JP3365108B2 - 感光性ポリアミドを用いたパターン形成方法 - Google Patents
感光性ポリアミドを用いたパターン形成方法Info
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- H05K3/46—Manufacturing multilayer circuits
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アルカリ水溶液に対す
る溶解性が優れた、高分子鎖中に感光基及び酸性基を含
有する新規な芳香族ポリアミド、詳しくは、耐熱性、電
気的性質及び機械的性質に優れ、カラーフィルタのベー
スポリマー材料として好適な、アルカリ水溶液可溶性の
感光性ポリアミドに関する。さらに本発明は、半導体工
業における固体素子への絶縁膜やパッシベーション膜の
形成材料、及び半導体集積回路や多層プリント配線板な
どの層間絶縁材料等の用途にも好適に用いることができ
る。
る溶解性が優れた、高分子鎖中に感光基及び酸性基を含
有する新規な芳香族ポリアミド、詳しくは、耐熱性、電
気的性質及び機械的性質に優れ、カラーフィルタのベー
スポリマー材料として好適な、アルカリ水溶液可溶性の
感光性ポリアミドに関する。さらに本発明は、半導体工
業における固体素子への絶縁膜やパッシベーション膜の
形成材料、及び半導体集積回路や多層プリント配線板な
どの層間絶縁材料等の用途にも好適に用いることができ
る。
【０００２】液晶素子やエレクトロルミネッセンス（Ｅ
Ｌ）素子等のディスプレイデバイスにおいて、カラーフ
ィルタの表面に低抵抗の透明電極（酸化インジウムスズ
等）を形成するためには、カラーフィルタの耐熱性が必
要である。また、カラーフィルタの基材となるベースポ
リマー自身が着色していると、特定波長の光の透過率が
悪くなる。また、特定の電極構成の用途にはカラーフィ
ルタに絶縁性が必要である。さらに、カラーフィルタ
は、画素ごとにＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に
パターン化して形成する必要があるが、最近はディスプ
レイの高密度化に伴い、画素サイズの微細化が顕著にな
ってきている。従って、カラーフィルタの基材となるベ
ースポリマーには、耐熱性及び絶縁性が求められると同
時に、感光性のあるものが求められている。また、半導
体工業における固体素子への絶縁膜やパッシベーション
膜の形成材料、及び半導体集積回路や多層プリント配線
板などの層間絶縁材料の用途に対しても、耐熱性及び絶
縁性に富むことが要請され、また、高密度化の要請から
感光性のある耐熱材料が求められている。
Ｌ）素子等のディスプレイデバイスにおいて、カラーフ
ィルタの表面に低抵抗の透明電極（酸化インジウムスズ
等）を形成するためには、カラーフィルタの耐熱性が必
要である。また、カラーフィルタの基材となるベースポ
リマー自身が着色していると、特定波長の光の透過率が
悪くなる。また、特定の電極構成の用途にはカラーフィ
ルタに絶縁性が必要である。さらに、カラーフィルタ
は、画素ごとにＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に
パターン化して形成する必要があるが、最近はディスプ
レイの高密度化に伴い、画素サイズの微細化が顕著にな
ってきている。従って、カラーフィルタの基材となるベ
ースポリマーには、耐熱性及び絶縁性が求められると同
時に、感光性のあるものが求められている。また、半導
体工業における固体素子への絶縁膜やパッシベーション
膜の形成材料、及び半導体集積回路や多層プリント配線
板などの層間絶縁材料の用途に対しても、耐熱性及び絶
縁性に富むことが要請され、また、高密度化の要請から
感光性のある耐熱材料が求められている。
【０００３】従来より、感光性ポリアミドの報告は多数
あるが、その多くは感光基を含有しないポリアミドと光
重合性不飽和化合物（モノマー）との配合によるもので
あり感光性が十分高いものではなかった（特開昭４８−
８９００４、特開昭４９−７４７３９及び特開昭５６−
９３７９４等）。また、感光基を含有するポリアミドも
提案されている（特開昭５０−８６０５及び特開昭５６
−１２２８３３等）が、いずれも脂肪族ポリアミドであ
って、耐熱性及び感光性が不十分なものである。
あるが、その多くは感光基を含有しないポリアミドと光
重合性不飽和化合物（モノマー）との配合によるもので
あり感光性が十分高いものではなかった（特開昭４８−
８９００４、特開昭４９−７４７３９及び特開昭５６−
９３７９４等）。また、感光基を含有するポリアミドも
提案されている（特開昭５０−８６０５及び特開昭５６
−１２２８３３等）が、いずれも脂肪族ポリアミドであ
って、耐熱性及び感光性が不十分なものである。
【０００４】このような問題点を解決するものとして、
特開昭６０−６７２５号公報、特開昭６０−１２４６２
４には、感光基を側鎖に有する芳香族ポリアミドが開示
されている。しかし、この芳香族ポリアミドを用いてパ
ターンを形成する時に、現像を有機溶媒系で行わなけれ
ばならないために、工程上特別の配慮が必要である。ま
た、感光性のポリアミック酸（ポリイミドの前駆体）は
アルカリ水溶液で現像できるが、加熱すると、イミド化
するために、収縮により歪みや応力が生ずる問題があ
る。また、ポリイミドは通常黄色に着色しており、可視
光の波長領域のうち短波長側の透過率が低いので、カラ
ーフィルタ用途には適当ではない。
特開昭６０−６７２５号公報、特開昭６０−１２４６２
４には、感光基を側鎖に有する芳香族ポリアミドが開示
されている。しかし、この芳香族ポリアミドを用いてパ
ターンを形成する時に、現像を有機溶媒系で行わなけれ
ばならないために、工程上特別の配慮が必要である。ま
た、感光性のポリアミック酸（ポリイミドの前駆体）は
アルカリ水溶液で現像できるが、加熱すると、イミド化
するために、収縮により歪みや応力が生ずる問題があ
る。また、ポリイミドは通常黄色に着色しており、可視
光の波長領域のうち短波長側の透過率が低いので、カラ
ーフィルタ用途には適当ではない。
【０００５】
【本発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問
題点を解決すべくなされたものであり、感光性ポリアミ
ドの溶液を用いて、実質的に水溶液で現像することによ
り、耐熱性、絶縁性、透明性に優れたポリアミド膜のパ
タ−ンを形成する方法を提供することを目的とする。
題点を解決すべくなされたものであり、感光性ポリアミ
ドの溶液を用いて、実質的に水溶液で現像することによ
り、耐熱性、絶縁性、透明性に優れたポリアミド膜のパ
タ−ンを形成する方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
（I）で表される感光基を有する芳香族ジアミン化合物 Ｈ2Ｎ−Ｒ1−ＮＨ2 （Ｉ） （但し、式中Ｒ1は感光基を含有する芳香族基の残基を
しめす。） １０〜９０モル％，下記一般式（II）で表される酸性基
を含有する芳香族ジアミン化合物 Ｈ2Ｎ−Ｒ2−ＮＨ2 （II） （但し、式中Ｒ2は酸性基を含有する芳香族基の残基を
しめす。） １０〜９０モル％、及び下記一般式（III）で表される
感光基および酸性基を含有しない芳香族ジアミン化合物 Ｈ2Ｎ−Ｒ３−ＮＨ2 （III） （但し、式中Ｒ３は感光基および酸性基を含有しない香
族基の残基をしめす。）０〜８０モル％からなる芳香族
アミン成分と、芳香族ジカルボン酸化合物、２個のカル
ボキシル基以外に酸性基を有する芳香族ジカルボン酸化
合物、またはそれらの混合物のいずれかからなる芳香族
カルボン酸成分との共重縮合物からなる感光性ポリアミ
ドの溶液を用いてポリアミド膜を形成し、該ポリアミド
膜を、所定のパタ−ン状に露光後、アルカリ性物質の使
用量が溶媒に対して０．５〜２０重量％であるアルカリ
水溶液によって現像することを特徴とするパタ−ン形成
方法に関する。
