JP3380126B2 - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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Description
晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板を基板保持部材によ
って保持して鉛直軸回りに回転させて基板に適宜の処理
を施す基板処理装置に関する。
えば、図20、図21に示すようなものがある。図20
(a)は、従来例に係る基板処理装置の構成を示す縦断
面図であり、同図(b)は、その平面図、図21(a)
は、基板が保持された状態を示す要部平面図、同図
(b)は、基板の保持が解除された状態を示す要部平面
図である。
る。図示しないモーターに伝動連結され、基板の回転中
心軸J1回りに回転可能に立設された円筒状の回転軸1
01の上端部にスピンベース102が設けられ、スピン
ベース102が軸J1回りに回転可能に構成されてい
る。スピンベース102は、3本以上のアーム部103
が放射状に設けられて構成され、各アーム部103の先
端部に基板保持部材110が設けられている。
アーム部103に回動可能に設けられた円柱状の基板載
置部111と、基板載置部111の上面を段付きにして
切り欠き状に設けられた保持部112とが一体に形成さ
れている。
J2を回転中心軸として図の反時計回りに回転付勢され
ることで、図20(b)、図21(a)に示すように、
基板載置部111に外周端部の下面が載置された基板W
の外周端縁が保持部112に押圧付勢され基板Wが保持
される。一方、基板保持部材110が、後述するように
基板保持部材110の反時計回りへの回転付勢に抗し
て、軸J2を回転中心軸として時計回りに回転されるこ
とで、図21(b)に示すように、保持部112が基板
Wの外周端縁から離れて基板Wの保持が解除される。
その解除の操作はリンク機構120によって行われる。
このリンク機構120は、揺動部材121、リンク部材
122などで構成されている。揺動部材121は、基板
保持部材110の側方に延出され、基板載置部111の
回動軸J2を揺動支点として揺動可能に基板載置部11
1に設けられている。揺動部材121の先端部側には、
リンク部材122の先端部側が回動可能に連結され、リ
ンク部材122の基端部側は駆動軸130の上端部に回
動可能に連結されている。
軸J1回りに回転軸101と相対回転可能に貫通されて
いる。そして、図示しないコイルバネなどの付勢部材に
よって、駆動軸130は回転軸101に対して軸J1を
回転中心軸として図の時計回り(図20(b)の実線で
示す矢印方向)に回転付勢されるようになっている。こ
の駆動軸130の回転付勢により、リンク部材122を
介して揺動部材121の先端部側が軸J1から離れる方
向に揺動部材121が揺動付勢され、それに伴って基板
保持部材110が軸J2を回転中心軸として図の反時計
回りに回転付勢され、上述したように保持部112が基
板Wの外周端縁を押圧付勢して基板Wが保持される。
回りへの回転付勢に抗して、駆動軸130を回転軸10
1に対して軸J1を回転中心軸として図の反時計回り
(図20(b)の二点鎖線で示す矢印方向)に回転させ
る図示しない解除機構も設けられている。この解除機構
による駆動軸130の時計回りへの回転によって、リン
ク部材122を介して揺動部材121の先端部側が軸J
1側に引き戻される方向に揺動部材121が揺動され、
それに伴って基板保持部材110が軸J2を回転中心軸
として図の時計回りに回転され、上述したように保持部
112が基板Wの外周端縁から離れて基板Wの保持が解
除される。
板Wの上面(通常は表面)に供給するノズル140が配
置されている。
に回転させることで、保持した基板Wを軸J1回りに回
転させ、この基板Wの上面にノズル140からレジスト
液、洗浄液、現像液などの処理液が供給され、レジスト
塗布処理、洗浄処理、現像処理などの適宜の処理が基板
Wに施される。
軸J1回りに回転させると、回転軸101、基板Wとと
もに、スピンベース102、アーム部103、リンク機
構120、基板保持部材110も軸J1回りに回転され
る。このスピンベース102、アーム部103などの軸
J1回りの回転によって、装置の周囲の雰囲気が基板W
の下面(リンク機構120側の面)側から巻き込まれる
ことになる。装置の周囲には処理液のミストなどが浮遊
しているので、雰囲気の巻き込みによって、処理液のミ
ストが基板Wの下面に多量に付着して基板Wの下面を汚
染することなどが問題となっていた。
ンベース102を円板状に構成して、この円板状のスピ
ンベース102によって基板Wの下面と外部雰囲気とを
遮断し、保持された基板Wを軸J1回りに回転させる際
に、基板Wの下面側から外部雰囲気を巻き込むのを防止
するように構成されたものもある。
によれば、円板状のスピンベース102によって、保持
された基板Wの下面(リンク機構120側の面)側から
の外部雰囲気の巻き込みは防止され、基板Wの下面の汚
染はある程度軽減されているが、基板Wの下面の汚染は
依然起きているのが事情である。
たものであって、基板のリンク機構側の面の汚染を十分
に抑制し得る基板処理装置を提供することを目的とす
る。
合の発生原因を調査したところ、以下のような要因によ
ることを突き止めた。
に回転させる際、円板状のスピンベース102と基板W
の下面との間の空間150(図22(a)参照)におい
て、リンク機構120の揺動部材121、リンク部材1
22が軸J1回りに回転されるために、この空間150
