JP3388099B2 - Transparent conductive laminate and transparent tablet - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、有機高分子成型物
からなる基板の一方の面上に、透明導電層が積層されて
なる透明導電性積層体、およびこの透明導電性積層体を
用いて作成される透明タブレットに関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a transparent conductive laminate in which a transparent conductive layer is laminated on one surface of a substrate made of an organic polymer molding, and this transparent conductive laminate is used. It concerns a transparent tablet created.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、情報表示用の液晶ディスプレーと
情報入力用の透明タブレット（タッチスイッチ、タッチ
パネル、フラットスイッチとも称される）を搭載した携
帯型の情報機器が広く使用され始めている。透明タブレ
ットとして多く用いられている抵抗膜方式の透明タブレ
ットは、透明導電層が形成された二枚の透明電極基板が
およそ１０μｍ前後の間隔で相対させて構成されてお
り、外力を加えた部分のみで両電極が接触してスイッチ
として動作するものであり、例えばディスプレー画面上
のメニューの選択あるいは図形や手書き文書の入力等を
行なうことができる。2. Description of the Related Art In recent years, portable information devices equipped with a liquid crystal display for displaying information and a transparent tablet (also referred to as a touch switch, a touch panel, a flat switch) for inputting information have begun to be widely used. A resistance film type transparent tablet, which is often used as a transparent tablet, is composed of two transparent electrode substrates on which a transparent conductive layer is formed, facing each other at an interval of about 10 μm, and only a portion to which an external force is applied. The two electrodes come into contact with each other and operate as a switch. For example, selection of a menu on the display screen or input of a figure or a handwritten document can be performed.

【０００３】従来、透明タブレットは、液晶ディスプレ
ー上に一定の間隔をあけて配置されていたが、最近で
は、軽量化や薄型化、透過率の向上や視差低減等の目的
で、液晶ディスプレーの上部偏光板と液晶セルとの間に
タブレットを挿入した入力表示一体のタブレットが検討
されはじめている。Conventionally, transparent tablets have been arranged on the liquid crystal display with a certain space therebetween, but recently, for the purpose of weight reduction, thinning, improvement of transmittance, reduction of parallax, etc., a transparent tablet has been placed above the liquid crystal display. Tablets with an integrated input display, in which a tablet is inserted between a polarizing plate and a liquid crystal cell, are being studied.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】この入力表示一体のタ
ブレットにおいては、タブレットが二枚の偏光板に挟ま
れた構造になっているために、タブレットに用いられる
透明電極基板が光学等方性である必要性がある。すなわ
ち、透明電極基板の光学等方性が劣る場合には、リタデ
ーションの存在による着色現象や視認性の低下といった
パネル表示性能の低下が課題となる。特に、タブレット
の上部の透明電極基板には可撓性が必要である事からポ
リカーボネート、ポリアリレート等の光学等方性の有機
高分子フィルムが好ましく用いられる。また、下部の透
明電極基板には、ガラスや前記の光学等方性の有機高分
子フィルム、有機高分子シート等が用いられる。In the tablet integrated with the input display, the transparent electrode substrate used in the tablet is optically isotropic because the tablet has a structure sandwiched between two polarizing plates. There is a need. That is, when the optical isotropy of the transparent electrode substrate is inferior, the deterioration of panel display performance such as a coloring phenomenon due to the presence of retardation and a decrease in visibility becomes a problem. In particular, an optically isotropic organic polymer film such as polycarbonate or polyarylate is preferably used because the transparent electrode substrate above the tablet needs to be flexible. Further, glass, the above-mentioned optically isotropic organic polymer film, organic polymer sheet, or the like is used for the lower transparent electrode substrate.

【０００５】ここで、これらの透明電極基板の導電面の
平坦性が非常に高い場合には、入力時に上下の透明電極
基板が密着して離れにくくなる等の動作不良が発生する
課題がある。また、電極面とは反対側の面に関しても、
表面の平坦性が非常に高い場合には、タブレット作成時
に於けるエッチングや印刷、ヒートシール等の諸工程に
おいて、透明電極基板が搬送されるライン上に密着して
離れにくくなる等のハンドリング上の課題が発生する。Here, if the flatness of the conductive surface of these transparent electrode substrates is very high, there is a problem that malfunction occurs such that the upper and lower transparent electrode substrates come into close contact with each other and become difficult to separate from each other. Also, regarding the surface opposite to the electrode surface,
If the surface flatness is very high, in the processes such as etching, printing, and heat-sealing when creating a tablet, the transparent electrode substrate adheres closely to the line being conveyed and becomes difficult to separate. Issues arise.

【０００６】また、一般に、抵抗膜方式の透明タブレッ
トにおいては、上下の透明電極基板間の距離が小さくな
った時に、両方の電極表面からの反射光が干渉して強い
光干渉縞（ニュートンリング）を発生し、視認性が低下
する場合がある。この光干渉縞を防止するためには、電
極表面を適当な粗度に粗面化して、反射光を散乱性にす
ることが有効である。しかしながら、この方法では、電
極基板のヘイズの増加を伴い、光透過率や視認性が低下
する課題があった。Generally, in a resistive film type transparent tablet, when the distance between the upper and lower transparent electrode substrates becomes small, the reflected light from both electrode surfaces interferes with each other to generate strong optical interference fringes (Newton ring). May occur and the visibility may decrease. In order to prevent the light interference fringes, it is effective to roughen the electrode surface to an appropriate roughness so that the reflected light is scattered. However, this method has a problem that the light transmittance and the visibility are lowered due to the increase of the haze of the electrode substrate.

【０００７】本発明は、これらの課題を解決すべくため
されたものであり、滑り性に優れ、光透過率の高い透明
電極基板を得ることを目的とし、さらに、この透明電極
基板を用いて、動作不良や光干渉縞の発生の少ない、高
透過率で低ヘイズの透明タブレットを得ることを目的と
している。The present invention has been made in order to solve these problems, and an object thereof is to obtain a transparent electrode substrate which is excellent in slipperiness and has a high light transmittance. Furthermore, by using this transparent electrode substrate The purpose of the present invention is to obtain a transparent tablet with high transmittance and low haze, which has few malfunctions and optical interference fringes.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の透明導電性積層
体は、有機高分子成型物からなる基板の一方の面上に、
透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体におい
て、基板は表面粗さが中心面平均粗さ（ＳＲａ）で０．
００３μｍ未満であり、基板上の少なくとも透明導電層
が積層された側には粗面化層が積層され、透明導電性積
層体としては少なくとも透明導電層が積層された側の表
面の表面粗さが中心面平均粗さ（ＳＲａ）で０．００３
〜０．０４μｍであることを特徴としている。また本発
明の透明タブレットは、二枚の透明電極基板が電極面を
相対して配置される透明タブレットにおいて、少なくと
も一方の透明電極基板として、本発明の透明導電性積層
体を用いたことを特徴としている。The transparent electroconductive laminate of the present invention comprises:
In a transparent electroconductive laminate in which transparent electroconductive layers are laminated, the substrate has a surface roughness of 0. 0 as a center plane average roughness (SRa).
It is less than 003 μm, a roughening layer is laminated on at least the transparent conductive layer laminated side of the substrate, and the surface roughness of the transparent conductive laminate at least on the transparent conductive layer laminated side is Center surface average roughness (SRa) is 0.003
.About.0.04 .mu.m. Further, the transparent tablet of the present invention is characterized in that, in the transparent tablet in which two transparent electrode substrates are arranged with their electrode surfaces opposed to each other, the transparent conductive laminate of the present invention is used as at least one transparent electrode substrate. I am trying.

【０００９】すなわち本発明の透明導電性積層体は、平
滑性に優れた有機高分子成型物上の少なくとも導電面に
易滑性の層を積層することを特徴としている。易滑性は
一般に基体の表面粗さと関係していると考えられるが、
本発明者らの検討によれば良好な易滑性の発現には、積
層体としてはその表面粗さが中心面平均粗さ（ＳＲａ）
で０．００３μｍ以上であることが好ましく、０．００
３μｍ未満では滑り性が低く前述の諸課題を発生する場
合が多いことがわかった。また中心面平均粗さ（ＳＲ
ａ）が大きくなると、ヘイズ値が増加する。このため本
発明の積層体においては中心面平均粗さ（ＳＲａ）は
０．０４μｍ以下とすることが必要である。That is, the transparent conductive laminate of the present invention is characterized in that an easily slippery layer is laminated on at least the conductive surface of an organic polymer molded article having excellent smoothness. It is considered that the slipperiness is generally related to the surface roughness of the substrate,
According to the study by the present inventors, in order to exhibit good slipperiness, the surface roughness of the laminate is the center plane average roughness (SRa).
Is preferably 0.003 μm or more, and 0.00
It was found that when the thickness is less than 3 μm, the slipperiness is low and the above-mentioned various problems often occur. The center surface average roughness (SR
The haze value increases as a) increases. Therefore, in the laminate of the present invention, the center plane average roughness (SRa) needs to be 0.04 μm or less.