（I）で表される感光基を有する芳香族ジアミン化合物 Ｈ2Ｎ−Ｒ1−ＮＨ2 （Ｉ） （但し、式中Ｒ1は感光基を含有する芳香族基の残基を
しめす。） １０〜９０モル％，下記一般式（II）で表される酸性基
を含有する芳香族ジアミン化合物 Ｈ2Ｎ−Ｒ2−ＮＨ2 （II） （但し、式中Ｒ2は酸性基を含有する芳香族基の残基を
しめす。） １０〜９０モル％、及び下記一般式（III）で表される
感光基および酸性基を含有しない芳香族ジアミン化合物 Ｈ2Ｎ−Ｒ３−ＮＨ2 （III） （但し、式中Ｒ３は感光基および酸性基を含有しない香
族基の残基をしめす。）０〜８０モル％からなる芳香族
アミン成分と、芳香族ジカルボン酸化合物、２個のカル
ボキシル基以外に酸性基を有する芳香族ジカルボン酸化
合物、またはそれらの混合物のいずれかからなる芳香族
カルボン酸成分との共重縮合物からなる感光性ポリアミ
ドの溶液を用いてポリアミド膜を形成し、該ポリアミド
膜を、所定のパタ−ン状に露光後、アルカリ性物質の使
用量が溶媒に対して０．５〜２０重量％であるアルカリ
水溶液によって現像することを特徴とするパタ−ン形成
方法に関する。
【０００７】
【０００８】以下本発明について詳細に説明する。本発
明に用いられる感光性ポリアミドは、芳香族アミン成分
と、芳香族カルボン酸成分との共重縮合物からなるポリ
アミドである。即ち、本発明で用いられる、感光性ポリ
アミドは、芳香族アミン化合物と芳香族カルボン酸化合
物とを（重縮合または）共重縮合して得られるものであ
る。
明に用いられる感光性ポリアミドは、芳香族アミン成分
と、芳香族カルボン酸成分との共重縮合物からなるポリ
アミドである。即ち、本発明で用いられる、感光性ポリ
アミドは、芳香族アミン化合物と芳香族カルボン酸化合
物とを（重縮合または）共重縮合して得られるものであ
る。
【０００９】芳香族アミン成分は、一般式（Ｉ）で表さ
れる感光基を有する芳香族ジアミン化合物１０〜９０モ
ル％、一般式（ＩＩ）で表される酸性基を含有する芳香
族ジアミン化合物１０〜９０モル％および一般式（ＩＩ
Ｉ）で表される感光基および酸性基を含有しない芳香族
ジアミン化合物０〜８０モル％からなる。一般式（Ｉ）
成分はポリアミドに感光性を与え、一般式（ＩＩ）成分
はポリアミドにアルカリ水溶性を付与することから必須
成分である。また、一般式（ＩＩＩ）成分は、ポリアミ
ドの熱的性質を向上させるのに役立つが、全く含むこと
が無くとも本発明の目的を達成し得る。さらに、好まし
くは、一般式（Ｉ）成分が３０〜７０％、一般式（Ｉ
Ｉ）成分が３０〜７０％、一般式（ＩＩ）成分が０〜４
０モル％である。一般式（ＩＩＩ）成分が多すぎると、
共重合体中の感光基の濃度が下がり、光感度が低下し好
ましくないからである。
れる感光基を有する芳香族ジアミン化合物１０〜９０モ
ル％、一般式（ＩＩ）で表される酸性基を含有する芳香
族ジアミン化合物１０〜９０モル％および一般式（ＩＩ
Ｉ）で表される感光基および酸性基を含有しない芳香族
ジアミン化合物０〜８０モル％からなる。一般式（Ｉ）
成分はポリアミドに感光性を与え、一般式（ＩＩ）成分
はポリアミドにアルカリ水溶性を付与することから必須
成分である。また、一般式（ＩＩＩ）成分は、ポリアミ
ドの熱的性質を向上させるのに役立つが、全く含むこと
が無くとも本発明の目的を達成し得る。さらに、好まし
くは、一般式（Ｉ）成分が３０〜７０％、一般式（Ｉ
Ｉ）成分が３０〜７０％、一般式（ＩＩ）成分が０〜４
０モル％である。一般式（ＩＩＩ）成分が多すぎると、
共重合体中の感光基の濃度が下がり、光感度が低下し好
ましくないからである。
【００１０】前記一般式（Ｉ）で表される芳香族ジアミ
ン化合物としては、感光性の炭化水素基を有する芳香族
ジアミンであれば良く、例えば、３，５−ジアミノ安息
香酸エチルアクリル酸エステル、２，４−ジアミノ安息
香酸エチルアクリル酸エステル、３，５−ジアミノ安息
香酸エチルメタアクリル酸エステル、２，４−ジアミノ
安息香酸エチルメタアクリル酸エステル、３，５−ジア
ミノ安息香酸グリシジルアクリレートエステル、２，４
−ジアミノ安息香酸グリシジルアクリレートエステル、
３，５−ジアミノ安息香酸グリシジルメタアクリレート
エステル、２，４−ジアミノ安息香酸グリシジルメタア
クリレートエステル、３，５−ジアミノ安息香酸ケイ皮
エステル、２，４−ジアミノ安息香酸ケイ皮エステルな
どの安息香酸エステル類、３，５−ジアミノベンジルア
クリレート、３，５−ジアミノベンジルメタアクリレー
トなどのベンジルアクリレート類、４−アクリルアミド
−３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２−アクリ
ルアミド−３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４
−シンナムアミド−３，４’−ジアミノジフェニルエー
テル、３，４’−ジアクリルアミド−３’，４−ジアミ
ノジフェニルエーテル、３，４’−ジシンナムアミド−
３’，４−ジアミノジフェニルエーテル、４−メチル−
２’−カルボキシエチルメタクリル酸エステル−３，
４’−ジアミノジフェニルエーテル［カルボキシエチル
メタクリル酸エステルは、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯ
ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＯＣ−］、４−メチル−２’−カルボキ
シエチルアクリル酸エステル−３，４’−ジアミノジフ
ェニルエーテル［カルボキシエチルアクリル酸エステル
は、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＯＣ−］などの
ジフェニルエーテル類、及び４，４’−ジアミノカルコ
ン、３，３’−ジアミノカルコン、３，４’−ジアミノ
カルコン、３’，４−ジアミノカルコン、４’−メチル
−３’，４−ジアミノカルコン、４’−メトキシ−
３’，４−ジアミノカルコン、３’−メチル−３，５−
ジアミノカルコンなどを挙げることができる。
ン化合物としては、感光性の炭化水素基を有する芳香族
ジアミンであれば良く、例えば、３，５−ジアミノ安息
香酸エチルアクリル酸エステル、２，４−ジアミノ安息
香酸エチルアクリル酸エステル、３，５−ジアミノ安息
香酸エチルメタアクリル酸エステル、２，４−ジアミノ
安息香酸エチルメタアクリル酸エステル、３，５−ジア
ミノ安息香酸グリシジルアクリレートエステル、２，４
−ジアミノ安息香酸グリシジルアクリレートエステル、
３，５−ジアミノ安息香酸グリシジルメタアクリレート
エステル、２，４−ジアミノ安息香酸グリシジルメタア
クリレートエステル、３，５−ジアミノ安息香酸ケイ皮
エステル、２，４−ジアミノ安息香酸ケイ皮エステルな
どの安息香酸エステル類、３，５−ジアミノベンジルア
クリレート、３，５−ジアミノベンジルメタアクリレー
トなどのベンジルアクリレート類、４−アクリルアミド
−３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２−アクリ
ルアミド−３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４
−シンナムアミド−３，４’−ジアミノジフェニルエー
テル、３，４’−ジアクリルアミド−３’，４−ジアミ
ノジフェニルエーテル、３，４’−ジシンナムアミド−
３’，４−ジアミノジフェニルエーテル、４−メチル−
２’−カルボキシエチルメタクリル酸エステル−３，
４’−ジアミノジフェニルエーテル［カルボキシエチル
メタクリル酸エステルは、ＣＨ2 ＝Ｃ（ＣＨ3 ）ＣＯＯ
ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＯＣ−］、４−メチル−２’−カルボキ
シエチルアクリル酸エステル−３，４’−ジアミノジフ
ェニルエーテル［カルボキシエチルアクリル酸エステル
は、ＣＨ2 ＝ＣＨＣＯＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＯＣ−］などの