内の気流が乱れ、円板状のスピンベース102と基板W
の外周端部との間の隙間151(図22(a)参照)か
ら、処理液のミストを含む外部雰囲気を空間150内に
巻き込むことによって基板Wのリンク機構120側の面
が汚染されるものと考えられる。
Wの下面との間の空間150にリンク機構120を配設
している関係で、円板状のスピンベース102と基板W
の下面との間の間隔d(図22(a)参照)を一定以上
に縮めることができず、そのため、円板状のスピンベー
ス102と基板Wの外周端部との間の隙間151の間隔
が広くなり、その隙間151から外部雰囲気が流れ込み
易くなっていたことも基板Wのリンク機構120側の面
の汚染原因の一つと考えられる。
ような発明をなした。すなわち、請求項1に記載の発明
は、基板の外周端部を3箇所以上で保持する3個以上の
基板保持部材と、前記基板保持部材に保持された基板の
表面側または裏面側に設けられ、前記基板保持部材によ
る基板の保持および解除を操作するリンク機構と、前記
基板保持部材によって保持された基板を鉛直軸回りに回
転させる基板回転手段と、前記基板保持部材によって保
持された基板のリンク機構側の面と前記リンク機構との
間の空間に、基板のリンク機構側の面に対向する対向面
を有する遮断部材と、前記リンク機構の周囲を覆うカバ
ー部材と、を備えたことを特徴とするものである。ま
た、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板処
理装置において、前記カバー部材は、基板に対向する対
向面が遮断部材であることを特徴とするものである。
を3箇所以上で保持する3個以上の基板保持部材と、前
記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面側
に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持および
解除を操作するリンク機構と、前記基板保持部材によっ
て保持された基板のリンク機構側の面と前記リンク機構
との間の空間に、基板のリンク機構側の面に対向する対
向面を有するとともに、前記リンク機構と前記基板保持
部材とを配設し、前記基板保持部材によって保持された
基板を鉛直軸周りに回転させる基板回転手段と、前記リ
ンク機構の周囲を覆うカバー部材と、を備えたことを特
徴とするものである。また、請求項4に記載の発明は、
請求項3に記載の基板処理装置において、前記カバー部
材は、基板に対向する対向面が基板回転手段のスピンベ
ースであることを特徴とするものである。
を3箇所以上で保持する3個以上の基板保持部材と、前
記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面側
に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持および
解除を操作するリンク機構と、前記基板保持部材によっ
て保持された基板を鉛直軸回りに回転させる基板回転手
段と、前記基板保持部材によって保持された基板のリン
ク機構側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板の
リンク機構側の面に対向する対向面を有する遮断部材
と、前記遮断部材の対向面に設けられ基板に洗浄液を供
給して洗浄処理を施す洗浄液噴射部と、を備えたことを
特徴とするものである。また、請求項6に記載の発明
は、基板の外周端部を3箇所以上で保持する3個以上の
基板保持部材と、前記基板保持部材に保持された基板の
表面側または裏面側に設けられ、前記基板保持部材によ
る基板の保持および解除を操作するリンク機構と、前記
基板保持部材によって保持された基板のリンク機構側の
面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク機構
側の面に対向する対向面を有するとともに、前記リンク
機構と前記基板保持部材とを配設し、前記基板保持部材
によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる基板
回転手段と、前記基板回転手段の対向面に設けられ基板
に洗浄液を供給して洗浄処理を施す洗浄液噴射部と、を
備えたことを特徴とするものである。
によって保持された基板のリンク機構側の面とリンク機
構との間の空間に、基板のリンク機構側の面に対向する
対向面を有する遮断部材を備えたので、基板のリンク機
構側の面側からの外部雰囲気の巻き込みは遮断部材によ
って遮断される。そして、リンク機構は、基板のリンク
機構側の面と遮断部材との間の空間に存在しないので、
この空間内の気流がリンク機構の回転によって乱される
ことがない。また、前記空間内にリンク機構を設けない
ので、遮断部材の対向面を基板のリンク機構側の面に近
づけることができ、遮断部材と基板の外周端部との間の
隙間の間隔を十分に狭くすることができる。そして、リ
ンク機構の周囲を覆うカバー部材を設けたので、リンク
機構の回転による気流の乱れは、カバー部材によってそ
の外部に影響を与えず、カバー部材の外部空間、すなわ
ち、装置の周囲の空間の気流が乱されることを防止でき
る。また、カバー部材によってリンク機構の汚染も防止
できる。また、請求項2に記載の発明によれば、カバー
部材は、基板に対向する対向面が遮断部材で構成するこ
とができる。
部材によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる
基板回転手段が、基板保持部材によって保持された基板
のリンク機構側の面とリンク機構との間の空間に、基板
のリンク機構側の面に対向する対向面を有するように構