【００１０】なおここで中心面平均粗さ（ＳＲａ）と
は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１記載の中心線平均粗さ（Ｒ
ａ）を三次元に拡張したものであり、次のように定義す
る。まず、粗さ曲面からその中心面上に面積Ｓｍの部分
を抜き取り、この抜き取り部分の中心面上に直交座標軸
としてＸ軸とＹ軸を置く。さらに中心面に直交する軸を
Ｚ軸とし、粗さ曲面をｚ＝ｆ（ｘ，ｙ）で表した場合、
次式（イ）にて求められる値ＳＲａ（μｍ）を中心面平
均粗さと呼ぶ。尚、次式（イ）内でＬｘ・Ｌｙ＝Ｓｍで
ある。The center surface average roughness (SRa) is the center line average roughness (R) described in JIS B 0601.
It is a three-dimensional extension of a) and is defined as follows. First, a portion having an area Sm is extracted from the roughness curved surface on the central surface thereof, and the X axis and the Y axis are placed as orthogonal coordinate axes on the central surface of the extracted portion. Further, when the axis orthogonal to the center plane is the Z axis and the roughness curved surface is represented by z = f (x, y),
The value SRa (μm) obtained by the following equation (a) is called the center plane average roughness. Note that Lx · Ly = Sm in the following equation (a).

【００１１】[0011]

【数１】 [Equation 1]

【００１２】このため、中心面平均粗さが０．００３μ
ｍ未満の有機高分子成型物からなる基板、例えば、内部
にフィラーが添加される事の少ない、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート等の非晶性の有機高分子成型物等を
基板に用いた場合、基板上に粗面化層を設けることで、
積層体としての表面の中心面平均粗さ（ＳＲａ）を０．
００３〜０．０４μｍとする。本発明においてこの粗面
化層は、前述の課題を解決するためにも、基板上の少な
くとも透明導電層が積層された側に積層されることが必
要である。さらに透明導電性積層体としての用途に応じ
ては、粗面化層は基板の両側に形成され、透明導電性積
層体としては両側の表面の表面粗さが中心面平均粗さ
（ＳＲａ）で０．００３〜０．０４μｍであることがよ
り好ましい。Therefore, the center plane average roughness is 0.003 μm.
A substrate made of an organic polymer molded product of less than m, for example, when an amorphous organic polymer molded product of polycarbonate, polyarylate or the like in which a filler is rarely added inside is used as the substrate, By providing a roughened layer on
The center plane average roughness (SRa) of the surface of the laminated body was set to 0.
003 to 0.04 μm. In the present invention, this roughened layer needs to be laminated on at least the side on which the transparent conductive layer is laminated on the substrate in order to solve the above-mentioned problems. Further, depending on the use as the transparent conductive laminate, the roughening layer is formed on both sides of the substrate, and the surface roughness of both surfaces of the transparent conductive laminate is the center plane average roughness (SRa). More preferably, it is 0.003 to 0.04 μm.

【００１３】そして粗面化層は、易滑加工、すなわち基
板表面に適当な密度で微小な突起を形成するような加工
を行なうことにより設けることができる。具体的には、
フィラーとしての微粒子を分散した塗膜をコーティング
する方法や、基材にエンボス加工やサンドブラスト加工
等の機械的加工を加える方法等が例示されるが、工程の
簡便性の観点からは、フィラーとしての微粒子を分散し
た塗膜をコーティングする方法が好ましく用いられる。The surface-roughened layer can be provided by an easy-sliding process, that is, a process for forming fine projections at an appropriate density on the substrate surface. In particular,
Examples include a method of coating a coating film in which fine particles are dispersed as a filler, and a method of applying mechanical processing such as embossing or sandblasting to a substrate, but from the viewpoint of process simplicity, as a filler, A method of coating a coating film in which fine particles are dispersed is preferably used.

【００１４】ここで、フィラーとしての微粒子を分散し
た塗膜をコーティングする場合、フィラーを分散した事
による塗膜強度の低下や光散乱によるヘイズの上昇を最
小限に抑える必要があるが、本発明者らの検討によれ
ば、平均一次粒径が塗膜の膜厚対比小さいフィラーを用
いた場合、易滑性の発現のためにはフィラーを多く添加
する必要が生じ、ヘイズの増加や塗膜強度の低下等の悪
影響が観られることがわかった。これは、フィラーの一
次粒径が小さいと、塗膜内部に完全に埋もれて粗面化に
全く寄与しないフィラーの割合が非常に多くなるためで
あると考えられる。これらの事から、一次粒径が塗膜の
膜厚対比大きいフィラーを用いることが好ましいが、フ
ィラーの一次粒径が膜厚の３倍を越える場合には、フィ
ラーの固着性が低下する傾向が観られるため、フィラー
として用いる微粒子の平均一次粒径は塗膜の膜厚の約
１．１〜３倍の範囲にあることが好ましい。Here, when coating a coating film in which fine particles as fillers are dispersed, it is necessary to minimize the decrease in coating film strength due to the dispersion of fillers and the increase in haze due to light scattering. According to the study of the inventors, when a filler having an average primary particle size smaller than the film thickness of the coating film is used, it is necessary to add a large amount of the filler in order to exhibit slipperiness, which leads to an increase in haze and the coating film. It was found that adverse effects such as reduction in strength were observed. It is considered that this is because when the primary particle diameter of the filler is small, the proportion of the filler which is completely buried inside the coating film and does not contribute to the roughening becomes very large. For these reasons, it is preferable to use a filler having a primary particle size larger than that of the coating film, but when the primary particle size of the filler exceeds 3 times the film thickness, the adherence of the filler tends to decrease. Therefore, the average primary particle diameter of the fine particles used as the filler is preferably in the range of about 1.1 to 3 times the film thickness of the coating film.

【００１５】塗膜へのフィラー微粒子の添加量は、重量
比率で０．０５〜０．５％の範囲にあることが好まし
い。添加量が０．０５％に満たない場合には充分な易滑
性が得られず、逆に０．５％を越える場合にはヘイズが
不必要に増加していくので好ましくない。そうしたフィ
ラーとして添加する微粒子としては、塗工液中で微粒子
の凝集や沈降が起こりにくいものを用いることが好まし
く、具体的には市販の有機シリコン微粒子や架橋アクリ
ル微粒子、架橋ポリスチレン微粒子等が好ましく用いら
れる。The amount of the fine filler particles added to the coating film is preferably in the range of 0.05 to 0.5% by weight. If the added amount is less than 0.05%, sufficient slipperiness cannot be obtained, and conversely, if the added amount exceeds 0.5%, haze unnecessarily increases, which is not preferable. As the fine particles to be added as such a filler, it is preferable to use those which are unlikely to cause aggregation or sedimentation of the fine particles in the coating liquid. Specifically, commercially available organic silicon fine particles, crosslinked acrylic fine particles, crosslinked polystyrene fine particles, etc. are preferably used. To be

【００１６】ところで、これら粗面化された塗膜（以下
粗面化層と記す）は、導電層のエッチング時に使用され
る酸性水溶液やアルカリ性水溶液等への耐溶剤性等、後
述の評価法において十分な耐溶剤性を有していることが
より好ましい。このような耐溶剤性を有する塗膜として
は、例えば、アクリル系樹脂の放射線架橋層やフェノキ
シ系樹脂の熱架橋層、エポキシ系樹脂の熱架橋層および
ケイ素アルコキシドの熱架橋層等の各種樹脂架橋層が挙
げられる。これらの中でも、アクリル系樹脂の放射線架
橋層は、放射線の照射により比較的短時間に架橋度の高
い層が得られる事から、製造プロセスへの負荷が少ない
特徴があり、最も好ましく用いられる。By the way, these roughened coating films (hereinafter referred to as roughened layers) are evaluated in the later-described evaluation method such as solvent resistance to acidic aqueous solution or alkaline aqueous solution used for etching the conductive layer. More preferably, it has sufficient solvent resistance. As the coating film having such solvent resistance, for example, various resin cross-links such as a radiation cross-linking layer of an acrylic resin, a heat cross-linking layer of a phenoxy resin, a heat cross-linking layer of an epoxy resin, and a heat cross-linking layer of a silicon alkoxide. Layers. Among these, the radiation-crosslinked layer of an acrylic resin is most preferably used because it has a characteristic that it has a small load on the manufacturing process because a layer having a high degree of crosslinking can be obtained in a relatively short time by irradiation with radiation.

【００１７】放射線架橋型樹脂は、紫外線や電子線等の
放射線を照射する事によって架橋が進行する樹脂を指
し、単位構造内に２個以上のアクリロイル基を有する多
官能アクリレート成分を樹脂組成中に含有するアクリル
系樹脂が挙げられる。例えばトリメチロールプロパント
リアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキ
サイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパン
プロピレンオキサイド変性トリアクリレート、イソシア
ヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ
アクリレート等の各種アクリレートモノマーや、ポリエ
ステル変性もしくはウレタン変性、エポキシ変性の多官
能アクリレートオリゴマー等が本用途に好ましく用いら
れる。これらの樹脂は単独の組成で用いても、数種の混
合組成で用いても良く、また場合によっては、各種ケイ
素アルコキシドの加水分解物を組成中に適量添加するこ
とも好ましく行われる。The radiation-crosslinking resin refers to a resin that is crosslinked by irradiation with radiation such as ultraviolet rays and electron beams, and a polyfunctional acrylate component having two or more acryloyl groups in the unit structure is added to the resin composition. The acrylic resin contained is mentioned. For example, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, Various acrylate monomers such as dimethyloltricyclodecane diacrylate, polyester-modified, urethane-modified, and epoxy-modified polyfunctional acrylate oligomers are preferably used for this purpose. These resins may be used as a single composition or may be used as a mixed composition of several kinds, and in some cases, it is also preferable to add an appropriate amount of a hydrolyzate of various silicon alkoxides to the composition.