ジフェニルエーテル類、及び４，４’−ジアミノカルコ
ン、３，３’−ジアミノカルコン、３，４’−ジアミノ
カルコン、３’，４−ジアミノカルコン、４’−メチル
−３’，４−ジアミノカルコン、４’−メトキシ−
３’，４−ジアミノカルコン、３’−メチル−３，５−
ジアミノカルコンなどを挙げることができる。
【００１１】また、前記一般式（ＩＩ）で表されるジア
ミン化合物に含有される酸性基としては、ヒドロキシル
基、カルボキシル基、スルホン酸基およびこれらの酸性
基のアルカリ金属塩等が挙げられる。この中でもヒドロ
キシル基及びカルボキシル基が好ましい。酸性基が、ヒ
ドロキシル基である前記芳香族ジアミン化合物として
は、ヒドロキシル基が芳香環に直接結合したものであれ
ば良く、例えばヒドロキシル基が１個のものとしては、
３，５−ジアミノフェノール等、ヒドロキシル基が２個
のものとしては、例えば、２，２−ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシフェニルプロパン、３，３’−ジアミノ
−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジア
ミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキルフェニル）スルホン、３，３’
−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキルフェニル）メタン、
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキルフェニル）エーテ
ル、１−フェニル−１，１−ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキルフェニル）エタン、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキルフェニル）スルフィド、２，２−ビス（３−ア
ミノ−４−ヒドロキルフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、１−フェニル−１，１−ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキルフェニル）トリフルオロエタン、１−トリフル
オロメチル−１，１−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキ
ルフェニル）エタン、１，１，３−トリメチル−３
（３’−アミノ−４’−ヒドロキシ）−５−ヒドロキシ
−６−アミノインダン、１，４−ジアミノ−２，５−ジ
ヒドロキシベンゼン、１，５−ジアミノ−２，４−ジヒ
ドロキシベンゼン、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジ
ヒドロキシターフェニル等を挙げることができる。
ミン化合物に含有される酸性基としては、ヒドロキシル
基、カルボキシル基、スルホン酸基およびこれらの酸性
基のアルカリ金属塩等が挙げられる。この中でもヒドロ
キシル基及びカルボキシル基が好ましい。酸性基が、ヒ
ドロキシル基である前記芳香族ジアミン化合物として
は、ヒドロキシル基が芳香環に直接結合したものであれ
ば良く、例えばヒドロキシル基が１個のものとしては、
３，５−ジアミノフェノール等、ヒドロキシル基が２個
のものとしては、例えば、２，２−ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシフェニルプロパン、３，３’−ジアミノ
−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジア
ミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキルフェニル）スルホン、３，３’
−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキルフェニル）メタン、
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキルフェニル）エーテ
ル、１−フェニル−１，１−ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキルフェニル）エタン、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキルフェニル）スルフィド、２，２−ビス（３−ア
ミノ−４−ヒドロキルフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、１−フェニル−１，１−ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキルフェニル）トリフルオロエタン、１−トリフル
オロメチル−１，１−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキ
ルフェニル）エタン、１，１，３−トリメチル−３
（３’−アミノ−４’−ヒドロキシ）−５−ヒドロキシ
−６−アミノインダン、１，４−ジアミノ−２，５−ジ
ヒドロキシベンゼン、１，５−ジアミノ−２，４−ジヒ
ドロキシベンゼン、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジ
ヒドロキシターフェニル等を挙げることができる。
【００１２】酸性基が、カルボキシル基である前記芳香
族ジアミン化合物としては、カルボキシル基が芳香環に
直接結合したものであれば良く、例えばカルボキシル基
が１個であるものとしては、３，５−ジアミノ安息香
酸、２，５−ジアミノ安息香酸等を挙げることができ、
カルボキシル基が２個であるものとしては、２，５−ジ
アミノテレフタル酸、メチレンビスアントラニル酸等を
挙げることができる。
族ジアミン化合物としては、カルボキシル基が芳香環に
直接結合したものであれば良く、例えばカルボキシル基
が１個であるものとしては、３，５−ジアミノ安息香
酸、２，５−ジアミノ安息香酸等を挙げることができ、
カルボキシル基が２個であるものとしては、２，５−ジ
アミノテレフタル酸、メチレンビスアントラニル酸等を
挙げることができる。
【００１３】また、前記一般式（ＩＩＩ）で表される感
光基および酸性基を有していないジアミン化合物として
は、具体的には、パラフェニレンジアミン、メタフェニ
レンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、４，４’−
ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン、ｏ−トルイジン、１，４−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、２，２’−ビス（４−アミ
ノフェノキシフェニル）プロパン、ｏ−トルイジンスル
ホンなどを挙げることができる。
光基および酸性基を有していないジアミン化合物として
は、具体的には、パラフェニレンジアミン、メタフェニ
レンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、４，４’−
ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフ
ェニルメタン、ｏ−トルイジン、１，４−ビス（４−ア
ミノフェノキシ）ベンゼン、２，２’−ビス（４−アミ
ノフェノキシフェニル）プロパン、ｏ−トルイジンスル
ホンなどを挙げることができる。
【００１４】前記一般式（Ｉ）および前記一般式（Ｉ
Ｉ）で表される芳香族ジアミン化合物は、それぞれ必要
に応じ２種以上併用しても良く、また、これに併用され
る前記一般式（ＩＩＩ）で表される芳香族ジアミン化合
物も、必要に応じ２種以上併用することが可能である。
Ｉ）で表される芳香族ジアミン化合物は、それぞれ必要