成しているので、その基板回転手段の対向面が請求項1
に記載の発明の遮断部材の対向面と同様に作用し、遮断
部材を設けることなく、基板のリンク機構側の面側から
の外部雰囲気の巻き込みを遮断できる。そして、基板回
転手段は、上述した対向面を有するので、リンク機構が
回転されても、基板のリンク機構側の面とリンク機構の
対向面との間の空間内の気流が乱されることがない。ま
た、基板回転手段の対向面を基板のリンク機構側の面に
近づけることができるので、基板回転手段の対向面と基
板の外周端部との間の隙間の間隔を十分に狭くすること
ができる。そして、請求項1に記載の発明のカバー部材
と同様に作用し、リンク機構の周囲を覆うカバー部材を
設けたので、リンク機構の回転による気流の乱れは、カ
バー部材によってその外部に影響を与えず、カバー部材
の外部空間、すなわち、装置の周囲の空間の気流が乱さ
れることを防止できる。また、カバー部材によってリン
ク機構の汚染も防止できる。また、請求項4に記載の発
明によれば、カバー部材は、基板に対向する対向面が基
板回転手段のスピンベースで構成することができる。
の対向面に設けられ基板に洗浄液を供給して洗浄処理を
施す洗浄液噴射部を備えたので、この洗浄液噴射部か
ら、遮断部材の対向面に対向する基板のリンク機構側の
面に向けて洗浄液が噴射され、基板のリンク機構側の面
に対する洗浄処理が行われる。また、請求項6に記載の
発明によれば、基板回転手段の対向面に設けられ基板に
洗浄液を供給して洗浄処理を施す洗浄液噴射部を備えた
ので、この洗浄液噴射部から、基板回転手段の対向面に
対向する基板のリンク機構側の面に向けて洗浄液が噴射
され、基板のリンク機構側の面に対する洗浄処理が行わ
れる。
施の形態を説明する。図1は、本発明の第1実施例に係
る基板処理装置の構成を示す縦断面図であり、図2は、
その平面図、図3は、遮断部材の図示を省略した平面
図、図4は、第1実施例装置の付勢機構と解除機構の構
成を示す一部省略平面図である。
例は、基板に洗浄・乾燥処理を施す装置を例に採ってい
るが、レジスト塗布装置や現像装置などの各種の基板処
理装置にも本発明は同様に適用することができる。ま
た、この第1実施例および以下の各実施例では、半導体
ウエハに洗浄・乾燥処理を施す装置を例に採っている
が、液晶表示器用のガラス基板やフォトマスク用のガラ
ス基板、光ディスク用の基板などの各種の基板に適宜の
処理を施す装置にも本発明は同様に適用することができ
る。
れている。円筒状の回転軸1はベルト伝動機構2によっ
てモーター3に伝動連結されていて基板の回転中心軸J
1回りに回転可能に立設されている。この回転軸1の上
端部にリング状のスピンベース4が設けられ、スピンベ
ース4が軸J1回りに回転可能に構成されている。な
お、この回転軸1、ベルト伝動機構2、モーター3、ス
ピンベース4が本発明における基板回転手段に相当す
る。
の外周端部を3箇所以上で保持する3個以上の基板保持
部材10が設けられている。基板保持部材10は、従来
装置の基板保持部材110と同様に、鉛直軸J2回りに
回動可能にスピンベース4に設けられた円柱状の基板載
置部11と、基板載置部11の上面を段付きにして切り
欠き状に設けられた保持部12とが一体に形成されてい
る。
2を回転中心軸として図の反時計回りに回転付勢される
ことで、図21(a)と同様に、基板載置部11に外周
端部の下面が載置された基板Wの外周端縁が保持部12
に押圧付勢され基板Wが保持される(図2の実線)。一
方、基板保持部材10が、後述するように基板保持部材
10の反時計回りへの回転付勢に抗して、軸J2を回転
中心軸として時計回りに回転されることで、図21
(b)と同様に、保持部12が基板Wの外周端縁から離
れて基板Wの保持が解除される(図2の二点鎖線)。
の解除の操作はリンク機構20によって行われる。この
リンク機構20は、揺動部材21、リンク部材22など
で構成されている。揺動部材21は、基板保持部材10
の側方に延出され、基板載置部11の回動軸J2を揺動
支点として揺動可能に基板載置部11に設けられてい
る。揺動部材21の先端部側には、リンク部材22の先
端部側が回動可能に連結され、リンク部材22の基端部
側は駆動軸30の上端部に回動可能に連結されている。
回りに回転軸1と相対回転可能に貫通されている。回転
軸1にはリング状のフランジ部31が設けられ、このフ
ランジ部31に対向するように駆動軸30にもリング状
のフランジ部32が設けられている。各フランジ部3
1、32には、各々ピン33、34が設けられ、これら
ピン33、34にコイルバネ35が架けられている。こ
のコイルバネ35によって、駆動軸30は回転軸1に対
して軸J1を回転中心軸として図の時計回り(図3の実
線で示す矢印方向)に回転付勢されるようになってい
る。この駆動軸30の回転付勢により、リンク部材22
を介して揺動部材21の先端部側が軸J1から離れる方
向に揺動部材21が揺動付勢され、それに伴って基板保
持部材10が軸J2を回転中心軸として図の反時計回り
に回転付勢され、上述したように保持部12が基板Wの
外周端縁を押圧付勢して基板Wが保持される。
駆動軸30の回転付勢を適宜の位置で停止させるための
もので、基板Wが無いときにコイルバネ35によって揺
動部材21が必要以上に揺動されるのを防止するように
している。なお、このストッパー36によって駆動軸3
0の回転付勢が停止されたことを図示しない適宜のセン
サで検出することで、基板Wが基板載置部11に載置さ
れていないことを検知することができるようになってい
る。
7が設けられている。このエアシリンダ37のロッド3
7aを伸長させて、フランジ部32に設けられた部材3
