JP3344602B2 - Optical disk master and method of making the same - Google Patents
Optical disk master and method of making the sameInfo
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Description
【０００１】[0001]
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 産業上の利用分野 従来の技術（図１） 発明が解決しようとする課題（図１） 課題を解決するための手段（図２） 作用（図２） 実施例（図２） 発明の効果[Table of Contents] The present invention will be described in the following order. Industrial application Conventional technology (FIG. 1) Problems to be solved by the invention (FIG. 1) Means for solving the problems (FIG. 2) Function (FIG. 2) Embodiment (FIG. 2) Effects of the invention
【０００２】[0002]
【産業上の利用分野】本発明は光デイスク原盤及びその
作成方法に関し、コンパクトデイスクやビデオデイスク
等の光デイスクのスタンパの型となる光デイスク原盤を
作成する際に適用して好適なものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk master and a method of manufacturing the same, and is suitably applied when an optical disk master serving as a stamper type of an optical disk such as a compact disk or a video disk is manufactured. .
【０００３】[0003]
【従来の技術】従来、この種の光デイスク原盤において
は、ガラス盤を用いると共に当該ガラス盤上にレジスト
層を形成し、このレジスト層に所望の信号記録面を形成
するようになされている。ここでこの種の光デイスク原
盤においては、一度使用したガラス盤を再び使用するよ
うになされている。2. Description of the Related Art Conventionally, in this type of optical disk master, a glass disk is used, a resist layer is formed on the glass disk, and a desired signal recording surface is formed on the resist layer. In this type of optical disk master, a glass disk that has been used once is used again.
【０００４】すなわち図２（Ａ）に示すように使用済み
のガラス盤１上に残ったニツケルやレジスト２を除去し
た後、再び軽度の研磨を施すことにより表面に残つた汚
染物質３を除去する（図２（Ｂ））。次にこれを超音波
洗浄して乾燥させることにより図２（Ｃ）に示すよう
な、平滑に研磨され、両面が平行なガラス盤１が形成さ
れる。That is, as shown in FIG. 2 (A), after removing the nickel and the resist 2 remaining on the used glass disk 1, light polishing is performed again to remove the contaminants 3 remaining on the surface. (FIG. 2 (B)). Next, this is ultrasonically cleaned and dried, whereby the glass disk 1 is polished smoothly as shown in FIG.
【０００５】次にこのガラス盤１に対してシラン系又は
チタン系等の薬品により接着性改良処理を施した後、図
２（Ｄ）に示すように、ポジ型フオトレジスト４を塗布
して乾燥させる。次に図２（Ｅ）に示すように、この一
面にカツテイングマシンにより所望の信号を記録した後
現像することにより、図２（Ｆ）に示すように、表面に
凹凸状の信号記録面５を有する光デイスク原盤６が作成
される。[0005] Next, after the glass disk 1 is subjected to an adhesion improving treatment using a silane-based or titanium-based chemical, a positive photoresist 4 is applied and dried as shown in FIG. Let it. Next, as shown in FIG. 2 (E), a desired signal is recorded on this one side by a cutting machine and then developed, so that as shown in FIG. An optical disc master 6 having the following is created.
【０００６】さらにこの光デイスク原盤６を用いること
によりスタンパが作成される。すなわち図２（Ｇ）に示
すように、信号記録面５上にスパツタリング法等により
導電性被膜７を付着させ、この導電性被膜７を電極とし
てメツキ処理することにより、図２（Ｈ）に示すよう
に、信号記録面５に所望の厚さの金属（例えばニツケ
ル）層８を堆積させ、当該金属層８をガラス盤１より引
き離した後、打ち抜き工程を施すことにより、図２
（Ｊ）に示すようなスタンパ９が作成される。Further, a stamper is formed by using the optical disk master 6. That is, as shown in FIG. 2 (G), a conductive film 7 is adhered to the signal recording surface 5 by a sputtering method or the like, and the conductive film 7 is subjected to a plating process as an electrode, as shown in FIG. 2 (H). As described above, a metal (for example, nickel) layer 8 having a desired thickness is deposited on the signal recording surface 5, the metal layer 8 is separated from the glass disk 1, and a punching process is performed.