に応じ２種以上併用しても良く、また、これに併用され
る前記一般式（ＩＩＩ）で表される芳香族ジアミン化合
物も、必要に応じ２種以上併用することが可能である。
【００１５】本発明で用いられる芳香族カルボン酸成分
は、少なくとも２個のカルボキシル基を有する芳香族カ
ルボン酸化合物であり、芳香族ジカルボン酸化合物およ
び２個のカルボキシル基以外に酸性基を有する芳香族カ
ルボン酸化合物が好ましい。さらに、これらの芳香族カ
ルボン酸化合物の２種類以上を混合して用いても良い。
は、少なくとも２個のカルボキシル基を有する芳香族カ
ルボン酸化合物であり、芳香族ジカルボン酸化合物およ
び２個のカルボキシル基以外に酸性基を有する芳香族カ
ルボン酸化合物が好ましい。さらに、これらの芳香族カ
ルボン酸化合物の２種類以上を混合して用いても良い。
【００１６】上記の芳香族ジカルボン酸化合物として
は、具体的にはテレフタル酸、イソフタル酸、４，４’
−ジカルボキシ−ビフェニル、４，４’−ジカルボキシ
−ジフェニルメタン、４，４’−ジカルボキシ−ジフェ
ニルエーテルなどの芳香族ジカルボン酸とそれらの酸ハ
ロゲン化物を挙げることができる。これらの芳香族ジカ
ルボン酸化合物のうちでも、上記芳香族ジカルボン酸の
酸ハロゲン化物、特に酸塩化物が好ましい。
は、具体的にはテレフタル酸、イソフタル酸、４，４’
−ジカルボキシ−ビフェニル、４，４’−ジカルボキシ
−ジフェニルメタン、４，４’−ジカルボキシ−ジフェ
ニルエーテルなどの芳香族ジカルボン酸とそれらの酸ハ
ロゲン化物を挙げることができる。これらの芳香族ジカ
ルボン酸化合物のうちでも、上記芳香族ジカルボン酸の
酸ハロゲン化物、特に酸塩化物が好ましい。
【００１７】上記の２個のカルボキシル基以外に酸性基
を有する芳香族カルボン酸化合物としては、芳香族トリ
カルボン酸化合物、芳香族テトラカルボン酸化合物等の
３個以上のカルボキシル基を有する芳香族化合物、およ
びスルホン酸基、ヒドロキシル基等のカルボキシル基以
外の酸性基を有する芳香族ジカルボン酸化合物などを挙
げることができる。
を有する芳香族カルボン酸化合物としては、芳香族トリ
カルボン酸化合物、芳香族テトラカルボン酸化合物等の
３個以上のカルボキシル基を有する芳香族化合物、およ
びスルホン酸基、ヒドロキシル基等のカルボキシル基以
外の酸性基を有する芳香族ジカルボン酸化合物などを挙
げることができる。
【００１８】上記の芳香族トリカルボン酸化合物として
は、芳香族トリカルボン酸、その無水物及びそれらの酸
ハロゲン化物が挙げられ、具体的にはトリメリット酸ま
たはその無水物、３，３’，４−トリカルボキシ−ビフ
ェニルまたはその無水物、無水トリメリット酸クロライ
ド、
は、芳香族トリカルボン酸、その無水物及びそれらの酸
ハロゲン化物が挙げられ、具体的にはトリメリット酸ま
たはその無水物、３，３’，４−トリカルボキシ−ビフ
ェニルまたはその無水物、無水トリメリット酸クロライ
ド、
【００１９】
【化１】
【００２０】などを挙げることができる。これらの中で
も、芳香族トリカルボン酸の酸ハロゲン化物、特に無水
トリメリット酸クロライドのようにモノ無水基とハロゲ
ン化基を包含するものが好ましい。
も、芳香族トリカルボン酸の酸ハロゲン化物、特に無水
トリメリット酸クロライドのようにモノ無水基とハロゲ
ン化基を包含するものが好ましい。
【００２１】上記の芳香族テトラカルボン酸としては、
具体的にはピロメリット酸、またはその二無水物、３，
３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、または
その二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラ
カルボン酸、またはその二無水物、２，３，３’，４’
−ビフェニルテトラカルボン酸、またはその二無水物、
２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、またはその二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸、またはその二無水物が挙げ
られ、上記テトラカルボン酸のエステル化合物、塩など
でもよいが、特にビフェニルテトラカルボン酸二無水物
が好ましい。
具体的にはピロメリット酸、またはその二無水物、３，
３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、または
その二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラ
カルボン酸、またはその二無水物、２，３，３’，４’
−ビフェニルテトラカルボン酸、またはその二無水物、
２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸、またはその二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸、またはその二無水物が挙げ
られ、上記テトラカルボン酸のエステル化合物、塩など
でもよいが、特にビフェニルテトラカルボン酸二無水物
が好ましい。
【００２２】上記のスルホン酸基、ヒドロキシル基等の
カルボキシル基以外の酸性基を有する芳香族ジカルボン
酸化合物としては、具体的にはナトリウム−およびカリ
ウム−３，５−ジカルボキシベンゼンスルホネート、等
のスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸、および３
−ヒドロキシフタル酸等のヒドロキシル基を有する芳香
族ジカルボン酸、およびそれらの酸ハロゲン化物を挙げ
ることができる。これらの芳香族ジカルボン酸化合物の
うちでも、上記芳香族ジカルボン酸の酸ハロゲン化物、
特に酸塩化物が好ましい。
カルボキシル基以外の酸性基を有する芳香族ジカルボン
酸化合物としては、具体的にはナトリウム−およびカリ
ウム−３，５−ジカルボキシベンゼンスルホネート、等
のスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸、および３
−ヒドロキシフタル酸等のヒドロキシル基を有する芳香
族ジカルボン酸、およびそれらの酸ハロゲン化物を挙げ
ることができる。これらの芳香族ジカルボン酸化合物の
うちでも、上記芳香族ジカルボン酸の酸ハロゲン化物、
特に酸塩化物が好ましい。
【００２３】本発明で用いる感光性ポリアミドは、ポリ
アミド０．５ｇ／Ｎ−メチル−２−ピロリドン１００ｍ
ｌの濃度の溶液として３０℃において測定した対数粘度
が０．１〜１．５特に０．２〜１．０の範囲にあるもの
が好ましい。
アミド０．５ｇ／Ｎ−メチル−２−ピロリドン１００ｍ
ｌの濃度の溶液として３０℃において測定した対数粘度
が０．１〜１．５特に０．２〜１．０の範囲にあるもの
が好ましい。
【００２４】本発明で用いる感光性ポリアミドの製造に
ついてさらに詳述すると、前記重縮合物（共重縮合物）
を合成する際の前記芳香族カルボン酸成分と芳香族ジア
ミン成分との使用割合は略等モルである。これらの合成
反応は、比較的低温で行うのが好ましい。即ち、有機溶
媒中で１００℃以下の反応温度で０．１〜４８時間重合
反応を行うのが好ましく、その結果前記共重縮合物が合
成され、本発明で用いられるポリアミドが得られる。
ついてさらに詳述すると、前記重縮合物（共重縮合物）
を合成する際の前記芳香族カルボン酸成分と芳香族ジア
ミン成分との使用割合は略等モルである。これらの合成
反応は、比較的低温で行うのが好ましい。即ち、有機溶
媒中で１００℃以下の反応温度で０．１〜４８時間重合
反応を行うのが好ましく、その結果前記共重縮合物が合
成され、本発明で用いられるポリアミドが得られる。
【００２５】上記反応における有機溶媒としては、例え
ば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチレンホス
ホアミドなどが挙げられる。