8を押し出すことにより、コイルバネ35による駆動軸
30の時計回りへの回転付勢に抗して、駆動軸30を回
転軸1に対して軸J1を回転中心軸として図の反時計回
り(図3の二点鎖線で示す矢印方向)に回転させるよう
に構成されている。このエアシリンダ37による駆動軸
30の時計回りの回転によって、リンク部材22を介し
て揺動部材21の先端部側が軸J1側に引き戻される方
向に揺動部材21が揺動され、それに伴って基板保持部
材10が軸J2を回転中心軸として図の時計回りに回転
され、上述したように保持部12が基板Wの外周端縁か
ら離れて基板Wの保持が解除される。
よってスピンベース4に連結された遮断部材6が配設さ
れている。この遮断部材6は、上面6aが平面になって
いて、この上面6aが、保持された基板Wの下面(リン
ク機構20側の面)に対向する対向面になっている。ま
た、各基板保持部材10はこの遮断部材6に回動自在に
貫通されていて、各基板保持部材10の先端部となる基
板載置部11の段付き部分と保持部12とが遮断部材6
の上面6aから突出され、遮断部材6の上方で基板Wを
保持できるようになっている。
などの洗浄液を基板Wの上面(通常は表面)に供給する
ノズル40が配置されていて、基板Wの上面に対する洗
浄処理が行えるようになっている。
のために、不活性ガス(窒素ガスなど)やドライエアー
などの気体を、保持された基板Wの上面に供給するノズ
ル41も設けられている。
の下面に洗浄液を供給して、保持された基板Wの下面に
も洗浄処理を施すことができるように構成している。す
なわち、駆動軸30を円筒状にして、この駆動軸30の
中空部に、洗浄液供給管42を立設させ、この洗浄液供
給管42の上端部を洗浄液噴出部43として、この洗浄
液噴出部43から、保持された基板Wの下面に向けて洗
浄液を噴出するようになっている。この洗浄液噴出部4
3は本発明における洗浄液噴射部に相当する。
給管42の外周を覆うように外周管44が設けられてい
る。この外周管44の内周面と洗浄液供給管42の外周
面との間の空間45を気体供給路とし、その上端部を気
体噴出口46として、保持された基板Wの下面、すなわ
ち、保持された基板Wの下面と遮断部材6の上面6aと
の間の空間7に気体を供給して、洗浄処理の後の乾燥処
理を促進するように構成されている。なお、駆動軸30
および回転軸1は、外周管44に対して回動可能となっ
ている。
装置で説明する回転位置検出機構やクランプ装置をこの
第1実施例装置にも備えて、基板Wの回転を予め決めら
れた停止位置で停止させるように構成してもよい。
は以下のように行われる。エアシリンダ37のロッド3
7aを伸長させて基板Wの保持が解除された状態で、図
示しない搬送アームが基板載置部11の段付き部分に基
板Wを載置する。次に、エアシリンダ37のロッド37
aが収縮され、コイルバネ35の付勢力によって保持部
12に基板Wの外周端縁が押圧付勢され、基板Wが水平
姿勢で保持される。
が軸J1回りに回転され、保持された基板Wが軸J1回
りに回転される。この基板Wの上面及び下面に、ノズル
40、洗浄液噴出部43から洗浄液が供給され、基板W
の両面に対する洗浄処理が行われる。
ズル40、洗浄液噴出部43からの洗浄液の供給が停止
され、基板Wの回転を継続して基板Wに付着している洗
浄液を振り切り乾燥させる。この乾燥処理の際に、ノズ
ル41、気体噴出口46から気体を供給することで乾燥
処理が促進される。
ズル41、気体噴出口46からの気体の供給を停止し、
モーター3の駆動を停止して基板Wの回転を停止させ
る。そして、エアシリンダ37のロッド37aを伸長さ
せて基板Wの保持を解除させる。保持が解除された基板
Wは、図示しない搬送アームによって搬出され、次の基
板Wが基板載置部11に載置され、上述した動作で次の
基板Wに対する洗浄・乾燥処理が行われる。以後同様
に、順次基板Wの洗浄・乾燥処理が行われる。
材10によって水平姿勢に保持された基板Wの下面(リ
ンク機構20側の面)とリンク機構20との間の空間
に、保持された基板Wの下面に対向する対向面6aを有
する遮断部材6を配設しているので、図22に示す従来
装置と同様に基板Wの下面側からの外部雰囲気の巻き込
みは遮断部材6によって遮断される。
の軸J1回りの回転に伴って、リンク機構20も軸J1
回りに回転されるが、この第1実施例の構成によれば、
リンク機構20は遮断部材6の下側に配設され、基板W
の下面と遮断部材6との間の空間7に存在しないので、
この空間7内の気流がリンク機構20の回転によって乱
されることがなく、基板Wの下面と遮断部材6との間の
空間7に外部雰囲気が巻き込まれ難くなる。また、基板
Wの下面と遮断部材6との間の空間7内にリンク機構2
0を設けないので、遮断部材6の対向面6aを基板Wの
下面に近づけて配設することができ、遮断部材6と基板
Wの外周端部との間の隙間8の間隔を十分に狭くするこ
とができ、この隙間8から空間7内に外部雰囲気が流れ
込み難くなる。従って、基板Wのリンク機構20側の面
の汚染を十分の抑制することができる。
5を参照して説明する。図5は、本発明の第2実施例装
置の要部の構成を示す縦断面図である。
置のスピンベース4の周縁部と遮断部材6の周縁部との
間の隙間を覆う側壁50を全周にわたって設け、この側
壁50、スピンベース4、遮断部材6をカバー部材9と
して、リンク機構20の周囲を覆うように構成したこと
を特徴としている。
4と遮断部材6とを連結部材5で連結してもよいが、連
結部材5を設けずに側壁50でスピンベース4と遮断部
材6とを連結するように構成してもよい。
部材9で覆ったことにより、リンク機構20の軸J1回
