the high-voltage high-frequency trigger applied from the outside of the lamp to induce light emission causes blackening. . Therefore, as a result of intensive research into a method for solving this problem, it was found that the above problem can be solved by using a transparent polymer film having a dielectric loss tangent of 0.0025 or less for the reflector. Then, the light emitting test was continued by mounting the above-mentioned reflector using a transparent polymer film having a dielectric loss tangent of 0.0025 or less on a strobe device. I ran into another problem that cracked and reduced reflectance. In order to solve this problem, the inventors of the present invention further conducted extensive studies, and by using a polymer layer having a low dielectric loss tangent and a polymer layer having a high dielectric loss tangent, the blackening of the film and the silver thin film layer The inventors have found that both cracks can be prevented and have reached the present invention. The present invention has been made based on such findings.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】銀薄膜層に使用時に亀
裂が入り反射率が低下することのない銀反射板を提供す
ることにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a silver reflector in which a silver thin film layer is not cracked when used and its reflectance is not lowered.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、上
記の問題を解決するためになされたものであって、少な
くとも、透明高分子層（Ａ）、透明高分子層（Ｂ）、銀
薄膜層（Ｃ）、接着層（Ｄ）、板状成形体（Ｅ）が、Ａ
ＢＣＤＥの順に形成されたＡの面が反射面である反射板
にして、１００ｋＨｚ〜１０ＭＨｚの高周波に対する、
該透明高分子層（Ａ）の誘電正接が０．００２５以下で
あり、かつ、該透明高分子層（Ｂ）の誘電正接が０．０
０３５以上である反射板であり、また、透明高分子層
（Ａ）と透明高分子層（Ｂ）の常用耐熱性が、８０℃以
上である反射板であり、また、透明高分子層（Ａ）が、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リスチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン共重合体、もしくはテトラフルオロエチレン
−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体である
反射板であり、また、透明高分子層（Ｂ）が、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
エーテルエーテルケトン、もしくはポリエーテルスルホ
ンである反射板であり、また、透明高分子層（Ａ）と透
明高分子層（Ｂ）の２層構造が、少なくとも２枚のフィ
ルムを接着層により貼り合わせることにより形成される
反射板であり、また、透明高分子層（Ａ）および透明高
分子層（Ｂ）の波長４００ｎｍから７５０ｎｍの範囲の
光線に対する透過率が８０％以上である反射板であり、
また、銀薄膜層（Ｃ）がスパッタリング法もしくは真空
蒸着法で作製される反射板であり、また、板状成形体
（Ｅ）がアルミニウム、アルミ合金、ステンレス鋼、銅
亜鉛合金、鋼から選ばれたものである反射板であり、ま
た、波長５００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の光線に対する
反射率が９３％以上である反射板であり、また、銀薄膜
層（Ｂ）の膜厚が７０ｎｍ〜３００ｎｍである反射板で
ある。本発明はまた、上記の何れかの銀反射板を傘状に
加工形成してなるストロボ用反射傘である。That is, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and at least a transparent polymer layer (A), a transparent polymer layer (B), and a silver thin film. The layer (C), the adhesive layer (D), and the plate-shaped molded body (E) are A
The surface of A formed in the order of BCDE is used as a reflection plate having a reflection surface, and for a high frequency of 100 kHz to 10 MHz,
The dielectric loss tangent of the transparent polymer layer (A) is 0.0025 or less, and the dielectric loss tangent of the transparent polymer layer (B) is 0.0.
A reflector having a temperature of 035 or higher, and a transparent polymer layer (A) and a transparent polymer layer (B) having a common heat resistance of 80 ° C. or higher. )But,
A reflective plate made of polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polystyrene, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, or tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, and the transparent polymer layer (B) is polyethylene. A reflective plate made of terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether ether ketone, or polyether sulfone, and having at least two films having a two-layer structure of a transparent polymer layer (A) and a transparent polymer layer (B). And a transparent polymer layer (A) and a transparent polymer layer (B) having a transmittance of 80% or more for light rays in the wavelength range of 400 nm to 750 nm. Is a reflector,
Further, the silver thin film layer (C) is a reflecting plate produced by a sputtering method or a vacuum deposition method, and the plate-shaped molded body (E) is selected from aluminum, aluminum alloy, stainless steel, copper-zinc alloy and steel. And a reflector having a reflectance of 93% or more for light rays in the wavelength range of 500 nm to 750 nm, and the silver thin film layer (B) has a thickness of 70 nm to 300 nm. It is a reflector. The present invention also provides a strobe reflector that is formed by processing any of the above silver reflectors into an umbrella shape.

【０００６】以下、本発明の各構成要件について詳細に
説明する。まず添付図面について説明するに、図１は本
発明の銀反射板の断面構造を示す図である。図１におい
て、０１は透明高分子層（Ａ）、０５は透明高分子層
（Ｂ）、１０は銀薄膜層、１５は接着層、２０は板状成
形体であり、これが銀反射板４０形成する。また、図２
は本発明の別の断面構造を示す。ここでは、透明高分子
層（Ａ）０１と透明高分子層（Ｂ）０５が接着層１５で
積層固着されている態様である。なお、図３は、キセノ
ン管に銀反射板を接触させたストロボ構造を説明する正
面図および側面図であり、図４は、ストロボ用の発光回
路図を示す図である。ここで、３０はキセノンランプ、
４０は銀反射板、５０はトリガ端子を示す。Hereinafter, each constituent element of the present invention will be described in detail. First, referring to the attached drawings, FIG. 1 is a view showing a sectional structure of a silver reflector of the present invention. In FIG. 1, 01 is a transparent polymer layer (A), 05 is a transparent polymer layer (B), 10 is a silver thin film layer, 15 is an adhesive layer, and 20 is a plate-shaped molded body, which forms a silver reflector 40. To do. Also, FIG.
Shows another cross-sectional structure of the present invention. Here, the transparent polymer layer (A) 01 and the transparent polymer layer (B) 05 are laminated and fixed by the adhesive layer 15. 3A and 3B are a front view and a side view illustrating a strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube, and FIG. 4 is a diagram showing a light emitting circuit diagram for the strobe. Here, 30 is a xenon lamp,
40 is a silver reflector, and 50 is a trigger terminal.

【０００７】本発明における透明高分子層（Ａ）の材料
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフ
ルオロプロピレン共重合体、もしくはテトラフルオロエ
チレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体
等のフィルムが使用できるが、必ずしもこれらに限定さ
れるわけではなく、透明であり、ある程度常用耐熱温度
が高く、誘電正接が０．００２５以下のものであれば使
用できる。ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム及びポリスチレンフィ
ルムは、フィルムコンデンサの誘電体として広く利用さ
れており、誘電正接の低い材料として認知されている
が、それらのフィルムでも、なかには誘電正接が０．０
０２５より大きいものあり、これらは本発明の目的には
使用できないことに注意しなけばならない。しかしなが
ら、本発明において肝要なのは、誘電正接が好ましくは
０．００２５以下、より好ましくは、０．００１５、さ
らにより好ましくは０．００１以下の高分子フィルムを
使用することであって、誘電正接が０．００２５より大
きい高分子フィルムを用いて銀反射板を形成しても、１
０回〜５０回のストロボ発光に対しフィルムが黒化して
しまい、十分な耐久性は得られないのである。The material of the transparent polymer layer (A) in the present invention is polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polystyrene, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer or the like. Although a film can be used, it is not necessarily limited to these, and it can be used as long as it is transparent, has a high normal heat resistance temperature to some extent, and has a dielectric loss tangent of 0.0025 or less. Polyethylene film, polypropylene film, polycarbonate film and polystyrene film are widely used as dielectrics for film capacitors and are recognized as materials having a low dielectric loss tangent, but even among these films, the dielectric loss tangent is 0.0
It should be noted that some are larger than 025 and they cannot be used for the purposes of the present invention. However, what is important in the present invention is to use a polymer film having a dielectric loss tangent of preferably 0.0025 or less, more preferably 0.0015, and even more preferably 0.001 or less, and the dielectric loss tangent is 0 or less. Even if a silver reflector is formed by using a polymer film larger than 0.0025,
The film becomes black after 0 to 50 times of stroboscopic light emission, and sufficient durability cannot be obtained.

【０００８】透明高分子層（Ｂ）の材料は、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエ
ーテルエーテルケトン、もしくはポリエーテルスルホン
等のフィルムが使用できるが、必ずしもこれらに限定さ
れるわけではなく、透明であり、ある程度常用耐熱温度
が高く、誘電正接が０．００３５以上のものであれば例
えば後記するようなものも使用できる。ここでも、肝要
なのは、銀薄膜層に亀裂を発生させないためには、誘電
正接が、好ましくは０．００３５以上、より好ましく
は、０．００４５以上、さらに、より好ましくは０．０
０５５以上、さらに、さらに、より好ましくは０．００
６５以上の透明高分子層を用いることなのである。な
お、ここで言う誘電正接は、１００ｋＨｚから１０ＭＨ
ｚの電磁波に対する値であるが、これは、実際にストロ
ボ発光に際して印加される高周波が、１ＭＨｚを中心と
する非定常波で、その前後の周波数成分を含んでいるた
めである。As the material of the transparent polymer layer (B), a film of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether ether ketone, polyether sulfone or the like can be used, but the material is not necessarily limited to these and is transparent. If the normal heat resistance temperature is high to some extent and the dielectric loss tangent is 0.0035 or more, the following ones can be used, for example. Here again, it is important that the dielectric loss tangent is preferably 0.0035 or more, more preferably 0.0045 or more, still more preferably 0.0 in order not to generate cracks in the silver thin film layer.
055 or more, still more preferably 0.00
That is to use 65 or more transparent polymer layers. The dielectric loss tangent here is from 100 kHz to 10 MH.
This is a value of z with respect to the electromagnetic wave, because the high frequency actually applied at the time of strobe light emission is a non-stationary wave centered at 1 MHz and includes frequency components before and after that.

【０００９】２層の透明高分子層の形成方法としては、
フィルム同士をラミネートする方法があり、その場合
は、フィルムを適宜接着剤や粘着剤を用いて接着するこ
とができる。したがって、この場合２枚のフィルムの間
に、好ましくは厚さ１〜２０μｍ、より好ましくは１〜
１０μｍの接着層が存在し、高分子層（Ａ）／接着層／
高分子層（Ｂ）のような構成になるが、これは、２種類
の性質が異なる高分子層を重ね合わせて１つの形成物を
得るときに、当業者が容易にとりうる製造上の常套手段
であることは理解されよう。この場合も、本発明の効果
を十分奏するものであることは論を待たない。また、他
の方法として、一方のフィルムの上にもう一方の高分子
層の原料となるモノマーを塗布し、モノマーを重合し重
合層（レジン層）とすることにより、所望の２層構造を
得ることができる。重合には、熱、光、放射線、電子線
等の方法を使用することができる。また、重合層に使用
するレジンは、フェノールレジン、マレインレジン、ビ
ニルレジン、エポキシレジン、ポリエステルレジン、ポ
リスチレンレジン、アクリルレジン、シリコーンレジ
ン、ウレタンレジン、ポリイミドレジン、ポリアミドレ
ジン等がある。The method for forming the two transparent polymer layers is as follows:
There is a method of laminating films with each other, and in that case, the films can be adhered using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive as appropriate. Therefore, in this case, the thickness between the two films is preferably 1 to 20 μm, more preferably 1 to 20 μm.
There is a 10 μm adhesive layer, and the polymer layer (A) / adhesive layer /
The constitution is similar to that of the polymer layer (B), but this is a conventional manufacturing means that can be easily taken by those skilled in the art when two polymer layers having different properties are superposed to obtain one product. It will be understood that Even in this case, it is needless to say that the effects of the present invention are sufficiently exhibited. As another method, a desired two-layer structure is obtained by coating one film with a monomer that is a raw material of the other polymer layer and polymerizing the monomer to form a polymer layer (resin layer). be able to. For the polymerization, methods such as heat, light, radiation and electron beam can be used. Examples of the resin used for the polymerized layer include phenol resin, malein resin, vinyl resin, epoxy resin, polyester resin, polystyrene resin, acrylic resin, silicone resin, urethane resin, polyimide resin, polyamide resin and the like.

【００１０】なお、本発明において重要な部分は、透明
高分子層（ＡもしくはＢ）単独では、本願で規定する所
望の性能を全てに渡って充足することができない。両層
を同時に用い、それぞれが誘電正接の値を充足すること
により、ストロボ発光を繰り返しても、反射面が黒化せ
ず、さらに、銀薄膜層に亀裂が発生しないため、反射率
が低下しない、信頼性の高い反射板及びストロボ用反射
傘を得ることができるのである。The important part of the present invention is that the transparent polymer layer (A or B) alone cannot satisfy the desired performance defined in the present application. By using both layers at the same time and satisfying the values of the dielectric loss tangent, the reflectance does not decrease even if the stroboscopic light emission is repeated, and the silver thin film layer does not crack because the reflective surface does not become black. Therefore, it is possible to obtain a highly reliable reflector and a reflector for a flash.

【００１１】なお、フィルムの誘電損が、誘電正接と比
誘電率の積に比例することは当業者が理解しているとこ
ろであるが、透明高分子フィルムの比誘電率は、一般的
に１００ｋＨｚ〜１０ＭＨｚの範囲で、２．０〜８．５
であってフィルムの種類による大差はなく、小さい値で
あることが知られている。従って、本発明になる反射体
を作製するとき比誘電率の選択の余地はあまりないので
あるが、本発明の目的には、好ましくは２．０〜８．
５、より好ましくは２．０〜５．５、さらにより好まし
くは２．０〜３．５の範囲のフィルムを用いるのが好ま
しい。Although it is understood by those skilled in the art that the dielectric loss of the film is proportional to the product of the dielectric loss tangent and the relative dielectric constant, the relative dielectric constant of the transparent polymer film is generally 100 kHz to 100 kHz. 2.0 to 8.5 in the range of 10 MHz
However, it is known that there is no great difference depending on the type of film and the value is small. Therefore, there is not much room for selecting the relative permittivity when manufacturing the reflector according to the present invention, but for the purpose of the present invention, preferably 2.0 to 8.
It is preferable to use a film in the range of 5, more preferably 2.0 to 5.5, and even more preferably 2.0 to 3.5.

【００１２】上記透明高分子層（Ａ、Ｂ）の厚さには特
に限定的な制限値はないが、１０〜１５０μm が好まし
く用いられる。使用する高分子層の光学特性は、波長５
５０ｎｍの光の光線透過率が８０％以上であることが好
ましい。より好ましくは、波長５００〜７００ｎｍの光
に対して、光線透過率が８０％以上であり、より好まし
くは８５％以上である。光線透過率が８０％より低い
と、反射フィルムとした時の全反射率が所望の値に達し
なくなる。なお、透明高分子層に、紫外線を遮断する性
質をもたせることにより銀層の耐候性を向上させること
は当業者が理解しているところであろう。The thickness of the transparent polymer layer (A, B) is not particularly limited, but 10 to 150 μm is preferably used. The optical properties of the polymer layer used are wavelength 5
The light transmittance of 50 nm light is preferably 80% or more. More preferably, the light transmittance for light having a wavelength of 500 to 700 nm is 80% or more, and more preferably 85% or more. If the light transmittance is lower than 80%, the total reflectance of the reflective film will not reach the desired value. It will be understood by those skilled in the art that the weather resistance of the silver layer is improved by providing the transparent polymer layer with a property of blocking ultraviolet rays.

【００１３】本発明においては、かかる透明高分子層の
一方の主面上に図１または図２に示すように、銀薄膜層
を形成するが、かかる銀薄膜の形成法は、湿式法及び乾
式法がある。湿式法とはいわゆるメッキ法の総称であ
り、溶液から銀を析出させ膜を形成する方法である。具
体例を挙げるとすれば、銀鏡反応等がある。一方、乾式
法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示すると
すれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空
蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシス
ト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明
には連続的に成膜するロールツロール方式が可能な真空
成膜法が好ましく用いられる。真空蒸着法では銀の原材
料を電子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸
気圧を上昇させ、薄膜を形成する。イオンプレーティン
グ方ではアルゴン等のガスを好ましくは０．１ｍＴｏｒ
ｒ（約０．０１Ｐａ）以上導入させ、高周波もしくは直
流のグロー放電を起こしてもよい。In the present invention, a silver thin film layer is formed on one principal surface of such a transparent polymer layer as shown in FIG. 1 or 2. The silver thin film is formed by a wet method or a dry method. There is a law. The wet method is a general term for so-called plating methods, and is a method for forming a film by precipitating silver from a solution. Specific examples include silver mirror reaction and the like. On the other hand, the dry method is a general term for vacuum film forming methods, and specific examples thereof include a resistance heating vacuum evaporation method, an electron beam heating vacuum evaporation method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum evaporation method. , The sputtering method, etc. In particular, a vacuum film forming method capable of a roll-to-roll method of continuously forming a film is preferably used in the present invention. In the vacuum deposition method, the silver raw material is melted by electron beam, resistance heating, induction heating, etc., and the vapor pressure is raised to form a thin film. In the ion plating method, a gas such as argon is preferably 0.1 mTorr
High-frequency or direct-current glow discharge may be generated by introducing at least r (about 0.01 Pa).

【００１４】スパッタ法では、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ｒｆマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルｒｆスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料は銀の板状のターゲ
ットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用し得る
が、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は、
９９．０％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５
％以上である。As the sputtering method, a DC magnetron sputtering method, an rf magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, an ECR sputtering method, a conventional rf sputtering method, a conventional DC sputtering method or the like can be used. In the sputtering method, a silver plate-shaped target may be used as the raw material, and helium, neon, argon, krypton, xenon, or the like may be used as the sputtering gas, but argon is preferably used. The purity of gas is
It is preferably 99.0% or more, more preferably 99.5.
% Or more.

【００１５】銀薄膜層の厚さは７０ｎｍ〜３００ｎｍが
好ましく、より好ましくは７０ｎｍ〜２００ｎｍであ
る。７０ｎｍ未満では、銀の膜厚が十分でないために、
透過する光が存在し、反射率が十分でなくなる。一方、
膜厚が３００ｎｍを越えてあまり厚く形成しても、反射
率は上昇せず、飽和傾向を示す上に、銀層の高分子フィ
ルムに対する密着性が低下するので好ましくない。膜厚
の測定は、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロ
バランス、水晶振動子法等があるが、水晶振動子法では
成膜中に膜厚の測定が可能なので所望の膜厚を得るのに
適している。また、前もって成膜条件を定めておき、試
料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた
上で、成膜時間により膜厚制御する方法もある。The thickness of the silver thin film layer is preferably 70 nm to 300 nm, more preferably 70 nm to 200 nm. If the thickness is less than 70 nm, the film thickness of silver is not sufficient.
There is light passing through and the reflectivity is not sufficient. on the other hand,
Even if the film thickness is formed to be excessively thicker than 300 nm, the reflectance does not increase, a saturation tendency is exhibited, and the adhesion of the silver layer to the polymer film is decreased, which is not preferable. The film thickness can be measured by a stylus roughness meter, repetitive reflection interferometer, microbalance, crystal oscillator method, etc. Suitable to get. Further, there is also a method in which the film forming conditions are set in advance, the film is formed on the sample base material, the relationship between the film forming time and the film thickness is investigated, and then the film thickness is controlled by the film forming time.

【００１６】なお、銀薄膜層には、性能に害を及ぼさな
い程度の、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングス
テン、モリブデン、タンタル、クロム、インジュウム、
マンガン、チタン等の金属不純物が含まれてもよい。さ
らに、銀層を形成した後、銀層の保護やフィルムの滑り
性の向上のために、インコネル、クロム、ニッケル、チ
タン、アルミニウム、モリブデン、タングステン等の単
金属層もしくは合金層を１０ｎｍ〜３０ｎｍ積層するこ
とが有効であることは、当業者が理解しているところで
あろう。銀薄膜層を透明高分子フィルム上に設ける際
に、高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー放
電処理、表面化学処理、粗面化処理等を行うことが銀薄
膜層と高分子フィルムの密着性を向上させる上で効果が
あることは当業者の技術的常識の範囲であろう。なお、
上記の処理を行うと基板である透明高分子フィルムが加
熱される。また、ストロボ発光した際ランプが発熱する
ため、熱による透明高分子フィルムの変形及び変色を防
ぐため、フィルムの常用耐熱温度は８０℃以上が好まし
い。より好ましくは常用耐熱温度１００℃以上である。
この点から言うと、テトラフルオロエチレン−ヘキサフ
ルオロプロピレン共重合体及びテトラフルオロエチレン
−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体は常用
耐熱温度が２６０〜３１０℃であり、ストロボ発光間隔
を２〜６秒程度に短くしてもフィルムの溶融、変形、変
色等がない等好ましいものとして例示される。The silver thin film layer contains gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, and aluminum, which do not impair the performance.
Metal impurities such as manganese and titanium may be included. Further, after forming the silver layer, a single metal layer or an alloy layer of Inconel, chromium, nickel, titanium, aluminum, molybdenum, tungsten or the like is laminated in a thickness of 10 nm to 30 nm in order to protect the silver layer and improve the slip property of the film. Those of ordinary skill in the art will appreciate that doing so is effective. When the silver thin film layer is provided on the transparent polymer film, the polymer film surface may be subjected to corona discharge treatment, glow discharge treatment, surface chemical treatment, surface roughening treatment, etc. It is within the technical common sense of those skilled in the art that the effect is effective in improving the quality. In addition,
When the above treatment is performed, the transparent polymer film that is the substrate is heated. In addition, since the lamp generates heat when strobe light is emitted, in order to prevent deformation and discoloration of the transparent polymer film due to heat, the normal heat resistant temperature of the film is preferably 80 ° C. or higher. More preferably, the normal heat resistance temperature is 100 ° C. or higher.
From this point of view, the tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer and the tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer have a normal heat resistance temperature of 260 to 310 ° C. and a stroboscopic light emission interval of about 2 to 6 seconds. Even if it is shortened, there is no melting, deformation, discoloration, etc. of the film, which is preferable.

【００１７】本発明で用いられる接着剤は、熱または触
媒の助けにより接着される接着剤であり具体的には、シ
リコン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接
着剤、シアノアクリレート系接着剤、アクリル系接着剤
など一般的な接着剤を用いることができる。シリコン系
接着剤、及びポリエステル系接着剤は耐熱性、電気特性
に優れているためトリガを印加するストロボ用反射体用
に好適に利用できる。エポキシ系接着剤は強度、耐熱性
に優れているため、これもまた好適に利用できる。The adhesive used in the present invention is an adhesive that is adhered with the aid of heat or a catalyst, and specifically, a silicone adhesive, a polyester adhesive, an epoxy adhesive, a cyanoacrylate adhesive. A general adhesive such as an acrylic adhesive can be used. Since the silicone-based adhesive and the polyester-based adhesive have excellent heat resistance and electrical characteristics, they can be suitably used for a reflector for stroboscope that applies a trigger. Since the epoxy adhesive has excellent strength and heat resistance, it can also be suitably used.

【００１８】シアノアクリレート系接着剤は、速攻性と
強度に優れているため、効率的な反射体作製に利用でき
る。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、ホ
ットメルト型、二液混合型に大別されるが、好ましくは
連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が使
用される。熱接着剤の厚みには、特に限定はないが、通
常０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜２０μｍ
程度である。The cyanoacrylate-based adhesive has excellent quick attack property and strength, and therefore can be used for efficient production of a reflector. These adhesives are roughly classified into a thermosetting type, a hot-melt type, and a two-liquid mixed type depending on the bonding method, but a thermosetting type or a hot-melt type capable of continuous production is preferably used. The thickness of the thermal adhesive is not particularly limited, but is usually 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm.
It is a degree.

【００１９】高分子フィルムと板状成形体との接着は、
銀薄膜層への接着剤のコーティング、乾燥、ローラーに
よる板状成形体とのラミネート、の手順により行われ
る。接着剤のコーティング方法は、基材や接着剤の種類
によって多くの方法があるが、広く使用されているのは
グラビアコーター方式及びリバースコーター方式であ
る。グラビアコーター方式では、接着剤に一部分が浸さ
れているグラビアロールを回転させ、バックアップロー
ルによって送られるフィルムを接着剤の付着したグラビ
アロールに接触させることでコーティングする。コーテ
ィング量はロールの回転数、接着剤の粘度を制御するこ
とで調整できる。リバースコーター方式も、グラビアロ
ール方式に類似した方法だが、コーティングロールに付
着する接着剤の量を、それに接して設置されているメタ
リングロールによって調整する。コーティングされた接
着剤の乾燥温度、及びラミネート温度は接着剤の種類に
よってまちまちであるが、上記に掲げた一般的な接着剤
を用いる場合は１００℃前後である。この接着剤による
銀薄膜層を形成した透明高分子フィルムと板状成形体と
の密着強度は、１８０度ピール強度で測定して１００ｇ
／ｃｍ以上であることが望ましい。この密着強度に達し
ない場合には、ストロボ用反射体として板金加工した
際、銀薄膜層を形成した透明高分子フィルムの板状成形
体からの剥がれ等が生じ、変形等を引き起こす。The adhesion between the polymer film and the plate-shaped molded body is
The silver thin film layer is coated with an adhesive, dried, and laminated with a plate-shaped body by a roller. There are many adhesive coating methods depending on the type of base material and adhesive agent, but the widely used are the gravure coater method and the reverse coater method. In the gravure coater method, a gravure roll, a part of which is immersed in an adhesive, is rotated, and a film fed by a backup roll is brought into contact with the gravure roll to which the adhesive is attached to perform coating. The coating amount can be adjusted by controlling the rotation speed of the roll and the viscosity of the adhesive. The reverse coater method is also a method similar to the gravure roll method, but the amount of adhesive adhered to the coating roll is adjusted by the metering roll installed in contact with it. The drying temperature and the laminating temperature of the coated adhesive vary depending on the kind of the adhesive, but when the general adhesive listed above is used, it is around 100 ° C. The adhesive strength between the transparent polymer film having the silver thin film layer formed by this adhesive and the plate-like molded article was 100 g when measured by 180 degree peel strength.
/ Cm or more is desirable. If the adhesion strength is not reached, when a sheet metal is processed as a reflector for strobe, the transparent polymer film having a silver thin film layer peels off from the plate-shaped body and causes deformation.

【００２０】板状成形体には、アルミニウム、アルミ合
金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等が使用されるが、
これらの金属にはそれぞれ長所があり次のように使い分
けることができる。アルミニウムは軽量かつ加工性に優
れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効果的に大
気中に逃がすことができるため、ランプ発光によって反
射体が加熱されるストロボ用反射傘に好適に利用でき
る。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が強いため、スト
ロボ用反射傘に好適に利用できる。ステンレス鋼は機械
的強度が適度にあり、また耐蝕性にすぐれているため、
ストロボ用反射傘に好適に利用できる。鋼亜鉛合金すな
わち黄銅またはしんちゅうは、機械的強度の強いことに
加え、はんだづけが容易なため電気的な端子をとり易く
これもまたストロボ用反射傘に好適に利用できる。鋼は
安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく用
いられる。なお、プラスチックの板を用いることができ
るのは勿論のことである。かくして、作製された反射板
の反射率は典型的には５５０ｎｍの波長の光に対して９
３％以上であり、より詳しくは５００ｎｍ〜７５０ｎｍ
の範囲で９３％以上である。Aluminum, aluminum alloy, stainless steel, steel-zinc alloy, steel, etc. are used for the plate-shaped molded body.
Each of these metals has its advantages and can be used as follows. Aluminum is lightweight and excellent in workability, and also has a high thermal conductivity and can effectively dissipate the heat to the atmosphere. Therefore, it can be suitably used as a strobe reflector for heating a reflector by light emission from a lamp. . Since aluminum alloy is lightweight and has high mechanical strength, it can be suitably used for a reflector for flash. Since stainless steel has moderate mechanical strength and excellent corrosion resistance,
It can be suitably used as a reflector for a flash. Steel-zinc alloy, that is, brass or brass, has a high mechanical strength, and since it is easy to solder, it is easy to form an electrical terminal, which is also suitable for use as a reflector for a strobe. Since steel is inexpensive, it is preferably used when it is necessary to keep the cost down. It goes without saying that a plastic plate can be used. Thus, the reflectance of the produced reflector is typically 9 for light having a wavelength of 550 nm.
3% or more, more specifically 500 nm to 750 nm
Is 93% or more.

【００２１】かかる銀反射板を用いてストロボ用反射傘
を加工成形するには、アルミ板をストロボ用反射傘に加
工する従来の方法がそのまま適用できる。例えば、反射
体を、反射傘を平面的に展開した形状に裁断し、この裁
断した平板を折曲げ加工して形成されるのである（特開
昭５５−１１８００２号）。当該方法は製造コストが安
いことから、レンズ付きフィルム等に好適に利用されて
いる。In order to process and form a strobe reflector using such a silver reflector, the conventional method of processing an aluminum plate into a strobe reflector can be applied as it is. For example, the reflector is cut into a shape in which a reflector is flatly developed, and the cut flat plate is bent to form (Japanese Patent Laid-Open No. 55-118002). Since this method has a low manufacturing cost, it is preferably used for a film with a lens or the like.