ば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメチレンホス
ホアミドなどが挙げられる。
【００２６】次に本発明のパターンを形成する手順につ
いて説明する。上記で得られた感光性ポリアミドを有機
溶媒に溶解し、さらに光重合開始剤、その他の添加剤を
添加し感光性組成物とする。ここで使用する有機溶媒と
しては、前記の反応に用いた有機溶媒を用いることがで
きる。
いて説明する。上記で得られた感光性ポリアミドを有機
溶媒に溶解し、さらに光重合開始剤、その他の添加剤を
添加し感光性組成物とする。ここで使用する有機溶媒と
しては、前記の反応に用いた有機溶媒を用いることがで
きる。
【００２７】配合される光重合開始剤としては、例え
ば、ビスアジド化合物、ミヒラーズケトン、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2-t-ブチルア
ントラキノン、1,2-ベンゾ-9,10-アントラキノン、ベン
ジル、アニシル、4,4'- ビス（ジエチルアミノ）ベンゾ
フェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、1,5-アセ
ナフテン、チオキサントン又はその誘導体、トリアジン
誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）−ブタノン等のモルフォリノ誘導体等
の光重合開始剤を挙げることができる。
ば、ビスアジド化合物、ミヒラーズケトン、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、2-t-ブチルア
ントラキノン、1,2-ベンゾ-9,10-アントラキノン、ベン
ジル、アニシル、4,4'- ビス（ジエチルアミノ）ベンゾ
フェノン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、1,5-アセ
ナフテン、チオキサントン又はその誘導体、トリアジン
誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）−ブタノン等のモルフォリノ誘導体等
の光重合開始剤を挙げることができる。
【００２８】前記の光重合開始剤として使用されるビス
アジド化合物としては、例えば、4,4'- ジアジドカルコ
ン、4,4'- ジアジドベンザルアセトン、2,6-ジ-(4'- ア
ジドベンザル) メチルシクロヘキサノン、4,4'- ジアジ
ドスチルベン等を好適に挙げることができる。また、光
重合開始剤として使用される前記のチオキサントン類と
しては、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロルチオキ
サントン等を挙げることができる。
アジド化合物としては、例えば、4,4'- ジアジドカルコ
ン、4,4'- ジアジドベンザルアセトン、2,6-ジ-(4'- ア
ジドベンザル) メチルシクロヘキサノン、4,4'- ジアジ
ドスチルベン等を好適に挙げることができる。また、光
重合開始剤として使用される前記のチオキサントン類と
しては、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロルチオキ
サントン等を挙げることができる。
【００２９】上記光重合開始剤の配合量は、前記感光性
ポリアミドなどの感光性樹脂１００重量部に対して、
０．２〜４０重量部、特に０．５〜３０重量部の割合と
なる量とすることが好ましい。前記の配合量が少な過ぎ
ると、得られる組成物の感度が低くなり、また、多くな
り過ぎると得られる組成物により形成される光硬化膜
（レリーフパターン）の耐熱性が低下するので好ましく
ない。
ポリアミドなどの感光性樹脂１００重量部に対して、
０．２〜４０重量部、特に０．５〜３０重量部の割合と
なる量とすることが好ましい。前記の配合量が少な過ぎ
ると、得られる組成物の感度が低くなり、また、多くな
り過ぎると得られる組成物により形成される光硬化膜
（レリーフパターン）の耐熱性が低下するので好ましく
ない。
【００３０】その他の添加剤としては、例えば光感光膜
と基材との密着性向上剤、熱重合防止剤等である。
と基材との密着性向上剤、熱重合防止剤等である。
【００３１】また、着色されたパターンを形成する場合
には、感光性ポリアミドを有機溶媒に溶解し、さらに光
重合開始剤、その他の添加剤の他に着色材料を添加して
ポリアミド溶液（感光性組成物）を調製する。ここで用
いられる着色材料は、無機若しくは有機染料または無機
若しくは有機顔料が挙げられる。カラーフィルタの用途
には、色合いや耐久性の観点から有機顔料が最も好まし
い。その有機顔料としては、透明性が良く、且つ、耐熱
性、耐光性及び耐溶媒性に優れたものが好ましく、その
例としては、アゾキレート系、縮合アゾ系、フタロシア
ニン系、ベンゾイミダゾロン系、キナクリドン系、イソ
インドリノン系、ピランスロン系、ジブロムアンザンス
ロン系、インダンスロン系、アンスラピリミジン系、フ
ラバンスロン系、ペリレン系、ペリノン系、キノフタロ
ン系、チオインジゴ系、ジオキサジン系、アントラキノ
ン系などの有機顔料を挙げることができ、これらから一
種または二種以上を適宜選択して用いることができる。
上記の有機顔料は、光透過性、膜表面の均一性等の観点
から、その粒径が１μｍ以下のものを用いることが好ま
しい。
には、感光性ポリアミドを有機溶媒に溶解し、さらに光
重合開始剤、その他の添加剤の他に着色材料を添加して
ポリアミド溶液（感光性組成物）を調製する。ここで用
いられる着色材料は、無機若しくは有機染料または無機
若しくは有機顔料が挙げられる。カラーフィルタの用途
には、色合いや耐久性の観点から有機顔料が最も好まし
い。その有機顔料としては、透明性が良く、且つ、耐熱
性、耐光性及び耐溶媒性に優れたものが好ましく、その
例としては、アゾキレート系、縮合アゾ系、フタロシア
ニン系、ベンゾイミダゾロン系、キナクリドン系、イソ
インドリノン系、ピランスロン系、ジブロムアンザンス
ロン系、インダンスロン系、アンスラピリミジン系、フ
ラバンスロン系、ペリレン系、ペリノン系、キノフタロ
ン系、チオインジゴ系、ジオキサジン系、アントラキノ
ン系などの有機顔料を挙げることができ、これらから一
種または二種以上を適宜選択して用いることができる。
上記の有機顔料は、光透過性、膜表面の均一性等の観点
から、その粒径が１μｍ以下のものを用いることが好ま
しい。
【００３２】有機顔料は、前記感光性組成物中に十分に
分散されている必要があり、例えば、ボールミル法、ロ
ール法、超音波法などの分散法を用いて感光性組成物を
調製することができる。
分散されている必要があり、例えば、ボールミル法、ロ
ール法、超音波法などの分散法を用いて感光性組成物を
調製することができる。
【００３３】このようにして得られた感光性組成物は、
例えば、その溶液を基材上に０〜６０℃の温度で塗布し
１８０℃以下の温度で乾燥して該組成物の塗膜（乾燥
膜）を形成し、次いで、その塗膜上にパターンマスクを
介して超高圧水銀灯の平行光線を照射して、該塗膜をパ
ターン状に光硬化し、その後、現像液に浸漬させて、光
硬化膜（レリーフパターン）の未露光部分（未硬化部
分）を溶出させ除去する現像を行って、レリーフパター
ンを基材上に形成させることができる。
例えば、その溶液を基材上に０〜６０℃の温度で塗布し
１８０℃以下の温度で乾燥して該組成物の塗膜（乾燥
膜）を形成し、次いで、その塗膜上にパターンマスクを
介して超高圧水銀灯の平行光線を照射して、該塗膜をパ
ターン状に光硬化し、その後、現像液に浸漬させて、光
硬化膜（レリーフパターン）の未露光部分（未硬化部
分）を溶出させ除去する現像を行って、レリーフパター
ンを基材上に形成させることができる。
【００３４】その感光性組成物の溶液を基材の表面へ塗
布するには、例えば、回転塗布法、ロールコート法、浸
漬法、スプレー法等の方法により行うことができる。こ
の中でも回転塗布法のような塗布方法が均一に塗布でき
るので好ましい。回転塗布法は通常、回転数として、１