りの回転による気流の乱れは、カバー部材9に遮断され
てその外部に影響を与えず、カバー部材9の外部空間、
すなわち、装置の周囲の空間の気流が乱されることを防
止でき、リンク機構20の回転による気流の乱れによっ
て、外部雰囲気が乱れて洗浄液のミストが基板W側に流
れて基板Wを汚染するような不都合を抑制することがで
きる。また、カバー部材9によってリンク機構20は外
部雰囲気と遮断されるので、リンク機構20の汚染を防
止することもできる。
6ないし図10を参照して説明する。図6は、本発明の
第3実施例装置の構成を示す縦断面図であり、図7は、
その平面図、図8は、スピンベースの図示を省略した平
面図、図9は、第3実施例装置の付勢機構と解除機構の
構成を示す一部省略図、図10(a)は、基板が保持さ
れた状態を示す要部平面図、図10(b)は、基板の保
持が解除された状態を示す要部平面図である。
成するスピンベース4を遮断部材として構成したことを
特徴としている。
ス4を設け、このスピンベース4の下側にリンク機構6
0を配設している。また、スピンベース4の上面4aを
平面にし、この上面4aを基板保持部材10に保持され
た基板Wの下面(リンク機構60側の面)に対向する対
向面としている。
板保持部材10と同様に基板載置部11、保持部12で
構成されているが、この第3実施例では、基板載置部1
1がスピンベース4を貫通して、その下端部がスピンベ
ース4の下側に突出されている。
部材62などで構成されている。揺動部材61は、スピ
ンベース4の下側において、基板保持部材10の側方に
延出され、基板載置部11の回動軸J2を揺動支点とし
て揺動可能に基板載置部11の下端部に設けられてい
る。揺動部材61の先端部側にはピン61aが設けられ
ている。
て軸J1回りに回動可能にスピンベース4に取り付けて
いる。このリンク部材62は、基板保持部材10と同数
のアーム部62aが放射状に設けられていて、各アーム
部62aの先端部の切り欠き部62bに揺動部材61の
ピン61aが係止されて連結されている。
円柱状の操作部材63が固設されている。各操作部材6
3には側方に突出されたピン63aが設けられている。
そして、一端側がスピンベース4に固定され、他端側が
操作部材63のピン63aに固定されたネジリバネ64
が各操作部材63に嵌め込まれている。これにより、図
9に示すように、リンク部材62はスピンベース4に対
して軸J1を回転中心軸として図の時計回りに回転付勢
される。このリンク部材62の時計回りへの回転付勢に
より、図10(a)に示すように、揺動部材61が軸J
2を揺動支点として図の反時計回りに揺動付勢され、こ
れに伴って、基板載置部11が軸J2を回転中心軸とし
て図の反時計回りに回転付勢され、保持部12が基板W
の外周端縁を押圧付勢して基板Wが保持される。
62の時計回りへの回転付勢を適宜の位置で停止させる
ためのストッパーも設けられている。
5が設けられている。このエアシリンダ65のロッド6
5aの先端部は揺動部材66の先端部の長孔66aに係
止されて連結されている。揺動部材66の基端部は水平
軸J3回りに回動される回動軸67に固定され、軸J3
を揺動支点として揺動可能に構成されている。また、回
動軸67にはレバー部材68の基端部も固定されてい
る。上記構成において、エアシリンダ65のロッド65
aを伸長させると、揺動部材66、回動軸67を介して
レバー部材68が図の実線から二点鎖線に示す状態へと
傾動され、このレバー部材68の傾動動作中に、レバー
部材68が操作部材63のピン63aを押し出す。これ
により、リンク部材62は、ネジリバネ64による時計
回りの回転付勢に抗して、スピンベース4に対して軸J
1を回転中心軸として図の反時計回りに回転される。こ
のリンク部材62の反時計回りへの回転により、図10
(b)に示すように、揺動部材61が軸J2を揺動支点
として図の時計回りに揺動され、これに伴って、基板載
置部11が軸J2を回転中心軸として図の時計回りに回
転され、保持部12が基板Wの外周端縁から離れて基板
Wの保持が解除される。
回動部材67、レバー部材68からなる解除機構は固定
される一方、操作部材63は、回転軸1、スピンベース
4、リンク機構60、基板Wとともに軸J1回りに回転
される。そのため、洗浄・乾燥処理後に回転軸1などの
回転を停止させた後、レバー部材68が、適宜の操作部
材63のピン63aを操作し得るように、この第3実施
例装置には、回転位置検出機構とクランプ装置を備えて
いる。
れ、回転軸1のクランプ位置を検出するための切り欠き
を有する円板71と、この円板71の切り欠きを検出す
る光電センサ72とで構成されている。また、クランプ
装置は、回転軸1に固定されたフランジ部73と、この
フランジ部73に対応させて設けられたエアシリンダ7
4とで構成されている。回転位置検出機構でクランプ位
置を検出して、そのクランプ位置で回転軸1の回転を停
止し、エアシリンダ74のロッド74aの先端部をフラ
ンジ73の凹部73aに嵌入させて回転軸1を適宜の位
置でクランプするようになっている。
を設けていないので、外周管44は回転軸1の中空部に
設けられ、回転軸1は外周管44に対して回転可能とな
っている。
ので、共通する部分は、図1ないし図4と同一符号を付
してその詳述は省略する。
60の上方のスピンベース4が、第1実施例装置の遮断
部材6と同様の作用をもたらすので、第1実施例装置と
同様の効果を得ることができる。
11を参照して説明する。図11は、本発明の第4実施
例装置の要部の構成を示す縦断面図である。
置のリンク機構60の下方および側方を覆うカバー80
を設け、このカバー80、スピンベース4をカバー部材
9として、リンク機構60の周囲を覆うように構成した
ことを特徴としている。
施例装置と同様に効果を得ることができる。
て、基板保持部材10の保持部12は、図12に示すよ
うに、基板載置部11の側方に延出され、基板載置部1
1の回動軸J2を揺動支点として揺動可能に基板載置部
11に設けられた揺動部材13に設けるように構成して
もよい。このような構成であっても、図12(b)に示
すように、基板載置部11が図の反時計回りに回転付勢
されることで保持部12が基板Wの外周端縁を押圧付勢
して基板Wが保持され、一方、図12(c)に示すよう
に、基板載置部11が反時計回りへの回転付勢に抗して
図の時計回りに回転されることで保持部12が基板Wの
外周端縁から離れて基板Wの保持が解除される。図12
(a)は、基板保持部材の変形例の構成を示す斜視図で
あり、同図(b)は、基板保持部材によって基板が保持
された状態を示す要部平面図、同図(c)は、基板保持
部材によって基板の保持が解除された状態を示す要部平
面図である。
4をリング状に構成したが、第1実施例のスピンベース
4を、図20の従来装置と同様にアーム部を放射状に設
けて構成し、これらアーム部に基板保持部材10を設け
るようにしてもよい。
1または第2実施例のリンク機構を第3または第4実施
例のリンク機構60で構成してもよい。このとき、図1
3に示すように、リンク部材62を駆動軸30の上端部
に取り付け、駆動軸30に取り付けられたリンク部材6
2を、回転軸1に取り付けられたスピンベース4に対し
て軸J1回りに回動可能に構成し、第1または第2実施
例の付勢機構によってリンク部材62をスピンベース4
に対して軸J1を回転中心軸として時計回りに回転付勢
させて基板Wを保持し、第1または第2実施例の解除機
構によってリンク部材62を、時計回りへの回転付勢に
抗して、スピンベース4に対して軸J1を回転中心軸と
して反時計回りに回転させて基板Wの保持を解除しても
よいし、図14に示すように、第3または第4実施例の
付勢機構、解除機構によって基板Wの保持とその解除を
行うように構成してもよい。図13(a)、図14
(a)は、第1、第2実施例装置のリンク機構を第3、
第4実施例装置のリンク機構で構成した変形例の要部縦
断面図であり、図13(b)、図14(b)は、遮断部
材の図示を省略した平面図である。
部材62にアーム部62aを設けて構成したが、図15
に示すように、リンク部材62をリング状に構成しても
よい。この変形例および以下の図16ないし図18に示
す変形例は、上記図13、図14で説明した第1、第2
実施例の変形例にも同様に適用できる。図15は、第
3、第4実施例の変形例の構成を示す、スピンベースの
図示を省略した平面図である。
リンク部材62の径を図15のものよりも大きくして、
切り欠き部62bに代えて揺動部材61のピン61aと
係止させる溝62cをリンク部材62の下面に設けて揺
動部材61をリンク部材62の下側に配設するように構
成してもよい。図16(a)は、第3、第4実施例の変
形例の構成を示す、スピンベースの図示を省略した平面
図であり、同図(b)は、要部の縦断面図である。
のリンク部材62の径を図16のものよりもさらに大き
くしてもよい。この場合、リンク部材62をスピンベー
ス4に対して軸J1を回転中心軸として時計回りに回転
付勢させたり、それに抗して反時計回りに回転させる際
に、基板保持部材10との干渉を避けるために、リンク
部材62の周縁部に切り欠き62d(図17)や長孔6
2e(図18)を設けている。図17、図18は、第
3、第4実施例の変形例の構成を示す、スピンベースの
図示を省略した平面図である。
19に示すように、スピンベース4の径を上記第1、第
2実施例のものよりも大きくし、基板保持部材10を、
保持する基板Wの外周端縁より外側に設け、基板載置部
11の上面にフランジ部14を設けてこのフランジ部1
4の上面に基板Wの外周端部の下面を載置させ、このフ
ランジ部14の上面に保持部12を設け、リンク機構を
上記第3、第4実施例のリンク機構60で構成し、リン
ク部材62を図16と同様に構成するようにしてもよ
い。図19(a)は、第1、第2実施例の変形例の構成
を示す、遮断部材の図示を省略した平面図であり、同図
(b)は、基板保持部材によって基板が保持された状態
を示す要部平面図、同図(c)は、基板保持部材によっ
て基板の保持が解除された状態を示す要部平面図、同図
(d)は、要部の縦断面図である。
ンク部材62の上面が、保持された基板Wの下面に対向
する対向面となる。従って、スピンベース4の上方に図
16ないし図19のリンク機構60を設け、遮断部材6
などを設けずに、図16ないし図19のリンク部材62
の上方で基板Wを保持するように構成しても上記第1、
第3実施例装置と同様の効果を得ることができる。な
お、このとき、障害となる部材が特に存在しないので、
保持された基板Wのリンク機構60側の面に対向する対
向面となるリンク部材62の上面を基板Wのリンク機構
60側の面に近づけることができ、基板Wのリンク機構
60側の面とリンク部材62の上面(対向面)との間の
空間に外部雰囲気を流れ込み難くすることができる。
基板Wをリンク機構20、60やスピンベース4の上方
で保持する装置を示しているが、基板Wをリンク機構や
スピンベースの下方で保持するように構成された装置に
ついても本発明は同様に適用できる。
1に記載の発明によれば、基板保持部材によって保持さ
れた基板のリンク機構側の面とリンク機構との間の空間
に、基板のリンク機構側の面に対向する対向面を有する
遮断部材を備えたので、基板のリンク機構側の面側から
の外部雰囲気の巻き込みは遮断部材によって遮断でき