A stamper 9 as shown in FIG.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種のガ
ラス盤を用いた光デイスク原盤においては、上述したよ
うに一度使用したガラス盤を再度研磨して使用する。と
ころがこの場合、ガラス盤上に傷等の欠陥が存在する
と、これがスタンパに転写されて良好なスタンパが得ら
れなくなることにより、ガラス盤の製作や取扱には特別
な注意及び技術が必要であつた。またガラス盤の再研磨
には、研磨機、研磨排水処理装置、超音波洗浄装置及び
純水製造装置等の大規模な設備が必要となる問題があつ
た。By the way, in an optical disk master using such a glass disk, the glass disk which has been used once is polished and used again as described above. However, in this case, if a defect such as a scratch is present on the glass plate, it is transferred to the stamper, and a good stamper cannot be obtained. . In addition, re-polishing of the glass disk has a problem that large-scale equipment such as a polishing machine, a polishing wastewater treatment device, an ultrasonic cleaning device, and a pure water production device is required.
【０００８】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、傷等の欠陥が無くかつ容易に作成し得る光デイスク
原盤を提案しようとするものである。The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to propose an optical disc master which is free from defects such as scratches and can be easily produced.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、光デイスクを成形するスタンパの
型となる光デイスク原盤２０において、円盤状のプラス
チツク盤１０と、プラスチツク盤１０の第１の面に形成
された紫外線硬化樹脂層１５と、紫外線硬化樹脂層１５
を介してプラスチツク盤１０に形成され、表面に記録信
号に応じた凹凸が形成されたレジスト層１９とを備える
ようにする。According to the present invention, there is provided an optical disk master 20 serving as a stamper mold for forming an optical disk, comprising: a disk-shaped plastic disk 10; UV curable resin layer 15 formed on the surface of
And a resist layer 19 formed on the plastic disk 10 through the substrate and having unevenness on the surface in accordance with the recording signal.
【００１０】また本発明においては、紫外線硬化樹脂層
１５は、ラジカル重合型の紫外線硬化樹脂でなるように
する。In the present invention, the ultraviolet curable resin layer 15 is made of a radical polymerization type ultraviolet curable resin.
【００１１】さらに本発明においては、プラスチツク盤
１０は、予め表面に保護膜１１が形成され、当該保護膜
１１を、紫外線硬化樹脂層１５を形成する前に取り除い
たプラスチツク盤１０であるようにする。Further, in the present invention, the plastic board 10 is formed of a plastic film 10 on which a protective film 11 is formed in advance, and the protective film 11 is removed before forming the ultraviolet curable resin layer 15. .
【００１２】さらに本発明においては、光デイスクを成
形するスタンパの型となる光デイスク原盤２０を作成す
る光デイスク原盤作成方法において、円盤状のプラスチ
ツク盤１０の第１の面に紫外線硬化樹脂層１５を形成
し、紫外線硬化樹脂層１５に紫外線Ｌ１を照射すること
により紫外線硬化樹脂層１５を重合させ、紫外線硬化樹
脂層１５の表面を所定の溶剤１７により洗浄し、洗浄さ
れた紫外線樹脂層１５の表面にレジスト１８を塗布し、
レジスト１８の所望の位置に照射光束を照射してレジス
ト１８を部分露光し、レジスト１８を現像してレジスト
１８に記録信号に応じた凹凸１９を形成することにより
光デイスク原盤２０を作成するようにする。Further, according to the present invention, in an optical disk master forming method for forming an optical disk master 20 which is a mold of a stamper for forming an optical disk, an ultraviolet curable resin layer 15 is formed on the first surface of the disk-shaped plastic disk 10. Is formed, and the ultraviolet curable resin layer 15 is irradiated with ultraviolet rays L1 to polymerize the ultraviolet curable resin layer 15, and the surface of the ultraviolet curable resin layer 15 is washed with a predetermined solvent 17. Apply resist 18 on the surface,
A desired position of the resist 18 is irradiated with an irradiation light beam to partially expose the resist 18, and the resist 18 is developed to form irregularities 19 on the resist 18 according to a recording signal, thereby forming an optical disk master 20. I do.
【００１３】さらに本発明においては、紫外線硬化樹脂
層１５への紫外線Ｌ１の照射を、酸素を含む空気中で行
うようにする。Further, in the present invention, the irradiation of the ultraviolet ray L1 onto the ultraviolet curable resin layer 15 is performed in air containing oxygen.
【００１４】[0014]
【作用】プラスチツク盤１０の第１の面に形成された紫
外線硬化樹脂層１５が、プラスチツク盤１０表面の微細
な傷等を吸収する。この結果信号記録面に傷等の欠陥が
無い光デイスク原盤２０を容易に作成することができ
る。またプラスチツク盤１０を用いたことにより、ガラ
ス盤を用いた場合に必要となる研磨や洗浄に係る手間や
設備を省略することができる。The ultraviolet curable resin layer formed on the first surface of the plastic board absorbs fine scratches on the surface of the plastic board. As a result, it is possible to easily produce the optical disk master 20 having no defect such as a scratch on the signal recording surface. In addition, the use of the plastic plate 10 makes it possible to omit the labor and equipment required for polishing and cleaning, which are required when a glass plate is used.
【００１５】[0015]
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
【００１６】図１は実施例による光デイスク原盤の作成
方法を示し、従来のガラス盤に代えてプラスチツク盤１
０を用いるようになされている。実施例の場合、プラス
チツク盤１０としては、押出し成形により製造された厚
さ 1.2〔mm〕のアクリル板を直径 220〔mm〕の円盤状に
切り出したものを用いるようになされている。FIG. 1 shows a method for producing an optical disc master according to an embodiment, and a plastic disc 1 is used in place of a conventional glass disc.
0 is used. In the case of the embodiment, as the plastic board 10, a 1.2-mm-thick acrylic plate produced by extrusion molding and cut into a disk shape having a diameter of 220 mm is used.
【００１７】このプラスチツク盤１０の表面には、図１
（Ａ）に示すように、予め傷等の損傷を防ぐための保護
フイルム１１が貼着されており、図１で示す光デイスク
原盤作成工程直前にこの保護フイルム１１を剥がすよう
になされている。FIG. 1 shows the surface of the plastic board 10
As shown in FIG. 1A, a protective film 11 for preventing damage such as a scratch is attached in advance, and the protective film 11 is peeled off immediately before the optical disk master forming process shown in FIG.
【００１８】次にプラスチツク盤１０は静電気除去処理
が施された後、図１（Ｂ）に示すように、ターンテーブ
ル１２上に取り付けられて回転され、この状態でプラス
チツク盤１０の中心上方に設けられたノズル１３から
0.2〔μm 〕のフイルタを通して濾過されたラジカル重
合型紫外線硬化樹脂１４を滴下する。Next, after the plastic plate 10 is subjected to a static elimination process, it is mounted on a turntable 12 and rotated as shown in FIG. 1B, and is provided above the center of the plastic plate 10 in this state. From the nozzle 13
The radical polymerization type ultraviolet curable resin 14 filtered through a 0.2 [μm] filter is dropped.