００〜１００００rpm （回転／分）で行われる。実用的
には３００〜５０００rpm が好ましく、さらに好ましく
は５００〜４０００rpm である。前記の塗布膜の乾燥
は、熱風乾燥器、ホットプレートなどにより、１８０℃
以下、特に５０〜１５０℃の温度で１〜６０分間、特に
２〜３０分間程度行って、有機溶媒を実質的に除去して
感光性薄膜（塗膜）を形成することが好ましい。この乾
燥の際には減圧状態で行ってもよい。
布するには、例えば、回転塗布法、ロールコート法、浸
漬法、スプレー法等の方法により行うことができる。こ
の中でも回転塗布法のような塗布方法が均一に塗布でき
るので好ましい。回転塗布法は通常、回転数として、１
００〜１００００rpm （回転／分）で行われる。実用的
には３００〜５０００rpm が好ましく、さらに好ましく
は５００〜４０００rpm である。前記の塗布膜の乾燥
は、熱風乾燥器、ホットプレートなどにより、１８０℃
以下、特に５０〜１５０℃の温度で１〜６０分間、特に
２〜３０分間程度行って、有機溶媒を実質的に除去して
感光性薄膜（塗膜）を形成することが好ましい。この乾
燥の際には減圧状態で行ってもよい。
【００３５】また、上記の感光性樹脂組成物からなる塗
膜（乾燥後の皮膜）の厚さは、通常、約０．１〜１０．
０μｍ、特に０．２〜５．０μｍ程度であることが好ま
しい。
膜（乾燥後の皮膜）の厚さは、通常、約０．１〜１０．
０μｍ、特に０．２〜５．０μｍ程度であることが好ま
しい。
【００３６】本発明で用いる前記現像液は、実質上水溶
液であって塩基性化合物を含むものである。即ち、塩基
性化合物を含み、水を体積分率で３０％以上好ましくは
５０％以上さらに好ましくは６０％以上含むものであ
る。現像液には水と混合できる有機溶媒を含んでいても
良く、特に、感光性組成物からなる塗布膜（乾燥後の皮
膜）との濡れ性を向上させるような有機溶媒を含んでい
てもよい。具体的には、メタノール、エタノール等のア
ルコール類、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール等の多価アルコール類、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等の多価
アルコールのモノアルキルエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類等を挙げることができる。
液であって塩基性化合物を含むものである。即ち、塩基
性化合物を含み、水を体積分率で３０％以上好ましくは
５０％以上さらに好ましくは６０％以上含むものであ
る。現像液には水と混合できる有機溶媒を含んでいても
良く、特に、感光性組成物からなる塗布膜（乾燥後の皮
膜）との濡れ性を向上させるような有機溶媒を含んでい
てもよい。具体的には、メタノール、エタノール等のア
ルコール類、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール等の多価アルコール類、エチレングリコールモノ
エチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等の多価
アルコールのモノアルキルエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類等を挙げることができる。
【００３７】前記現像液に用いるアルカリ性物質として
は、無機塩基、有機塩基を用いることができ、具体的に
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネ
シウム等のアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水
酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸マグネシウム等のアル
カリ金属若しくはアルカリ土類金属の塩、水酸化アンモ
ニウム若しくは水酸化アンモニウムのアルキル置換体等
を挙げることができる。この中でも好ましいものは、炭
酸ナトリウム及び水酸化アンモニウムのアルキル置換体
であり、特に、水酸化アンモニウムのアルキル置換体と
しては、炭素数が１〜３個の低級アルキルが１〜４個置
換したものが好ましく、特に水酸化テトラメチルアンモ
ニウム、水酸化テトラエチルアンモニウムが好ましい。
は、無機塩基、有機塩基を用いることができ、具体的に
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネ
シウム等のアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属の水
酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸マグネシウム等のアル
カリ金属若しくはアルカリ土類金属の塩、水酸化アンモ
ニウム若しくは水酸化アンモニウムのアルキル置換体等
を挙げることができる。この中でも好ましいものは、炭
酸ナトリウム及び水酸化アンモニウムのアルキル置換体
であり、特に、水酸化アンモニウムのアルキル置換体と
しては、炭素数が１〜３個の低級アルキルが１〜４個置
換したものが好ましく、特に水酸化テトラメチルアンモ
ニウム、水酸化テトラエチルアンモニウムが好ましい。
【００３８】アルカリ性物質の使用量は、溶媒に対して
０．１〜４０％（重量／重量）、好ましくは０．５〜
２０％（重量／重量）、さらに好ましくは１〜１０％
（重量／重量）である。アルカリ性物質の量が少なすぎ
ると光未照射部分の溶解が十分でなく、また、多すぎる
と溶媒に溶解しなっかったり、光照射部分までの溶解し
たりする問題が起きるからである。
０．１〜４０％（重量／重量）、好ましくは０．５〜
２０％（重量／重量）、さらに好ましくは１〜１０％
（重量／重量）である。アルカリ性物質の量が少なすぎ
ると光未照射部分の溶解が十分でなく、また、多すぎる
と溶媒に溶解しなっかったり、光照射部分までの溶解し
たりする問題が起きるからである。
【００３９】前述の現像液に浸漬させて現像する際に
は、現像液中に塗膜を形成した基板を単に浸漬したり、
現像液を撹拌したり、振動を与えたり、超音波を作用さ
せたりして行う。ついで、前述の現像後、形成された光
硬化膜（レリーフパターン）が形成された基材を、感光
性樹脂を溶解しない有機溶媒、或いは、水などによりリ
ンスし、次いで、熱風乾燥器、ホットプレート等によ
り、約２５０℃以下、特に２３０℃以下の温度で、１〜
６０分間、特に２〜３０分間、熱処理（ポストベーク）
することが好ましい。
は、現像液中に塗膜を形成した基板を単に浸漬したり、
現像液を撹拌したり、振動を与えたり、超音波を作用さ
せたりして行う。ついで、前述の現像後、形成された光
硬化膜（レリーフパターン）が形成された基材を、感光
性樹脂を溶解しない有機溶媒、或いは、水などによりリ
ンスし、次いで、熱風乾燥器、ホットプレート等によ
り、約２５０℃以下、特に２３０℃以下の温度で、１〜
６０分間、特に２〜３０分間、熱処理（ポストベーク）
することが好ましい。
【００４０】
［実施例１］３，５−ジアミノ安息香酸エチルメタクリ
ル酸エステルおよび３，５−ジアミノ安息香酸とテレフ
タル酸ジクロライドとの重縮合による感光性ポリアミド
の製造三口フラスコに乾燥窒素を通じてフラスコ内を置
換した後、３，５−ジアミノ安息香酸エチルメタクリル
酸エステル１３．１４ｇ（０．４９７ミリモル）および
３，５−ジアミノ安息香酸７．５７ｇ（０．４９７ミリ
モル）を入れ、これに、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
（ＮＭＰ）１３０ｍｌを加え溶解した。溶解後、０℃で
撹拌しながらテレフタル酸ジクロライド１８．１７ｇ
（０．８９５ミリモル）を加え、そのまま０〜１０℃に
て２時間撹拌を続け、反応を行った。反応後、ＮＭＰ５
０ｍｌを加えた反応溶液をメタノール１ｌと水１ｌの混
合液に加えポリアミドを析出させた。析出物を濾別し、