【００１８】なお、紫外線照射によって樹脂層の架橋を
行う場合には公知の光反応開始剤が適量添加される。光
反応開始剤としては、例えばジエトキシアセトフェノ
ン、２−メチル−１−｛４−（メチルチオ）フェニル｝
−２−モルフォリノプロパン、２−ヒドロキシ−２−メ
チル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン系
化合物；ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール等のベ
ンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香
酸等のベンゾフェノン系化合物；チオキサンソン、２、
４−ジクロロチオキサンソン等のチオキサンソン系化合
物等が挙げられる。When the resin layer is crosslinked by irradiation with ultraviolet rays, a known photoreaction initiator is added in an appropriate amount. As the photoreaction initiator, for example, diethoxyacetophenone, 2-methyl-1- {4- (methylthio) phenyl}
Acetophenone-based compounds such as 2-morpholinopropane, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 1-hydroxycyclohexylphenylketone; Benzoin-based compounds such as benzoin and benzyldimethylketal; Benzophenone and benzoyl Benzophenone compounds such as benzoic acid; thioxanthone, 2,
Examples thereof include thioxanthone compounds such as 4-dichlorothioxanthone.

【００１９】また、フェノキシ系樹脂の熱架橋層として
は、下記一般式（１）で示されるフェノキシ樹脂、フェ
ノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂を多官能
イソシアネート化合物で熱的に架橋させた層が挙げられ
る。Examples of the thermally crosslinked layer of the phenoxy resin include a layer obtained by thermally crosslinking a phenoxy resin, a phenoxyether resin and a phenoxyester resin represented by the following general formula (1) with a polyfunctional isocyanate compound. .

【００２０】[0020]

【化１】 [Chemical 1]

【００２１】ここでＲ¹〜Ｒ⁶は、同一または異なる水素
または炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ⁷は炭素数２〜５
のアルキレン基、Ｘはエーテル基、エステル基、ｍは０
〜３の整数、ｎは２０〜３００の整数をそれぞれ意味す
る。そうした中でも特にＲ¹、Ｒ²はメチル基、Ｒ³〜Ｒ⁶
は水素、Ｒ⁷はペンチレン基のものが、合成が容易で生
産性の面から好ましい。Here, R ^{1 to} R ⁶ are the same or different hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and R ⁷ is 2 to 5 carbon atoms.
Alkylene group, X is an ether group, an ester group, m is 0
~ 3, and n means an integer of 20 to 300, respectively. Among them, especially R ¹ and R ² are methyl groups, R ^{3 to} R ⁶
Is preferably hydrogen and R ⁷ is preferably a pentylene group from the viewpoint of easy synthesis and productivity.

【００２２】また、多官能イソシアネート化合物として
は、一分子中にイソシアネート基を二つ以上含有する化
合物であれば良く、以下のものが例示される。２，６−
トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシ
アネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロール
プロパンアダクト体、ｔ−シクロヘキサン−１，４−ジ
イソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ
−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート、１，３，６−ヘキサメチレントリイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−ナフタ
レンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネ−
ト、水添ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネー
ト、リジンジイソシアネート、リジンエステルトリイソ
シアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、
トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート、
ｍ−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ｐ−テ
トラメチルキシリレンジイソシアネート、１，６，１１
−ウンデカントリイソシアネート、１，８−ジイソシア
ネート−４−イソシアネートメチルオクタン、ビシクロ
ヘプタントリイソシアネート、２，２，４−トリメチル
ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメ
チルヘキサメチレンジイソシアネート等のポリイソシア
ネートおよびそれらの混合物あるいは多価アルコール付
加体等。この中でも特に汎用性、反応性の観点から２，
６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイ
ソシアネート、トリレンジイソシアネート−トリメチロ
ールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネ
ートが好ましい。The polyfunctional isocyanate compound may be any compound containing two or more isocyanate groups in one molecule, and the following compounds are exemplified. 2,6-
Tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, tolylene diisocyanate-trimethylolpropane adduct, t-cyclohexane-1,4-diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p
-Phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolidine diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyane −
Hydrogenated diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, lysine diisocyanate, lysine ester triisocyanate, triphenylmethane triisocyanate,
Tris (isocyanatophenyl) thiophosphate,
m-tetramethylxylylene diisocyanate, p-tetramethylxylylene diisocyanate, 1,6,11
Polyisocyanates such as undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyl octane, bicycloheptane triisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and their Mixtures or polyhydric alcohol adducts. Among them, especially from the viewpoint of versatility and reactivity,
6-Tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, tolylene diisocyanate-trimethylolpropane adduct, and hexamethylene diisocyanate are preferred.

【００２３】この他、反応促進剤として、公知のトリエ
チレンジアミン等の第三アミン、ジブチル錫ジラウレー
ト等の有機錫化合物を適量添加する事で架橋速度を向上
することが可能である。In addition, it is possible to improve the crosslinking rate by adding a proper amount of a known tertiary amine such as triethylenediamine or an organic tin compound such as dibutyltin dilaurate as a reaction accelerator.

【００２４】また、エポキシ系樹脂の熱架橋層として
は、各種のものが使用できるが、その中でも、下記一般
式（２）で示されるノボラック型のエポキシ樹脂を熱的
に架橋させた層が好ましい。As the thermally crosslinkable layer of the epoxy resin, various ones can be used, and among them, a layer obtained by thermally crosslinking the novolac type epoxy resin represented by the following general formula (2) is preferable. .

【００２５】[0025]

【化２】 [Chemical 2]

【００２６】ここで、Ｒ⁸は水素またはメチル基、Ｒ⁹は
水素またはグリシジルフェニルエーテル基を示す。ま
た、ｑは１〜５０までの整数を示すが、実際の所、ｑの
値は一般的に分布を持っていて特定しにくいが、平均の
数として大きい方が好ましく、３以上さらには５以上が
好ましい。Here, R ⁸ represents hydrogen or a methyl group, and R ⁹ represents hydrogen or a glycidyl phenyl ether group. In addition, q represents an integer of 1 to 50, but in reality, the value of q generally has a distribution and is difficult to specify, but a larger average number is preferable, and 3 or more, and further 5 or more. Is preferred.

【００２７】このようなエポキシ樹脂を架橋させる硬化
剤としては、公知のものが適用される。例えば、アミン
系ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾー
ル、メルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤が用いら
れる。これらの中でも、酸無水物および脂環族アミン類
が好ましく用いられ、さらに好ましくは酸無水物であ
る。酸無水物としては、メチルヘキサヒドロ無水フタル
酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などの脂環族酸無
水物、無水フタル酸等の芳香族酸無水物、ドデセニル無
水フタル酸等の脂肪族酸無水物が挙げられるが、特にメ
チルヘキサヒドロ無水フタル酸が好ましい。尚、脂環族
アミンとしては、ビス（４−アミノ−３−メチルジシク
ロヘキシル）メタン、ジアミノシクロヘキシルメタン、
イソホロンジアミン等が挙げられ、特にビス（４−アミ
ノ−３−メチルジシクロヘキシル）メタンが好ましい。As a curing agent for crosslinking such an epoxy resin, known ones are applied. For example, a curing agent such as amine-based polyaminoamide-based, acid and acid anhydride, imidazole, mercaptan, and phenol resin is used. Among these, acid anhydrides and alicyclic amines are preferably used, and acid anhydrides are more preferable. Examples of the acid anhydride include alicyclic acid anhydrides such as methylhexahydrophthalic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride, aromatic acid anhydrides such as phthalic anhydride, and aliphatic acid anhydrides such as dodecenylphthalic anhydride. Among them, methylhexahydrophthalic anhydride is particularly preferable. As the alicyclic amine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, diaminocyclohexylmethane,
Examples thereof include isophoronediamine, and bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane is particularly preferable.

【００２８】ここで、硬化剤として酸無水物を用いた場
合、エポキシと酸無水物との硬化反応を促進する反応促
進剤を添加しても良い。反応促進剤としては、ベンジメ
チルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチ
ル）フェノール、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ
（５，４，０）ウンデセン−１等の公知の第二、第三ア
ミン類やイミダゾール類等の硬化触媒が挙げられる。When an acid anhydride is used as the curing agent, a reaction accelerator that accelerates the curing reaction between the epoxy and the acid anhydride may be added. As the reaction accelerator, known second and third compounds such as benzylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, pyridine and 1,8-diazabicyclo (5,4,0) undecene-1 are used. Examples include curing catalysts such as amines and imidazoles.

【００２９】また、ケイ素アルコキシドの熱架橋層とし
ては、２〜４官能性、さらに好ましくは３〜４官能性の
のケイ素アルコキシドを二種以上混合して用いることが
好ましく、これらをあらかじめ溶液中で適度に加水分解
ならびに脱水縮合を行なって適度にオリゴマー化させた
ものも好ましく用いられる。Further, as the thermally crosslinked layer of silicon alkoxide, it is preferable to use a mixture of two or more types of silicon alkoxide having 2 to 4 functionalities, more preferably 3 to 4 functionalities, and these are previously used in a solution. Those which are appropriately hydrolyzed and dehydrated and condensed to be appropriately oligomerized are also preferably used.