る。そして、リンク機構は、基板のリンク機構側の面と
遮断部材との間の空間に存在しないので、この空間内の
気流がリンク機構の回転によって乱されることがなく、
基板のリンク機構側の面と遮断部材との間の空間に外部
雰囲気が巻き込まれ難くなる。また、基板のリンク機構
側の面と遮断部材との間の空間内にリンク機構を設けな
いので、遮断部材の対向面を基板のリンク機構側の面に
近づけることができ、遮断部材と基板の外周端部との間
の隙間の間隔を十分に狭くすることができ、基板のリン
ク機構側の面と遮断部材との間の空間に外部雰囲気が流
れ込み難くなる。そして、リンク機構の周囲を覆うカバ
ー部材を設けたので、リンク機構の回転による気流の乱
れは、カバー部材によってその外部に影響を与えず、カ
バー部材の外部空間、すなわち、装置の周囲の空間の気
流が乱されることを防止できる。従って、基板のリンク
機構側の面の汚染を十分に抑制することができる。ま
た、カバー部材によってリンク機構の汚染も防止でき
る。また、請求項2に記載の発明によれば、カバー部材
は、基板に対向する対向面が遮断部材で構成することが
できる。
部材によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる
基板回転手段が、基板保持部材によって保持された基板
のリンク機構側の面とリンク機構との間の空間に、基板
のリンク機構側の面に対向する対向面を有するように構
成しているので、その基板回転手段の対向面が請求項1
に記載の発明の遮断部材の対向面と同様に作用し、遮断
部材を設けることなく、基板のリンク機構側の面側から
の外部雰囲気の巻き込みを遮断できる。そして、基板回
転手段は、基板保持部材に保持された基板の表面または
裏面に対向する対向面を有するので、リンク機構が回転
されても、基板のリンク機構側の面とリンク機構の対向
面との間の空間内の気流が乱されることがなく、基板の
リンク機構側の面とリンク機構の対向面との間の空間に
外部雰囲気が巻き込まれ難くなる。また、基板回転手段
の対向面を基板のリンク機構側の面に近づけることがで
きるので、基板回転手段の対向面と基板の外周端部との
間の隙間の間隔を十分に狭くすることができ、基板のリ
ンク機構側の面とリンク機構との間の空間に外部雰囲気
が流れ込み難くなる。そして、請求項1に記載の発明の
カバー部材と同様に作用し、リンク機構の周囲を覆うカ
バー部材を設けたので、リンク機構の回転による気流の
乱れは、カバー部材によってその外部に影響を与えず、
カバー部材の外部空間、すなわち、装置の周囲の空間の
気流が乱されることを防止できる。従って、請求項1に
記載の発明と同様に、基板のリンク機構側の面の汚染を
十分に抑制することができ、カバー部材によってリンク
機構の汚染も防止できる。また、請求項4に記載の発明
によれば、カバー部材は、基板に対向する対向面が基板
回転手段のスピンベースで構成することができる。
の対向面に設けられ基板に洗浄液を供給して洗浄処理を
施す洗浄液噴射部を備えたので、この洗浄液噴射部か
ら、遮断部材の対向面に対向する基板のリンク機構側の
面に向けて洗浄液が噴射され、基板のリンク機構側の面
に対する洗浄処理が行われる。従って、基板のリンク機
構側の面の汚染を十分に抑制することができる。また、
請求項6に記載の発明によれば、基板回転手段の対向面
に設けられ基板に洗浄液を供給して洗浄処理を施す洗浄
液噴射部を備えたので、この洗浄液噴射部から、基板回
転手段の対向面に対向する基板のリンク機構側の面に向
けて洗浄液が噴射され、基板のリンク機構側の面に対す
る洗浄処理が行われる。従って、基板のリンク機構側の
面の汚染を十分に抑制することができる。
を示す縦断面図である。
を省略した平面図である。
示す一部省略平面図である。
断面図である。
である。
図示を省略した平面図である。
示す一部省略図である。
態と基板の保持が解除された状態を示す要部平面図であ
る。
縦断面図である。
及び、その基板保持部材によって基板が保持された状態
と基板の保持が解除された状態を示す要部平面図であ
る。
第4実施例装置のリンク機構で構成した変形例の要部縦
断面図と遮断部材の図示を省略した平面図である。
第4実施例装置のリンク機構で構成した別の変形例の要
部縦断面図と遮断部材の図示を省略した平面図である。
ピンベースの図示を省略した平面図である。
す、スピンベースの図示を省略した平面図と、要部の縦
断面図である。
を示す、スピンベースの図示を省略した平面図である。
を示す、スピンベースの図示を省略した平面図である。
断部材の図示を省略した平面図と、その変形例の基板保
持部材によって基板が保持された状態と基板の保持が解
除された状態を示す要部平面図と、その変形例の要部の
縦断面図である。
面図と平面図である。
持が解除された状態を示す要部平面図である。
縦断面図と平面図である。
する対向面 6:遮断部材 9:カバー部材 10:基板保持部材 20、60:リンク機構 21、61:揺動部材 22、62:リンク部材 50:側壁 80:カバー W 基板 J1:基板の回転中心軸
Claims (6)
- 【請求項1】 基板の外周端部を3箇所以上で保持する
3個以上の基板保持部材と、 前記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面
側に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持およ
び解除を操作するリンク機構と、 前記基板保持部材によって保持された基板を鉛直軸回り
に回転させる基板回転手段と、 前記基板保持部材によって保持された基板のリンク機構
側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク
機構側の面に対向する対向面を有する遮断部材と、前記リンク機構の周囲を覆うカバー部材と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の基板処理装置におい
て、 前記カバー部材は、基板に対向する対向面が遮断部材で
あることを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項3】 基板の外周端部を3箇所以上で保持する
3個以上の基板保持部材と、前記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面
側に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持およ
び解除を操作するリンク機構と、 前記基板保持部材によって保持された基板のリンク機構
側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク
機構側の面に対向する対向面を有するとともに、前記リ
ンク機構と前記基板保持部材とを配設し、前記基板保持
部材によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる
基板回転手段と、 前記リンク機構の周囲を覆うカバー部材と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項4】 請求項3に記載の基板処理装置におい
て、 前記カバー部材は、基板に対向する対向面が基板回転手
段のスピンベースであることを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項5】 基板の外周端部を3箇所以上で保持する
3個以上の基板保持 部材と、 前記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面
側に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持およ
び解除を操作するリンク機構と、 前記基板保持部材によって保持された基板を鉛直軸回り
に回転させる基板回転手段と、 前記基板保持部材によって保持された基板のリンク機構
側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク
機構側の面に対向する対向面を有する遮断部材と、 前記遮断部材の対向面に設けられ基板に洗浄液を供給し
て洗浄処理を施す洗浄液噴射部と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項6】 基板の外周端部を3箇所以上で保持する
3個以上の基板保持部材と、 前記基板保持部材に保持された基板の表面側または裏面
側に設けられ、前記基板保持部材による基板の保持およ
び解除を操作するリンク機構と、 前記基板保持部材によって保持された基板のリンク機構
側の面と前記リンク機構との間の空間に、基板のリンク
機構側の面に対向する対向面を有するとともに、前記リ
ンク機構と前記基板保持部材とを配設し、前記基板保持
部材によって保持された基板を鉛直軸周りに回転させる
基板回転手段と、 前記基板回転手段の対向面に設けられ基板に洗浄液を供
給して洗浄処理を施す洗浄液噴射部と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28973196A JP3380126B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28973196A JP3380126B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 基板処理装置 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10135172A JPH10135172A (ja) | 1998-05-22 |
JP3380126B2 true JP3380126B2 (ja) | 2003-02-24 |
Family
ID=17747032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28973196A Expired - Lifetime JP3380126B2 (ja) | 1996-10-31 | 1996-10-31 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3380126B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8201567B2 (en) | 2004-10-28 | 2012-06-19 | Tokyo Electron Limited | Liquid treating apparatus |
JP6482402B2 (ja) * | 2015-06-19 | 2019-03-13 | 信越半導体株式会社 | 枚葉式ウェーハ洗浄処理装置及びウェーハ洗浄方法 |
-
1996
- 1996-10-31 JP JP28973196A patent/JP3380126B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH10135172A (ja) | 1998-05-22 |
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