JP3395140B2 - レーザマーキング方法 - Google Patents
レーザマーキング方法Info
- Publication number
- JP3395140B2 JP3395140B2 JP28979495A JP28979495A JP3395140B2 JP 3395140 B2 JP3395140 B2 JP 3395140B2 JP 28979495 A JP28979495 A JP 28979495A JP 28979495 A JP28979495 A JP 28979495A JP 3395140 B2 JP3395140 B2 JP 3395140B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- marking
- harmonic
- marking method
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
にレーザ光を用いて文字等のマーキングを施すレーザマ
ーキング方法に関する。
法について説明する。従来のガラスマーキング方法とし
て、炭酸ガスレーザ(CO2 :発振波長10.6μm)
と紫外線で発振するArFエキシマレーザ(発振波長1
93nm)を利用することが知られている。
はパルスで発振し、ビーム形状は長方形をしている。そ
のためレンズで集光した点での加工ではなく、マスクを
用いてそのマスク像をガラス上に縮小投影することで加
工を行っている。炭酸ガスレーザを使用する場合のマー
キングは炭酸ガスレーザをガラスの表面に照射し、熱作
用によりガラスを溶かして行う。一方、ArFエキシマ
レーザを使用する場合のマーキングは光化学反応により
ガラス表面を飛ばして行う。
スレーザを使用した場合のマーキングでは、熱加工によ
るため、小さいクラックが多数入ってしまい割れが残っ
てしまうという問題が生じる。これに対してArFエキ
シマレーザを使用した場合のマーキングでは、紫外線の
光による光化学反応によりガラス表面を飛ばすため、熱
膨脹のない加工が可能となり、割れがなく非常に仕上が
りのよい加工を行うことができる。しかしながら、高価
なガスを使用することによりランニングコストが高いと
いう問題が生じる。又、場合によってはKrFエキシマ
レーザ(発振波長248nm)を使用することも可能で
あるが条件によっては割れが生じる場合もあり、ArF
エキシマレーザと同様にランニングコストが高いという
問題が生ずる。
グコストの低いレーザマーキング方法を提供することで
ある。
ーザ発振器で発振されたレーザを、紫外線波長域の高調
波レーザに変換して、該高調波レーザをガラス表面へ照
射することによりガラスにマーキングを施すレーザマー
キング方法において、該マーキングはドット加工であっ
て、該ドット間隔を100μm以上とすることを特徴と
するレーザマーキング方法が得られる。
ザは、第4高調波レーザ又は第5高調波レーザであるこ
とを特徴とするレーザマーキング方法が得られる。
発振器がNd:YAGレーザ発振器、Nd:YLFレー
ザ発振器、又はNd:ガラスレーザ発振器であることを
特徴とするレーザマーキング方法が得られる。
形態を詳細に説明する。図1は本発明によるレーザマー
キング方法を実施するためのレーザマーキング装置の構
成を示した概略図である。図1において、固体レーザ発
振器1で発生された固体レーザ(矢印10)は波長変換
装置2に入力される。ここで、固体レーザは励起用レー
ザとして用いる。本実施の形態においては、固体レーザ
としてNd:YLFレーザを使用した場合について説明
する。波長変換装置2は、固体レーザ発振器1からのN
d:YLFレーザを高調波レーザ(矢印20)としての
第4高調波又は第5高調波に変換する。すなわち、波長
変換装置2は入力されたレーザの波長域を変換する機能
を有する。尚、Nd:YLFレーザを励起用レーザとし
て波長変換した場合、変換後の第4高調波の波長は26
2nmとなり、第5高調波の波長は210nmとなる。
紫外領域の発振波長をもつ第4高調波又は第5高調波
は、ミラー3(例えば、XYガルバノミラー又はFθレ
ンズ等)を通してガラス基板5上に照射される。6はガ
ラス表面上にマーキングを行う位置を変化させるXYス
テージである。
レーザとして得られる第4高調波(262nm)にて照
射されたガラスマーキングの例を図3に示す。図3から
明らかな用に262nmという紫外領域におけるレーザ
を用いたことによって割れが生じにくいことがわかる。
マーキングの条件と同様の条件でマーキングのドット間
隔を狭くする(ドット間隔40μm)ようにマーキング
を施した場合には、図4に示したように割れが生じてし
まう。しかしながら、この割れは、図2に示すように、
図1の装置に不活性ガス吹きつけ装置を設けることによ
って防ぐことができる。すなわち、第4高調波をガラス
基板5に照射する際、不活性ガスの吹きつけチューブ4
から不活性ガスを吹きつけると、図5に示すように、割
れを生じさせることなくマーキングを行える。
て、不活性ガスの吹きつけを行わず、図4の場合と同じ
条件でマーキングされたマーキングパターンの例を示し
た図である。図6から明らかなようにドット間隔を10
0μm以上の場合は不活性ガスの吹きつけが無くてもク
ラックが生じないことがわかる。すなわち、ドット間隔
が100μm以上の場合には吹きつけなくてもよいこと
がわかる。
ーザとしてNd:YLFレーザを使用したが、この他に
Nd:YAGレーザ又はNd:ガラスレーザを使用して
もよい。
ルギー0.4mJ/pulseの第4高調波を用いた
が、第5高調波を用いても同様の効果が得られる。
ットル/分の流量で径φ2mmのチューブから吹きつけ
た。
径はφ30μmであり、ドット間隔は40μmである。
0μmであり、ドット間隔は100μmである。
を有する。
波又は第5高調波を用いているため、マーキングにおい
てクラック(割れ)を生じない。
ているため装置の小型化が図れると共に出力の安定性を
高めることができ、かつこれによる高品質、すなわちバ
ラツキがなく割れの生じないマーキング加工が可能とな
る。
つ1回だけの露光を行えば割れを防止することができ
る。ただし、2回以上の露光を行うと割れの生じる確率
を0にすることはできない。
のドット加工により生じたガラス片等のゴミにより、光
が散乱もしくは屈折されて、ガラス表面にエネルギーの
高い部分が生じるため、1回の露光でもガラス上にゴミ
が存在すると割れを生じることがあるが、不活性ガスの
吹きつけによりガラス上のゴミを除去することによって
割れを防止することができる。
るレーザマーキング装置の構成の一実施例を示した概略
図である。
るレーザマーキング装置の構成の他の実施例を示した概
略図である。
られたドット間隔の広いマーキングパターンを示した図
である。
られたドット間隔40μmのマーキングパターンを示し
た図である。
ガス吹きつけを行って得られたドット間隔の狭いマーキ
ングパターンを示した図である。
られたドット間隔100μmのマーキングパターンを示
した図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 固体レーザ発振器で発振されたレーザ
を、紫外線波長域の高調波レーザに変換して、該高調波
レーザをガラス表面へ照射することによりガラスにマー
キングを施すレーザマーキング方法において、該マーキ
ングはドット加工であって、該ドット間隔を100μm
以上とすることを特徴とするレーザマーキング方法。 - 【請求項2】 前記高調波レーザは、第4高調波レーザ
又は第5高調波レーザであることを特徴とする請求項1
に記載のレーザマーキング方法。 - 【請求項3】 前記固体レーザ発振器がNd:YAGレ
ーザ発振器、Nd:YLFレーザ発振器、又はNd:ガ
ラスレーザ発振器であることを特徴とする請求項1又は
2に記載のレーザマーキング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28979495A JP3395140B2 (ja) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | レーザマーキング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28979495A JP3395140B2 (ja) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | レーザマーキング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09122940A JPH09122940A (ja) | 1997-05-13 |
JP3395140B2 true JP3395140B2 (ja) | 2003-04-07 |
Family
ID=17747862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28979495A Expired - Fee Related JP3395140B2 (ja) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | レーザマーキング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3395140B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19855623C1 (de) * | 1998-12-02 | 2000-02-24 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren zur Erzeugung einer Markierung in einem Glaskörper |
KR100400441B1 (ko) * | 2000-10-18 | 2003-10-01 | 엘지전자 주식회사 | 자외선 레이저 빔에 대한 유리의 마킹 장치 및 그 방법 |
KR20020064548A (ko) * | 2001-02-02 | 2002-08-09 | 엘지전자주식회사 | 레이저빔을 이용한 대형유리의 마킹방법 |
KR20040046422A (ko) * | 2002-11-27 | 2004-06-05 | 주식회사 이오테크닉스 | 1064/532 ㎚ 파장 겸용 레이저 시스템 및 칩 스케일 마커 |
JP2007033857A (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Hoya Corp | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、マスクブランクスの製造方法、及びマスクブランクス |
JP4776038B2 (ja) * | 2008-06-18 | 2011-09-21 | Hoya株式会社 | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法およびマスクの製造方法 |
JP5323874B2 (ja) * | 2011-02-24 | 2013-10-23 | Hoya株式会社 | マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク、マスクおよび反射型マスク並びにこれらの製造方法 |
DE112021003091T5 (de) * | 2020-06-01 | 2023-04-06 | AGC Inc. | Glasplatte mit einer identifikationsmarkierung und verfahren zur herstellung einer glasplatte mit einer identifikationsmarkierung |
-
1995
- 1995-11-08 JP JP28979495A patent/JP3395140B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09122940A (ja) | 1997-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3001816B2 (ja) | Nd:YAGレーザを使用するガラス上へのレーザスクライビング | |
US4190759A (en) | Processing of photomask | |
JP3797068B2 (ja) | レーザによる微細加工方法 | |
JP3395140B2 (ja) | レーザマーキング方法 | |
JPH04110944A (ja) | 透明材料のマーキング方法 | |
JP3412416B2 (ja) | ガラスマーキング方法 | |
JPH07185875A (ja) | パルスレーザによる材料加工方法 | |
JPH09141480A (ja) | アブレーション加工方法 | |
JPH04295851A (ja) | フォトマスク修正装置 | |
JP2820182B2 (ja) | 液晶ガラスのレーザマーキング方法 | |
JPS61273284A (ja) | 化合物半導体のレ−ザマ−キング方法 | |
JP2015142937A (ja) | プラスチック製品のレーザマーキング装置及びその方法 | |
JPS642935B2 (ja) | ||
JPH07124777A (ja) | レーザ加工装置及び加工用マスク | |
JPS61105885A (ja) | 光加工方法 | |
JP2001009583A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH06344172A (ja) | レーザ加工法および加工装置 | |
JPH0890273A (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | |
JPH04356380A (ja) | レーザマーキング方法 | |
JP2003311457A (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | |
JPS60137592A (ja) | レーザーマーキング方法 | |
JP2006000865A (ja) | マーキング方法 | |
JP2872792B2 (ja) | レーザマーキング装置 | |
JPH11197871A (ja) | 可視パルスレーザー加工方法及びその装置 | |
JPS62267484A (ja) | レ−ザ−ビ−ムを用いた蒸着膜の除去加工操作 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20021225 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080207 Year of fee payment: 5 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080207 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090207 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090207 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100207 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110207 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120207 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130207 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130207 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140207 Year of fee payment: 11 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |