JP3353570B2 - 平型半導体素子 - Google Patents

平型半導体素子

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JP3353570B2 JP28004695A JP28004695A JP3353570B2 JP 3353570 B2 JP3353570 B2 JP 3353570B2 JP 28004695 A JP28004695 A JP 28004695A JP 28004695 A JP28004695 A JP 28004695A JP 3353570 B2 JP3353570 B2 JP 3353570B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、両面冷却型の平型
パッケージに封入されたパワートランジスターやサイリ
スタ等高耐圧、大電流容量の半導体素子に関する。
【0002】
【従来の技術】車両駆動用や産業用インバータ・コンバ
ータなどの電力変換用の高耐圧の大電流容量の半導体素
子(以下電力用半導体素子と称する)として、ゲートタ
ーンオフサイリスタ(GTOサイリスタ)を始めとする
サイリスタや、バイポーラトランジスタ、絶縁ゲートバ
イポーラトランジスタ(IGBT)等が使われている。
電力用半導体素子は、高耐圧を保持するため、通常セラ
ミックスを絶縁体とし、上下に銅電極を有する密閉され
た平型パッケージに収容し用いられている。通常、電力
用サイリスタでは、素子エレメントが丸形であるため、
そのエレメントを収容するパッケージの外形形状も丸で
ある。一方、IGBTでは、大容量化のために、角型の
チップを複数個同一パッケージに収容した角型のパッケ
ージが採用されている。これらの素子において、半導体
素子の高耐圧化、大容量化と共に、パッケージの外形も
大きくなってきている。
【0003】図2に従来の半導体バッケージ10の断面
図を示す。但し、パッケージの構成をより分かり易くす
るため、最終組立前の様子を示した。電力用半導体素子
のパッケージ10の下部銅電極8は、セラミックスと熱
膨張係数が近似するコバール(Fe−29%Ni−17
%Co)やFe−42%Ni合金等の絞り構造を有する
下部絞り板7を介して、セラミックスの絶縁環6の一方
の端面に銀ろう付されている。セラミックスの絶縁環6
の他方の端には、コバール等の溶接板5が銀ろう付され
ている。
【0004】もう一方の上部銅電極1は、絞り構造を有
する銅の上部絞り板2を介して銀ろう付けされたコバー
ル等の溶接板3がろう付けされている。パッケージ10
内に半導体エレメント9を収めた後に、溶接板5と溶接
板3とが溶接により接合され、エレメント9がパッケー
ジ10内に密封される。上下の銅電極とエレメント9と
の密着性を高めるため、上部絞り板2と下部絞り板7は
可撓性をもたせてある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、電力用半導
体素子の高耐圧化、大電流容量化のため、半導体エレメ
ントの直径は急速に大口径化してきている。それに伴
い、パッケージの外形が大きくなると、セラミックスの
絶縁環6と下部銅電極8との間に、可撓性を有する下部
絞り板7を挟んでも、セラミックスの絶縁環6と下部銅
電極8との熱膨張係数の差により発生する歪みを吸収し
きれず、下部銅電極8が変形するようになった。例え
ば、直径130mmの下部銅電極8では、約150μm
の反りを生じた。そのため、上下の銅電極1、8と半導
体エレメント9との接触が悪く、冷却が不十分で信頼性
上問題となることがあった。
【0006】一方、パッケージの小型化の要求から絶縁
環6の直径は小さくしなければならず、また、半導体素
子からの熱放散性の向上のため、銅電極8は大口径化し
なければならないので、絶縁環6と銅電極8との間の距
離はむしろ狭めたい要求がある。従って、セラミックス
と銅電極との間にろう付される絞り板によって、熱膨張
係数の差により生じる歪みを緩和する方法も充分な効果
を得難くなってきている。
【0007】そこで、容易に絞り構造を加工出来、且
つ、材料が柔らかいため、熱膨張係数の差による収縮に
順応できる銅の絞り板のろう付けを試みた。ところが熱
膨張係数において、銅板(22×10-6-1)とセラミ
ックス(アルミナ:7×10-6-1)との間に大きな隔
たりがあることから、銅の絞り板を直接、セラミックス
の絶縁環6にろう付けすると銅の絞り板の表面に割れや
引きつりが生じ、気密不良が発生した。
【0008】以上の問題に鑑みて、本発明の目的は、大
型化した平型パッケージにおいても、ろう付けされる銅
電極に歪みを与えず、且つ、良好な気密性の高い平型半
導体素子を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、セラミックスの絶縁環に銅電極の周縁部
の絞り板がろう付けされた平型半導体素子において、銅
からなる絞り板が、その熱膨張係数がセラミックスより
大きく、銅より小さい金属板を間に挟んで絶縁環の端面
に一体ろう付けされているものとする。
【0010】前記金属板としては、金属板の熱膨張係数
が8×10-6〜20×10-6-1であること、特に、F
e−42%Ni合金、コバール、鉄のいずれかがよい。
特に、絶縁環が角型環であるものがよい。上記の手段を
講じることによって、下記の作用が得られる。
【0011】すなわち、銅からなる絞り板を用いること
によって、銅電極と絞り板の熱膨張係数は同じになる。
また、銅の絞り板が、その熱膨張係数がセラミックスよ
り大きく、銅より小さい金属板を間に挟んで絶縁環の端
面に一体ろう付けされているものとすれば、銅絞り板と
セラミックの絶縁環との熱膨張係数の違いによる歪み
は、銅絞り板の収縮がこの介在する金属板により緩和さ
れる。更に、銅絞り板は柔軟性に富み、歪みを伝え難
い。
【0012】前記金属板としては、Fe−42%Ni合
金、コバール、鉄のいずれも、その熱膨張係数は、セラ
ミックのそれより大きく、かつ銅のそれより小さい。特
に、絶縁環が角型環であれば、不均質な歪みが大きい部
分を生じるが、その抑制効果が大きい。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明は、半導体パッケージのセ
ラミックスの絶縁環と絞り板との接合において、銅電極
と同じ材質の銅の絞り板を用い、その銅の絞り板とセラ
ミックスの絶縁環との間に、セラミックスの熱膨張係数
と銅のそれと間の熱膨張係数をもつ、金属板を挟んでろ
う付けするものである。そのような金属板としては、F
e−42%Ni合金、コバール、鉄等を用いることがで
きる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。 実施例1 図1は、本発明の実施例の半導体素子の断面図を示す。
円環状の絶縁環6は純度90〜96%アルミナセラミッ
クス製で、その外径は150mm、高さ28mmである。そ
の絶縁環6の一方の端面(図では下側)には、Fe−4
2%Ni合金の環状の金属板20を挟んで、下部銅電極
18の周縁部の銅の下部絞り板17がろう付けされ、他
方の端面には、Fe−42%Ni合金の溶接板15がや
はりろう付けされている。上部銅電極11の周縁部に
は、銅の上部絞り板12がろう付けされ、さらにその周
縁部にFe−42%Ni合金の溶接板13がやはりろう
付けされている。下部銅電極18の上にサイリスタのエ
レメント19が載せられ、そのエレメントの上部電極に
上部銅電極11が接触するように位置ぎめして、溶接板
13と溶接板15の外周が溶接されている。14は、エ
レメント19の位置ぎめのための四フッ化エチレン樹脂
の位置ぎめガイドである。ここで、上部、下部とは区別
のために仮りに付したのであって、組立時或いは使用時
の上下関係を示すものではない。エレメント19と上部
電極の間にMo等の円板を挟むこともある。また、サイ
リスタのゲート電極とゲート端子は適当な方法で接続さ
れているがその構造は省略した。
【0015】図1の構造を得る製造方法を以下に説明す
る。まず、純度90〜96%アルミナセラミックス製の
円環状の絶縁環6の両方の端面にMo−Mn粉ペースト
をスクリーン印刷により塗布し、それらを加湿水素中1
400〜1550℃で焼き付け、その後、その面にニッ
ケルメッキを行い、絶縁環6の両端面に強固な金属層を
形成する。
【0016】グラファイトのろう付け用治具内に、Fe
−42%Ni合金の溶接板15を置き、銀ろうを挟ん
で、上記導電性処理をした絶縁環6をおく。更にその絶
縁環6の端面上に、銀ろうを挟んで、Fe−42%Ni
合金の環状の金属板20、再び銀ろうを置いた上に、下
部絞り板17をおき、更にろう付けする部分に銀ろう片
を挟んで直径130mm、高さ10mmの下部銅電極18を
置く。(すなわち、図1と逆さまの状態でろう付けする
が、これは絶対に必要な条件ではない。)銀ろうとして
は、例えばJISのBAg−8を用いることができる。
そのろう付け用治具を、水素雰囲気中,800〜850
℃で10分間保持してろう付けを行う。なお、上記銀ろ
うBAg−8の融点は783℃である。ろう付けの雰囲
気は真空でもよい。
【0017】また、上部銅電極11と上部絞り板12お
よびFe−42%Ni合金の溶接板13を銀ろうを用い
てろう付けする。先の絶縁環6をろう付けした下部銅電
極18上にサイリスタのエレメント19を置き、溶接板
をろう付けした上部電極を被せて溶接板13、15の外
周を溶接した。図示されない置換用パイプからパッケー
ジ内をガス置換し、最後に置換用パイプを閉じて密封す
る。
【0018】このように銅の下部絞り板17を用い、絶
縁環6にFe−42%Ni合金の金属板20を介してろ
う付けすることによって、従来、Fe−Ni合金の絞り
板で直接ろう付けした時のような大きな反りは生ぜず、
下部銅電極18の反り量は20μm 以下となった。そし
て、その結果、ろう付け後、従来行っていた銅電極表面
を平滑にするための加工が必要無くなった。
【0019】これは、下部銅電極18と下部絞り板17
との間には、熱膨張係数の差による歪みを生じないこ
と、下部絞り板17と絶縁環16との間の熱膨張係数の
差による歪みは、中間のFe−42%Ni合金の金属板
20で緩和されること、また、銅の下部絞り板17は延
性に富むことから、下部絞り板17と絶縁環16との間
の熱膨張係数の差による歪みを下部銅電極18に伝えな
いことによると考えられる。
【0020】また、銅の絞り板をセラミックスの絶縁環
に直接ろう付けした場合に生じたような割れや引きつり
は生じず、気密不良の問題も起きなかった。これも、セ
ラミックスの絶縁環16と銅の下部絞り板17との間に
セラミックスと銅との中間の熱膨張係数を有する金属板
20が介在するため、収縮量の差による歪みが緩和さ
れ、割れや引きつりが発生しないものと考えられる。
【0021】従って、上記の方法によれば、絶縁環16
と下部銅電極18との間の距離を最小にすることができ
る。表1にFe−42%Ni合金、コバール、鉄と比較
のための銅、アルミナセラミックの20〜800℃の熱
膨張係数を示す。
【0022】
【表1】 実施例2 実施例1と同様の方法により、強固な金属層を形成した
外形120×90mm、高さ16mmの角形アルミナセラミ
ックスの角型絶縁環と、コバールの四角環状の金属板3
0、更に、絞り構造を有する銅の下部絞り板とのろう付
け、その下部絞り板と外形100×70mm、高さ6mmの
下部銅電極とのろう付け、および角型絶縁環の他方の端
面とコバールの溶接板とのろう付けを同時に行った。
【0023】また、上部銅電極と上部絞り板およびコバ
ールの溶接板を銀ろうを用いてろう付けした。先の絶縁
環をろう付けした下部銅電極18上にIGBTのチップ
を置き、溶接板をろう付けした上部電極を被せて溶接板
の外周を溶接する。その後、図示されない置換用パイプ
からパッケージ内をガス置換し、最後に置換用パイプを
閉じて密封した。
【0024】このようにしたIGBTのパッケージにお
いても、下部銅電極の反りは問題にならないほど小さか
った。また、従来、角形のセラミックスパッケージにお
いては、下部絞り板の角部に顕著に割れや引きつりを、
生じたが、本実施例の方法においては、下部絞り板の割
れ、引きつりなどがなく、気密不良も無かった。尚、セ
ラミックスとろう付される金属部材との間に挟持される
金属材料としては、Fe−42%Ni合金、コバールの
他、熱膨張係数が16×10-6-1の鉄も有効であっ
た。
【0025】上記の方法により、大型で銅電極に歪みを
与えず、且つ、良好な気密性の良い、信頼性の高い平型
半導体素子ができる。
【0026】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、銅
の絞り板を用い、その絞り板とセラミックスの絶縁環と
の間に、熱膨張係数が銅とセラミックとの間にある金属
板を挟んでろう付けした平型パッケージとすることによ
って、銅電極と銅の絞り板間には熱膨張係数の差による
歪みを発生しない。また、銅絞り板と絶縁環の間の熱膨
張係数の差による歪みは、中間の金属板で緩和される。
更に、銅絞り板は延性に富み、銅絞り板と絶縁環の間の
熱膨張係数の差による歪みを吸収し、銅電極には伝えな
い。
【0027】そしてその結果、次の効果が得られる。 銅電極の反りが低減され、銅電極と半導体エレメント
との均一な加圧が可能となるとともに、熱の放熱性が向
上し、信頼性も高められる。 二次的な電極面の加工が不要となる。 絞り板の割れや引きつりがないため、パッケージの気
密性が向上する。 絶縁環の内径に対してより大きな銅電極構造とするこ
とができる。
【0028】すなわち、これらの効果を通じて本発明
は、電力用半導体素子の一層の大型化、高信頼化に資す
るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の平型半導体素子の断面図
【図2】従来の平型半導体パッケージの断面図
【符号の説明】
1、11 上部銅電極 2、12 上部絞り板 3、13 上部溶接板 4、14 位置決めガイド 5、15 下部溶接板 6、16 絶縁環 7、17 下部絞り板 8、18 下部銅電極 9、19 半導体エレメント 10 平型パッケージ 20 金属板

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】セラミックスの絶縁環に銅電極の周縁部の
    絞り板がろう付けされた平型パッケージに封入された平
    型半導体素子において、銅からなる絞り板が、熱膨張係
    数がセラミックスより大きく、ろう付する絞り板より小
    さい金属板を間に挟んで絶縁環の端面に一体ろう付けさ
    れていることを特徴とする平型半導体素子。
  2. 【請求項2】金属板の熱膨張係数が8×10-6〜20×
    10-6-1であることを特徴とする請求項1に記載の平
    型半導体素子。
  3. 【請求項3】金属板が42%Ni−Fe合金、コバー
    ル、鉄のいずれかからなることを特徴とする請求項1に
    記載の平型半導体素子。
  4. 【請求項4】絶縁環が角型環であることを特徴とする請
    求項1ないし3のいずれかに記載の平型半導体素子。
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