【００３０】使用可能なケイ素アルコキシドの例として
は、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、ジメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、β−（３、４エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリエトキシシラン等が例示される。Examples of usable silicon alkoxides are, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3 4, epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-
Examples include aminopropylmethyldimethoxysilane and γ-aminopropyltriethoxysilane.

【００３１】これらのケイ素アルコキシドによる層は、
熱的に架橋が進行するが、必要に応じて紫外線等の活性
光線を塗膜に照射する事によって、架橋度をより高める
ことができる。These silicon alkoxide layers are:
Although the crosslinking proceeds thermally, the degree of crosslinking can be further increased by irradiating the coating film with actinic rays such as ultraviolet rays as necessary.

【００３２】また、これら樹脂架橋層のコーティングに
あたっては、前記の樹脂架橋物の前駆体組成物ならびに
フィラー等を各種有機溶剤に溶解して、濃度や粘度を調
節した塗液を用いて、被体上に塗工後、放射線の照射や
加熱処理等により層を架橋させる。塗工方式としては、
マイクログラビヤコート法、ダイコート法、リバースロ
ールコート法、カーテンコート法、スピンコート法等の
各種塗工方法が用いられる。In coating these resin cross-linked layers, the precursor composition of the resin cross-linked product, the filler and the like are dissolved in various organic solvents, and a coating liquid whose concentration and viscosity are adjusted is used to coat the object. After coating on the layer, the layer is cross-linked by irradiation with radiation or heat treatment. As a coating method,
Various coating methods such as a microgravure coating method, a die coating method, a reverse roll coating method, a curtain coating method and a spin coating method are used.

【００３３】本発明で用いる有機高分子成型物からなる
基板は、前述のように、表面粗さが中心面平均粗さで
０．００３μｍ以下のものが用いられる。成型物の厚み
に関しては、本発明の透明導電性積層体を透明タブレッ
トの上部電極基板として用いる場合には、５０〜４００
μｍの範囲にあることが、また、下部電極基板として用
いる場合には５０〜１０００μｍの範囲にあることが、
透明タブレットの動作特性、軽薄性、軽量性の観点から
好ましく、また、さらに、成型物のリタデーションにつ
いては２０ｎｍ以下であることが光学等方性の観点から
好ましい。ここでリタデーションは複屈折の屈折率の差
△ｎと膜厚ｄとの積△ｎｄであり、ここでは日本分光株
式会社製の多波長複屈折率測定装置（商品名「Ｍ−１５
０」）を用いた波長５９０ｎｍでの測定値に代表させて
いる。The substrate made of the organic polymer molding used in the present invention has a surface roughness of 0.003 μm or less in terms of center plane average roughness as described above. Regarding the thickness of the molded product, when the transparent conductive laminate of the present invention is used as the upper electrode substrate of a transparent tablet, it is 50 to 400.
In the range of 50 μm to 50 μm when used as a lower electrode substrate,
It is preferable from the viewpoint of operating characteristics, lightness and thinness and lightness of the transparent tablet, and the retardation of the molded product is preferably 20 nm or less from the viewpoint of optical isotropy. Here, the retardation is the product Δnd of the difference Δn in the refractive index of birefringence and the film thickness d, and here, a multi-wavelength birefringence measuring device manufactured by JASCO Corporation (trade name “M-15
0 ”) is used as a representative value measured at a wavelength of 590 nm.

【００３４】これら光学等方性の有機高分子成型物とし
ては、例えば、ポリカーボネートやポリアリレート、ポ
リエーテルスルフォン、トリアセチルセルロース等の成
型物が例示されるが、成形性や製造コスト、熱的安定性
等の観点から、ポリカーボネート、ポリアリレートがよ
り好ましく挙げられる。成形体の成形方法としては公知
の溶融押し出し法や溶液流延法、射出成型法等の方法が
例示されるが、優れた光学等方性を得る観点からは、特
に溶液流延法を用いて成形を行なうことが好ましい。Examples of these optically isotropic organic polymer moldings include moldings such as polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, triacetyl cellulose and the like. Moldability, manufacturing cost and thermal stability From the viewpoint of properties, polycarbonate and polyarylate are more preferable. Examples of the molding method of the molded body include known melt extrusion method, solution casting method, injection molding method and the like. From the viewpoint of obtaining excellent optical isotropy, the solution casting method is particularly used. It is preferable to carry out molding.

【００３５】また、本発明において用いる透明導電層と
しては、公知のもの、例えば錫酸化物（ＳｎＯ₂）およ
び／またはインジウム酸化物（Ｉｎ₂Ｏ₃）からなる層、
特に両者の化合物であるＩＴＯが好ましく用いられる。
また、タブレットの消費電力を低減する必要がある場合
には、比抵抗の比較的大きな透明導電層を用いることが
好ましく、ＩＴＯに、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｚ
ｒＯ₂、ＭｇＯ、ＺｎＯから選ばれる金属酸化物が微量
添加された透明導電層が好ましく用いられる。The transparent conductive layer used in the present invention is a known layer, for example, a layer made of tin oxide (SnO ₂ ) and / or indium oxide (In ₂ O ₃ ),
In particular, ITO, which is a compound of both, is preferably used.
Further, when it is necessary to reduce the power consumption of the tablet, it is preferable to use a transparent conductive layer having a relatively large specific resistance, and ITO, SiO ₂ , TiO ₂ , Al ₂ O ₃ , Z is used.
A transparent conductive layer to which a trace amount of a metal oxide selected from rO ₂ , MgO and ZnO is added is preferably used.

【００３６】こうした透明導電層の膜厚は、１０〜５０
ｎｍの範囲にあることが、抵抗値や抵抗値の経時安定
性、および透明性の観点から好ましい。あるいはまたこ
れら透明導電層は、スパッタリング法、イオンプレーテ
ィング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等の公知の気相堆積法
を用いて積層することができる。中でも幅方向、長さ方
向での膜厚均一性、組成均一性の面からはスパッタリン
グ法が好ましい。The thickness of the transparent conductive layer is 10 to 50.
The range of nm is preferable from the viewpoint of resistance value, stability of resistance value over time, and transparency. Alternatively, these transparent conductive layers can be laminated using a known vapor deposition method such as a sputtering method, an ion plating method, a vacuum vapor deposition method, a CVD method. Among them, the sputtering method is preferable from the viewpoint of film thickness uniformity and composition uniformity in the width direction and the length direction.

【００３７】さて、本発明においては、透明導電層の下
地として光学干渉層が積層することにより、導電面の反
射を低減し、積層体の光透過率を高めることが可能であ
る。ここで光学干渉層とは、隣接する層との屈折率が異
なる薄膜を一層もしくは二層以上積層して構成された層
であり、各界面からの反射光が相互干渉した結果、透明
導電層表面の反射率、特に波長４５０〜６００ｎｍに於
ける反射率が効果的に低減されるように、各層の膜厚や
屈折率が設定されてなる層と定義する。In the present invention, by laminating the optical interference layer as a base of the transparent conductive layer, it is possible to reduce reflection on the conductive surface and increase the light transmittance of the laminate. Here, the optical interference layer is a layer formed by laminating one or two or more thin films having different refractive indexes from adjacent layers, and as a result of mutual interference of reflected light from each interface, the transparent conductive layer surface Is defined as a layer in which the film thickness and the refractive index of each layer are set so that the reflectance, particularly, the reflectance at a wavelength of 450 to 600 nm is effectively reduced.

【００３８】こうした光学干渉層としては、屈折率が
１．５以下の低屈折率の層を単層で設けたものや、基板
側から、屈折率が１．６以上の高屈折率の層と、屈折率
が１．５以下の低屈折率の層を積層したもの等が好まし
く用いられるが、必要に応じて三層以上の積層構成のも
のも用いる事も可能である。As such an optical interference layer, there are provided a single layer of a low refractive index layer having a refractive index of 1.5 or less, or a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 or more from the substrate side. A layer having a low refractive index of 1.5 or less is preferably used, but a layer having three or more layers can be used if necessary.

【００３９】これらの層は、スパッタリング法、蒸着
法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の各種の真空
製膜プロセスや、ロールコーティング、カーテンコー
ト、スピンコート等の湿式コーティング法、およびそれ
らの併用により作成が可能である。These layers are formed by various vacuum film forming processes such as sputtering, vapor deposition, ion plating and CVD, wet coating such as roll coating, curtain coating and spin coating, and combinations thereof. Can be created.

【００４０】具体的には、真空製膜プロセスを用いて作
成された各種無機誘電体層、例えばＭｇＦ ₂ 、ＳｉＯ₂、
ＣａＦ₂、ＮａＦ、Ｎａ₃ＡｌＦ₆、ＬｉＦ、Ａｌ₂Ｏ₃、
ＣｅＦ₃、ＬａＦ₃、ＮｄＦ₃、ＴｉＯ₂、ＭｇＯ、ＰｂＦ
₃、ＴｈＯ₂、ＺｒＯ₂、ＺｎＳ、ＳｎＯ₂、Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｓ
ｂ₂Ｏ₃、ＣｅＯ₂、Ｎｄ₂Ｏ₃、Ｌｎ₂Ｏ₃等およびそれら
の混合物からなる層が例示され、また、さらに、湿式コ
ーティング法を用いて作成された樹脂架橋層、例えば、
ケイ素、チタニウム、ジルコニウム、錫、タンタル、イ
ンジウム等の金属アルコキシドの単体あるいはそれらの
混合物を、加水分解ならびに脱水縮合してなる樹脂架橋
層や、数十ｎｍ以下の粒径の各種金属酸化物の微粒子が
分散された樹脂架橋層等が例示される。Specifically, various inorganic dielectric layers formed by using a vacuum film forming process, for example, MgF ₂ , SiO ₂ ,
CaF ₂ , NaF, Na ₃ AlF ₆ , LiF, Al ₂ O ₃ ,
CeF ₃ , LaF ₃ , NdF ₃ , TiO ₂ , MgO, PbF
₃ , ThO ₂ , ZrO ₂ , ZnS, SnO ₂ , In ₂ O ₃ , S
Examples of the layer include b ₂ O ₃ , CeO ₂ , Nd ₂ O ₃ , Ln ₂ O _{3 and the} like and mixtures thereof, and further, a resin cross-linked layer formed by using a wet coating method, for example,
A resin cross-linked layer formed by hydrolyzing and dehydrating and condensing a simple substance or a mixture of metal alkoxides such as silicon, titanium, zirconium, tin, tantalum, and indium, and fine particles of various metal oxides having a particle diameter of several tens nm or less. Examples include a resin cross-linked layer in which is dispersed.

【００４１】これらの内、製造コストの観点からは、前
記の湿式コーティング法による樹脂架橋層による光学干
渉層を用いることが好ましく、さらに、湿式コーティン
グによる樹脂架橋層の中でも、層の機械的強度や密着
性、安定性の観点から、チタニウム、ジルコニウムなら
びにケイ素のアルコキシドの架橋層を用いることが最も
好ましい。ここで、チタニウムとジルコニウムのアルコ
キシドの架橋層は、光学干渉層において主に高屈折率の
層として機能するものであり、ケイ素アルコキシドの架
橋層は、光学干渉層において主に低屈折率の層として機
能するものである。Among these, from the viewpoint of manufacturing cost, it is preferable to use the optical interference layer formed by the resin cross-linking layer by the above-mentioned wet coating method, and further, in the resin cross-linking layer by the wet coating, the mechanical strength of the layer and the From the viewpoint of adhesion and stability, it is most preferable to use a crosslinked layer of titanium, zirconium and silicon alkoxide. Here, the crosslinked layer of titanium and zirconium alkoxide functions mainly as a high refractive index layer in the optical interference layer, and the silicon alkoxide crosslinked layer mainly functions as a low refractive index layer of the optical interference layer. It works.

【００４２】チタニウムアルコキシドとしては、例えば
チタニウムテトライソプロポキシド、テトラーｎープロ
ピルオルトチタネート、チタニウムテトラーｎーブトキ
シド、テトラキス（２ーエチルヘキシルオキシ）チタネ
ート等が例示され、また、ジルコニウムアルコキシドと
しては、例えばジルコニウムテトライソプロポキシド、
ジルコニウムテトラーｎーブトキシド等が例示される。Examples of titanium alkoxides include titanium tetraisopropoxide, tetra-n-propyl orthotitanate, titanium tetra-n-butoxide and tetrakis (2-ethylhexyloxy) titanate, and examples of zirconium alkoxides include zirconium. Tetraisopropoxide,
Examples include zirconium tetra-n-butoxide and the like.

【００４３】ケイ素アルコキシドとしては、例えば、テ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルト
リメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチ
ルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）
エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
エトキシシラン等が例示される。Examples of silicon alkoxides include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4 epoxycyclohexyl). )
Examples include ethyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, and γ-aminopropyltriethoxysilane. To be done.

【００４４】これらのケイ素アルコキシドは、層の機械
的強度や密着性および耐溶剤性等の観点から二種類以上
を混合して用いることが好ましく、特に、耐溶剤性の観
点から、ケイ素アルコキシドの全組成中に重量比率０．
５〜４０％の範囲で、分子内にアミノ基を有するケイ素
アルコキシドが含有されていることが好ましい。These silicon alkoxides are preferably used as a mixture of two or more kinds from the viewpoints of mechanical strength of the layer, adhesion and solvent resistance, and particularly, from the viewpoint of solvent resistance, all of the silicon alkoxides are preferably used. The weight ratio in the composition is 0.
It is preferable that a silicon alkoxide having an amino group in the molecule is contained in the range of 5 to 40%.

【００４５】これらの金属アルコキシドは、モノマーで
用いても、あらかじめ加水分解と脱水縮合を行なって適
度にオリゴマー化して用いても良いが、通常、適当な有
機溶媒に溶解、希釈した塗液を基板上に塗工する。基板
上に形成された塗膜は、空気中の水分等により加水分解
が進行し、続いて、脱水縮合により架橋が進行する。These metal alkoxides may be used as a monomer, or may be used by appropriately hydrolyzing and dehydrating and condensing to be appropriately oligomerized, but usually, a coating solution obtained by dissolving and diluting in a suitable organic solvent is used as a substrate. Apply on top. The coating film formed on the substrate is hydrolyzed by moisture in the air or the like, and then crosslinked by dehydration condensation.

【００４６】一般に、架橋の促進には適当な加熱処理が
必要であり、湿式コーティングのプロセスにおいて１０
０℃以上の温度で数分以上の熱処理を施すことが好まし
い。また、場合によっては、前記の熱処理と並行して、
紫外線等の活性光線を塗膜に照射する事により、架橋性
をより高めることができる。In general, a suitable heat treatment is required to accelerate the crosslinking, and it is necessary to use a suitable heat treatment in the wet coating process.
It is preferable to perform heat treatment at a temperature of 0 ° C. or higher for several minutes or longer. In some cases, in parallel with the heat treatment,
By irradiating the coating film with actinic rays such as ultraviolet rays, the crosslinkability can be further enhanced.

【００４７】希釈溶剤としては、アルコール系、炭化水
素系の溶剤、例えば、エタノール、イソプロピルアルコ
ール、ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、
ヘキサン、シクロヘキサン、リグロイン等が好適である
が、この他にも、キシレン、トルエン、シクロヘキサノ
ン、メチルイソブチルケトン、酢酸イソブチル等の極性
溶媒も使用可能である。これらのものは単独あるいは二
種以上の混合溶剤として用いることができる。As the diluting solvent, alcohol-based or hydrocarbon-based solvents such as ethanol, isopropyl alcohol, butanol, 1-methoxy-2-propanol,
Hexane, cyclohexane, ligroin and the like are preferable, but polar solvents such as xylene, toluene, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, and isobutyl acetate can also be used. These can be used alone or as a mixed solvent of two or more kinds.

【００４８】このように透明導電層に接して基板側に光
学干渉層を積層した場合、光学干渉層を積層しなかった
場合に比べて、透明導電性積層体の光透過率が数％以上
向上する。そして、この透明導電性積層体を透明タブレ
ットの上下の電極基板として用いた場合には、タブレッ
トの光透過率の向上すると共に、タブレットの光干渉縞
（ニュートンリング）の発生が低減されることがわかっ
た。これは、上下の電極表面の光反射率が低下した事に
よる、光干渉強度の低減効果と、本発明の粗面化層の微
細な凹凸による反射光の散乱効果との相乗によるものと
推定される。ここで、粗面化による反射光の散乱効果の
みを利用した従来の方法に比べ、本発明における電極表
面の粗面化の程度は非常に小さいため、粗面化に伴うヘ
イズの増加が抑えられ、視認性の高い透明タブレットを
得ることができる。When the optical interference layer is laminated on the substrate side in contact with the transparent conductive layer as described above, the light transmittance of the transparent conductive laminate is improved by several% or more as compared with the case where the optical interference layer is not laminated. To do. When this transparent conductive laminate is used as the upper and lower electrode substrates of a transparent tablet, the light transmittance of the tablet is improved and the optical interference fringes (Newton rings) of the tablet are reduced. all right. It is presumed that this is due to a synergistic effect of reducing the light interference intensity due to the decrease of the light reflectance of the upper and lower electrode surfaces and the scattering effect of the reflected light due to the fine irregularities of the roughening layer of the present invention. It Here, as compared with the conventional method using only the scattering effect of the reflected light due to the roughening, the degree of roughening of the electrode surface in the present invention is very small, so the increase in haze due to the roughening is suppressed. It is possible to obtain a highly visible transparent tablet.

【００４９】ところで本発明においては、有機高分子成
型物上に適当な粗面化層を設けた後に、粗面化層と透明
導電層の間に光学干渉層を積層した構成が一般的に用い
られるが、光学干渉層として前述の金属アルコキシドの
架橋層等を初めとした各種樹脂架橋層を用いる場合にお
いては、光学干渉層が粗面化層を兼ねる事も可能であ
る。すなわち、光学干渉層の少なくとも一層として、前
述の樹脂架橋層中に重量比率０．０５〜０．５％の割合
で平均一次粒径が層膜厚の１．１〜３倍の範囲にある微
粒子を分散した粗面化層を用いた場合には、より簡略な
層構成で本発明の目的を達することができる。By the way, in the present invention, a structure in which a suitable surface-roughening layer is provided on an organic polymer molding and then an optical interference layer is laminated between the surface-roughening layer and the transparent conductive layer is generally used. However, when various resin cross-linking layers such as the above-mentioned metal alkoxide cross-linking layer are used as the optical interference layer, the optical interference layer can also serve as the roughening layer. That is, as at least one layer of the optical interference layer, fine particles having an average primary particle diameter in the range of 0.05 to 0.5% by weight in the above-mentioned resin cross-linked layer in a range of 1.1 to 3 times the layer thickness. When a roughened layer in which is dispersed is used, the object of the present invention can be achieved with a simpler layer structure.

【００５０】そして以下に示す実施例と比較例において
は、各種特性の評価は次の要領にて行った。In the following examples and comparative examples, evaluation of various characteristics was carried out as follows.

【００５１】耐有機溶剤性：タブレット作成時に透明導
電層上に印刷が行われる銀ペーストの溶剤として代表さ
れるトルエン（和光純薬工業社製、特級）をサンプル面
に数滴滴下し、２５℃で３分間放置後の表面の白濁、膨
潤、溶解等の外観変化を目視にて観察し、変化が確認さ
れない場合に耐有機溶剤性を有すると判定した。Organic solvent resistance: A few drops of toluene (special grade, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) typified by a solvent of a silver paste printed on a transparent conductive layer at the time of making tablets were dropped at 25 ° C. The appearance change such as cloudiness, swelling, and dissolution of the surface after being left for 3 minutes was visually observed, and when no change was confirmed, it was determined to have organic solvent resistance.

【００５２】耐アルカリ性水溶液性：透明導電層のパタ
ーニング時のレジスト溶解に用いる３．５ｗｔ％の水酸
化ナトリウム水溶液をサンプル面に数滴滴下し、２５℃
で３分間放置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化
を目視にて観察し、変化が確認されない場合に耐アルカ
リ性水溶液性を有すると判定した。Alkali resistance aqueous solution resistance: A few drops of 3.5 wt% sodium hydroxide aqueous solution used for resist dissolution at the time of patterning the transparent conductive layer were dropped on the sample surface, and the temperature was 25 ° C.
After visually observing changes in appearance such as cloudiness, swelling, and dissolution of the surface after being left for 3 minutes, it was determined that the solution had an alkaline aqueous solution resistance when no change was confirmed.

【００５３】耐酸性水溶液性：透明導電層のパターニン
グに用いるエッチング液（３５ｗｔ％塩化第２鉄水溶
液、３５ｗｔ％塩酸、水を１：１：１０の割合で混合し
たもの）をサンプル面に数滴滴下し、２５℃で３分間放
置後の表面の白濁、膨潤、溶解等の外観変化を目視にて
観察し、変化が確認されない場合に耐酸性水溶液性を有
すると判定した。Acidic aqueous solution resistance: A few drops of an etching solution (35 wt% ferric chloride aqueous solution, 35 wt% hydrochloric acid, mixed with water at a ratio of 1: 1: 10) used for patterning the transparent conductive layer. After being dropped and left standing at 25 ° C. for 3 minutes, the appearance of the surface such as cloudiness, swelling, and dissolution was visually observed, and when no change was confirmed, it was determined to have acid solution resistance.

【００５４】光線透過率およびヘイズ値：日本電色工業
社製の測定器（商品名「ＣＯＨ−３００Ａ」）を用いて
測定を行った。Light transmittance and haze value: Measurement was carried out using a measuring instrument (trade name "COH-300A") manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

【００５５】中心面平均粗さ（ＳＲａ）：小坂研究所社
製の三次元表面粗さ測定器（商品名「サーフコーダＳＥ
−３０ＫＳ」）を用いて、測定幅２００μｍ、測定長１
ｍｍの条件にて測定を行った。Center surface average roughness (SRa): Three-dimensional surface roughness measuring instrument (trade name "Surfcoder SE" manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.
-30KS "), measuring width 200 μm, measuring length 1
The measurement was performed under the condition of mm.

【００５６】[0056]

【実施例１】ビスフェノール成分がビスフェノールＡの
みからなる平均分子量３７，０００のポリカーボネート
樹脂を用いて、溶液流延法により厚み９８μｍ、中心面
平均粗さ（ＳＲａ）が０．００１２μｍ、リタデーショ
ン７±２ｎｍのポリカーボネートフィルムを得た。Example 1 Using a polycarbonate resin having an average molecular weight of 37,000 whose bisphenol component is only bisphenol A, a thickness of 98 μm, a center surface average roughness (SRa) of 0.0012 μm, and a retardation of 7 ± 2 nm were obtained by a solution casting method. A polycarbonate film of was obtained.

【００５７】粗面化層を形成するための塗液として、ト
リメチロールプロパンエチレンオキサイド変性アクリレ
ート（東亜合成化学社製の商品名「アロニックスＭ−３
５０」）１００重量部、光開始剤１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製の商品名
「イルガキュアー１８４」）７重量部、平均粒子径４．
５μｍのシリコン樹脂微粒子（東芝シリコーン社製の商
品名「トスパール１４５」）０．１重量部、１−メトキ
シ−２−プロパノール２００重量部を混合した液を用い
た。As a coating liquid for forming the roughened layer, trimethylolpropane ethylene oxide modified acrylate (trade name "Aronix M-3 manufactured by Toagosei Co., Ltd."
50 ") 100 parts by weight, photoinitiator 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name" Irgacure 184 "manufactured by Ciba-Geigy) 7 parts by weight, average particle diameter 4."
A liquid obtained by mixing 0.1 part by weight of 5 μm silicon resin fine particles (trade name “TOSPEARL 145” manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) and 200 parts by weight of 1-methoxy-2-propanol was used.

【００５８】この塗液を前述のポリカーボネートフィル
ム上にロールコーティング後、６０℃で１分乾燥した後
に１２０Ｗ／ｃｍ²の高圧水銀灯を用いて積算光量約８
００ｍＪ／ｃｍ²の条件で硬化を行い、膜厚が約３．５
μｍの粗面化層を形成し、続いてフィルムの反対面にも
同様の粗面化層を形成した。This coating solution was roll-coated on the above-mentioned polycarbonate film, dried at 60 ° C. for 1 minute, and then integrated with a high pressure mercury lamp of 120 W / cm ² to obtain an integrated light amount of about 8
Cured under the condition of 00 mJ / cm ² and the film thickness is about 3.5.
A surface roughening layer having a thickness of μm was formed, and then a similar surface roughening layer was formed on the opposite surface of the film.

【００５９】この粗面化層が形成された面に対し、前記
の各種耐溶剤性試験を行った所、外観の変化は観られ
ず、耐溶剤性に優れていた。The surface on which the roughened layer was formed was subjected to the above-mentioned various solvent resistance tests. As a result, no change in appearance was observed and the solvent resistance was excellent.

【００６０】次に、片面の粗面化層上にインジウム−錫
酸化物層をスパッタリング法により形成して透明導電性
フィルムを作製した。スパッタリングターゲットにはイ
ンジウムと錫が重量比９：１の組成で充填密度が９０％
のインジウム−錫ターゲットを用いた。スパッタ装置内
にフィルムをセットした後、１．３ｍＰａの圧力まで排
気を行い、ついでＡｒとＯ₂の体積比９８．５：１．５
の混合ガスを導入し、雰囲気圧力を０．２７Ｐａにし
た。そしてフィルム温度を５０℃、投入電力密度が１Ｗ
／ｃｍ²の条件でＤＣスパッタリングを行い、透明導電
層を積層した。この透明導電層の膜厚は約１９ｎｍ、表
面抵抗は約２８０Ω／□であった。Next, an indium-tin oxide layer was formed on one surface of the roughened layer by a sputtering method to prepare a transparent conductive film. The sputtering target has a composition of indium and tin in a weight ratio of 9: 1 and a packing density of 90%.
Indium-tin target of After setting the film in the sputtering apparatus, the film was evacuated to a pressure of 1.3 mPa, and then the volume ratio of Ar and O ₂ was 98.5: 1.5.
The mixed gas of was introduced and the atmospheric pressure was adjusted to 0.27 Pa. And the film temperature is 50 ℃, input power density is 1W
DC sputtering was performed under the condition of / cm ² to laminate a transparent conductive layer. The film thickness of this transparent conductive layer was about 19 nm, and the surface resistance was about 280 Ω / □.

【００６１】そしてこのようにして作成した透明導電性
フィルムの導電層表面の中心面平均粗さ（ＳＲａ）は
０．００４５μｍ、非導電面側では０．００４３μｍ、
ヘイズは０．８％、光線透過率は８７．４％であった。
また、導電層が積層された面と反対側のフィルム面（以
下非導電面と記す）を、表面が平坦なガラス板等の上に
置いた場合でも、ガラス表面に密着して離れなくなるよ
うな事もなく、滑り性に優れていた。The center surface average roughness (SRa) of the conductive layer surface of the transparent conductive film thus prepared is 0.0045 μm and 0.0043 μm on the non-conductive surface side.
The haze was 0.8% and the light transmittance was 87.4%.
In addition, even if the film surface opposite to the surface on which the conductive layer is laminated (hereinafter referred to as the non-conductive surface) is placed on a glass plate having a flat surface, the film surface is stuck to the glass surface and does not separate. It was excellent in slipperiness.

【００６２】さらに、このようにして作製した透明導電
性フィルムを上部と下部の電極基板として用い、公知の
方法によりアナログ式の透明タブレットを作製した。こ
のタブレットに対し、プラスチック製の入力ペンを用い
て入力試験を行った所、上下の電極面同士が密着して離
れなくなるような動作不良は全く観られなかった。Further, using the transparent conductive film thus prepared as the upper and lower electrode substrates, analog type transparent tablets were prepared by a known method. When an input test was conducted on this tablet using a plastic input pen, no malfunction was observed at all such that the upper and lower electrode surfaces were in close contact with each other and could not be separated.

【００６３】[0063]

【実施例２】実施例１においてフィルムの両面に積層し
た粗面化層の片面上に、テトラブトキシチタネート（日
本曹達社製の商品名「Ｂ−４」）をリグロイン（和光純
薬工業社製の等級が一級品）とブタノール（和光純薬工
業社製の等級が特級品）の混合溶媒で希釈した塗液を用
いてロールコーティングし、１３０℃で２分間熱処理し
て、膜厚約７０ｎｍ、屈折率約１．８２の層を形成し
た。Example 2 Tetrabutoxytitanate (trade name "B-4" manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) was added to one surface of the roughened layer laminated on both surfaces of the film in Example 1 to produce ligroin (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). Is a first grade product) and butanol (a special grade product manufactured by Wako Pure Chemical Industries) is used for roll coating using a coating solution diluted and then heat treated at 130 ° C. for 2 minutes to obtain a film thickness of about 70 nm, A layer having a refractive index of about 1.82 was formed.

【００６４】さらに、該層上に下記組成からなる塗液を
用いてロールコーティングし、１３０℃で２分間熱処理
して、膜厚約４５ｎｍ、屈折率約１．４５の層を形成し
た。すなわち、、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン（信越化学社製の商品名「ＫＢＭ４０３」）と
メチルトリメトキシシラン（信越化学社製の商品名「Ｋ
ＢＭ１３」）を１：１のモル比で混合し、酢酸水溶液
（ＰＨ３．０）により公知の方法で前記シランの加水分
解を行った。こうして得たシランの加水分解物に対し、
固形分の重量比率２０：１の割合でＮ−β（アミノエチ
ル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学
社製の商品名「ＫＢＭ６０３」）を添加し、さらにイソ
プロピルアルコール（和光純薬工業社製の等級が特級
品）とｎ−ブタノール（和光純薬工業社製の等級が特級
品）の混合溶媒で希釈を行い、該層形成用の塗液とし
た。Further, the layer was roll-coated with a coating solution having the following composition and heat-treated at 130 ° C. for 2 minutes to form a layer having a film thickness of about 45 nm and a refractive index of about 1.45. That is, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and methyltrimethoxysilane (trade name “K” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
BM13 ″) was mixed at a molar ratio of 1: 1 and the silane was hydrolyzed with an acetic acid aqueous solution (PH3.0) by a known method. For the hydrolyzate of silane thus obtained,
N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (trade name “KBM603” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added at a weight ratio of solids of 20: 1, and isopropyl alcohol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was further added. The coating solution for forming the layer was prepared by diluting with a mixed solvent of a product grade of special grade) and n-butanol (a grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. of special grade).

【００６５】前記二層を積層した面に対し、耐溶剤性試
験を行った所、外観の変化は観られず、耐溶剤性に優れ
ていた。When a solvent resistance test was conducted on the surface on which the two layers were laminated, no change in appearance was observed and the solvent resistance was excellent.

【００６６】さらに、同面上に、実施例１と全く同様に
膜厚約１９ｎｍ、表面抵抗約２８０Ω／□のインジウム
−錫酸化物層を形成して透明導電性フィルムを作製し
た。このようにして作成した透明導電性フィルムの導電
層表面の中心面平均粗さ（ＳＲａ）は０．００４１ｎ
ｍ、ヘイズは０．８％、光線透過率は９２．４％であっ
た。Further, an indium-tin oxide layer having a film thickness of about 19 nm and a surface resistance of about 280 Ω / □ was formed on the same surface as in Example 1 to prepare a transparent conductive film. The center surface average roughness (SRa) of the conductive layer surface of the transparent conductive film thus prepared is 0.0041n.
m, haze was 0.8%, and light transmittance was 92.4%.

【００６７】次に、実施例１同様に、この透明導電性フ
ィルムを上部と下部の電極基板として用い、アナログ式
の透明タブレットを作製した。このタブレットは、入力
時に上下の電極面が密着して離れなくなるような動作不
良は観られず、さらに三波長蛍光灯下でこのタブレット
を観察した所、光干渉縞（ニュートンリング）はほとん
ど観察されなかった。Next, in the same manner as in Example 1, using this transparent conductive film as the upper and lower electrode substrates, analog type transparent tablets were produced. This tablet does not show any malfunctions such that the upper and lower electrode surfaces stick to each other and do not separate when input, and when the tablet is observed under a three-wavelength fluorescent lamp, optical interference fringes (Newton rings) are almost observed. There wasn't.

【００６８】[0068]

【実施例３】実施例１のポリカーボネートフィルム上に
テトラブトキシチタネート（日本曹達社製の商品名「Ｂ
−４」）１００重量部に対して、平均一次粒径１２０ｎ
ｍの酸化ケイ素微粒子を０．４５重量部混合し、さらに
これをリグロイン（和光純薬工業社製の等級が一級品）
とブタノール（和光純薬工業社製の等級が特級品）の混
合溶媒で希釈した塗液を用いてロールコーティングし、
１３０℃で５分間熱処理して、膜厚約６４ｎｍ、屈折率
約１．８７の層を形成した。Example 3 Tetrabutoxy titanate (trade name "B" manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. was formed on the polycarbonate film of Example 1).
-4 ") 100 parts by weight with an average primary particle size of 120 n
0.45 parts by weight of silicon oxide fine particles of m were mixed, and this was further added to ligroin (first-class grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
Roll coating using a coating solution diluted with a mixed solvent of butanol and butanol (a grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. is a special grade product),
Heat treatment was performed at 130 ° C. for 5 minutes to form a layer having a film thickness of about 64 nm and a refractive index of about 1.87.

【００６９】さらに、該層上に下記組成からなる塗液を
用いてロールコーティングし、１３０℃で７分間熱処理
して、膜厚約５０ｎｍ、屈折率約１．４５の層を形成し
た。すなわち、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン（信越化学社製の商品名「ＫＢＭ４０３」）とメ
チルトリメトキシシラン（信越化学社製の商品名「ＫＢ
Ｍ１３」）を１：１のモル比で混合し、酢酸水溶液（Ｐ
Ｈ約３．０）により公知の方法で前記シランの加水分解
を行った。こうして得たシランの加水分解物に対し、固
形分の重量比率２０：１の割合でＮ−β（アミノエチ
ル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学
社製の商品名「ＫＢＭ６０３」）を添加し、さらにイソ
プロピルアルコール（和光純薬工業社製の等級が特級
品）とｎ−ブタノール（和光純薬工業社製の等級が特級
品）の混合溶媒で希釈を行い、該層形成用の塗液とし
た。Further, a coating liquid having the following composition was used for roll coating on the layer and heat treatment was carried out at 130 ° C. for 7 minutes to form a layer having a film thickness of about 50 nm and a refractive index of about 1.45. That is, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (trade name “KBM403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and methyltrimethoxysilane (trade name “KB manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.”
M13 ") are mixed at a molar ratio of 1: 1 and an aqueous acetic acid solution (P
The silane was hydrolyzed by a known method with H about 3.0). To the silane hydrolyzate thus obtained, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane (trade name “KBM603” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added at a solid content weight ratio of 20: 1. And further diluted with a mixed solvent of isopropyl alcohol (a grade of Wako Pure Chemical Industries, Ltd. is a special grade) and n-butanol (a grade of Wako Pure Chemical Industries, Ltd. is a special grade) to form a coating liquid for forming the layer. And

【００７０】ここで、前記二層を積層した面に対し、耐
溶剤性試験を行った所、外観の変化は観られず、耐溶剤
性に優れていた。When a solvent resistance test was conducted on the surface on which the two layers were laminated, no change in appearance was observed and the solvent resistance was excellent.

【００７１】続いて、同面上に実施例１と全く同様に膜
厚約１９ｎｍ、表面抵抗約２８０Ω／□のインジウム−
錫酸化物層を形成して透明導電性フィルムを作製した。
このようにして作成した透明導電性フィルムの導電層表
面の中心面平均粗さ（ＳＲａ）は０．００６１ｎｍ、ヘ
イズは０．７％、光線透過率は９１．４％であった。Then, an indium film having a film thickness of about 19 nm and a surface resistance of about 280 Ω / □ was formed on the same surface as in Example 1.
A tin oxide layer was formed to produce a transparent conductive film.
The center surface average roughness (SRa) of the conductive layer surface of the transparent conductive film thus prepared was 0.0061 nm, the haze was 0.7%, and the light transmittance was 91.4%.

【００７２】次に、実施例１同様に、この透明導電性フ
ィルムを上部と下部の電極基板として用い、アナログ式
の透明タブレットを作製した。このタブレットは、入力
時に上下の電極面が密着して離れなくなるような動作不
良は観られず、さらに三波長蛍光灯下でこのタブレット
を観察した所、光干渉縞（ニュートンリング）はほとん
ど観察されなかった。Then, in the same manner as in Example 1, using this transparent conductive film as the upper and lower electrode substrates, analog type transparent tablets were produced. This tablet does not show any malfunctions such that the upper and lower electrode surfaces stick to each other and do not separate when input, and when the tablet is observed under a three-wavelength fluorescent lamp, optical interference fringes (Newton rings) are almost observed. There wasn't.