【００１９】実施例の場合、約30〔CC〕のラジカル重合
型紫外線硬化樹脂１４を滴下すると共に、プラスチツク
盤１０を30〔rpm 〕の回転速度で約30秒間回転させて紫
外線硬化樹脂１４をプラスチツク盤１０の全表面に広げ
た後、 300〔rpm 〕の回転速度で 1分間回転させること
により余分なラジカル重合型紫外線樹脂１４を振り切
る。この後このプラスチツク盤１０を30秒間放置する。
因に、ラジカル重合型紫外線硬化樹脂１４としては、プ
ラスチツク盤１０上に一様に広がるように粘性度が数10
0 〜数センチポイズのものが用いられている。In the case of the embodiment, about 30 [CC] of the radical polymerization type ultraviolet curable resin 14 is dropped, and the plastic board 10 is rotated at a rotational speed of 30 [rpm] for about 30 seconds to make the ultraviolet curable resin 14 plastic. After spreading on the entire surface of the board 10, it is rotated at a rotation speed of 300 [rpm] for 1 minute to shake off excess radical polymerization type ultraviolet resin 14. Thereafter, the plastic board 10 is left for 30 seconds.
Incidentally, the radical polymerization type ultraviolet curable resin 14 has a viscosity of several tens so as to spread evenly on the plastic board 10.
Those having 0 to several centipoise are used.
【００２０】この結果プラスチツク盤１０の表面には 1
〔μm 〕〜10〔μm 〕程度のラジカル重合型紫外線硬化
樹脂膜１５が形成され、これによりプラスチツク盤１０
の表面に傷等の微細な凹凸があつた場合でも、ラジカル
重合型紫外線硬化樹脂膜１５により表面を平滑化するこ
とができる。As a result, the surface of the plastic board 10
A radical polymerization type ultraviolet curable resin film 15 having a thickness of about [μm] to 10 [μm] is formed.
Even when fine irregularities such as scratches are formed on the surface of the substrate, the surface can be smoothed by the radical polymerization type ultraviolet curable resin film 15.
【００２１】次に図１（Ｃ）に示すように、空気中で紫
外線Ｌ１を照射することにより、ラジカル重合型紫外線
硬化樹脂膜１５を重合させる。このときラジカル重合型
紫外線硬化樹脂膜１５の表面部分は酸素障害と呼ばれる
効果のため硬化しない一方、表面直下部分では低重合度
を保つて硬化する。ここで例えば酸素の無い空間中で紫
外線Ｌ１を照射すると、ラジカル重合型紫外線硬化樹脂
膜１５が完全に硬化してしまい、次工程でレジストをは
じいてしまう。すなわち実施例においては、酸素障害を
逆に利用することにより次工程でのレジストのはじきを
防止するようになされている。Next, as shown in FIG. 1C, the radical polymerization type ultraviolet curable resin film 15 is polymerized by irradiating ultraviolet rays L1 in the air. At this time, the surface portion of the radical polymerization type ultraviolet curable resin film 15 is not cured due to an effect called oxygen damage, while the portion immediately below the surface is cured while maintaining a low degree of polymerization. Here, for example, when the ultraviolet ray L1 is irradiated in a space without oxygen, the radical polymerization type ultraviolet curable resin film 15 is completely cured, and the resist is repelled in the next step. That is, in the embodiment, the repelling of the resist in the next step is prevented by utilizing the oxygen damage in reverse.
【００２２】次に図１（Ｄ）に示すように、ターンテー
ブル１２によりプラスチツク盤１０を回転させながら、
プラスチツク盤１０の中心上方に設けられたノズル１６
から例えばイソプロピルアルコールのような半硬物は膨
潤させない溶剤１７を滴下することにより、未硬化状態
で表面に残存しているラジカル重合型紫外線硬化樹脂を
除去する。Next, as shown in FIG. 1D, while rotating the plastic disc 10 with the turntable 12,
Nozzle 16 provided above the center of plastic board 10
Thus, a radical polymerization type ultraviolet-curable resin remaining on the surface in an uncured state is removed by dropping a solvent 17 that does not swell semi-hard materials such as isopropyl alcohol.