【００２２】本発明にかかる銀反射体の構成、及び電気
特性の代表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜層、
接着層、板状成形体の各部の厚さは、その断面を透過型
電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定でき
る。高分子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）に
よりできる。また、接着剤の材料分析は銀薄膜層と板状
成形体を引き剥して接着剤を露出させ、適当な溶媒にそ
れを溶かした試料を作製し、その赤外分光（ＩＲ）をと
ることでできる。銀薄膜層及び板状形成体の材料分析
は、蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）によりできる。さらに、Ｘ
線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光よ
り微細な部分の元素分析が行える。また、銀薄膜層の形
成された高分子フィルムを、接着層から引き剥し銀薄膜
層を露出させれば、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）によ
り組成分析、及び深さプロファイルをとることで厚さも
知ることができる。透明高分子フィルムの誘電率及び誘
電正接は、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１に準じた方法で測定で
きる。精度を求めるならば相互誘導ブリッジ法（変成器
ブリッジ法）、簡便には電圧上昇比率法（Ｑメータ法）
が用いられる。以下、実施例により本発明の実施の態様
の一例を説明する。The structure of the silver reflector according to the present invention and a typical method for evaluating the electrical characteristics will be described below. Silver thin film layer,
The thickness of each part of the adhesive layer and the plate-shaped molded product can be directly measured by observing the cross section with a transmission electron microscope (TEM). Material analysis of the polymer film can be performed by infrared spectroscopy (IR). In addition, the material analysis of the adhesive is performed by peeling off the silver thin film layer and the plate-shaped molded product to expose the adhesive, preparing a sample by dissolving it in an appropriate solvent, and taking its infrared spectrum (IR). it can. The material analysis of the silver thin film layer and the plate-shaped formed body can be performed by fluorescent X-ray spectroscopy (XRF). Furthermore, X
An X-ray microanalyzer (EPMA) can perform elemental analysis of a finer part than X-ray fluorescence spectroscopy. Further, if the polymer film on which the silver thin film layer is formed is peeled off from the adhesive layer and the silver thin film layer is exposed, the thickness is also known by composition analysis by Auger electron spectroscopy (AES) and by taking a depth profile. be able to. The dielectric constant and dielectric loss tangent of the transparent polymer film can be measured by the method according to JIS-K-6911. Mutual induction bridge method (transformer bridge method), simply voltage rise ratio method (Q meter method) for accuracy
Is used. Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described with reference to examples.

【００２３】[0023]

【実施例】なお、実施例に記載された全光線透過率、反
射率及び誘電正接は以下に記載する機器ないし方法で測
定した。 全光線透過率、反射率：分光光度計（日立Ｕ−３４０
０）で測定した。なお、反射率測定においては±０．５
％程度の誤差を含む。 誘電正接：ＪＩＳ−Ｋ−６９１１によるところの電圧上
昇比率法（Ｑメータ法）により測定した。測定は室温で
行い、測定周波数は１ＭＨｚ、５回の測定値の平均をと
った。 以下、実施例１〜７、比較例１〜４における写真撮影用
のストロボは、図３及び図４に概略図として示したよう
なものである。図３はキセノン管に銀反射板を接触させ
たストロボ構造の正面および側面から見た図を示してい
る。念のため一言すれば、図において、３０はキセノン
ランプ、４０は銀反射板、５０はトリガ端子である。な
お、図４はストロボを発光させるための発光回路であ
る。キセノンランプに電解コンデサで充電した電圧をか
け、発光を誘起するためにトリガ端子に高電圧、高周波
のトリガを印加する。ここで、キセノンランプにかかる
電圧、トリガ端子にかかる電圧及び周波数は、キセノン
ランプを発光させ得る適当な値に設定すればよい。EXAMPLES The total light transmittance, reflectance and dielectric loss tangent described in the examples were measured by the following instruments and methods. Total light transmittance, reflectance: spectrophotometer (Hitachi U-340
It was measured in 0). In addition, in the reflectance measurement, ± 0.5
Including an error of about%. Dielectric loss tangent: Measured by a voltage rise ratio method (Q meter method) according to JIS-K-6911. The measurement was carried out at room temperature, and the measurement frequency was 1 MHz, and the average of 5 measurements was taken. Hereinafter, the strobes for photographing in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 are as shown in the schematic views of FIGS. 3 and 4. FIG. 3 shows a front view and a side view of a strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube. As a reminder, in the figure, 30 is a xenon lamp, 40 is a silver reflector, and 50 is a trigger terminal. Incidentally, FIG. 4 shows a light emitting circuit for causing the strobe to emit light. A voltage charged by an electrolytic capacitor is applied to the xenon lamp, and a high-voltage, high-frequency trigger is applied to the trigger terminal to induce light emission. Here, the voltage applied to the xenon lamp, the voltage applied to the trigger terminal, and the frequency may be set to appropriate values that allow the xenon lamp to emit light.

【００２４】実施例１ ポリプロピレンフィルム（厚さ１２μm 、全光線透過率
＝８７％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．０００３）
とポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ２０μ
ｍ、全光線反射率＝８８％、１ＭＨｚにおける誘電正接
＝０．００７５）をポリエステル系のホットメルト接着
剤でラミネートし、電子ビーム真空蒸着法で、純度９
９．９％の銀をポリエチレンテレフタレート面に蒸着し
た。水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ
１００ｎｍであった。そのフィルムの銀側とアルミニウ
ム板とをポリエステル系ホットメルト型接着剤で接着
し、銀反射板を形成した。その反射率は９４．６％であ
った。それを板金加工によってストロボ反射体用傘と
し、キセノンランプとポリプロピレンフィルム側を接触
させて固定、ストロボ発光回路のトリガ端子を銀反射板
のアルミニウム板に接続することで、写真撮影用のスト
ロボを形成した。Example 1 Polypropylene film (thickness 12 μm, total light transmittance = 87%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0003)
And polyethylene terephthalate film (thickness 20μ
m, total light reflectance = 88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0075) was laminated with a polyester hot melt adhesive, and the purity was 9 by electron beam vacuum deposition.
9.9% silver was deposited on the polyethylene terephthalate surface. When the film thickness of the silver layer was measured by a crystal type film thickness monitor, it was 100 nm. The silver side of the film and the aluminum plate were bonded together with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 94.6%. By forming it into a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the xenon lamp and polypropylene film side by contact, and connecting the trigger terminal of the strobe light emission circuit to the aluminum plate of the silver reflector, a strobe for photography is formed. did.

【００２５】実施例２ ポリエチレンフィルム（厚さ２５μm、全光線透過率＝
８８％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．０００７）と
ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ２０μｍ、
全光線反射率＝８８％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝
０．００７５）をアクリル系接着剤でラミネートし、ポ
リエチレンテレフタレート面にＤＣマグネトロンスパッ
タ法で、銀薄膜層を純度９９．９％の銀をターゲットと
し、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてフ
ィルム上に１５０ｎｍになるように形成した。そのフィ
ルムの銀側とステンレス板とをポリエステル系ホットメ
ルト型接着剤で接着し、銀反射板を形成した。その反射
率は９５．３％であった。それを板金加工によってスト
ロボ反射体用傘とし、キセノンランプと銀反射板のポリ
エチレンフィルム側を接触させて固定、ストロボ発光回
路のトリガ端子を銀反射板のステンレス板に接続するこ
とで、写真撮影用のストロボを形成した。Example 2 Polyethylene film (thickness 25 μm, total light transmittance =
88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.007) and polyethylene terephthalate film (thickness 20 μm,
Total light reflectance = 88%, dielectric loss tangent at 1MHz =
0.0075) is laminated with an acrylic adhesive, and a film of silver thin film is formed on the surface of polyethylene terephthalate by DC magnetron sputtering with a target of 99.9% pure silver and 99.5% pure argon as a sputtering gas. It was formed to have a thickness of 150 nm. The silver side of the film and the stainless steel plate were bonded with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 95.3%. It is made into a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixed by contacting the polyethylene film side of the xenon lamp and the silver reflector, and connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the stainless plate of the silver reflector for photography. Formed a strobe.

【００２６】実施例３ ポリカーボネートフィルム（厚さ２５μｍ、全光線透過
率＝８８％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．００１）
にポリエーテルスルホンフィルム（厚さ２５μｍ、全光
線＝８５％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．００８）
をエポキシ系の接着剤でラミネートし、電子ビーム真空
蒸着法で、純度９９．９％の銀を蒸着した。水晶式膜厚
モニターで銀層の膜厚を測定したところ１２０ｎｍであ
った。そのフィルムの銀側と銅亜鉛合金板とをエポキシ
系接着剤で接着し、銀反射板を形成した。その反射率は
９５．０％であった。それを板金加工によってストロボ
反射体用傘とし、キセノンランプと銀反射板のポリカー
ボネートフィルム側を接触させて固定、ストロボ発光回
路のトリガ端子を銀反射板の鋼亜鉛合金板に接続するこ
とで、写真撮影用のストロボを形成した。Example 3 Polycarbonate film (thickness 25 μm, total light transmittance = 88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.001)
Polyethersulfone film (thickness 25 μm, total light ray = 85%, dielectric loss tangent = 0.008 at 1 MHz)
Was laminated with an epoxy adhesive, and silver having a purity of 99.9% was deposited by an electron beam vacuum deposition method. When the film thickness of the silver layer was measured with the crystal type film thickness monitor, it was 120 nm. The silver side of the film and the copper-zinc alloy plate were bonded with an epoxy adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 95.0%. By using it as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the xenon lamp and the silver reflector's polycarbonate film side by contact, and connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the steel zinc alloy plate of the silver reflector, the photograph I formed a flash for photography.

【００２７】実施例４ ポリスチレンフィルム（厚さ５０μｍ、全光線透過率＝
８８％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．０００３）に
ポリエーテルエーテルケトンフィルム（厚さ２５μｍ、
１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．００３６）をアクリル
系接着剤でラミネートし、ポリエーテルエーテルケトン
フィルムの面にＤＣスパッタリング法で、純度９９．９
％の銀をターゲットとし、スパッタガスとして純度９
９．５％のアルゴンを用い、フィルム上に１２０ｎｍに
なるように形成した。そのフィルムの銀側とアルミニウ
ム板とをエポキシ系接着剤で接着し、銀反射板を形成し
た。その反射率は９４．２％であった。それを板金加工
によってストロボ反射体用傘とし、キセノンランプと銀
反射板のポリスチレンフィルム側を接触させて固定、ス
トロボ発光回路のトリガ端子を銀反射板のアルミニウム
板に接続することで、写真撮影用のストロボを形成し
た。Example 4 Polystyrene film (thickness 50 μm, total light transmittance =
88%, a dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0003) and a polyetheretherketone film (thickness: 25 μm,
The dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0036) is laminated with an acrylic adhesive and the surface of the polyether ether ketone film is subjected to DC sputtering to have a purity of 99.9.
% Silver as a target and a sputtering gas with a purity of 9
A film having a thickness of 120 nm was formed on the film by using 9.5% argon. The silver side of the film and the aluminum plate were adhered with an epoxy adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 94.2%. By using it as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the polystyrene film side of the xenon lamp and the silver reflector by contacting them, and connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the aluminum plate of the silver reflector, for photography Formed a strobe.

【００２８】実施例５ ポリカーボネートフィルム（厚さ５０μm、全光線透過
率＝８８％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．００２
３）にポリエチレンテレフタレート（厚さ２５μｍ、全
光線透過率＝８７％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．
００５５）をポリエステル系の接着剤でラミネートし、
ポリエチレンテレフタレート面ににＤＣマグネトロンス
パッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲットとし、純
度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてフィルム
上に１２０ｎｍになるように成膜した。そのフィルムの
銀側と鋼亜鉛合金板とをポリエステル系ホットメルト型
接着剤で接着し、銀反射板を形成した。その反射率は９
５．３％であった。それを板金加工によってストロボ反
射体用傘とし、キセノンランプと銀反射板のポリカーボ
ネートフィルム側を接触させて固定、ストロボ発光回路
のトリガ端子を銀反射板の鋼亜鉛合金板に接続すること
で、写真撮影用のストロボを形成した。Example 5 Polycarbonate film (thickness 50 μm, total light transmittance = 88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.002)
3) Polyethylene terephthalate (thickness 25 μm, total light transmittance = 87%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.
0055) is laminated with a polyester adhesive,
A film having a thickness of 120 nm was formed on the polyethylene terephthalate surface by a DC magnetron sputtering method using silver having a purity of 99.9% as a target and argon having a purity of 99.5% as a sputtering gas. The silver side of the film and the steel-zinc alloy plate were bonded with a polyester-based hot melt adhesive to form a silver reflector. Its reflectance is 9
It was 5.3%. By using it as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the xenon lamp and the silver reflector's polycarbonate film side by contact, and connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the steel zinc alloy plate of the silver reflector, the photograph I formed a flash for photography.

【００２９】実施例６ テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共
重合体フィルム（厚さ２５μm、全光線透過率＝９５
％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．０００５）とポリ
エチレンテレフタレートフィルム（厚さ２０μｍ、全光
線反射率＝８８％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．０
０７５）をポリエステル系のホットメルト接着剤でラミ
ネートし、電子ビーム真空蒸着法で、純度９９．９％の
銀をポリエチレンテレフタレート面に蒸着した。水晶式
膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ１００ｎｍ
であった。そのフィルムの銀側とアルミニウム板とをポ
リエステル系ホットメルト型接着剤で接着し、銀反射板
を形成した。その反射率は９４．５％であった。それを
板金加工によってストロボ反射体用傘とし、キセノンラ
ンプとテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピ
レン共重合体フィルム側を接触させて固定、ストロボ発
光回路のトリガ端子を銀反射板のアルミニウム板に接続
することで、写真撮影用のストロボを形成した。Example 6 Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer film (thickness 25 μm, total light transmittance = 95
%, Dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0005) and polyethylene terephthalate film (thickness 20 μm, total light reflectance = 88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0
075) was laminated with a polyester hot melt adhesive, and silver having a purity of 99.9% was vapor-deposited on the polyethylene terephthalate surface by an electron beam vacuum vapor deposition method. When the thickness of the silver layer is measured with a crystal type film thickness monitor, it is 100 nm.
Met. The silver side of the film and the aluminum plate were bonded together with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 94.5%. Using it as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fix the xenon lamp and the tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer film side by contact, and connect the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the aluminum plate of the silver reflector. I made a strobe for photography.

【００３０】実施例７ テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニル
エーテル共重合体フィルム（厚さ２５μｍ、全光線透過
率＝９４％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．０００
３）にポリエーテルエーテルケトンフィルム（厚さ２５
μｍ、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．００３６）をア
クリル系接着剤でラミネートし、、ポリエーテルエーテ
ルケトンフィルムの面にＤＣスパッタリング法で、純度
９９．９％の銀をターゲットとし、スパッタガスとして
純度９９．５％のアルゴンを用い、フィルム上に１５０
ｎｍになるように形成した。そのフィルムの銀側とアル
ミニウム板とをエポキシ系接着剤で接着し、銀反射板を
形成した。その反射率は９４．０％であった。それを板
金加工によってストロボ反射体用傘とし、キセノンラン
プと銀反射板のテトラフルオロエチレン−パーフルオロ
アルキルビニルエーテル共重合体フィルム側を接触させ
て固定、ストロボ発光回路のトリガ端子を銀反射板のア
ルミニウム板に接続することで、写真撮影用のストロボ
を形成した。Example 7 Tetrafluoroethylene-perfluoroalkylvinylether copolymer film (thickness 25 μm, total light transmittance = 94%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.000)
3) Polyether ether ketone film (thickness 25
μm, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0036) was laminated with an acrylic adhesive, and a surface of the polyether ether ketone film was subjected to DC sputtering by a target of silver having a purity of 99.9% and a purity of 99 as a sputtering gas. 150% on film using 0.5% argon
It was formed to have a thickness of nm. The silver side of the film and the aluminum plate were adhered with an epoxy adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 94.0%. It is made into a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, and fixed by contacting the xenon lamp and the tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer film side of the silver reflector with the strobe light emitting circuit's trigger terminal. A strobe for photography was formed by connecting to a board.

【００３１】比較例１ ポリカーボネートフィルム（厚さ２５μｍ、全光線透過
率＝８９％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．００３）
にポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ２５μ
m、全光線透過率＝８８％、１ＭＨｚにおける誘電正接
＝０．００３５）をポリエステル系のホットメルト接着
剤でラミネートした。この時の接着層の厚さは２μｍで
あった。ポリエチレンテレフタレート面にＤＣスパッタ
リング法で、純度９９．９％の銀をターゲットとし、純
度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとしてフィルム
上に１２０ｎｍになるように形成した。そのフィルムの
銀側とアルミニウム板とをポリエステル系ホットメルト
型接着剤で接着し、銀反射板を形成した。その反射率は
９５．５％であった。それを板金加工によってストロボ
反射体用傘とし、キセノンランプと銀反射板のポリエチ
レンテレフタレートフィルム側を接触させて固定、スト
ロボ発光回路のトリガ端子を銀反射板のアルミニウム板
に接続することで、写真撮影用のストロボを形成した。Comparative Example 1 Polycarbonate film (thickness 25 μm, total light transmittance = 89%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.003)
Polyethylene terephthalate film (thickness 25μ
m, total light transmittance = 88%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.0035) were laminated with a polyester-based hot melt adhesive. At this time, the thickness of the adhesive layer was 2 μm. A film having a thickness of 120 nm was formed on the surface of the polyethylene terephthalate film by a DC sputtering method using silver having a purity of 99.9% as a target and argon having a purity of 99.5% as a sputtering gas. The silver side of the film and the aluminum plate were bonded together with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 95.5%. By using it as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the xenon lamp and the silver reflector with the polyethylene terephthalate film side in contact, and connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the aluminum plate of the silver reflector, photography Formed a strobe.

【００３２】比較例２ ポリカーボネートフィルム（厚さ３５μｍ、全光線透過
率＝８４％、１ＭＨｚにおける誘電正接＝０．００２
５）にポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ２５
μｍ、全光線透過率＝８６％、１ＭＨｚにおける誘電正
接＝０．００３）をエポシキ系の接着剤でラミネートし
た。この時の接着層の厚さは３μｍとした。ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム面に、電子ビーム真空蒸着法
で、純度９９．９％の銀を蒸着した。水晶式膜厚モニタ
ーで銀層の膜厚を測定したところ１００ｎｍであった。
そのフィルムの銀側とステンレス板とをエポキシ系接着
剤で接着し、銀反射板を形成した。その反射率は９４．
９％であった。それを板金加工によってストロボ反射体
用傘とし、キセノンランプと銀反射板のポリエチレンテ
レフタレートフィルム側を接触させて固定、ストロボ発
光回路のトリガ端子を銀反射板のステンレス板に接続す
ることで、写真撮影用のストロボを形成した。 比較例３ ポリカーボネートフィルムフィルム（厚さ２５μm、全
光線透過率＝８８％、誘電正接＝０．００２５）に電子
ビーム真空蒸着法で、純度９９．９％の銀を蒸着した。
水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ９０
ｎｍであった。そのフィルムの銀側とアルミニウム板と
をポリエステル系ホットメルト型接着剤で接着し、銀反
射板を形成した。その反射率は９５．１％であった。そ
れを板金加工によってストロボ反射体用傘とし、キセノ
ンランプと銀反射板のポリエーテルサルフォンフィルム
側を接触させて固定、ストロボ発光回路のトリガ端子を
銀反射板のアルミニウム板に接続することで、写真撮影
用のストロボを形成した。 比較例４ ポリエーテルサルフォンフィルム（厚さ２５μｍ、全光
線透過率＝８８％、誘電正接＝０．００３５）に電子ビ
ーム真空蒸着法で、純度９９．９％の銀を蒸着した。水
晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ９０ｎ
ｍであった。そのフィルムの銀側とアルミニウム板とを
ポリエステル系ホットメルト型接着剤で接着し、銀反射
板を形成した。その反射率は９５．１％であった。それ
を板金加工によってストロボ反射体用傘とし、キセノン
ランプと銀反射板のポリエーテルサルフォンフィルム側
を接触させて固定、ストロボ発光回路のトリガ端子を銀
反射板のアルミニウム板に接続することで、写真撮影用
のストロボを形成した。Comparative Example 2 Polycarbonate film (thickness 35 μm, total light transmittance = 84%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.002)
5) Polyethylene terephthalate film (thickness 25
μm, total light transmittance = 86%, dielectric loss tangent at 1 MHz = 0.003), and laminated with epoxy adhesive. At this time, the thickness of the adhesive layer was 3 μm. Silver having a purity of 99.9% was vapor-deposited on the surface of the polyethylene terephthalate film by an electron beam vacuum vapor deposition method. When the film thickness of the silver layer was measured by a crystal type film thickness monitor, it was 100 nm.
The silver side of the film and the stainless steel plate were adhered with an epoxy adhesive to form a silver reflector. Its reflectance is 94.
It was 9%. By using it as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the xenon lamp and the silver reflector with the polyethylene terephthalate film side in contact, and connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the stainless steel plate of the silver reflector, taking a picture Formed a strobe. Comparative Example 3 Silver having a purity of 99.9% was vapor-deposited on a polycarbonate film film (thickness: 25 μm, total light transmittance = 88%, dielectric loss tangent = 0.0025) by an electron beam vacuum vapor deposition method.
It was 90 when the film thickness of the silver layer was measured with the crystal type film thickness monitor.
was nm. The silver side of the film and the aluminum plate were bonded together with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 95.1%. By using it as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the polyether sulfone film side of the xenon lamp and silver reflector by contacting them, and connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the aluminum plate of the silver reflector, Formed a strobe for photography. Comparative Example 4 Silver having a purity of 99.9% was deposited on a polyether sulfone film (thickness: 25 μm, total light transmittance = 88%, dielectric loss tangent = 0.0035) by an electron beam vacuum deposition method. When the thickness of the silver layer was measured with a crystal thickness monitor, it was 90n
It was m. The silver side of the film and the aluminum plate were bonded together with a polyester hot melt adhesive to form a silver reflector. The reflectance was 95.1%. By using it as a strobe reflector umbrella by sheet metal processing, fixing the polyether sulfone film side of the xenon lamp and silver reflector by contacting them, and connecting the trigger terminal of the strobe light emitting circuit to the aluminum plate of the silver reflector, Formed a strobe for photography.

【００３３】実施例１〜７及び比較例１〜４において説
明した写真撮影用ストロボを、図４でもって説明したス
トロボ回路において、キセノンランプに印加する電圧を
３２０Ｖ、トリガ端子に印加する電圧をピーク−ピーク
値で１５ｋＶ、周波数１ＭＨｚに設定し、キセノンラン
プを３０秒間隔で繰り返し発光させ、耐久試験を行っ
た。以上、実施例、比較例の結果を表１に示す。In the strobe circuit described with reference to FIG. 4, the strobe circuit for photographing described in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 was applied with a voltage of 320 V for the xenon lamp and a peak voltage for the trigger terminal. -A peak value was set to 15 kV and a frequency was set to 1 MHz, and a xenon lamp was repeatedly made to emit light at intervals of 30 seconds to perform a durability test. The results of Examples and Comparative Examples are shown in Table 1 above.

【００３４】[0034]

【表１】 [Table 1]

【００３５】本発明規定の条件を充足する実施例１〜７
が、比較例１〜４に比べてストロボ発光に対する耐久性
に優れていることは、前者が５０回の発光に対して異常
を示していないのに対し、後者が１０〜５０回の発光で
黒化もしくは反射率の低下を起こしているという実験結
果から明らかである。さらに、実施例６、７は、優れた
耐熱性を有し、３秒間隔の発光においても、フィルムの
溶融等が全く観察されなかったことを付記しておく。Examples 1 to 7 satisfying the conditions specified in the present invention
However, it is superior in durability against stroboscopic light emission as compared with Comparative Examples 1 to 4, whereas the former shows no abnormality after 50 times of light emission, while the latter shows black after 10 to 50 times of light emission. It is clear from the experimental results that the deterioration or the decrease in reflectance is caused. Further, it should be noted that Examples 6 and 7 have excellent heat resistance, and no melting or the like of the film was observed even in light emission at 3 second intervals.

【００３６】[0036]

【発明の効果】本発明に従えば、耐久性に優れた反射体
を得ることができ、この反射体を用いてストロボに好適
に用いることができる反射傘を提供することができる。According to the present invention, it is possible to obtain a reflector having excellent durability, and it is possible to provide a reflector which can be suitably used for strobes by using this reflector.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】反射板の断面構造を示す図FIG. 1 is a diagram showing a sectional structure of a reflector.

【図２】反射板の断面構造を示す図FIG. 2 is a diagram showing a sectional structure of a reflector.

【図３】キセノン管に銀反射板を接触させたストロボ構
造の説明図FIG. 3 is an explanatory view of a strobe structure in which a silver reflector is brought into contact with a xenon tube.

【図４】ストロボ用の発光回路図[Figure 4] Light emitting circuit diagram for flash

【符号の説明】[Explanation of symbols]

０１ 透明高分子層（Ａ） ０５ 透明高分子層（Ｂ） １０ 銀薄膜層 １５ 接着層 ２０ 板状成形体 ３０ キセノンランプ ４０ 銀反射板 ５０ トリガ端子 01 Transparent polymer layer (A) 05 Transparent polymer layer (B) 10 Silver thin film layer 15 Adhesive layer 20 Plate shaped body 30 xenon lamp 40 silver reflector 50 Trigger terminal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−168445（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−279202（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−177758（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−60740（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−320316（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−199701（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/08 G03B 15/02 G03B 15/05 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (56) References JP-A-1-168445 (JP, A) JP-A-1-279202 (JP, A) JP-A-5-177758 (JP, A) JP-A-6- 60740 (JP, A) JP-A-5-320316 (JP, A) Actual development Sho 62-199701 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. ⁷ , DB name) G02B 5/08 G03B 15 / 02 G03B 15/05

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 少なくとも、透明高分子層（Ａ）、透明
高分子層（Ｂ）、銀薄膜層（Ｃ）、接着層（Ｄ）、板状
成形体（Ｅ）が、ＡＢＣＤＥの順に形成されたＡの面が
反射面である反射板にして、１００ｋＨｚ〜１０ＭＨｚ
の高周波に対する、該透明高分子層（Ａ）の誘電正接が
０．００２５以下であり、かつ、該透明高分子層（Ｂ）
の誘電正接が０．００３５以上である反射板。1. At least a transparent polymer layer (A), a transparent polymer layer (B), a silver thin film layer (C), an adhesive layer (D), and a plate-shaped molding (E) are formed in the order of ABCDE. The surface of A is a reflection plate whose reflection surface is 100 kHz to 10 MHz.
The dielectric loss tangent of the transparent polymer layer (A) to the high frequency of 0.0025 or less, and the transparent polymer layer (B)
A reflector having a dielectric loss tangent of 0.0035 or more. 【請求項２】 透明高分子層（Ａ）と透明高分子層
（Ｂ）の常用耐熱性が、８０℃以上である請求項１に記
載の反射板。2. The reflector according to claim 1, wherein the heat resistance of the transparent polymer layer (A) and the transparent polymer layer (B) is 80 ° C. or higher. 【請求項３】 透明高分子層（Ａ）が、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、テ
トラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重
合体、もしくはテトラフルオロエチレン−パーフルオロ
アルキルビニルエーテル共重合体である、請求項１に記
載の反射板。3. The transparent polymer layer (A) is polyethylene,
The reflector according to claim 1, which is polypropylene, polycarbonate, polystyrene, a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, or a tetrafluoroethylene-perfluoroalkylvinylether copolymer. 【請求項４】 透明高分子層（Ｂ）が、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテ
ルエーテルケトン、もしくはポリエーテルスルホンであ
る請求項１に記載の反射板。4. The reflector according to claim 1, wherein the transparent polymer layer (B) is polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether ether ketone, or polyether sulfone. 【請求項５】 透明高分子層（Ａ）と透明高分子層
（Ｂ）の２層構造が、少なくとも２枚のフィルムを接着
層により貼り合わせることにより形成される請求項１に
記載の反射板。5. The reflection plate according to claim 1, wherein the two-layer structure of the transparent polymer layer (A) and the transparent polymer layer (B) is formed by bonding at least two films with an adhesive layer. . 【請求項６】 透明高分子層（Ａ）および透明高分子層
（Ｂ）の波長４００ｎｍから７５０ｎｍの範囲の光線に
対する透過率が８０％以上である請求項１に記載の反射
板。6. The reflection plate according to claim 1, wherein the transparent polymer layer (A) and the transparent polymer layer (B) have a transmittance of 80% or more for light rays in the wavelength range of 400 nm to 750 nm. 【請求項７】 銀薄膜層（Ｃ）がスパッタリング法もし
くは真空蒸着法で作製される請求項１〜６の何れかに記
載の反射板。7. The reflection plate according to claim 1, wherein the silver thin film layer (C) is produced by a sputtering method or a vacuum deposition method. 【請求項８】 板状成形体（Ｅ）がアルミニウム、アル
ミ合金、ステンレス鋼、銅亜鉛合金、鋼から選ばれたも
のである請求項１〜７の何れかに記載の反射板。8. The reflector according to claim 1, wherein the plate-shaped molded product (E) is selected from aluminum, aluminum alloy, stainless steel, copper-zinc alloy, and steel. 【請求項９】 波長５００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の光
線に対する反射率が９３％以上である請求項１〜８の何
れかに記載の反射板。9. The reflector according to claim 1, which has a reflectance of 93% or more with respect to a light ray having a wavelength of 500 nm to 750 nm. 【請求項１０】 銀薄膜層（Ｂ）の膜厚が７０ｎｍ〜３
００ｎｍである請求項１〜９の何れかに記載の反射板。10. The silver thin film layer (B) has a thickness of 70 nm to 3
It is 00 nm, The reflector in any one of Claims 1-9. 【請求項１１】 請求項１〜１０の何れかに記載の銀反
射板を傘状に加工形成してなるストロボ用反射傘。11. A reflective umbrella for strobes, which is formed by processing the silver reflector according to claim 1 into an umbrella shape.