乾燥し白色のポリアミド粉末３０ｇを得た。
ル酸エステルおよび３，５−ジアミノ安息香酸とテレフ
タル酸ジクロライドとの重縮合による感光性ポリアミド
の製造三口フラスコに乾燥窒素を通じてフラスコ内を置
換した後、３，５−ジアミノ安息香酸エチルメタクリル
酸エステル１３．１４ｇ（０．４９７ミリモル）および
３，５−ジアミノ安息香酸７．５７ｇ（０．４９７ミリ
モル）を入れ、これに、Ｎ−メチル−２−ピロリドン
（ＮＭＰ）１３０ｍｌを加え溶解した。溶解後、０℃で
撹拌しながらテレフタル酸ジクロライド１８．１７ｇ
（０．８９５ミリモル）を加え、そのまま０〜１０℃に
て２時間撹拌を続け、反応を行った。反応後、ＮＭＰ５
０ｍｌを加えた反応溶液をメタノール１ｌと水１ｌの混
合液に加えポリアミドを析出させた。析出物を濾別し、
乾燥し白色のポリアミド粉末３０ｇを得た。
【００４１】［実施例２］実施例１で得られたポリアミ
ド粉末１０ｇ、熱重合禁止剤としてメチルエーテルハイ
ドロキノン０．１ｇ及びフェノチアジン０．０５ｇ、光
重合開始剤としてジエチルチオキサントン０．３ｇ、ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル０．４ｇ及びベン
ジル０．３ｇ、並びに密着向上剤としてγ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン８ｇをＮＭＰ４０ｇ及び
ジエチレングリコールジメチルエーテル１０ｇの混合溶
液に溶解した後、１μｍのフィルタによりろ過し、感光
性ポリアミドの溶液を得た。得られた溶液を、スピンナ
ーを用いて、ガラス基板上に２０００r.p.m.で３０秒間
回転塗布し、次いでこのポリアミド膜を８０℃で１０分
間乾燥して、１．５μｍ厚のポリアミド膜を得た。
ド粉末１０ｇ、熱重合禁止剤としてメチルエーテルハイ
ドロキノン０．１ｇ及びフェノチアジン０．０５ｇ、光
重合開始剤としてジエチルチオキサントン０．３ｇ、ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル０．４ｇ及びベン
ジル０．３ｇ、並びに密着向上剤としてγ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン８ｇをＮＭＰ４０ｇ及び
ジエチレングリコールジメチルエーテル１０ｇの混合溶
液に溶解した後、１μｍのフィルタによりろ過し、感光
性ポリアミドの溶液を得た。得られた溶液を、スピンナ
ーを用いて、ガラス基板上に２０００r.p.m.で３０秒間
回転塗布し、次いでこのポリアミド膜を８０℃で１０分
間乾燥して、１．５μｍ厚のポリアミド膜を得た。
【００４２】このポリアミド膜にテストマスク（凸版印
刷（株）製、トッパンテストチャートＰ）を介して２５
０Ｗの高圧水銀灯の光（ミカサ（株）製、マスクアライ
ンメント装置ＭＡ−１０型使用）を用いて、６００ｍＪ
／ｃｍ2 になるように露光した。
刷（株）製、トッパンテストチャートＰ）を介して２５
０Ｗの高圧水銀灯の光（ミカサ（株）製、マスクアライ
ンメント装置ＭＡ−１０型使用）を用いて、６００ｍＪ
／ｃｍ2 になるように露光した。
【００４３】露光後、２．５重量％の水酸化テトラメチ
ルアンモニウム（（ＣＨ３）４ＮＯＨ）およびエチルセ
ロソルブ５重量％を含む水溶液に、ポリアミド膜のつい
たガラス基板を４分間浸漬して現像を行い、さらに純粋
な水で洗浄した。。この結果、露光部のみポリアミド膜
が残っていた。次いで、このパターンを２００℃で３０
分間加熱した。露光部のポリアミド膜は１．０μｍであ
った。さらにこの塗膜を２７０℃で処理したが、その塗
膜に異常は認められなかった。
ルアンモニウム（（ＣＨ３）４ＮＯＨ）およびエチルセ
ロソルブ５重量％を含む水溶液に、ポリアミド膜のつい
たガラス基板を４分間浸漬して現像を行い、さらに純粋
な水で洗浄した。。この結果、露光部のみポリアミド膜
が残っていた。次いで、このパターンを２００℃で３０
分間加熱した。露光部のポリアミド膜は１．０μｍであ
った。さらにこの塗膜を２７０℃で処理したが、その塗
膜に異常は認められなかった。
【００４４】［実施例３］
｛有機顔料分散ポリアミド溶液の調製｝トリエチレング
リコールジメチルエーテル８６．０ｇに赤色顔料として
アントラキノンレッド（チバガイギー社製、クロモフタ
ルレッドＡ２Ｂ）３．５ｇを加え、混合攪拌後、水槽中
で５０Ｗの超音波を約１時間作用させて上記顔料を分散
させ、次いでこの溶液を１μｍのフッ素樹脂製フィルタ
ー（テフロンフィルター）を用いて、加圧濾過し、顔料
分散液を得た。次いで、前記の顔料分散溶液に、熱重合
防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル０．２
６ｇ及び前述の実施例１で得られたポリアミド粉末８．
５ｇを加え、十分に攪拌し均一な粘ちゅう液とした後、
水槽中で３０Ｗの超音波を約３０分間作用させた。この
ようにして得られた粘ちゅう液に、4,4'-ジアジドカル
コン０．３４ｇを加え、攪拌して１μｍのフッ素樹脂製
フィルター（テフロンフィルター）を用いて、加圧濾過
し、赤色顔料が分散されたポリアミド溶液（感光性組成
物）を得た。
リコールジメチルエーテル８６．０ｇに赤色顔料として
アントラキノンレッド（チバガイギー社製、クロモフタ
ルレッドＡ２Ｂ）３．５ｇを加え、混合攪拌後、水槽中
で５０Ｗの超音波を約１時間作用させて上記顔料を分散
させ、次いでこの溶液を１μｍのフッ素樹脂製フィルタ
ー（テフロンフィルター）を用いて、加圧濾過し、顔料
分散液を得た。次いで、前記の顔料分散溶液に、熱重合
防止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル０．２
６ｇ及び前述の実施例１で得られたポリアミド粉末８．
５ｇを加え、十分に攪拌し均一な粘ちゅう液とした後、
水槽中で３０Ｗの超音波を約３０分間作用させた。この
ようにして得られた粘ちゅう液に、4,4'-ジアジドカル
コン０．３４ｇを加え、攪拌して１μｍのフッ素樹脂製
フィルター（テフロンフィルター）を用いて、加圧濾過
し、赤色顔料が分散されたポリアミド溶液（感光性組成
物）を得た。
【００４５】｛着色パターンの形成｝前記の赤色顔料含
有の感光性組成物を、ガラス基板上に乾燥膜厚が１．５
μｍになるようにスピンナーを用いて回転塗布し、塗布
膜を８０℃で１０分間乾燥して、ガラス基板表面に該組
成物の塗膜（乾燥膜）を形成した。この塗膜表面に、１
０μｍの間隔のストライプ状のマスクを密着させ、マス
クを介して超高圧水銀灯（５ｍＷ／ｃｍ2）を用いて露
光量が６００ｍＪ／ｃｍ2となるように露光した。次い
で、パターン露光された該塗膜を、実施例２と同様の溶
液を用いて４分間現像し、２００℃で３０分間熱処理
し、１０μｍストライプの鮮明な赤色パターンを得た。
このようにして得られた赤色パターンを２５０℃で１時
間加熱したが変色や、退色は認められなかった。
有の感光性組成物を、ガラス基板上に乾燥膜厚が１．５
μｍになるようにスピンナーを用いて回転塗布し、塗布
膜を８０℃で１０分間乾燥して、ガラス基板表面に該組
成物の塗膜（乾燥膜）を形成した。この塗膜表面に、１
０μｍの間隔のストライプ状のマスクを密着させ、マス
クを介して超高圧水銀灯（５ｍＷ／ｃｍ2）を用いて露
光量が６００ｍＪ／ｃｍ2となるように露光した。次い
で、パターン露光された該塗膜を、実施例２と同様の溶
液を用いて４分間現像し、２００℃で３０分間熱処理
し、１０μｍストライプの鮮明な赤色パターンを得た。
このようにして得られた赤色パターンを２５０℃で１時
間加熱したが変色や、退色は認められなかった。
【００４６】［実施例４］有機溶媒としてＮ−メチル−
２−ピロリドンを用い、赤色顔料であるアントラキノン
レッドの代わりに、緑色顔料であるフタロシアニングリ
ーンを用いた他は実施例３と同様にして緑色顔料が分散
されたポリアミド溶液（感光性組成物）を得た。 前記
の緑色顔料含有の感光性組成物を使用し、実施例３と同
様にしてガラス基板上に該組成物の塗膜（乾燥膜）を形
成し、露光し、現像などを行って、１０μｍストライプ
の鮮明な緑パターンを得た。 このようにして得られた
緑色パターンを２５０℃で１時間加熱したが変色や、退
色は認められなかった。
２−ピロリドンを用い、赤色顔料であるアントラキノン
レッドの代わりに、緑色顔料であるフタロシアニングリ
ーンを用いた他は実施例３と同様にして緑色顔料が分散
されたポリアミド溶液（感光性組成物）を得た。 前記
の緑色顔料含有の感光性組成物を使用し、実施例３と同
様にしてガラス基板上に該組成物の塗膜（乾燥膜）を形
成し、露光し、現像などを行って、１０μｍストライプ
の鮮明な緑パターンを得た。 このようにして得られた
緑色パターンを２５０℃で１時間加熱したが変色や、退
色は認められなかった。
【００４７】［実施例５］有機溶媒としてＮ−メチル−
２−ピロリドンを用い、赤色顔料であるアントラキノン
レッドの代わりに、青色顔料であるフタロシアニンブル
ーを用いた他は実施例３と同様にして青色顔料が分散さ
れたポリアミド溶液（感光性組成物）を得た。前記の青
色顔料含有の感光性組成物を使用し、実施例３と同様に
してガラス基板上に該組成物の塗膜（乾燥膜）を形成
し、露光し、現像などを行って、１０μｍストライプの
鮮明な青色パターンを得た。このようにして得られた青
色パターンを２５０℃で１時間加熱したが変色や、退色
は認められなかった。
２−ピロリドンを用い、赤色顔料であるアントラキノン
レッドの代わりに、青色顔料であるフタロシアニンブル
ーを用いた他は実施例３と同様にして青色顔料が分散さ
れたポリアミド溶液（感光性組成物）を得た。前記の青
色顔料含有の感光性組成物を使用し、実施例３と同様に
してガラス基板上に該組成物の塗膜（乾燥膜）を形成
し、露光し、現像などを行って、１０μｍストライプの
鮮明な青色パターンを得た。このようにして得られた青
色パターンを２５０℃で１時間加熱したが変色や、退色
は認められなかった。
【００４８】［実施例６］4,4'-ジアジドカルコンの代
わりに、2,6-ジー（4'ーアジドベンザル）-4-メチルシク
ロヘキサノン０．５１ｇを用いた他は、実施例３と同様
にして赤色顔料が分散されたポリアミド溶液（感光性組
成物）を得た。前記の赤色顔料含有の感光性組成物を使
用し、実施例３と同様にしてガラス基板上に該組成物の
塗膜（乾燥膜）を形成し、露光し、現像などを行って、
１０μｍストライプの鮮明な赤色パターンを得た。この
ようにして得られた赤色パターンを２５０℃で１時間加
熱したが変色や、退色は認められなかった。
わりに、2,6-ジー（4'ーアジドベンザル）-4-メチルシク
ロヘキサノン０．５１ｇを用いた他は、実施例３と同様
にして赤色顔料が分散されたポリアミド溶液（感光性組
成物）を得た。前記の赤色顔料含有の感光性組成物を使
用し、実施例３と同様にしてガラス基板上に該組成物の
塗膜（乾燥膜）を形成し、露光し、現像などを行って、
１０μｍストライプの鮮明な赤色パターンを得た。この
ようにして得られた赤色パターンを２５０℃で１時間加
熱したが変色や、退色は認められなかった。
【００４９】
【発明の効果】本発明によれば、感光性ポリアミドの溶
液を用いて、実質的に水溶液で現像することにより、耐
熱性、絶縁性に優れたポリアミド膜の着色若しくは無着
色パターンを形成する方法を提供することができる。
液を用いて、実質的に水溶液で現像することにより、耐
熱性、絶縁性に優れたポリアミド膜の着色若しくは無着
色パターンを形成する方法を提供することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/312 Ｂ
21/312 21/30 ５０２Ｒ
５６９Ｅ
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03F 7/00 - 7/42
Claims (2)
- 【請求項１】下記一般式（I）で表される感光基を有す
る芳香族ジアミン化合物Ｈ2Ｎ−Ｒ1−ＮＨ2 （Ｉ） （但し、式中Ｒ1は感光基を含有する芳香族基の残基を
しめす。） １０〜９０モル％，下記一般式（II）で表される酸性基
を含有する芳香族ジアミン化合物 Ｈ2Ｎ−Ｒ2−ＮＨ2 （II） （但し、式中Ｒ2は酸性基を含有する芳香族基の残基を
しめす。） １０〜９０モル％、及び下記一般式（III）で表される
感光基および酸性基を含有しない芳香族ジアミン化合物 Ｈ2Ｎ−Ｒ３−ＮＨ2 （III） （但し、式中Ｒ３は感光基および酸性基を含有しない香
族基の残基をしめす。）０〜８０モル％からなる芳香族
アミン成分と、芳香族ジカルボン酸化合物、２個のカル
ボキシル基以外に酸性基を有する芳香族ジカルボン酸化
合物、またはそれらの混合物のいずれかからなる芳香族
カルボン酸成分との共重縮合物からなる感光性ポリアミ
ドの溶液を用いてポリアミド膜を形成し、該ポリアミド
膜を、所定のパタ−ン状に露光後、アルカリ性物質の使
用量が溶媒に対して０．５〜２０重量％であるアルカリ
水溶液によって現像することを特徴とするパタ−ン形成
方法。 - 【請求項２】感光性ポリアミドの溶液が、さらに着色材
料を含むものであり、着色されたパタ−ンを形成するこ
とを特徴とする請求項１に記載のパタ−ン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32561794A JP3365108B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 感光性ポリアミドを用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32561794A JP3365108B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 感光性ポリアミドを用いたパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08179507A JPH08179507A (ja) | 1996-07-12 |
| JP3365108B2 true JP3365108B2 (ja) | 2003-01-08 |
Family
ID=18178868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32561794A Expired - Fee Related JP3365108B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 感光性ポリアミドを用いたパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3365108B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19918970A1 (de) * | 1999-04-27 | 1999-09-23 | Basf Ag | Verfahren zur Sofortbeendigung von radikalen Polymerisationen |
| JP2007322731A (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-13 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JPWO2022176875A1 (ja) * | 2021-02-17 | 2022-08-25 |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP32561794A patent/JP3365108B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08179507A (ja) | 1996-07-12 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |