JP3430564B2 - Color filter - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は表示品質の高い、低コス
トな、主に液晶表示素子用に用いられるカラーフィルタ
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter having high display quality and low cost, which is mainly used for liquid crystal display devices.

【０００２】[0002]

【従来の技術】液晶表示素子用カラーフィルタは液晶表
示素子をカラー化するための必須部材であり、ガラスあ
るいは透明プラスチック基板上に着色画素を形成して作
られる。着色画素は赤（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の３
原色の画素をライン状またはモザイク状に配置した構成
であり、そのサイズは１００μｍ前後である。各画素の
間には、画素のコントラストを高めるため、一般にブラ
ックマトリクスと呼ばれる遮光層が形成されるが、これ
はアクティブマトリクス駆動方式においてはトランジス
タや配線部の遮光の役目をも果たす。2. Description of the Related Art A color filter for a liquid crystal display element is an essential member for colorizing a liquid crystal display element and is formed by forming colored pixels on a glass or transparent plastic substrate. There are 3 colored pixels: red (R), blue (B), and green (G).
It has a configuration in which pixels of primary colors are arranged in a line shape or a mosaic shape, and the size thereof is about 100 μm. A light-shielding layer generally called a black matrix is formed between each pixel in order to increase the contrast of the pixel, and this also serves as a light-shielding for a transistor and a wiring portion in the active matrix driving system.

【０００３】ブラックマトリクスは通常、金属Ｃｒの蒸
着膜やスパッタリング膜をエッチング加工するか、黒色
着色材料を含む感光性または非感光性の樹脂を露光現像
またはエッチングまたは電着加工によりパターニングし
て形成されている。この様にして形成されたブラックマ
トリクスはＲ、Ｇ、Ｂそれぞれの画素の配置に対応して
ストライプ状、モザイク状、格子状などの形状をとる
が、その幅は狭いところでは数μｍ、広いところでは１
００μｍ程度である。The black matrix is usually formed by etching a metal Cr vapor deposition film or a sputtering film, or by patterning a photosensitive or non-photosensitive resin containing a black coloring material by exposure, development, etching or electrodeposition. ing. The black matrix thus formed has a stripe shape, a mosaic shape, a lattice shape, or the like corresponding to the arrangement of the R, G, and B pixels, but the width thereof is a few μm in a narrow place and is wide. Is 1
It is about 00 μm.

【０００４】一方画素部の着色方法についてはＲ、Ｇ、
Ｂそれぞれ感光性の着色ペーストを用いて光でパターニ
ングする方法、また、非感光の樹脂インキをインクジェ
ット装置を用いて所定位置に噴射し着色する方法、印刷
装置を用いて基板上に転写し着色する方法、および予め
透明電極を形成した基板上に電着法により着色する方法
などが提案されている。これらの画素部形成法の中で、
ブラックマトリクス形成後にインクジェット装置、また
は印刷装置を用いて画素部を着色するインクジェット法
および印刷法においては、従来のブラックマトリクスを
用いた場合には、ブラックマトリクス上にインキのはみ
出しが発生し、平坦な画素が得られない。それに対し
て、特開平４−１２３００５、特開平４−１２３００
６、特開平４−１２３００７、特開平４−１５１６０
４、特開平４−１９５１０２号公報に開示されているよ
うに、感光層上にシリコーンゴム層を形成してなるイン
キ反発柵を用いたインクジェット法または印刷法による
カラーフィルタ製造法が有効である。しかし、この場合
はインキ反発性を発現させるためにブラックマトリクス
は遮光層の上に感光層およびシリコーンゴム層の合計３
層が重なって形成されており工程が非常に複雑である。On the other hand, regarding the coloring method of the pixel portion, R, G,
B Each is patterned by light using a photosensitive coloring paste, a method of spraying a non-photosensitive resin ink at a predetermined position using an inkjet device, and a method of transferring and coloring onto a substrate using a printing device A method and a method of coloring a substrate on which a transparent electrode is formed in advance by an electrodeposition method have been proposed. Among these pixel part formation methods,
In an inkjet method and a printing method in which a pixel portion is colored by using an inkjet device or a printing device after the black matrix is formed, when a conventional black matrix is used, ink squeezes out on the black matrix, resulting in a flat surface. No pixels can be obtained. On the other hand, JP-A-4-123005 and JP-A-4-12300
6, JP-A-4-123007, JP-A-4-15160
4, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-195102, a color filter manufacturing method using an ink jet method or a printing method using an ink repellent fence formed by forming a silicone rubber layer on a photosensitive layer is effective. However, in this case, in order to develop the ink resilience, the black matrix has a total of 3 layers of the photosensitive layer and the silicone rubber layer on the light shielding layer.
The layers are formed to overlap each other and the process is very complicated.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
技術の諸欠点に鑑み創案されたもので、その目的とする
ところは、インクジェット方式、または印刷方式を用い
て、ブラックマトリクス形成後に画素を形成する場合に
も、ブラックマトリクス上にインキがはみ出すこと無
く、画素の平坦性に優れた高品質なカラーフィルタを安
価に提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention was devised in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. The object of the present invention is to use an inkjet method or a printing method to form pixels after forming a black matrix. Even when formed, it is to provide a high-quality color filter with excellent pixel flatness at a low price without the ink protruding onto the black matrix.

【０００６】[0006]

【課題を解決するための手段】かかる本発明の目的は、
透明基板上の所定位置に、複数色の画素および、該画素
の間隙に遮光用ブラックマトリクスが形成されたカラー
フィルタにおいて、該遮光用ブラックマトリクスが、金
属層または黒色樹脂層である遮光層の上に、光透過性の
樹脂層である非遮光層が積層されたものであり、かつ該
光透過性の樹脂層が少なくとも以下の一般式(1)又は(2)
で示されるモノマー又はオリゴマーである含フッ素化合
物および／または低表面エネルギー物質の微粒子を含有
することを特徴とするカラーフィルタ一般式(1) Ｒｆ−Ｘ−Ｒｆ´ 一般式(2) （Ｒｆ−Ｘ−Ｒ）−Ｙ−（Ｒ´−Ｘ´−Ｒｆ
´） （ここで、ＲｆおよびＲｆ´はフルオロアルキル基、Ｒ
およびＲ´はアルキレン基を表し、ＲｆとＲｆ´また、
ＲとＲ´は同一でも異なっていても良い。また、Ｘ、Ｘ
´およびＹは、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮ
Ｒ''−、−ＯＣＯＮＲ''−、−ＳＯ ₂ ＮＲ''−、−ＳＯ
₂ −、−ＳＯ ₂ Ｏ−、−Ｏ−、−ＮＲ''−、−Ｓ−、−
ＣＯ−、ＯＳＯ ₂ Ｏ−、−ＯＰＯ（ＯＨ）Ｏ−のうちの
いずれかを表し、Ｘ、Ｘ´およびＹは同一でも異なって
いても良い。Ｒ''はアルキル基または水素を表す。） に
より達成される。The object of the present invention is as follows.
In a color filter in which pixels of a plurality of colors and a black matrix for light shielding are formed at predetermined positions on a transparent substrate, the black matrix for light shielding is on a light shielding layer which is a metal layer or a black resin layer. In, a non-light-shielding layer is a light-transmitting resin layer is laminated, and the light-transmitting resin layer is at least the following general formula (1) or (2)
A color filter characterized by containing a fluorine-containing compound which is a monomer or an oligomer represented by and / or fine particles of a low surface energy substance General formula (1) Rf-X-Rf ' General formula (2) (Rf-X -R) -Y- (R'-X'-Rf
′) (Where Rf and Rf ′ are fluoroalkyl groups, R
And R'represent an alkylene group, Rf and Rf ',
R and R'may be the same or different. Also, X, X
'And Y are -COO-, -OCOO-, -CON
R '' -, - OCONR ' ' -, - SO 2 NR '' -, - SO
_{2 -, - SO 2 O -} , - O -, - NR '' -, - S -, -
_{CO-, OSO 2 O -, -} OPO (OH) O- of the
X, X'and Y are the same or different
You may stay. R ″ represents an alkyl group or hydrogen. ) Is achieved.

【０００７】本発明における遮光用ブラックマトリクス
は、遮光層の上に非遮光層が積層されたものであり、該
非遮光層は、特に印刷法やインクジェット法での画素形
成工程において、インキ滲みや混色を確実に防止するた
め、インキ反発性を示し、水に対し４０°以上の、より
好ましくは６０°以上の後退接触角を有すること、ある
いは、表面エネルギーが２０ｄｙｎ／ｍ以下の低エネル
ギー表面を有することが好ましい。The light-shielding black matrix in the present invention comprises a light-shielding layer and a non-light-shielding layer laminated on the light-shielding layer. The non-light-shielding layer is capable of causing ink bleeding and color mixture especially in a pixel forming step by a printing method or an inkjet method. In order to reliably prevent the above, it exhibits ink repulsion and has a receding contact angle with water of 40 ° or more, more preferably 60 ° or more, or has a low energy surface with a surface energy of 20 dyn / m or less. It is preferable.

【０００８】インキ反発性の遮光用ブラックマトリクス
を用いる重要な効果は、これらの成分の撥水性、撥油性
を利用して、黒色樹脂層を除去した部分以外へのインキ
の付着や滲みだしを防止し、印刷時の印刷のブレや滲み
による精度の低下を抑制し、また、インクジェット法で
インキを付着させる場合には、他の領域への滲みだしや
隣接する色との混色を防止して、各色部分の独立性を高
度に保持することにある。後退接触角が40°未満の場合
には該遮光性ブラックマトリクスの上記効果が小さい。
インクジェット法においてインキが遮光用ブラックマト
リクスに付着すると、非付着部分との間にインキの膜厚
ムラが生じ、画素部分の色ムラを生じる。インキ反発成
分としては、画素を形成するインキに対する優れた反発
性を得るために、極めて低い表面エネルギーのものが望
ましく、そのような低表面エネルギー物質としては、含
フッ素化合物、シリコーン微粒子などが有効であるが、
それらに限定されるものではない。An important effect of using an ink-repellent light-shielding black matrix is to prevent ink from adhering to or exuding to a portion other than the portion where the black resin layer is removed, by utilizing the water repellency and oil repellency of these components. However, it suppresses the deterioration of accuracy due to printing blurring and bleeding at the time of printing, and when ink is applied by the inkjet method, it prevents bleeding into other areas and color mixing with adjacent colors, It is to maintain high independence of each color part. When the receding contact angle is less than 40 °, the above effect of the light-shielding black matrix is small.
When the ink adheres to the light-shielding black matrix in the inkjet method, unevenness in film thickness of the ink occurs between the ink and the non-adhered portion, and color unevenness occurs in the pixel portion. As the ink repellent component, those having an extremely low surface energy are desirable in order to obtain excellent resilience to the ink forming pixels, and as such a low surface energy substance, a fluorine-containing compound, silicone fine particles, etc. are effective. But
It is not limited to them.

【０００９】以下、具体的に、非遮光層の構成について
説明する。非遮光層は遮光用ブラックマトリクスの上層
に当たる部分で、光透過性の樹脂層であり、上述のよう
にインキ反発性を有する。The structure of the non-light-shielding layer will be specifically described below. The non-light-shielding layer is a portion that corresponds to the upper layer of the light-shielding black matrix, is a light-transmissive resin layer, and has ink repulsion as described above.

【００１０】インキ反発性を有する非遮光層としては、
光硬化型あるいは光可溶化型の感光剤（樹脂成分）にイ
ンキ反発成分を混合したものに基づくものが使用でき
る。As the non-light-shielding layer having ink resilience,
A photocurable or photosolubilized photosensitizer (resin component) mixed with an ink repellent component can be used.

【００１１】光硬化型の感光剤を使用する場合、感光剤
としては、架橋点を形成できるポリマまたはオリゴマを
主成分に選び、これに架橋剤を添加することが好まし
い。必要な場合には反応開始剤を添加することが有効で
ある。When a photocurable photosensitizer is used, it is preferable to select a polymer or oligomer capable of forming a cross-linking point as the main ingredient and add the cross-linking agent thereto. If necessary, it is effective to add a reaction initiator.

【００１２】具体的には、ゼラチン、カゼイン、ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの水溶性の
高分子に、重クロム酸アンモニウムまたはビスアジド系
の架橋剤を添加する系、または環化ゴム、ビニルフェノ
ール等の芳香族ポリマーに同じくビスアジド系の架橋剤
を添加する系が挙げられる。また、ラジカル重合で反応
させる系としては、ポリエステル、エポキシ、ポリウレ
タン、アルキッド樹脂、スピラン樹脂、シリコーン樹脂
等の低分子量ポリマまたはオリゴマに、アクリル酸、メ
タクリル酸またはそのエステル基を導入したプレポリマ
に、架橋剤として多官能アクリレート、メタクレートを
添加する系が挙げられる。この場合、必要に応じて反応
開始剤として光ラジカル発生剤を添加しても良い。ま
た、エポキシ樹脂に光カチオン発生剤を添加する系、フ
ェノールノボラックやＯＨ基を有するポリマに架橋剤と
してメチロール化メラミンを添加し、また、開始剤とし
て光酸発生剤を加える系も有効である。また、光硬化性
ポリイミドとしては、テトラカルボン酸とジアミンを組
合せて双極性非プロトン溶剤中で一般的に製造されるポ
リイミド前駆体のワニスにメタクリル基などの感光基を
有しているアミノ化合物を混合したもの（例えば特公昭
59-52822号公報）、光により二量化または重合可能な基
をエステル結合で導入したもの（例えば米国特許第3957
512 号明細書）、Ｎ−メチロールアクリドアミド化合物
をポリイミド前駆体のワニスに混合したもの（例えば高
分子学会予稿集p807、1990年）、あるいはアクリルモノ
マーをポリイミド前駆体のワニスに混合したもの（例え
ば特開平2-50161 号公報）などがあげられる。光硬化型
の感光剤として上記の材料が有効であるが、特にこれら
に限定されるものではなく、一般に光硬化型の感光剤と
して知られる材料はいずれも当該感光層の主成分として
用いることができる。Specifically, a system in which a crosslinking agent of ammonium dichromate or bisazide is added to a water-soluble polymer such as gelatin, casein, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, or cyclized rubber, vinylphenol, etc. A system in which a bisazide-based crosslinking agent is added to an aromatic polymer is also included. In addition, as a system for reacting by radical polymerization, polyester, epoxy, polyurethane, alkyd resin, spirane resin, low molecular weight polymer or oligomer such as silicone resin, acrylic acid, methacrylic acid or a prepolymer introduced with its ester group, cross-linked Examples of the agent include a system in which a polyfunctional acrylate or a methacrylate is added. In this case, a photoradical generator may be added as a reaction initiator if necessary. Further, a system in which a photocation generator is added to an epoxy resin, a system in which a methylolated melamine is added as a crosslinking agent to a phenol novolac or a polymer having an OH group, and a photoacid generator as an initiator is also effective. Further, as the photocurable polyimide, an amino compound having a photosensitive group such as a methacryl group in a varnish of a polyimide precursor generally produced in a dipolar aprotic solvent by combining a tetracarboxylic acid and a diamine. A mixture (for example
59-52822), in which a group dimerizable or polymerizable by light is introduced by an ester bond (for example, US Pat. No. 3957).
No. 512), a mixture of N-methylol acrylamido compound with a polyimide precursor varnish (for example, Proceedings of the Polymer Society of Japan p807, 1990), or a mixture of acrylic monomer with a polyimide precursor varnish ( For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-50161) can be cited. Although the above-mentioned materials are effective as the photocurable photosensitizer, the materials are not particularly limited thereto, and any material generally known as the photocurable photosensitizer may be used as the main component of the photosensitive layer. it can.

【００１３】光可溶化型の感光剤を使用する場合、感光
剤としては主成分となる高分子とその高分子の溶媒に対
する溶解性を抑制する作用を有し、さらに光を照射する
ことにより溶解抑制効果を消失する物質との混合物また
は両者の結合体を用いることができる。例えば、ｏ−ナ
フトキノンジアジドとアルカリ可溶性樹脂との混合物お
よび両者をエステル結合したものは光可溶化型の感光剤
として用いることができる。中でも、アルカリ可溶性樹
脂としてフェノールノボラック樹脂を用いた系は上記の
目的に非常に適している。この他、ジアゾメルドラム酸
とフェノールノボラック樹脂の混合物、ジアゾメドンと
ポリビニルフェノールとの混合物、ｏ−ニトロベンジル
カルボン酸エステルとアクリル酸−メチルメタクリレー
ト共重合体との混合物、およびポリｏ−ニトロベンジル
メタクリレート等が適している。また、感光性ポリイミ
ドのうち、光可溶性ポリイミドとしては、ポリアミド酸
に光分解性の感光基をエステル結合で導入したもの（例
えば特開平1-61747 号公報）、ポリアミド酸にナフトキ
ノンジアジド化合物を添加したもの（例えば高分子学会
予稿集40巻 3号 821(1991)）などがあげられる。When a photosolubilizing type photosensitizer is used, it has a function of suppressing the solubility of a polymer as a main component and the polymer in a solvent as a photosensitizer, and further dissolves it by irradiating light. It is possible to use a mixture with a substance that eliminates the inhibitory effect or a combination of both. For example, a mixture of o-naphthoquinonediazide and an alkali-soluble resin, and a substance obtained by esterifying both of them can be used as a photosolubilizing-type photosensitizer. Above all, a system using a phenol novolac resin as the alkali-soluble resin is very suitable for the above purpose. In addition, a mixture of diazomeldrum acid and phenol novolac resin, a mixture of diazomedone and polyvinylphenol, a mixture of o-nitrobenzyl carboxylic acid ester and acrylic acid-methyl methacrylate copolymer, and poly o-nitrobenzyl methacrylate. Is suitable. Further, among the photosensitive polyimides, as the photo-soluble polyimide, a polyamic acid in which a photodegradable photosensitive group is introduced through an ester bond (for example, JP-A No. 1-61747) is added, and a naphthoquinonediazide compound is added to the polyamic acid. (For example, Proceedings of the Society of Polymer Science, Vol. 40, No. 3, 821 (1991)).

【００１４】感光剤に添加するインキ反発成分として
は、前述の通り、表面エネルギーの低い含フッ素化合物
や低表面エネルギー物質の微粒子が使用される。[0014] As the ink repellent component added to the photosensitive material, as described above, fine particles of low surface energy fluorinated compound and a low surface energy material is used.

【００１５】含フッ素化合物としては、モノマ（低分子
化合物）あるいはオリゴマがある。[0015] As the fluorine-containing compounds, Mo Noma (low molecular compound) or may oligomer.

【００１６】[0016]

【００１７】光透過性の樹脂層中に含有されるフッ素原
子を有する高分子化合物としては、例えば、フッ化ビニ
リデン、フッ化ビニル、三フッ化エチレンの単独重合
体、これらと四フッ化エチレンや他の溶媒可溶性モノマ
ーとの共重合体等があげられる。 The fluorine atom is containing chromatic light transmitting resin layer
Examples of the polymer compound having a child include vinylidene fluoride, vinyl fluoride, and homopolymers of ethylene trifluoride, and copolymers of these with ethylene tetrafluoride and other solvent-soluble monomers .

【００１８】光透過性の樹脂層中に微粒子状の分散状態
で含有されるものとしては、四フッ化エチレンから成る
ポリマーおよびオリゴマーが適している。Polymers and oligomers made of tetrafluoroethylene are suitable for being contained in the light-transmissive resin layer in the form of fine particles.

【００１９】含フッ素化合物としては、下記一般式
（１）又は（２）一般式(1) Ｒｆ−Ｘ−Ｒｆ´ 一般式(2) （Ｒｆ−Ｘ−Ｒ）−Ｙ−（Ｒ´−Ｘ´−Ｒｆ
´） （ここで、ＲｆおよびＲｆ´はフルオロアルキル基、Ｒ
およびＲ´はアルキレン基を表し、ＲｆとＲｆ´また、
ＲとＲ´は同一でも異なっていても良い。また、Ｘ、Ｘ
´およびＹは、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮ
Ｒ''−、−ＯＣＯＮＲ''−、−ＳＯ ₂ ＮＲ''−、−ＳＯ
₂ −、−ＳＯ ₂ Ｏ−、−Ｏ−、−ＮＲ''−、−Ｓ−、−
ＣＯ−、ＯＳＯ ₂ Ｏ−、−ＯＰＯ（ＯＨ）Ｏ−のうちの
いずれかを表し、Ｘ、Ｘ´およびＹは同一でも異なって
いても良い。Ｒ''はアルキル基または水素を表す。） で
表されるものである必要がある。一般にフッ素系界面活
性剤として知られている材料が該当する。Examples of the fluorine-containing fluorinated compounds, the following general formula (1) or (2) the general formula (1) Rf-X-Rf' general formula (2) (Rf-X- R) -Y- ( R'-X'-Rf
′) (Where Rf and Rf ′ are fluoroalkyl groups, R
And R'represent an alkylene group, Rf and Rf ',
R and R'may be the same or different. Also, X, X
'And Y are -COO-, -OCOO-, -CON
R '' -, - OCONR ' ' -, - SO 2 NR '' -, - SO
_{2 -, - SO 2 O -} , - O -, - NR '' -, - S -, -
_{CO-, OSO 2 O -, -} OPO (OH) O- of the
X, X'and Y are the same or different
You may stay. R ″ represents an alkyl group or hydrogen. ) It is necessary is represented by. A material generally known as a fluorine-based surfactant is applicable.

【００２０】フッ素系界面活性剤は、感光剤の種類によ
り、親水基、または親油基の構造を選択することで感光
剤との混合状態を良好にすることができる。フッ素系界
面活性剤の含フッ素基としては、Ｃ_n Ｆ_(2n+1)（ｎ＝１
〜５０）のパーフルオロアルキル基、また、この中の１
つまたは複数のフッ素原子をＣ_n Ｆ_(2n+1)鎖で置換した
枝別れタイプ、さらに芳香環の水素原子の一部または全
部をＦまたはＣ_n Ｆ_{(2 n+1)}で置換したタイプ、および４
フッ化エチレンのフッ素原子をＣＦ₃ で置換したタイプ
を用いることができる。パーフルオロアルキル基の場
合、その炭素鎖長に制限はないが、好ましくはｎ＜２
０、より好ましくは３＜ｎ＜１５が効果的である。芳香
環タイプとしては、フルオロベンゼン、ジフルオロベン
ゼン、トリフルオロベンゼン、パーフルオロベンゼン、
フルオロフェノール、およびその誘導体を用いることが
できる。この様な含フッ素基は界面活性剤の中に単独も
しくは複数個存在することができる。特に含フッ素成分
として末端のＣＦ₃ −を基本構造単位内に２つ以上含有
するものはインキ反発性の点でＣＦ₃ −が１つの構造に
比べて非常に優れており、より好ましい。具体的には、
モノマー内、またはオリゴマーが基本構成単位の繰り返
しで構成されている場合には、基本構成単位内にＣ_n Ｆ
_(2n+1)の直鎖状の側鎖を２つ以上含む構造はいずれも良
好なインキ反発性を実現できる。The fluorine-based surfactant can be mixed well with the photosensitizer by selecting the structure of the hydrophilic group or the lipophilic group depending on the type of the photosensitizer. As the fluorine-containing group of the fluorine-based surfactant, C _n F _{(2n + 1)} (n = 1
~ 50) perfluoroalkyl group, and also 1
Branching type in which one or more fluorine atoms are substituted with C _n F _{(2n + 1)} chains, and type in which some or all of the hydrogen atoms in the aromatic ring are substituted with F or C _n F _{(2 n + 1)} , And 4
A type in which the fluorine atom of ethylene fluoride is replaced with CF ₃ can be used. The carbon chain length of the perfluoroalkyl group is not limited, but preferably n <2.
0, more preferably 3 <n <15 is effective. As the aromatic ring type, fluorobenzene, difluorobenzene, trifluorobenzene, perfluorobenzene,
Fluorophenol and its derivatives can be used. Such a fluorine-containing group can be present alone or in plural in the surfactant. Particularly, those containing two or more terminal CF ₃ − in the basic structural unit as the fluorine-containing component are more excellent than the structure having one CF ₃ − in terms of ink resilience, and are more preferable. In particular,
When the monomer or the oligomer is composed of repeating basic structural units, C _n F is contained in the basic structural unit.
All of the structures containing two or more _{(2n + 1)} linear side chains can realize good ink resilience.

【００２１】親水基としては、ＯＨ基、カルボン酸、ス
ルホン酸、リン酸およびその塩、アンモニウム塩、エチ
レンオキシド、およびポリエチレンオキシド等が効果的
である。親油基としては鎖状炭化水素、芳香環等疎水性
を示す構造はすべて用いることができる。オリゴマーの
場合、主鎖にこれらの含フッ素基、親水基、および親油
基がペンダントされている構造がより効果的である。As the hydrophilic group, OH group, carboxylic acid, sulfonic acid, phosphoric acid and salts thereof, ammonium salt, ethylene oxide, polyethylene oxide and the like are effective. As the lipophilic group, chain hydrocarbons, aromatic rings and other structures showing hydrophobicity can all be used. In the case of an oligomer, a structure in which the fluorine-containing group, the hydrophilic group, and the lipophilic group are pendant to the main chain is more effective.

【００２２】一方、低表面エネルギー物質の微粒子とし
て、好適であるシリコーン微粒子をインキ反発成分とし
て使用する場合としては、光透過性の樹脂層中に有機シ
リコーンをエマルジョン状態で分散した構造や、シリコ
ーンゲル微粒子を光透過性の樹脂層中に分散した構造な
どが挙げられる。On the other hand, as fine particles of a low surface energy substance,
In the case of using suitable silicone fine particles as an ink repellent component, a structure in which organic silicone is dispersed in an emulsion state in a light-transmitting resin layer, or silicone gel fine particles are dispersed in a light-transmitting resin layer. Examples include a structure.

【００２３】有機シリコーンとしては、鎖状のシロキサ
ン構造、シロキサンが環状構造を形成した例えばシクロ
シロキサン構造等が挙げられる。Examples of the organic silicone include a chain siloxane structure and a cyclosiloxane structure in which siloxane forms a cyclic structure.

【００２４】シリコーンゲル微粒子の大きさとしては、
インキ反発性感光層の分解能の点で小さい方が好まし
く、直径５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下で
ある。また、シリコーンゲル微粒子を分散させる際に分
散性を良好に保つために界面活性剤を用いることが有効
である。添加する界面活性剤としては特に限定されない
が、ケイ素を含有するシリコン系の界面活性剤が分散性
の面でより有効である。また、感光剤中に有機シリコー
ンをエマルジョン状態で分散する場合にも界面活性剤の
添加は分散安定性の向上にも有効である。又、微粒子と
して、４フッ化エチレン等の含フッ素化合物を用いるこ
ともできる。 The size of the silicone gel particles is as follows.
From the viewpoint of the resolution of the ink repellent photosensitive layer, the smaller one is preferable, and the diameter is 50 μm or less, more preferably 10 μm or less. Further, it is effective to use a surfactant in order to maintain good dispersibility when dispersing the silicone gel particles. The surfactant to be added is not particularly limited, but a silicon-containing surfactant containing silicon is more effective in terms of dispersibility. Also, when the organic silicone is dispersed in the photosensitizer in the emulsion state, the addition of the surfactant is effective for improving the dispersion stability. Also, with fine particles
And use fluorine-containing compounds such as tetrafluoroethylene.
I can do it.

【００２５】非遮光層の厚さは０．１〜５μm であるこ
とが好ましく、塗布性、パターン解像度などから最適値
を決めることができる。The thickness of the non-light-shielding layer is preferably 0.1 to 5 μm, and the optimum value can be determined from the coating property and pattern resolution.

【００２６】非遮光層中の感光剤成分とインキ反発成分
の割合については、前者が多すぎるとインキ反発性が不
充分となり、また後者が多すぎるとパターン解像度が劣
化する。そのため、非遮光層中のインキ反発成分は１重
量％以上３０重量％以下であることが好ましい。Regarding the ratio of the photosensitizer component and the ink repellent component in the non-light-shielding layer, if the former is too large, the ink repellent property becomes insufficient, and if the latter is too large, the pattern resolution deteriorates. Therefore, the ink repellent component in the non-light-shielding layer is preferably 1% by weight or more and 30% by weight or less.

【００２７】次に、遮光層について説明する。遮光層
は、遮光用ブラックマトリクスの下層に当たる部分であ
り、金属層または黒色樹脂層である。Next, the light shielding layer will be described. The light shielding layer is a portion corresponding to a lower layer of the light shielding black matrix, and is a metal layer or a black resin layer.

【００２８】金属層としては、Ｃｒ等の金属を真空蒸着
またはスッパッタリングして形成された金属薄膜などが
一般的である。The metal layer is generally a metal thin film formed by vacuum deposition or spattering of a metal such as Cr.

【００２９】黒色樹脂層としては、樹脂中に黒色着色材
料を分散または樹脂自身を染料により染色した薄膜が使
用できる。樹脂中に分散される黒色着色料としては光吸
収能の高いカーボン粉や、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉなど金属酸
化物の微粒子、Ｒ、Ｇ、Ｂ各色の顔料を混合して全体と
して広い波長域を遮光できるように調合したものなどが
使用できる。また、黒色染料を樹脂中に分散することで
もできる。As the black resin layer, a thin film obtained by dispersing a black coloring material in a resin or dyeing the resin itself with a dye can be used. As the black colorant dispersed in the resin, carbon powder having high light absorption ability, fine particles of metal oxides such as Ti, Cr and Ni, and pigments of R, G and B colors are mixed to have a wide wavelength range as a whole. It is possible to use a mixture prepared so as to block light. It is also possible to disperse the black dye in the resin.

【００３０】黒色樹脂層中に含まれる樹脂としては特に
限定されないが、好ましくは２００℃以上でも軟化する
ことのないアクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、および耐熱性樹脂として知られるポリイミド樹脂、
芳香族ポリアミド樹脂などが適している。アクリル樹脂
としては、例えば主たる樹脂成分としてポリエステル、
エポキシ、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピラン樹
脂、シリコーン樹脂等の低分子量ポリマまたはオリゴマ
にアクリル酸、メタクリル酸またはそのエステル基を導
入したいわゆるプレポリマに、架橋剤として単分子中に
２つ以上アクリル酸基、メタクリル酸基またはそのエス
テル基を有する多官能反応物を添加する系等があげられ
る。この場合、必要に応じて反応開始剤として熱または
光によってラジカルを発生するラジカル発生剤を添加す
ることは有効である。メラミン樹脂としてはフェノール
樹脂、アルキッド樹脂等ＯＨ基を有するポリマーに架橋
剤としてメチロール化メラミンを添加し、また、開始剤
として光または熱による酸発生剤を加えた系も有効であ
る。The resin contained in the black resin layer is not particularly limited, but is preferably an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, or a polyimide resin known as a heat resistant resin, which does not soften even at 200 ° C. or higher.
Aromatic polyamide resin and the like are suitable. As the acrylic resin, for example, polyester as the main resin component,
A so-called prepolymer prepared by introducing acrylic acid, methacrylic acid or its ester group into a low molecular weight polymer or oligomer such as epoxy, polyurethane, alkyd resin, spirane resin, silicone resin, etc., and two or more acrylic acid groups in a single molecule as a crosslinking agent, Examples thereof include a system in which a polyfunctional reaction product having a methacrylic acid group or its ester group is added. In this case, it is effective to add a radical generator that generates a radical by heat or light as a reaction initiator, if necessary. As the melamine resin, a system in which a methylolated melamine is added as a crosslinking agent to a polymer having an OH group such as a phenol resin or an alkyd resin, and an acid generator by light or heat is added as an initiator is also effective.

【００３１】黒色樹脂層を形成するには、該黒色樹脂層
を形成すべき組成物に感光性を付与してフォトリソグラ
フィの方法によってパターン化してもよいし、感光性を
付与せずフォトレジスト法によってパターン化しても良
い。In order to form the black resin layer, the composition for forming the black resin layer may be photosensitized and patterned by a photolithography method, or a photoresist method without photosensitivity. It may be patterned by.

【００３２】遮光層の厚さは、０．３〜３０μm である
ことが好ましく、塗布性、パターン解像度、光学濃度
（ＯＤ値）などから最適値を決めることができる。ＯＤ
値は0.5 〜4 の範囲で可能であるが、本発明の目的から
2.0 以上が好ましい。The thickness of the light-shielding layer is preferably 0.3 to 30 μm, and the optimum value can be determined from the coating property, pattern resolution, optical density (OD value) and the like. OD
Values can range from 0.5 to 4, but for the purposes of the present invention.
2.0 or more is preferable.

【００３３】透明基板上には、必要に応じて遮光用ブラ
ックマトリクスおよび画素と透明基板の接着性を向上す
る透明薄膜を塗布しておくことができる。接着性向上の
ための透明薄膜としては、例えば、（Ｎ−トリメトキシ
シリルプロピル）ポリエチレンイミンなどのアミノアル
キルアルコキシシラン誘導体を用いることができるが、
これらに限定されるものではない。On the transparent substrate, a black matrix for light shielding and a transparent thin film for improving the adhesiveness between the pixel and the transparent substrate can be applied, if necessary. As the transparent thin film for improving the adhesiveness, for example, an aminoalkylalkoxysilane derivative such as (N-trimethoxysilylpropyl) polyethyleneimine can be used.
It is not limited to these.

【００３４】また、本発明の透明基板としては、特に限
定されることなく、例えば、ガラス、プラスチックフィ
ルムまたはシートなどが好ましく用いられる。The transparent substrate of the present invention is not particularly limited and, for example, glass, plastic film or sheet is preferably used.

【００３５】本発明のカラーフィルタは、例えば、次の
ようにして作成されるが、これらに限定されない。The color filter of the present invention is produced, for example, as follows, but is not limited thereto.

【００３６】まず、透明基板上に遮光用ブラックマトリ
クスを形成するには、例えば、次の〜の方法があげ
られる。First, in order to form a black matrix for shading on a transparent substrate, for example, the following methods (1) to (4) can be mentioned.

【００３７】基板上にパターン化した遮光層を形成
し、その上に非遮光層となる非感光性樹脂組成物層を形
成し、この非感光性樹脂組成物層をフォトレジスト法に
よりパターン化する。A patterned light-shielding layer is formed on a substrate, a non-photosensitive resin composition layer serving as a non-light-shielding layer is formed thereon, and the non-photosensitive resin composition layer is patterned by a photoresist method. .

【００３８】基板上にパターン化した遮光層を形成
し、その上に非遮光層となる感光性樹脂組成物層を形成
し、この感光性樹脂組成物層をフォトリソ法によりパタ
ーン化する。A patterned light-shielding layer is formed on a substrate, a photosensitive resin composition layer serving as a non-light-shielding layer is formed thereon, and the photosensitive resin composition layer is patterned by a photolithography method.

【００３９】基板上に遮光層を形成し、パターン化す
ることなく、その上に非遮光層となる非感光性樹脂組成
物層を形成し、この非感光性樹脂組成物層をフォトレジ
スト法によりパターン化し、そのパターンをマスクとし
て遮光層をパターン化する。 基板上に遮光層を形成し、パターン化することなく、
その上に非遮光層となる感光性樹脂組成物層を形成し、
この感光性樹脂組成物層をフォトリソ法によりパターン
化し、そのパターンをマスクとして遮光層をパターン化
する。A light-shielding layer is formed on a substrate, a non-photosensitive resin composition layer to be a non-light-shielding layer is formed thereon without patterning, and the non-photosensitive resin composition layer is formed by a photoresist method. The light-shielding layer is patterned using the pattern as a mask. Form a light-shielding layer on the substrate, without patterning,
Form a photosensitive resin composition layer to be a non-light-shielding layer on it,
This photosensitive resin composition layer is patterned by a photolithography method, and the light shielding layer is patterned using the pattern as a mask.

【００４０】遮光用ブラックマトリクスの形成されない
部分のサイズの相互の比率と形状は、露光に用いるマス
クの調整によって自由に変更することができる。The mutual ratio of the sizes of the portions where the black matrix for shading is not formed and the shape can be freely changed by adjusting the mask used for exposure.

【００４１】本発明は、主に液晶表示素子のためのカラ
ーフィルタの提供を目的にしている。通常、カラーフィ
ルタの各画素のサイズは100 μm 前後であり、各画素間
に設けられる遮光用ブラックマトリクスの線幅は２０μ
m 前後である。これらの画素は、線状に配置されたいわ
ゆるストライプタイプのものや、遮光用ブラックマトリ
クスに周りを囲まれた着色部が格子状に配置されたもの
である。これらのインキ反発性の遮光用ブラックマトリ
クスのパターンで細分化された部位に、印刷法あるいは
インクジェット法などでインキ等の着色剤あるいはその
部位を染色するための染色成分を供給して赤、緑、青の
三原色に着色し、カラーフィルタを作成する。The present invention is mainly intended to provide a color filter for a liquid crystal display device. Usually, the size of each pixel of the color filter is around 100 μm, and the line width of the black matrix for shading provided between each pixel is 20 μm.
It is around m. These pixels are so-called stripe type pixels arranged linearly, or colored portions surrounded by a black matrix for light shielding are arranged in a lattice pattern. Red, green, and a coloring component for dyeing the colorant such as ink by a printing method or an ink jet method, or a dyeing component for dyeing the area are supplied to the area subdivided by the pattern of these ink-repellent black matrix for light shielding. Create the color filter by coloring in the three primary colors of blue.

【００４２】インクジェット装置を用いて着色する方法
としては下記の手法が有効である。例えばＲ、Ｇ、Ｂ３
色分のヘッドを用意し、それぞれのヘッドから微小イン
キ滴を噴射しブラックマトリクス間の画素部である透明
基板を着色する。この場合の着色機構としては染色イン
キを用いて可染性媒体を染色しても良く、また樹脂、染
料または顔料、およびインキ溶媒からなるインキをイン
クジェット噴射し、その後樹脂を熱硬化または光硬化し
てもよい。可染性媒体をインキで染色する場合には、透
明基板上にまず可染性の膜を形成した後、インキ反発性
のブラックマトリクスを形成することが有効である。以
上の方法の内いずれかの方法でインクジェット着色する
場合、ブラックマトリクス上に少しでもインキが付着す
ると画素部のインキ量にむらができ、色むらの原因とな
る。インキがブラックマトリクス上にまったく付着しな
いためにはまずブラックマトリクスとインクジェット装
置から噴射されるインキとの間の接触角が大きいことが
重要である。よく知られるように液体と固体間の接触角
には前進接触角と後退接触角があるが、当発明の目的に
関しては特に後退接触角が重要である。The following method is effective as a method of coloring using an inkjet device. For example, R, G, B3
Color heads are prepared, and minute ink droplets are ejected from each head to color the transparent substrate that is the pixel portion between the black matrices. As a coloring mechanism in this case, a dyeable ink may be used to dye a dyeable medium, and an ink composed of a resin, a dye or a pigment, and an ink solvent may be jet-jetted, and then the resin may be heat-cured or photo-cured. May be. When dyeing a dyeable medium with ink, it is effective to first form a dyeable film on a transparent substrate and then form an ink-repellent black matrix. When ink-jet coloring is performed by any one of the above methods, even if a little ink adheres to the black matrix, the amount of ink in the pixel portion becomes uneven, which causes color unevenness. In order that the ink does not adhere to the black matrix at all, it is important that the contact angle between the black matrix and the ink ejected from the inkjet device is large. As is well known, the contact angle between a liquid and a solid includes an advancing contact angle and a receding contact angle, but the receding contact angle is particularly important for the purpose of the present invention.

【００４３】この点について詳細に説明すると、例えば
ブラックマトリクス表面に微細な空隙が存在する場合、
また表面に微細な凹凸が存在する場合、さらにブラック
マトリクスがインキに対して親和性の高い成分と反発性
の高い成分の両方を含有する場合には前進接触角は大き
くても後退接触角が小さくなることがある。インキがブ
ラックマトリクス上にまったく付着しないためにはイン
キの後退接触角が大きいことが必要である。この条件を
満たすブラックマトリクスを用いた場合、インキが付着
することなく、インキを完全に画素部に押し込めること
ができる。水なし平版を用いた平型印刷機を用いて画素
部に着色する場合にもブラックマトリクスとインキの後
退接触角が大きいことは非常に有効である。水溶性のイ
ンクジェットインキまたは印刷インキを用いてカラーフ
ィルタを作製する場合、インキがブラックマトリクス上
に全く付着しないためにはブラックマトリクスの表面が
水に対して４０°以上、より好ましくは６０°以上の後
退接触角を有することが好ましい。Explaining this point in detail, for example, when fine voids are present on the surface of the black matrix,
If the surface has fine irregularities, or if the black matrix contains both components with high affinity for ink and components with high repulsion, the advancing contact angle is large but the receding contact angle is small. May be. In order that the ink does not adhere to the black matrix at all, it is necessary that the receding contact angle of the ink is large. When the black matrix satisfying this condition is used, the ink can be completely pushed into the pixel portion without the ink adhering. A large receding contact angle between the black matrix and the ink is also very effective when coloring the pixel portion using a planographic printing machine using a waterless planographic printing plate. When a color filter is prepared using a water-soluble inkjet ink or a printing ink, the surface of the black matrix is 40 ° or more, more preferably 60 ° or more with respect to water so that the ink does not adhere to the black matrix at all. It is preferable to have a receding contact angle.

【００４４】また、インキ反発性を表面エネルギーで評
価することもできる。インキがブラックマトリクス上に
まったく付着しないためには、光透過性の樹脂層（非遮
光層）の表面エネルギーが２０ｄｙｎ／ｍ以下の低エネ
ルギー表面であることが好ましい。さらには、該光透過
性の樹脂層中に、低表面エネルギー物質が微分散されて
いることが好ましい。低表面エネルギー物質の例として
は、前述のインキ反発成分があげられる。Further, the ink resilience can be evaluated by the surface energy. In order that the ink does not adhere to the black matrix at all, it is preferable that the surface energy of the light-transmitting resin layer (non-light-shielding layer) is a low energy surface of 20 dyn / m or less. Further, it is preferable that the low surface energy substance is finely dispersed in the light transmissive resin layer. Examples of the low surface energy substance include the ink repellent component described above.

【００４５】インキ反発性の遮光用ブラックマトリクス
を形成した透明基板上にインクジェット法または印刷法
を用いてカラーフィルタを作成した後、遮光層の上に形
成されたインキ反発性の非遮光層は必要に応じて取り除
いても良い。例えば、液晶表示素子用カラーフィルタの
場合、カラーフィルタの保護のため、また平坦性を向上
するため、さらに表示素子に組み上げた場合に隣接して
存在する液晶層にカラーフィルタから不純物が流入する
のを防ぐ目的から画素を形成後に上面をトップコートと
呼ばれる透明樹脂薄膜で１層覆う場合がある。トップコ
ートを形成する際、ブラックマトリクスのインキ反発性
が障害になる場合には、インキ反発性非遮光層を剥離除
去した後にトップコートを塗布することは有効である。An ink-repellent non-light-shielding layer formed on the light-shielding layer is necessary after a color filter is formed on a transparent substrate on which an ink-repellent light-shielding black matrix is formed by using an inkjet method or a printing method. It may be removed according to. For example, in the case of a color filter for a liquid crystal display element, in order to protect the color filter and to improve flatness, impurities may flow from the color filter into an adjacent liquid crystal layer when assembled into a display element. In order to prevent the above problem, there is a case where the upper surface is covered with one layer of a transparent resin thin film called a top coat after the pixel is formed. When the ink repulsion property of the black matrix becomes an obstacle when forming the top coat, it is effective to apply the top coat after peeling and removing the ink repellent non-light-shielding layer.

【００４６】[0046]

【実施例】以下実施例を挙げて本発明をさらに具体的に
説明する。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples.

【００４７】実施例１ アミノシラン系カップリング剤（ＰＳ０７６、チッソ
社）の０．２ｗｔ％エタノール溶液をスピンナで塗布
し、１５０℃、３０分加熱したガラス基板上に遮光層と
して下記の成分（組成−１）からなる黒色ペーストをス
ピンナーで塗布し、遮光層を形成した。１００℃で１０
分乾燥した後、同一の基板上に感光層として下記の組成
（組成−２）の感光剤をスピンナーで塗布し、非遮光層
を形成した。８０℃、１０分加熱して乾燥後基板の感光
層側の面からブラックマトリクス用露光マスクを介して
５ｍＷ／cm² 、１分間ＵＶ照射した。Example 1 A 0.2 wt% ethanol solution of an aminosilane coupling agent (PS076, Chisso Corporation) was applied by a spinner and heated on a glass substrate at 150 ° C. for 30 minutes to form a light-shielding layer having the following components (composition- The black paste consisting of 1) was applied with a spinner to form a light shielding layer. 10 at 100 ° C
After drying for a minute, a photosensitive agent having the following composition (composition-2) was applied as a photosensitive layer on the same substrate with a spinner to form a non-light-shielding layer. After heating at 80 ° C. for 10 minutes and drying, UV irradiation was performed from the surface of the substrate on the photosensitive layer side at 5 mW / cm ² for 1 minute through an exposure mask for black matrix.

【００４８】 （組成−１） ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂 （Ｒ−１４０ｐ、三井石油）製 ５０重量部 カーボン粉 （ＭＡ−８、三菱マテリアル製） ３０重量部 トルエン ２０重量部 （組成−２） アジピン酸プロピレンオキシド・アクリル酸 ４０重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート １０重量部 Ｎメチルピロリドン ３０重量部 “イルガキュア”６５１ ５重量部 フッ素系界面活性剤 （ＥＦ−１２３Ａ、トーケムプロダクツ） ５重量部 （Ｆ１７９、大日本インキ） ５重量部 露光後メタノールで現像し、感光層（非遮光層）をパタ
ーニングした。次に１００℃２０分加熱した後、トルエ
ン中に１分浸漬し、遮光層をエッチングによりパターニ
ングした。パターニング後１５０℃で３０分加熱硬化を
行いインキ反発性のブラックマトリクスを完成した。(Composition-1) Bisphenol A liquid epoxy resin (R-140p, Mitsui Oil Co., Ltd.) 50 parts by weight Carbon powder (MA-8, Mitsubishi Materials) 30 parts by weight Toluene 20 parts by weight (composition-2) Adipine Acid propylene oxide / acrylic acid 40 parts by weight trimethylolpropane triacrylate 10 parts by weight N-methylpyrrolidone 30 parts by weight "Irgacure" 651 5 parts by weight Fluorine-based surfactant (EF-123A, Tochem Products) 5 parts by weight (F179, (Dai Nippon Ink Co., Ltd.) After exposure to 5 parts by weight, the photosensitive layer (non-light-shielding layer) was patterned by developing with methanol. Next, after heating at 100 ° C. for 20 minutes, it was immersed in toluene for 1 minute, and the light shielding layer was patterned by etching. After patterning, heat curing was performed at 150 ° C. for 30 minutes to complete an ink repellent black matrix.

【００４９】上記の手順で作成したブラックマトリクス
と画素部の着色に用いるインキ（組成−３）との間の後
退接触角を測定した結果、赤、緑、青色インキに対して
それぞれ５０°、５１°、３０°であった。As a result of measuring the receding contact angles between the black matrix prepared by the above procedure and the ink (composition-3) used for coloring the pixel portion, 50 ° and 51 ° for red, green and blue inks, respectively. It was 30 °.

【００５０】 （組成−３） ＜赤色インキ＞ 赤色顔料ＰＲ１７７ ５重量部 界面活性剤“ニューコール”７１０Ｆ（日本乳化剤） ５重量部 水 ７９重量部 メラミン樹脂（“スミテックスレジン”Ｍ３）（住友化学） １０重量部 硬化剤ＡＣＸ（住友化学） １重量部 ＜緑色インキ＞ 緑色顔料ＰＧ３６ ５重量部 界面活性剤“ニューコール７１０Ｆ”（日本乳化剤） ５重量部 水 ７９重量部 メラミン樹脂（“スミテックスレジン”Ｍ３）（住友化学） １０重量部 硬化剤ＡＣＸ（住友化学） １重量部 ＜青色インキ＞ 青色顔料ＰＢ１５ ５重量部 界面活性剤“ニューコール７１０Ｆ”（日本乳化剤） ５重量部 水 ７９重量部 メラミン樹脂（“スミテックスレジン”Ｍ３）（住友化学） １０重量部 硬化剤ＡＣＸ（住友化学） １重量部 上記の方法で作成したインキ反発性のブラックマトリク
ス付き基板の画素部にインクジェット噴射装置を用いて
対応する位置にＲ、Ｇ、Ｂそれぞれのインキ滴を噴射し
着色した。噴射したインキは（組成−３）に示したもの
を用いた。着色後１５０℃で１５分加熱し、インキ中の
メラミン成分を硬化して膜厚１．５μｍの画素部を形成
した。上記の手順で画素を形成した後、カラーフィルタ
を顕微鏡で観察したところブラックマトリクス上にはま
ったくインキ付着が見られなかった。また、各画素間の
膜厚の分布を測定した結果、カラーフィルタ内の任意の
１０箇所における膜厚むらは０．１μｍ以内であった。
また、同じく１０箇所において色差を測定した結果いず
れもΔＥ＜３であった。(Composition-3) <Red ink> Red pigment PR177 5 parts by weight Surfactant "Newcol" 710F (Japan emulsifier) 5 parts by weight Water 79 parts by weight Melamine resin ("Sumitex Resin" M3) (Sumitomo Chemical) ) 10 parts by weight Curing agent ACX (Sumitomo Chemical) 1 part by weight <green ink> Green pigment PG36 5 parts by weight Surfactant "Newcol 710F" (Japanese emulsifier) 5 parts by weight Water 79 parts by weight Melamine resin ("Sumitex resin") "M3" (Sumitomo Chemical) 10 parts by weight Curing agent ACX (Sumitomo Chemical) 1 part by weight <Blue ink> Blue pigment PB15 5 parts by weight Surfactant "Newcol 710F" (Japanese emulsifier) 5 parts by weight Water 79 parts by weight Melamine Resin (“Sumitex Resin” M3) (Sumitomo Chemical) 10 parts by weight Curing agent ACX (Sumitomo Chemical) 1 part by weight Prepared by the above method And R, injected G, each of the ink droplets B colored in a position corresponding with an inkjet injection system to the pixel portion of Nki resilience of the black matrix with the substrate. The jetted ink used was that shown in (Composition-3). After coloring, it was heated at 150 ° C. for 15 minutes to cure the melamine component in the ink to form a pixel portion having a film thickness of 1.5 μm. When the color filter was observed with a microscope after the pixels were formed by the above procedure, no ink adhesion was found on the black matrix. Further, as a result of measuring the distribution of the film thickness between each pixel, the film thickness unevenness at any 10 points in the color filter was within 0.1 μm.
Similarly, the color differences were measured at 10 locations, and all were ΔE <3.

【００５１】比較例１ 比較例として、遮光層は実施例１と同一の方法で形成
し、感光層（非遮光層）のみ（組成−２−１）を用いて
実施例１と同様の手順で形成した。露光、現像、エッチ
ング、乾燥、硬化等全て実施例１と同様の工程でブラッ
クマトリクスを形成した。Comparative Example 1 As a comparative example, the light-shielding layer was formed by the same method as in Example 1, and only the photosensitive layer (non-light-shielding layer) (composition 2-1) was used and the same procedure as in Example 1 was performed. Formed. A black matrix was formed by the same steps as in Example 1, such as exposure, development, etching, drying, and curing.

【００５２】上記のブラックマトリクスと（組成−３）
のインキとの後退接触角を測定したところ各色とも５°
であった。With the above black matrix (composition-3)
The receding contact angle with each ink was measured and it was 5 ° for each color.
Met.

【００５３】次に、上記のブラックマトリクス付き基板
の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位
置にＲ、Ｇ、Ｂそれぞれのインキ滴を噴射し着色した。
噴射したインキは（組成−３）に示したものを用いた。
着色後１５０℃で１５分加熱し、インキ中のメラミン成
分を硬化した。上記の手順で画素形成後、カラーフィル
タを顕微鏡で観察したところブラックマトリクス上にイ
ンキが付着した部分が数多く見られた。また各画素間の
膜厚の分布、色差を測定した結果、ブラックマトリクス
上にインキが付着した部分の近傍で０．５μｍ以上の膜
厚むらが見られた。また、それに付随して色差７以上の
色むらが観測された。Next, ink droplets of R, G and B were jetted to the corresponding positions of the pixel portion of the substrate with the black matrix by using an ink jet jetting device to color the ink droplets.
The jetted ink used was that shown in (Composition-3).
After coloring, it was heated at 150 ° C. for 15 minutes to cure the melamine component in the ink. When the color filter was observed with a microscope after the pixels were formed by the above procedure, a large number of ink-adhered portions were found on the black matrix. In addition, as a result of measuring the distribution of the film thickness and the color difference between the respective pixels, a film thickness unevenness of 0.5 μm or more was observed near the portion where the ink was attached on the black matrix. In addition, color unevenness with a color difference of 7 or more was also observed.

【００５４】 （組成−２−１） アジピン酸プロピレンオキシド・アクリル酸 ４０重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート １０重量部 Ｎ−メチルピロリドン ３０重量部 “イルガキュア”６５１ ５重量部 実施例２ アミノシラン系カップリング剤（ＰＳ０７６、チッソ
社）の０．２ｗｔ％エタノール溶液をスピンナで塗布
し、１５０℃、３０分加熱を施したガラス基板上に遮光
層として下記の成分（組成−４）からなる黒色ペースト
をスピンナーで塗布し、遮光層を形成した。１００℃で
１０分乾燥した後、同一の基板上に感光層（非遮光層）
として下記の組成（組成−５）の感光剤をスピンナーで
塗布した。（組成−５）の液を作成する手順は以下の様
に行った。まずゼラチン、重クロム酸アンモニウムを蒸
留水に溶かし、溶液を攪拌しながらポリジメチルシロキ
サンを少量ずつ添加することにより直径５μｍ以下のエ
マルジョンを安定に形成した。感光層を塗布後８０℃、
１０分加熱して乾燥後基板の感光層側の面からブラック
マトリクス用露光マスクを介して５ｍＷ／cm² 、１分間
ＵＶ照射した。(Composition 2-1) Propylene oxide / acrylic acid adipic acid 40 parts by weight trimethylolpropane triacrylate 10 parts by weight N-methylpyrrolidone 30 parts by weight "Irgacure" 651 5 parts by weight Example 2 Aminosilane coupling agent (PS076, Chisso) 0.2 wt% ethanol solution was applied by a spinner, and a black paste composed of the following components (composition-4) was used as a light-shielding layer on a glass substrate heated at 150 ° C. for 30 minutes with a spinner. It was applied to form a light shielding layer. After drying at 100 ℃ for 10 minutes, a photosensitive layer (non-light-shielding layer) on the same substrate
Then, a photosensitizer having the following composition (composition-5) was applied by a spinner. The procedure for preparing the liquid of (Composition-5) was performed as follows. First, gelatin and ammonium dichromate were dissolved in distilled water, and polydimethylsiloxane was added little by little while stirring the solution to stably form an emulsion having a diameter of 5 μm or less. 80 ° C after applying the photosensitive layer,
After heating for 10 minutes and drying, UV irradiation was performed from the surface of the substrate on the photosensitive layer side at 5 mW / cm ² for 1 minute through an exposure mask for black matrix.

【００５５】 （組成−４） メチロール化メラミン （“スミテックスレジン”Ｍ３、住友化学） ２０重量部 カーボン粉 （ＭＡ−８、三菱マテリアル製） ３０重量部 蒸留水 ５０重量部 メラミン樹脂用硬化剤（ＡＣＸ、住友化学） １重量部 （組成−５） ゼラチン ２０重量部 重クロム酸アンモニウム ５重量部 蒸留水 ５５重量部 ポリジメチルシロキサン（分子量約８万、両末端ＯＨ基） ２０重量部 露光後７０℃の温水で現像し、感光層をパターニングし
た。次に１００℃で２０分加熱した後、酸性の水中（硫
酸アンモニウム１％水溶液）に１分浸漬し、遮光層をエ
ッチングによりパターニングした。パターニング後１５
０℃で３０分加熱硬化を行いインキ反発性のブラックマ
トリクスを完成した。(Composition-4) Methylolated melamine ("Sumitex Resin" M3, Sumitomo Chemical) 20 parts by weight carbon powder (MA-8, manufactured by Mitsubishi Materials) 30 parts by weight distilled water 50 parts by weight Curing agent for melamine resin ( ACX, Sumitomo Chemical) 1 part by weight (composition-5) Gelatin 20 parts by weight Ammonium dichromate 5 parts by weight Distilled water 55 parts by weight Polydimethylsiloxane (molecular weight about 80,000, OH groups at both ends) 20 parts by weight 70 ° C after exposure After developing with warm water, the photosensitive layer was patterned. Next, after heating at 100 ° C. for 20 minutes, it was immersed in acidic water (1% ammonium sulfate aqueous solution) for 1 minute, and the light shielding layer was patterned by etching. After patterning 15
The ink was repelled by heating at 0 ° C. for 30 minutes to complete an ink-repellent black matrix.

【００５６】上記の手順で作成したブラックマトリクス
と画素部の着色に用いるインキ（組成−３）との間の後
退接触角を測定した結果、赤、緑、青各色に対してそれ
ぞれ５０°、４９°、３１°であった。As a result of measuring the receding contact angles between the black matrix prepared by the above procedure and the ink (composition-3) used for coloring the pixel portion, 50 ° and 49 ° for red, green and blue respectively. And 31 °.

【００５７】上記の方法で作成したインキ反発性ブラッ
クマトリクス付きの基板上にインクジェット装置を用い
て実施例１と同様の方法で着色したところ、実施例１と
同様、所望通りの膜厚、色特性とも均一な画素部を形成
することができた。画素形成後、基板を５０℃の水酸化
ナトリウム１ｗｔ％水溶液に浸漬した後蒸留水のシャワ
ーで洗浄することによりインキ反発性の感光層を剥離し
た。乾燥後、基板上にトップコートとしてポリイミド樹
脂（セミコファインｓｐ９００、東レ）のＮメチルピロ
リドン３０ｗｔ％溶液をスピンナーで塗布した。塗布後
１００℃で１０分乾燥した後、２８０℃で１時間加熱し
イミド化反応を完了した。Coloring was carried out in the same manner as in Example 1 on an ink-repellent black matrix-formed substrate prepared by the above-mentioned method, and as in Example 1, the desired film thickness and color characteristics were obtained. In addition, a uniform pixel portion could be formed. After forming the pixels, the substrate was dipped in a 1 wt% aqueous solution of sodium hydroxide at 50 ° C. and washed with a shower of distilled water to peel off the ink-repellent photosensitive layer. After drying, a 30 wt% N-methylpyrrolidone solution of a polyimide resin (Semicofine sp900, Toray) was applied as a top coat on the substrate with a spinner. After coating, it was dried at 100 ° C. for 10 minutes and then heated at 280 ° C. for 1 hour to complete the imidization reaction.

【００５８】実施例３ アミノシラン系カップリング剤（ＰＳ０７６、チッソ
社）の０．２ｗｔ％エタノール溶液をスピンナで塗布
し、１５０℃、３０分加熱を施したガラス基板上に遮光
層として下記の成分（組成−６）からなる黒色ペースト
をスピンナーで塗布した。１００℃で１０分乾燥した
後、同一の基板上に感光層（非遮光層）として下記の組
成（組成−７）の感光剤をスピンナーで塗布した。７０
℃、１０分加熱して乾燥後基板の感光層側の面からブラ
ックマトリクス用露光マスクを介して５ｍＷ／cm² 、１
分間ＵＶ照射した。Example 3 A 0.2 wt% ethanol solution of an aminosilane coupling agent (PS076, Chisso Co., Ltd.) was applied by a spinner and heated at 150 ° C. for 30 minutes on a glass substrate. A black paste having composition-6) was applied by a spinner. After drying at 100 ° C. for 10 minutes, a photosensitive agent having the following composition (composition-7) was applied as a photosensitive layer (non-light-shielding layer) on the same substrate with a spinner. 70
After heating and drying at 10 ° C. for 10 minutes, 5 mW / cm ² , 1 through the exposure mask for the black matrix from the surface of the substrate on the photosensitive layer side.
UV irradiation for minutes.

【００５９】 （組成−６） ポリイミド樹脂 （“セミコファイン”ｓｐ７４０、東レ） ３０重量部 カーボン粉 （ＭＡ−８、三菱マテリアル製） ３０重量部 Ｎ−メチルピロリドン ４０重量部 （組成−７） 環化ゴム系レジスト （“ＷＡＹＣＯＡＴ”ＩＣ−Ｔ３、富士ハント社） ４０重量部 キシレン １０重量部 ４フッ化エチレン微粉末 （“テフロン”１２０−Ｊ、三井デュポンフロロケミカル） ４０重量部 アルカリ（水酸化ナトリウム２ｗｔ％水溶液）中に１分
浸漬し、感光層の現像と遮光層のエッチングを同時に行
った。パターニング後１５０℃で３０分乾燥してインキ
反発性のブラックマトリクスを完成した。(Composition-6) Polyimide resin ("Semicofine" sp740, Toray) 30 parts by weight Carbon powder (MA-8, manufactured by Mitsubishi Materials) 30 parts by weight N-methylpyrrolidone 40 parts by weight (composition-7) Cyclization Rubber-based resist ("WAYCOAT" IC-T3, Fuji Hunt Co., Ltd.) 40 parts by weight xylene 10 parts by weight Tetrafluoroethylene fine powder ("Teflon" 120-J, DuPont Mitsui Fluorochemicals) 40 parts by weight Alkali (sodium hydroxide 2 wt. % Aqueous solution), the photosensitive layer was developed and the light-shielding layer was etched at the same time. After patterning, it was dried at 150 ° C. for 30 minutes to complete an ink-repellent black matrix.

【００６０】上記の手順で作成したブラックマトリクス
と画素部の着色に用いるインキ（組成−８）との間の後
退接触角を測定した結果、赤、緑、青の各色に対してそ
れぞれ３５°、３４°、２０°であった。As a result of measuring the receding contact angle between the black matrix prepared by the above procedure and the ink (composition-8) used for coloring the pixel portion, 35 ° for each of red, green and blue, respectively. It was 34 ° and 20 °.

【００６１】上記の方法で形成したインキ反発性ブラッ
クマトリクス付きの基板の画素部分に対応する位置に水
なし平版を用いた平型オフセット印刷機によって（組成
−８）に示すインキを印刷することによりＲ、Ｇ、Ｂそ
れぞれ着色した。その結果、色特性、膜厚とも均一な画
素部を形成することができた。上記の手順で画素を形成
した後、カラーフィルタを顕微鏡で観察したところブラ
ックマトリクス上にはまったくインキ付着が見られなか
った。また、各画素間の膜厚の分布を測定した結果、カ
ラーフィルタ内の任意の１０箇所における膜厚むらは
０．２μｍ以内であった。また、同じく１０箇所におい
て色差を測定した結果いずれもΔＥ＜３であった。By printing the ink shown in (Composition-8) with a planographic offset printing machine using a waterless planographic printing plate at a position corresponding to a pixel portion of a substrate with an ink-repellent black matrix formed by the above method. Each of R, G and B was colored. As a result, it was possible to form a pixel portion with uniform color characteristics and film thickness. When the color filter was observed with a microscope after the pixels were formed by the above procedure, no ink adhesion was found on the black matrix. In addition, as a result of measuring the distribution of the film thickness between each pixel, the film thickness unevenness at arbitrary 10 points in the color filter was within 0.2 μm. Similarly, the color differences were measured at 10 locations, and all were ΔE <3.

【００６２】 （組成−８） ＜ペーストＡ＞ シクロペンタジエン系樹脂 （“日石ネオレジン”５４０、日石化学） ５０重量部 アルキッド樹脂 ５重量部 石油系溶剤 （５号ソルベント、日本石油） ４５重量部 ＜青色インキ＞ ペーストＡ ９５重量部 フタロシアニンブルー ２０重量部 ＜緑色インキ＞ ペーストＡ ９５重量部 フタロシアニングリーン ２０重量部 ＜赤色インキ＞ ペーストＡ ９５重量部 ブリリアントカーマイン６Ｂ ２０重量部 実施例４ アミノシラン系カップリング剤（ＰＳ０７６、チッソ
社）の０．２ｗｔ％エタノール溶液をスピンナで塗布
し、１５０℃、３０分加熱を施したガラス基板上に遮光
層として下記の成分（組成−９）からなる黒色ペースト
をスピンナーで塗布した。１００℃で１０分乾燥した
後、同一の基板上に感光層（非遮光層）として下記の組
成（組成−９）の感光剤をスピンナーで塗布した。８０
℃、１０分加熱して乾燥後基板の感光層側の面からブラ
ックマトリクス用露光マスクを介してＵＶ照射した。(Composition-8) <Paste A> Cyclopentadiene resin (“Nisseki Neo Resin” 540, Nisseki Chemical Co., Ltd.) 50 parts by weight Alkyd resin 5 parts by weight Petroleum solvent (No. 5 solvent, Nippon Oil Co., Ltd.) 45 parts by weight <Blue Ink> Paste A 95 parts by weight Phthalocyanine Blue 20 parts by weight <Green Ink> Paste A 95 parts by weight Phthalocyanine Green 20 parts by weight <Red ink> Paste A 95 parts by weight Brilliant Carmine 6B 20 parts by weight Example 4 Aminosilane Coupling A 0.2 wt% ethanol solution of the agent (PS076, Chisso Co., Ltd.) was applied with a spinner, and a black paste composed of the following components (composition-9) was used as a light-shielding layer on a glass substrate heated at 150 ° C. for 30 minutes. Was applied. After drying at 100 ° C. for 10 minutes, a photosensitive agent having the following composition (composition-9) was applied as a photosensitive layer (non-light-shielding layer) on the same substrate with a spinner. 80
After heating at 10 ° C. for 10 minutes and drying, UV irradiation was performed from the surface of the substrate on the photosensitive layer side through an exposure mask for black matrix.

【００６３】 （組成−９） ポリアクリレート ２０重量部 シクロヘキサノン ６０重量部 カーボン粉 （ＭＡ−８、三菱マテリアル製） ３０重量部 （組成−１０） 光硬化性ポリイミド （“フォトニース”ＵＲ−３１００、東レ） ５０重量部 Ｎメチルピロリドン ３０重量部 ３フッ化エチレン／４フッ化エチレン ７５／２５共重合体 １０重量部 露光後、フォトニース用現像液ＤＶ−６０５（東レ）を
用いて現像し、感光層をパターニングした。次に１８０
℃で３０分加熱した後、シクロヘキサノン中に１分浸漬
し、画素に対応する部位の遮光層をエッチングにより除
去した。パターニング後１００℃で１０分乾燥してイン
キ反発性のブラックマトリクスを完成した。(Composition-9) Polyacrylate 20 parts by weight Cyclohexanone 60 parts by weight Carbon powder (MA-8, manufactured by Mitsubishi Materials) 30 parts by weight (composition-10) Photocurable polyimide ("Photo Nice" UR-3100, Toray) ) 50 parts by weight N-methylpyrrolidone 30 parts by weight Ethylene trifluoride / 4 ethylene tetrafluoride 75/25 Copolymer 10 parts by weight After exposure, development is performed using a developer DV-605 (Toray) for photo-nice to form a photosensitive layer. Was patterned. Then 180
After heating at 30 ° C. for 30 minutes, it was immersed in cyclohexanone for 1 minute, and the light-shielding layer at the portion corresponding to the pixel was removed by etching. After patterning, it was dried at 100 ° C. for 10 minutes to complete an ink-repellent black matrix.

【００６４】上記の手順で作成したブラックマトリクス
と画素部の着色に用いるインキ（組成−３）との間の後
退接触角を測定した結果、赤、緑、青各色に対してそれ
ぞれ３２°、３０°、２１°であった。As a result of measuring the receding contact angle between the black matrix formed by the above procedure and the ink (composition-3) used for coloring the pixel portion, 32 ° and 30 for red, green and blue colors, respectively. And 21 °.

【００６５】上記の方法で作成したインキ反発性ブラッ
クマトリクス付きの基板上にインクジェット装置を用い
て実施例１と同様の方法で着色した後、１５０℃で１５
分加熱してメラミン樹脂を硬化、次いで３００℃で１時
間加熱してポリイミド樹脂を硬化した。その結果、実施
例１と同様に所望通りの膜厚、色特性とも均一な画素部
を形成することができた。Coloring was carried out in the same manner as in Example 1 on an ink-repellent black matrix-attached substrate prepared by the above method, and then at 15O 0 C for 15 hours.
The melamine resin was cured by heating for a minute, and then the polyimide resin was cured by heating at 300 ° C. for 1 hour. As a result, similar to Example 1, it was possible to form a pixel portion having desired film thickness and color characteristics.

【００６６】実施例５ アミノシラン系カップリング剤（ＰＳ０７６、チッソ
社）の０．２ｗｔ％エタノール溶液をスピンナで塗布
し、１５０℃、３０分加熱を施したガラス基板上に遮光
層として下記の成分（組成−１１）からなる黒色ペース
トをスピンナーで塗布した。１００℃で１０分乾燥した
後、同一の基板上に感光層（非遮光層）として下記の成
分（組成−１２）の感光剤をスピンナーで塗布した。８
０℃、１０分で加熱、乾燥後基板の感光層側の面からブ
ラックマトリクス用露光マスクを介して５ｍＷ／cm² 、
１分間ＵＶ照射した。Example 5 A 0.2 wt% ethanol solution of an aminosilane coupling agent (PS076, manufactured by Chisso Co., Ltd.) was applied by a spinner and heated at 150 ° C. for 30 minutes. A black paste consisting of composition-11) was applied with a spinner. After drying at 100 ° C. for 10 minutes, a photosensitive agent of the following component (composition-12) as a photosensitive layer (non-light-shielding layer) was applied on the same substrate by a spinner. 8
After heating at 0 ° C. for 10 minutes and drying, 5 mW / cm ² from the surface of the substrate on the photosensitive layer side through a black matrix exposure mask,
UV irradiation was performed for 1 minute.

【００６７】 （組成−１１） ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂 （Ｒ−１４０ｐ、三井石油） ５０重量部 カーボン粉 （ＭＡ−８、三菱マテリアル製） ３０重量部 トルエン ２０重量部 （組成−１２） ｏ−ナフトキノンジアジド／フェノールノボラック系ポジ型感光剤 （マイクロポジットＲＣ１００、シプレー社） ６０重量部 “シンナー”Ｃ（シプレー社） ２０重量部 フッ素系界面活性剤 （ＥＦ−１２３Ａ、トーケムプロダクツ） ５重量部 （Ｆ１７９、大日本インキ） ５重量部 露光後水酸化ナトリウム２ｗｔ％水溶液で現像し、感光
層をパターニングした。次に１００℃で２０分加熱した
後、トルエン中に１分浸漬し、遮光層をエッチングによ
りパターニングした。パターニング後１５０℃で３０分
加熱硬化を行いインキ反発性のブラックマトリクスを完
成した。(Composition-11) Bisphenol A type liquid epoxy resin (R-140p, Mitsui Oil Co., Ltd.) 50 parts by weight carbon powder (MA-8, manufactured by Mitsubishi Materials) 30 parts by weight Toluene 20 parts by weight (composition-12) o- Naphthoquinonediazide / phenol novolac-based positive type photosensitizer (Microposit RC100, Shipley) 60 parts by weight "Thinner" C (Shipley) 20 parts by weight Fluorosurfactant (EF-123A, Tochem Products) 5 parts by weight ( (F179, Dainippon Ink Co., Ltd.) After exposure to 5 parts by weight, the photosensitive layer was patterned by developing with a 2 wt% aqueous solution of sodium hydroxide. Next, after heating at 100 ° C. for 20 minutes, it was immersed in toluene for 1 minute, and the light shielding layer was patterned by etching. After patterning, heat curing was performed at 150 ° C. for 30 minutes to complete an ink repellent black matrix.

【００６８】上記の手順で作成したブラックマトリクス
と画素部の着色に用いるインキ（組成−３）との間の後
退接触角を測定した結果、赤、緑、青の各色に対してそ
れぞれ５０°、４８°、３８°であった。As a result of measuring the receding contact angle between the black matrix prepared by the above procedure and the ink (composition-3) used for coloring the pixel portion, 50 ° for each of red, green and blue, It was 48 ° and 38 °.

【００６９】次に、上記の方法で作成したインキ反発性
のブラックマトリクス付き基板の画素部にインクジェッ
ト噴射装置を用いて対応する位置にＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ
のインキ滴を噴射し着色した。噴射したインキは（組成
−３）に示したものを用いた。着色後１５０℃で１５分
加熱し、インキ中のメラミン成分を硬化して膜厚１．５
μｍの画素を形成した。上記の手順で画素を形成した
後、カラーフィルタを顕微鏡で観察したところブラック
マトリクス上にはまったくインキ付着が見られなかっ
た。また、各画素間の膜厚の分布を測定した結果、カラ
ーフィルタ内の任意の１０箇所における膜厚むらは０．
１μｍ以内であった。また、同じく１０箇所において色
差を測定した結果いずれもΔＥ＜３であった。Next, ink droplets of R, G, and B were jetted to the corresponding positions on the pixel portion of the substrate with an ink-repellent black matrix prepared by the above method to color it. The jetted ink used was that shown in (Composition-3). After coloring, heat at 150 ° C for 15 minutes to cure the melamine component in the ink to a film thickness of 1.5.
A μm pixel was formed. When the color filter was observed with a microscope after the pixels were formed by the above procedure, no ink adhesion was found on the black matrix. In addition, as a result of measuring the distribution of the film thickness between each pixel, the film thickness unevenness at any 10 points in the color filter is 0.
It was within 1 μm. Similarly, the color differences were measured at 10 locations, and all were ΔE <3.

【００７０】比較例５ 比較例として、遮光層は実施例１と同一の方法で形成
し、感光層（非遮光層）のみ（組成−１２−１）を用い
て実施例５と同様の手順で形成した。露光、現像、エッ
チング、乾燥、硬化等全て実施例５と同様の工程でブラ
ックマトリクスを形成した。Comparative Example 5 As a comparative example, the light-shielding layer was formed by the same method as in Example 1, and only the photosensitive layer (non-light-shielding layer) (composition-12-1) was used and the same procedure as in Example 5 was performed. Formed. A black matrix was formed by the same steps as in Example 5, such as exposure, development, etching, drying and curing.

【００７１】上記のブラックマトリクスと（組成−３）
のインキとの後退接触角を測定したところ各色とも５°
であった。With the above black matrix (composition-3)
The receding contact angle with each ink was measured and it was 5 ° for each color.
Met.

【００７２】次に、上記のブラックマトリクス付き基板
の画素部にインクジェット噴射装置を用いて対応する位
置にＲ、Ｇ、Ｂそれぞれのインキ滴を噴射し着色した。
噴射したインキは（組成−３）に示したものを用いた。
着色後１５０℃で１５分加熱し、インキ中のメラミン成
分を硬化した。上記の手順で画素形成後、カラーフィル
タを顕微鏡で観察したところブラックマトリクス上にイ
ンキが付着した部分が数多く見られた。また各画素間の
膜厚の分布、色差を測定した結果、ブラックマトリクス
上にインキが付着した部分の近傍で０．５μｍ以上の膜
厚むらが見られた。また、それに付随して色差７以上の
色むらが観測された。Next, ink droplets of R, G, and B were jetted to the corresponding positions of the pixel portion of the substrate with the black matrix by using an ink jet jetting device to color the ink droplets.
The jetted ink used was that shown in (Composition-3).
After coloring, it was heated at 150 ° C. for 15 minutes to cure the melamine component in the ink. When the color filter was observed with a microscope after the pixels were formed by the above procedure, a large number of ink-adhered portions were found on the black matrix. In addition, as a result of measuring the distribution of the film thickness and the color difference between the respective pixels, a film thickness unevenness of 0.5 μm or more was observed near the portion where the ink was attached on the black matrix. In addition, color unevenness with a color difference of 7 or more was also observed.

【００７３】 （組成−１２−１） ｏ−ナフトキノンジアジド／フェノールノボラック系ポジ型感光剤 （マイクロポジットＲＣ１００、シプレー社） ６０重量部 “シンナー”Ｃ（シプレー社） ２０重量部 実施例６ アミノシラン系カップリング剤（ＰＳ０７６、チッソ
社）の０．２ｗｔ％エタノール溶液をスピンナで塗布
し、１５０℃、３０分加熱を施したガラス基板上に遮光
層として下記の成分（組成−１３）からなる黒色ペース
トをスピンナーで塗布する。１００℃で１０分乾燥した
後、同一の基板上に感光層（非遮光層）として下記の組
成（組成−５）の感光剤をスピンナーで塗布した。（組
成−１４）の液を作成する手順は以下の様に行った。ま
ずマイクロポジット液と“シンナー”Ｃを混合し、攪拌
しながらポリジメチルシロキサンを少量ずつ添加するこ
とにより直径５μｍ以下のエマルジョンを安定に形成し
た。感光層を塗布後８０℃、１０分加熱して乾燥後基板
の感光層側の面からブラックマトリクス用露光マスクを
介して５ｍＷ／cm² 、１分ＵＶ照射した。(Composition-12-1) o-naphthoquinonediazide / phenol novolac-based positive type photosensitizer (Microposit RC100, Shipley Co.) 60 parts by weight "Thinner" C (Chipley Co.) 20 parts by weight Example 6 Aminosilane cup A 0.2 wt% ethanol solution of a ring agent (PS076, Chisso Co., Ltd.) was applied by a spinner, and a black paste composed of the following components (composition-13) was used as a light-shielding layer on a glass substrate heated at 150 ° C. for 30 minutes. Apply with a spinner. After drying at 100 ° C. for 10 minutes, a photosensitive agent having the following composition (composition-5) was applied as a photosensitive layer (non-light-shielding layer) on the same substrate with a spinner. The procedure for preparing the liquid of (Composition-14) was performed as follows. First, a microposite solution and "thinner" C were mixed, and polydimethylsiloxane was added little by little with stirring to stably form an emulsion having a diameter of 5 μm or less. After the photosensitive layer was applied, it was heated at 80 ° C. for 10 minutes and dried, and then UV irradiation was performed from the surface of the substrate on the photosensitive layer side at 5 mW / cm ² for 1 minute through an exposure mask for a black matrix.

【００７４】 （組成−１３） メチロール化メラミン （“スミテックスレジン”Ｍ３、住友化学） ２０重量部 カーボン粉 （ＭＡ−８、三菱マテリアル製） ３０重量部 蒸留水 ５０重量部 メラミン樹脂用硬化剤（ＡＣＸ、住友化学） ２重量部 （組成−１４） ｏ−ナフトキノンジアジド／フェノールノボラック系ポジ型感光剤 （“マイクロポジット”ＲＣ１００、シプレー社） ５０重量部 “シンナー”Ｃ（シプレー社） １５重量部 ポリジメチルシロキサン（分子量約８万、両末端ＯＨ基） ４０重量部 露光後水酸化ナトリウム２ｗｔ％水溶液で現像し、感光
層をパターニングした。次に１００℃で２０分加熱した
後、弱酸性の水中（硫酸アンモニウム１％水溶液）に１
分浸漬し、遮光層をエッチングによりパターニングし
た。パターニング後１５０℃で３０分加熱硬化を行いイ
ンキ反発性のブラックマトリクスを完成した。(Composition-13) Methylolated melamine (“Sumitex Resin” M3, Sumitomo Chemical) 20 parts by weight carbon powder (MA-8, manufactured by Mitsubishi Materials) 30 parts by weight distilled water 50 parts by weight Curing agent for melamine resin ( ACX, Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 2 parts by weight (composition-14) o-naphthoquinonediazide / phenol novolac-based positive-working photosensitizer ("Microposit" RC100, Shipley Co., Ltd.) 50 parts by weight "Thinner" C (Shipley Co.) 15 parts by weight 40 parts by weight of dimethylsiloxane (molecular weight: about 80,000, OH groups at both ends) was exposed and developed with a 2 wt% aqueous solution of sodium hydroxide to pattern the photosensitive layer. Then, after heating at 100 ° C for 20 minutes, add 1% to slightly acidic water (1% ammonium sulfate aqueous solution).
After dipping for a minute, the light shielding layer was patterned by etching. After patterning, heat curing was performed at 150 ° C. for 30 minutes to complete an ink repellent black matrix.

【００７５】上記の手順で作成したブラックマトリクス
と画素部の着色に用いるインキ（組成−３）との間の後
退接触角を測定した結果、赤、緑、青の各色に対してそ
れぞれ５０°、４８°、３８°であった。As a result of measuring the receding contact angle between the black matrix prepared by the above procedure and the ink (composition-3) used for coloring the pixel portion, 50 ° for each of red, green and blue, It was 48 ° and 38 °.

【００７６】上記の方法で作成したインキ反発性ブラッ
クマトリクス付きの基板上にインクジェット装置を用い
て実施例１と同様の方法で着色したところ、実施例５と
同様に所望通りの膜厚、色特性とも均一な画素部を形成
することができた。画素形成後、基板をパターニング時
と同様の光源を用いて前面露光した後、水酸化ナトリウ
ム５ｗｔ％水溶液に浸漬した後蒸留水のシャワーで洗浄
することによりインキ反発性の感光層を剥離した。乾燥
後、基板上にトップコートとしてポリイミド樹脂（“セ
ミコファイン”ｓｐ９００、東レ）のＮメチルピロリド
ン３０ｗｔ％溶液をスピンナーで塗布した。塗布後１０
０℃で１０分乾燥し、２８０℃で１時間加熱しイミド化
反応を完了した。Coloring was performed in the same manner as in Example 1 on an ink-repellent black matrix-provided substrate prepared by the above method in the same manner as in Example 1. As in Example 5, desired film thickness and color characteristics were obtained. In addition, a uniform pixel portion could be formed. After pixel formation, the substrate was front-exposed using the same light source as used for patterning, then immersed in a 5 wt% aqueous solution of sodium hydroxide and washed with distilled water shower to peel off the ink-repellent photosensitive layer. After drying, a 30 wt% N-methylpyrrolidone solution of a polyimide resin (“Semicofine” sp900, Toray) was applied as a top coat on the substrate with a spinner. 10 after application
It was dried at 0 ° C. for 10 minutes and heated at 280 ° C. for 1 hour to complete the imidization reaction.

【００７７】実施例７ アミノシラン系カップリング剤（ＰＳ０７６、チッソ
社）の０．２ｗｔ％エタノール溶液をスピンナで塗布
し、１５０℃、３０分加熱を施したガラス基板上に遮光
層として下記の成分（組成−１５）からなる黒色ペース
トをスピンナーで塗布した。１００℃で１０分乾燥した
後、同一の基板上に感光層として下記の組成（組成−１
６）の感光剤をスピンナーで塗布した。８０℃、１０分
加熱して乾燥後基板の感光層側の面からブラックマトリ
クス用露光マスクを介して５ｍＷ／cm² 、１分ＵＶ照射
した。Example 7 A 0.2 wt% ethanol solution of an aminosilane coupling agent (PS076, manufactured by Chisso Co., Ltd.) was applied by a spinner and heated at 150 ° C. for 30 minutes. A black paste having composition-15) was applied by a spinner. After drying at 100 ° C. for 10 minutes, the following composition (composition-1) was formed as a photosensitive layer on the same substrate.
The photosensitizer of 6) was applied with a spinner. After heating at 80 ° C. for 10 minutes and drying, UV irradiation was performed from the surface of the substrate on the photosensitive layer side for 5 minutes at 5 mW / cm ² through an exposure mask for black matrix.

【００７８】 （組成−１５） ポリイミド樹脂 （“セミコファイン”ｓｐ７４０、東レ） ３０重量部 カーボン粉 （ＭＡ−８、三菱マテリアル製） ３０重量部 Ｎ−メチルピロリドン ４０重量部 （組成−１６） ｏ−ナフトキノンジアジド／フェノールノボラック系ポジ型感光剤 （“マイクロポジット”ＲＣ１００、シプレー社） ４０重量部 “シンナー”Ｃ（シプレー社） １５重量部 ４フッ化エチレン微粉末 （“テフロン”１２０−Ｊ、三井デュポンフロロケミカル） ３０重量部 露光後、弱アルカリ（水酸化ナトリウム２ｗｔ％水溶
液）中に１分浸漬し、遮光層をエッチングによりパター
ニングした。パターニング後１００℃で１０分乾燥後３
００℃で１時間加熱硬化してインキ反発性のブラックマ
トリクスを完成した。(Composition-15) Polyimide resin ("Semicofine" sp740, Toray) 30 parts by weight Carbon powder (MA-8, manufactured by Mitsubishi Materials) 30 parts by weight N-methylpyrrolidone 40 parts by weight (composition-16) o- Naphthoquinone diazide / phenol novolac positive photosensitive agent (“Microposit” RC100, Shipley) 40 parts by weight “Thinner” C (Shipley) 15 parts by weight Polytetrafluoroethylene powder (“Teflon” 120-J, Mitsui DuPont) Fluorochemical) After 30 parts by weight exposure, it was dipped in a weak alkali (sodium hydroxide 2 wt% aqueous solution) for 1 minute, and the light shielding layer was patterned by etching. After patterning, dry at 100 ° C for 10 minutes 3
It was heated and cured at 00 ° C. for 1 hour to complete an ink-repellent black matrix.

【００７９】上記の手順で作成したブラックマトリクス
と画素部の着色に用いるインキ（組成−８）との間の後
退接触角を測定した結果、各色とも３５°であった。The receding contact angle between the black matrix prepared by the above procedure and the ink (composition-8) used for coloring the pixel portion was measured and found to be 35 ° for each color.

【００８０】上記の方法で形成したインキ反発性ブラッ
クマトリクス付きの基板の画素部分に対応する位置に水
無し平版を用いた平型オフセット印刷機によって（組成
−８）に示すインキを印刷することによりＲ、Ｇ、Ｂそ
れぞれ着色した。その結果、色特性、膜厚とも均一な画
素部を形成することができた。上記の手順で画素を形成
した後、カラーフィルタを顕微鏡で観察したところブラ
ックマトリクス上にはまったくインキ付着が見られなか
った。また、各画素間の膜厚の分布を測定した結果、カ
ラーフィルタ内の任意の１０箇所における膜厚むらは
０．２μｍ以内であった。また、同じく１０箇所におい
て色差を測定した結果いずれもΔＥ＜３であった。By printing the ink shown in (Composition-8) by a planographic offset printing machine using a waterless planographic printing plate at a position corresponding to a pixel portion of a substrate with an ink-repellent black matrix formed by the above method. Each of R, G and B was colored. As a result, it was possible to form a pixel portion with uniform color characteristics and film thickness. When the color filter was observed with a microscope after the pixels were formed by the above procedure, no ink adhesion was found on the black matrix. In addition, as a result of measuring the distribution of the film thickness between each pixel, the film thickness unevenness at arbitrary 10 points in the color filter was within 0.2 μm. Similarly, the color differences were measured at 10 locations, and all were ΔE <3.

【００８１】実施例８ アミノシラン系カップリング剤（ＰＳ０７６、チッソ
社）の０．２ｗｔ％エタノール溶液をスピンナで塗布
し、１５０℃、３０分加熱を施したガラス基板上に遮光
層として下記の成分（組成−１７）からなる黒色ペース
トをスピンナーで塗布した。１００℃で１０分乾燥した
後、同一の基板上に感光層（非遮光層）として下記の組
成（組成−１８）の感光剤をスピンナーで塗布した。８
０℃、１０分加熱して乾燥後基板の感光層側の面からブ
ラックマトリクス用露光マスクを介してＵＶ照射した。Example 8 A 0.2 wt% ethanol solution of an aminosilane coupling agent (PS076, manufactured by Chisso Co., Ltd.) was applied by a spinner and heated at 150 ° C. for 30 minutes, and the following components were formed as a light-shielding layer on a glass substrate ( A black paste having composition-17) was applied with a spinner. After drying at 100 ° C. for 10 minutes, a photosensitive agent having the following composition (composition-18) was applied as a photosensitive layer (non-light-shielding layer) on the same substrate with a spinner. 8
After heating at 0 ° C. for 10 minutes and drying, UV irradiation was performed from the surface of the substrate on the photosensitive layer side through a black matrix exposure mask.

【００８２】 （組成−１７） ポリアクリレート ２０重量部 シクロヘキサノン ６０重量部 カーボン粉 （ＭＡ−８、三菱マテリアル製） ３０重量部 （組成−１８） フェノール・ノボラック（１：１）共重合体 ３０重量部 ｏ−ナフトキノンジアジド ２０重量部 テトラヒドロフラン ２０重量部 Ｎ−メチルピロリドン ３０重量部 ３フッ化エチレン／４フッ化エチレン ７５／２５共重合体 １０重量部 露光後実施例５と同様の方法で現像し、感光層をパター
ニングした。次に１００℃で２０分加熱した後、シクロ
ヘキサノン中に１分浸漬し、画素に対応する部位の遮光
層をエッチングにより除去した。パターニング後２００
℃で３０分乾燥してインキ反発性のブラックマトリクス
を完成した。(Composition-17) Polyacrylate 20 parts by weight Cyclohexanone 60 parts by weight Carbon powder (MA-8, manufactured by Mitsubishi Materials) 30 parts by weight (Composition-18) Phenol-novolak (1: 1) copolymer 30 parts by weight o-naphthoquinonediazide 20 parts by weight tetrahydrofuran 20 parts by weight N-methylpyrrolidone 30 parts by weight trifluoroethylene / 4-fluoroethylene 75/25 copolymer 10 parts by weight After exposure, development was carried out in the same manner as in Example 5 and exposed to light. The layer was patterned. Next, after heating at 100 ° C. for 20 minutes, it was immersed in cyclohexanone for 1 minute, and the light-shielding layer at the portion corresponding to the pixel was removed by etching. 200 after patterning
It was dried at 30 ° C. for 30 minutes to complete an ink-repellent black matrix.

【００８３】上記の手順で作成したブラックマトリクス
と画素部の着色に用いるインキ（組成−３）との間の後
退接触角を測定した結果、赤、緑、青各色に対してそれ
ぞれ３２°、３０°、２２°であった。As a result of measuring the receding contact angle between the black matrix prepared by the above procedure and the ink (composition-3) used for coloring the pixel portion, 32 ° and 30 respectively for red, green and blue colors. Was 22 °.

【００８４】上記の方法で作成したインキ反発性ブラッ
クマトリクス付きの基板上にインクジェット装置を用い
て実施例１と同様の方法で着色したところ、実施例５と
同様に所望通りの膜厚、色特性とも均一な画素部を形成
することができた。Coloring was performed in the same manner as in Example 1 using an ink jet device on a substrate with an ink repellent black matrix prepared by the above method. As in Example 5, the desired film thickness and color characteristics were obtained. In addition, a uniform pixel portion could be formed.

【００８５】[0085]

【発明の効果】本発明は、上記のごとき構成を有するた
め印刷法、インクジェット法によってカラーフィルタを
製造する場合にインキの滲みや混色、さらにこれに起因
する膜厚むら、色むらなどを確実に防止することができ
る。これによって印刷法やインクジェット法を用いて、
非常に安価にしかも高精度なカラーフィルタを製造する
ことができる。また、従来よりも製造工程を簡略化でき
る。EFFECTS OF THE INVENTION Since the present invention has the above-mentioned constitution, when a color filter is manufactured by a printing method or an ink jet method, ink bleeding and color mixing, and film thickness unevenness and color unevenness due to the ink bleeding are surely ensured. Can be prevented. By using the printing method and the inkjet method,
A highly accurate and highly accurate color filter can be manufactured. Further, the manufacturing process can be simplified as compared with the conventional case.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平４−123006（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−123007（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−195102（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−125201（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−345609（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−2107（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−118217（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−109911（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−281408（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−186416（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−66501（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G02B 5/20 101 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (56) References JP-A-4-123006 (JP, A) JP-A-4-123007 (JP, A) JP-A-4-195102 (JP, A) JP-A-2- 125201 (JP, A) JP-A-4-345609 (JP, A) JP-A-5-2107 (JP, A) JP-A-6-118217 (JP, A) JP-A-6-109911 (JP, A) JP 5-281408 (JP, A) JP 6-186416 (JP, A) JP 63-66501 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. ⁷ , DB name) G02B 5/20 101

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】透明基板上の所定位置に、複数色の画素お
よび、該画素の間隙に遮光用ブラックマトリクスが形成
されたカラーフィルタにおいて、該遮光用ブラックマト
リクスが、金属層または黒色樹脂層である遮光層の上
に、光透過性の樹脂層である非遮光層が積層されたもの
であり、かつ該光透過性の樹脂層が少なくとも以下の一
般式(1)又は(2)で示されるモノマー又はオリゴマーであ
る含フッ素化合物および／または低表面エネルギー物質
の微粒子を含有することを特徴とするカラーフィルタ。一般式(1) Ｒｆ−Ｘ−Ｒｆ´ 一般式(2) （Ｒｆ−Ｘ−Ｒ）−Ｙ−（Ｒ´−Ｘ´−Ｒｆ
´） （ここで、ＲｆおよびＲｆ´はフルオロアルキル基、Ｒ
およびＲ´はアルキレン基を表し、ＲｆとＲｆ´また、
ＲとＲ´は同一でも異なっていても良い。また、Ｘ、Ｘ
´およびＹは、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＣＯＮ
Ｒ''−、−ＯＣＯＮＲ''−、−ＳＯ ₂ ＮＲ''−、−ＳＯ
₂ −、−ＳＯ ₂ Ｏ−、−Ｏ−、−ＮＲ''−、−Ｓ−、−
ＣＯ−、ＯＳＯ ₂ Ｏ−、−ＯＰＯ（ＯＨ）Ｏ−のうちの
いずれかを表し、Ｘ、Ｘ´およびＹは同一でも異なって
いても良い。Ｒ''はアルキル基または水素を表す。） 1. A color filter in which pixels of a plurality of colors and light-shielding black matrices are formed in predetermined positions on a transparent substrate, and the light-shielding black matrix is a metal layer or a black resin layer. A non-light-shielding layer which is a light-transmitting resin layer is laminated on a certain light-shielding layer, and the light-transmitting resin layer is at least one of the following.
A monomer or oligomer represented by the general formula (1) or (2)
Fluorinated compound and / or a low surface energy material that
A color filter containing the fine particles of. General formula (1) Rf-X-Rf ' General formula (2) (Rf-X-R) -Y- (R'-X'-Rf
′) (Where Rf and Rf ′ are fluoroalkyl groups, R
And R'represent an alkylene group, Rf and Rf ',
R and R'may be the same or different. Also, X, X
'And Y are -COO-, -OCOO-, -CON
R '' -, - OCONR ' ' -, - SO 2 NR '' -, - SO
_{2 -, - SO 2 O -} , - O -, - NR '' -, - S -, -
_{CO-, OSO 2 O -, -} OPO (OH) O- of the
X, X'and Y are the same or different
You may stay. R ″ represents an alkyl group or hydrogen. ) 【請求項２】フッ素原子を有する高分子化合物が、光透
過性の樹脂層中に微粒子状の分散状態で含有されている
ことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ。2. A polymer compound having a fluorine atom, a color filter according to claim 1, characterized in that it is contained in the particulate dispersed state in the light transmitting layer of resin. 【請求項３】シリコーン微粒子が、光透過性の樹脂層中
に分散状態で含有されていることを特徴とする請求項１
記載のカラーフィルタ。3. The silicone fine particles are contained in the light transmissive resin layer in a dispersed state.
Color filter as described. 【請求項４】含フッ素化合物および低表面エネルギー物4. A fluorine-containing compound and a low surface energy substance
質の非遮光層中の含有量が１〜３０重量％であることをThe content in the quality non-light-shielding layer is 1 to 30% by weight.
特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ。The color filter according to claim 1, wherein the color filter is a color filter. 【請求項５】透明基板上の所定位置に、複数色の画素お
よび、該画素の間隙に遮光用ブラックマトリクスが形成
されたカラーフィルタにおいて、該遮光用ブラックマト
リクスが、金属層または黒色樹脂層である遮光層の上
に、光透過性の樹脂層である非遮光層が積層されたもの
であり、かつ該光透過性の樹脂層が、水に対し４０°以
上の後退接触角を有することを特徴とする請求項１記載
のカラーフィルタ。5. A color filter in which pixels of a plurality of colors and a black matrix for shading are formed at predetermined positions on a transparent substrate, and the black matrix for shading is a metal layer or a black resin layer. A non-light-shielding layer that is a light-transmitting resin layer is laminated on a certain light-shielding layer, and the light-transmitting resin layer has a receding contact angle of 40 ° or more with respect to water. Claim 1 characterized by the above-mentioned.
The color filter of. 【請求項６】透明基板上の所定位置に、複数色の画素お
よび、該画素の間隙に遮光用ブラックマトリクスが形成
されたカラーフィルタにおいて、該遮光用ブラックマト
リクスが、金属層または黒色樹脂層である遮光層の上
に、光透過性の樹脂層である非遮光層が積層されたもの
であり、かつ該光透過性の樹脂層が、表面エネルギーが
２０ｄｙｎ／ｍ以下の低エネルギー表面を形成している
ことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ。6. A color filter in which pixels of a plurality of colors and a black matrix for shading are formed at predetermined positions on a transparent substrate, and the black matrix for shading is a metal layer or a black resin layer. A non-light-shielding layer that is a light-transmitting resin layer is laminated on a certain light-shielding layer, and the light-transmitting resin layer forms a low energy surface having a surface energy of 20 dyn / m or less. The color filter according to claim 1, wherein: 【請求項７】光透過性の樹脂層が、アクリル酸、メタク
リル酸またはこれらのエステル化物の重合体を含有する
ことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のカラ
ーフィルタ。7. A light-transmissive resin layer, an acrylic acid, a color filter according to any one of claims 1 to 6, characterized in that it contains methacrylic acid or polymers of these esterified compounds. 【請求項８】光透過性の樹脂層が、環化ゴムとビスアジ
ドを含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか
に記載のカラーフィルタ。The color filter according to any one of claims 1 to 6, 8. The light transparent resin layer is characterized by containing a cyclized rubber and bis-azide. 【請求項９】光透過性の樹脂層が、ゼラチンと、重クロ
ム酸塩またはビスアジドを含有することを特徴とする請
求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルタ。9. The light transmittance of the resin layer, a color filter according to any one of claims 1 to 6, characterized in that it contains gelatin, dichromate or bis azide. 【請求項１０】光透過性の樹脂層が、ポリイミド樹脂を
含有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記
載のカラーフィルタ。10. A color filter according to any one of claims 1 to 6, light transparent resin layer, characterized in that it contains a polyimide resin. 【請求項１１】光透過性の樹脂層が、ナフトキノンジア
ジドとフェノールノボラック樹脂のエステル化物、また
はナフトキノンジアジドとフェノールノボラック樹脂の
混合物を含有することを特徴とする請求項１〜６のいず
れかに記載のカラーフィルタ。11. The light transparent resin layer according to any one of claims 1 to 6, characterized in that it contains a mixture of naphthoquinone diazide and a phenol novolak resin esterified product or naphthoquinone diazide and a phenol novolak resin, Color filters. 【請求項１２】黒色樹脂層が、エポキシ樹脂を含有する
ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のカ
ラーフィルタ。12. The color filter according to any one of claims 1 to 11, wherein the black resin layer contains an epoxy resin. 【請求項１３】黒色樹脂層が、メラミン樹脂を含有する
ことを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載のカ
ラーフィルタ。13. The color filter according to any one of claims 1 to 11, wherein the black resin layer contains a melamine resin. 【請求項１４】黒色樹脂層が、ポリイミド樹脂を含有す
ることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の
カラーフィルタ。14. The color filter according to any one of claims 1 to 11, wherein the black resin layer contains a polyimide resin.