【００７３】[0073]

【比較例１】実施例１において粗面化層の形成のために
用いた塗液中に、シリコン樹脂微粒子を混合させなかっ
た以外は、実施例１と全く同様に透明導電性フィルムを
作成した。このようにして作成した透明導電性フィルム
の導電層表面の中心面平均粗さ（ＳＲａ）は０．００１
８μｍ、非導電面側は０．００２μｍ、ヘイズは０．３
％、光線透過率は８７．８％であった。この透明導電性
フィルムの非導電面を平坦なガラス板上に置いた所、フ
ィルムがガラス面に密着して離れなくなる現象が多発し
た。Comparative Example 1 A transparent conductive film was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that the silicone resin fine particles were not mixed in the coating liquid used for forming the roughened layer in Example 1. . The center plane average roughness (SRa) of the conductive layer surface of the transparent conductive film thus prepared is 0.001.
8 μm, 0.002 μm on non-conductive surface side, 0.3 haze
%, And the light transmittance was 87.8%. When the non-conductive surface of this transparent conductive film was placed on a flat glass plate, the film frequently adhered to the glass surface and could not be separated.

【００７４】また、この透明導電性フィルムを用いて、
実施例１と同様にアナログ式の透明タブレットを作製
し、入力試験を行った所、上下の電極基板が密着して離
れなくなるような動作不良が多発し、また、光干渉縞
（ニュートンリング）の発生がはっきりと観察された。Using this transparent conductive film,
An analog transparent tablet was prepared in the same manner as in Example 1, and an input test was performed. As a result, malfunctions frequently occurred such that the upper and lower electrode substrates adhered to each other and did not separate, and optical interference fringes (Newton rings) Occurrence was clearly observed.

【００７５】[0075]

【比較例２】粗面化層を形成するための塗液として、ト
リメチロールプロパンエチレンオキサイド変性アクリレ
ート（東亜合成化学社製の商品名「アロニックスＭ−３
５０」）１００重量部、光開始剤１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン（チバガイギー社製の商品名
「イルガキュアー１８４」）７重量部、平均一次粒径が
約１００ｎｍのシリカ０．５重量部、１−メトキシ−２
−プロパノール１３０重量部を混合した塗液を用いた他
は、実施例１と全く同様にして透明導電性フィルムを作
成した。[Comparative Example 2] As a coating liquid for forming a roughened layer, trimethylolpropane ethylene oxide-modified acrylate (trade name "Aronix M-3 manufactured by Toa Gosei Kagaku Co., Ltd."
50 ") 100 parts by weight, photoinitiator 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name" Irgacure 184 "manufactured by Ciba-Geigy) 7 parts by weight, 0.5 parts by weight of silica having an average primary particle size of about 100 nm, 1-" Methoxy-2
A transparent conductive film was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that a coating liquid prepared by mixing 130 parts by weight of propanol was used.

【００７６】このようにして作成した透明導電性フィル
ムの導電面ならびに非導電面の中心面平均粗さ（ＳＲ
ａ）は０．００２３μｍであり、ヘイズは０．５％、光
線透過率は８７．６％であった。この透明導電性フィル
ムの非導電面を平坦なガラス板等の上に置いた場合、ガ
ラス表面に密着して離れなくなる現象が多発した。The center plane average roughness (SR) of the conductive surface and the non-conductive surface of the transparent conductive film thus prepared is
a) was 0.0023 μm, haze was 0.5%, and light transmittance was 87.6%. When the non-conductive surface of this transparent conductive film was placed on a flat glass plate or the like, the phenomenon in which it adhered to the glass surface and did not separate easily occurred.

【００７７】また、この透明導電性フィルムを用いて、
実施例１と同様にアナログ式の透明タブレットを作製
し、入力試験を行った所、上下の電極基板が密着して離
れなくなる動作不良が多発した。Further, using this transparent conductive film,
When an analog transparent tablet was produced in the same manner as in Example 1 and an input test was performed, malfunctions frequently occurred in which the upper and lower electrode substrates adhered to each other and did not separate.

【００７８】[0078]

【００７９】[0079]

【００８０】[0080]

【００８１】[0081]

【発明の効果】本発明の透明導電性積層体は、導電面お
よび非導電面の滑り性に優れ、かつヘイズが低い特徴を
有し、導電面の表面反射を低減する事によって、非常に
高い光透過率を得ることができる。そして、この透明導
電性積層体を透明タブレットの上下の電極基板として用
いた場合には、動作不良や光干渉縞の発生が少なく、視
認性に優れた透明タブレットを得ることができる。EFFECT OF THE INVENTION The transparent conductive laminate of the present invention is excellent in slipperiness of the conductive surface and the non-conductive surface and has a low haze, and is extremely high by reducing the surface reflection of the conductive surface. The light transmittance can be obtained. When this transparent conductive laminate is used as the upper and lower electrode substrates of the transparent tablet, it is possible to obtain a transparent tablet which is less likely to cause malfunctions and light interference fringes and has excellent visibility.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−21691（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−314729（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−132554（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−338086（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−50561（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−169367（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 G06F 3/033 - 3/037 H01B 5/00 - 5/16 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP 63-21691 (JP, A) JP 9-314729 (JP, A) JP 8-132554 (JP, A) JP 5- 338086 (JP, A) JP 5-50561 (JP, A) JP 7-169367 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. ⁷ , DB name) B32B 1/00-35 / 00 G06F 3/033-3/037 H01B 5/00-5/16

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 有機高分子成型物からなる基板の一方の
面上に、透明導電層が積層されてなる透明導電性積層体
において、基板は表面粗さが中心面平均粗さ（ＳＲａ）
で０．００３μｍ未満であり、基板上の少なくとも透明
導電層が積層された側には粗面化層が積層され、透明導
電性積層体としては少なくとも透明導電層が積層された
側の表面の表面粗さが中心面平均粗さ（ＳＲａ）で０．
００３〜０．０４μｍであることを特徴とする透明導電
性積層体。1. A transparent conductive laminate in which a transparent conductive layer is laminated on one surface of a substrate made of an organic polymer molding, wherein the substrate has a surface roughness of center plane average roughness (SRa).
Is less than 0.003 μm, a surface roughening layer is laminated on at least the transparent conductive layer laminated side of the substrate, and a surface of the transparent conductive laminated body is at least the transparent conductive layer laminated side. The center plane average roughness (SRa) is 0.
003-0.04 micrometer, The transparent conductive laminated body characterized by the above-mentioned. 【請求項２】 粗面化層は基板の両側に形成され、透明
導電性積層体としては両側の表面の表面粗さが中心面平
均粗さ（ＳＲａ）で０．００３〜０．０４μｍであるこ
とを特徴とする請求項１記載の透明導電性積層体。2. The surface-roughened layer is formed on both sides of the substrate, and the surface roughness on both sides of the transparent conductive laminate is 0.003 to 0.04 μm in terms of center plane average roughness (SRa). The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein 【請求項３】 粗面化層内には、重量比率０．０５〜
０．５％の割合で、平均一次粒径が粗面化層の平均膜厚
の１．１倍〜３倍の範囲にある微粒子が分散されている
ことを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の透明
導電性積層体。3. The weight ratio in the roughened layer is from 0.05 to
Fine particles having an average primary particle diameter in the range of 1.1 to 3 times the average film thickness of the roughened layer are dispersed at a rate of 0.5%. The transparent electroconductive laminate according to any one of claims. 【請求項４】 透明導電層の基板側には、透明導電層に
接して光学干渉層が積層されていることを特徴とする請
求項１〜３のいずれかに記載の透明導電性積層体。4. The transparent conductive laminate according to claim 1, wherein an optical interference layer is laminated in contact with the transparent conductive layer on the substrate side of the transparent conductive layer. 【請求項５】 光学干渉層は樹脂架橋層を一層もしくは
二層以上積層したものであり、かつ樹脂架橋層はケイ素
アルコキシド、チタニウムアルコキシド、ジルコニウム
アルコキシドのいずれかあるいはこれらアルコキシドの
中から選ばれた混合物からなるものであることを特徴と
する請求項４記載の透明導電性積層体。5. The optical interference layer is formed by laminating one or more resin cross-linking layers, and the resin cross-linking layer is any one of silicon alkoxide, titanium alkoxide, zirconium alkoxide or a mixture selected from these alkoxides. The transparent conductive laminate according to claim 4, which is composed of 【請求項６】 光学干渉層内の少なくとも一層が、粗面
化層を兼ねて積層されていることを特徴とする請求項５
記載の透明導電性積層体。6. The optical interference layer, wherein at least one layer is laminated also as a roughening layer.
The transparent electroconductive laminate described. 【請求項７】 二枚の透明電極基板が電極面を相対して
配置される透明タブレットにおいて、少なくとも一方の
透明電極基板として請求項１〜６のいずれかに記載の透
明導電性積層体を用いたことを特徴とする透明タブレッ
ト。7. A transparent tablet in which two transparent electrode substrates are arranged with their electrode surfaces facing each other, wherein the transparent conductive laminate according to any one of claims 1 to 6 is used as at least one transparent electrode substrate. A transparent tablet characterized by having been used.