【００２３】実施例の場合、プラスチツク盤１０を30
〔rpm 〕で回転させながら 0.2〔μm〕のフイルタで濾
過した溶剤１７を滴下した後、 300〔rpm 〕で 2分間回
転させることによりこれを振り切り、この後溶剤１７を
乾燥するようにした。因に、以上の工程は、静電気の発
生によつてプラスチツク盤１０及びラジカル重合型紫外
線硬化樹脂膜１５にダストが付着することを回避するた
め、静電気除去ノズル（図示せず）からイオン化した空
気を導入した雰囲気中で行うようになされている。In the case of the embodiment, the plastic board 10
The solvent 17 filtered through a 0.2 [μm] filter was added dropwise while rotating at [rpm], and then it was shaken off by rotating at 300 [rpm] for 2 minutes, after which the solvent 17 was dried. In the above process, in order to prevent dust from adhering to the plastic plate 10 and the radical polymerization type ultraviolet curable resin film 15 due to generation of static electricity, air ionized from a static electricity removing nozzle (not shown) is removed. It is designed to be performed in the introduced atmosphere.
【００２４】次に、このプラスチツク盤１０をターンテ
ーブル（図示せず）に取付けて回転させながら所定のレ
ジストを滴下することにより、図１（Ｅ）に示すよう
に、ラジカル重合型紫外線硬化樹脂膜１５の表面にレジ
スト層１８を形成し、この後レジスト層１８を60〔°
Ｃ〕の温度で30分加熱して乾燥させる。このときも徐電
ブローのエアーを少しずつ導入することにより、乾燥空
気との摩擦による帯電を防止する。実施例の場合、この
レジスト層１８の厚さは 120〔nm〕となるように選定さ
れている。Next, the plastic board 10 is mounted on a turntable (not shown), and a predetermined resist is dropped while rotating. As shown in FIG. 1 (E), a radical polymerization type ultraviolet curable resin film is formed. Then, a resist layer 18 is formed on the surface of
C) for 30 minutes to dry. Also at this time, by introducing the air of the slow-current blow little by little, electrification due to friction with the dry air is prevented. In the case of the embodiment, the thickness of the resist layer 18 is selected to be 120 [nm].
【００２５】ここで溶剤１７で表面を洗浄された硬化し
たラジカル重合型紫外線硬化樹脂層１５はレジスト１８
の成分と比較的濡れ性が良いことにより、レジスト１８
は紫外線硬化樹脂層によつてはじかれることなくラジカ
ル重合型紫外線硬化樹脂層１５に密着する。次に、カツ
テイングマシーンにレジスト層１８が形成されたプラス
チツク盤１０を取付け、レーザ光を照射することにより
レジスト層１８の所望位置を露光する（図１（Ｆ））。
次に、これを現像して記録信号に応じた凹凸状の信号記
録面１９を形成することにより、光デイスク原盤２０が
作成される。Here, the cured radical polymerization type ultraviolet curable resin layer 15 whose surface has been washed with a solvent 17 is
The resist 18 has relatively good wettability with the
Is adhered to the radical polymerization type ultraviolet curable resin layer 15 without being repelled by the ultraviolet curable resin layer. Next, the plastic plate 10 on which the resist layer 18 is formed is attached to the cutting machine, and a desired position of the resist layer 18 is exposed by irradiating a laser beam (FIG. 1F).
Next, this is developed to form an uneven signal recording surface 19 corresponding to the recording signal, whereby an optical disc master 20 is prepared.
【００２６】次に、この光デイスク原盤２０上にニツケ
ルをほぼ50〔nm〕の厚さにスパツタリングした後、電鋳
法によつてニツケルの厚さが 0.3〔mm〕±0.01〔mm〕に
なるまでメツキ処理を施しメツキ層を形成する。次に光
デイスク原盤２０からメツキ層を引き離し、当該メツキ
層に対して所定の洗浄、打抜き工程を施すことにより、
スタンパが作成される。Next, after nickel is sputtered on the optical disk master 20 to a thickness of approximately 50 [nm], the thickness of the nickel becomes 0.3 [mm] ± 0.01 [mm] by electroforming. A plating process is performed until a plating layer is formed. Next, the plating layer is separated from the optical disc master 20 and the plating layer is subjected to a predetermined cleaning and punching step,
A stamper is created.
【００２７】ここでこのスタンパを射出成形機に取付
け、光デイスクを作成し、この光デイスクの品質を評価
したところ以下のような評価結果が得られた。すなわち
この光デイスクのエラーレートは、いわゆるレツドブツ
ク（Red Book）の規格によると、ランダムエラー訂正後
のＣ１符号で平均 0.2〔％〕、最大 0.925〔％〕、バー
ストエラー訂正後のＣ２符号で平均、最大共に 0〔％〕
であつた。またプツシユプルは 0.042〜0.75の範囲であ
つた。さらに変調度は、１１Ｔで72〜75〔％〕、３Ｔで
31〜35〔％〕であつた。このように従来のようにガラス
盤を用いた場合とほぼ等しい品質を有する光デイスクを
得ることができた。Here, the stamper was mounted on an injection molding machine, an optical disk was prepared, and the quality of the optical disk was evaluated. The following evaluation results were obtained. That is, according to the standard of the so-called Red Book, the error rate of this optical disk is 0.2 [%] on average for C1 code after random error correction, 0.925 [%] at maximum, and average for C2 code after burst error correction. 0% at maximum
It was. Pushur was in the range of 0.042 to 0.75. Further, the modulation degree is 72-75 [%] at 11T, and
It was 31-35 [%]. As described above, an optical disk having almost the same quality as that of a conventional case using a glass disk could be obtained.
【００２８】かくして、プラスチツク盤１０の一面にラ
ジカル重合型紫外線硬化樹脂層１５を形成し、当該ラジ
カル重合型紫外線硬化樹脂層１５を酸素を含んだ空気中
で紫外線Ｌ１を照射して硬化させ、この表面を所定の溶
剤１７で洗浄した後、レジスト層１８を形成し、当該レ
ジスト層１８の所望位置を露光及び現像して所望の信号
記録面１９を形成したことにより、容易かつ廉価に傷等
の欠陥の無い光デイスク原盤２０を実現することができ
る。Thus, a radical polymerization type ultraviolet curable resin layer 15 is formed on one surface of the plastic board 10, and the radical polymerization type ultraviolet curable resin layer 15 is cured by irradiating it with ultraviolet light L1 in air containing oxygen. After cleaning the surface with a predetermined solvent 17, a resist layer 18 is formed, and a desired position of the resist layer 18 is exposed and developed to form a desired signal recording surface 19. An optical disk master 20 without defects can be realized.
【００２９】なお上述の実施例においては、プラスチツ
ク盤１０として押出し成形により製造されたアクリル板
を用いた場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、プラスチツク盤１０としては紫外線硬化樹脂との接
着性を有するものであれば種々のものを適用することが
できる。In the above-described embodiment, the case where an acrylic plate manufactured by extrusion molding is used as the plastic board 10 has been described. However, the present invention is not limited to this. Various materials can be applied as long as they have adhesiveness.
【００３０】例えば押出し成形により製造されたポリカ
ーボネート板を用いるようにしてもよい。ここで厚さ 2
〔mm〕のポリカーボネート板を用い、上述の実施例の場
合と同様の工程を経ることによりスタンパを作成し、こ
のスタンパを評価したところ、エラーレートは、ランダ
ムエラー訂正後のＣ１符号で平均 0.257〔％〕、最大1.
646〔％〕、バーストエラー訂正後のＣ２符号で平均、
最大共に 0〔％〕であつた。またプツシユプルは 0.042
〜0.043 の範囲であつた。さらに変調度は、Ｔ１１で73
〜75〔％〕、Ｔ３で32〜35〔％〕であつた。この結果実
用上十分な品質の光デイスクを作成し得ることが分かつ
た。For example, a polycarbonate plate manufactured by extrusion molding may be used. Here thickness 2
Using a [mm] polycarbonate plate, a stamper was prepared through the same steps as in the above-described embodiment, and the stamper was evaluated. The average error rate was 0.257 [C1 code after random error correction]. %], Up to 1.
646 [%], averaged by C2 code after burst error correction,
The maximum was both 0%. Pushur is 0.042
It was in the range of 0.043. Further, the modulation degree is 73 at T11.
75% and T3 32 to 35%. As a result, it has been found that a practically sufficient quality optical disc can be produced.
【００３１】さらにプラスチツク盤１０として、所謂セ
ルキヤストアクリル板を用いるようにしてもよい。ここ
で厚さ 1.2〔mm〕のセルキヤストアクリル板を用い、上
述の実施例の場合と同様の工程を経ることによりスタン
パを作成し、このスタンパを評価したところ、エラーレ
ートは、ランダムエラー訂正後のＣ１符号で平均 0.1
〔％〕、最大 0.271〔％〕、バーストエラー訂正後のＣ
２符号で平均、最大共に0〔％〕であつた。またプツシ
ユプルは 0.043〜0.045 の範囲であつた。さらに変調度
は、１１Ｔで68〜73〔％〕、３Ｔで33〜35〔％〕であつ
た。この結果十分な品質の光デイスクを作成し得ること
が分かつた。Further, as the plastic board 10, a so-called self-cast acrylic plate may be used. Here, using a 1.2 mm thick Celcast acrylic plate, a stamper was created through the same process as in the above-described embodiment, and the stamper was evaluated. Average of C1 code of 0.1
[%], Maximum 0.271 [%], C after burst error correction
In both codes, the average and maximum were both 0%. Pushur was in the range of 0.043-0.045. Further, the degree of modulation was 68-73 [%] at 11T and 33-35 [%] at 3T. As a result, it has been found that a sufficient quality optical disc can be produced.
【００３２】[0032]
【発明の効果】上述のように本発明によれば、円盤状の
プラスチツク盤と、プラスチツク盤の第１の面に形成さ
れた紫外線硬化樹脂層と、紫外線硬化樹脂層を介してプ
ラスチツク盤に形成され、表面に記録信号に応じた凹凸
が形成されたレジスト層とを設けたことにより、傷等の
欠陥が無くかつ容易に作成し得る光デイスク原盤を得る
ことができる。この結果ガラス盤を用いた際に必要とな
つた煩雑な手間や大規模な設備を省略することができ
る。As described above, according to the present invention, a disk-shaped plastic disk, an ultraviolet-curable resin layer formed on the first surface of the plastic disk, and a plastic disk formed with the ultraviolet-curable resin layer interposed therebetween. By providing a resist layer on the surface of which unevenness is formed in accordance with a recording signal, it is possible to obtain an optical disc master which is free from defects such as scratches and can be easily formed. As a result, complicated labor and large-scale equipment required when using a glass disk can be omitted.
【図１】本発明による光デイスク原盤を作成する際の工
程の一実施例を示す略線的断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a process for producing an optical disc master according to the present invention.
【図２】従来のガラス盤を用いた光デイスク原盤及びス
タンパの作成工程を示す略線的断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of an optical disk master and a stamper using a conventional glass disk.
１……ガラス盤、４、１８……レジスト層、５、１０…
…信号記録面、６、２０……光デイスク原盤、８……メ
ツキ層、９……スタンパ、１０……プラスチツク盤、１
１……保護フイルム、１４……ラジカル重合型紫外線硬
化樹脂、１５……ラジカル重合型紫外線硬化樹脂層、１
７……溶剤、Ｌ１……紫外線。1 ... glass disk, 4, 18 ... resist layer, 5, 10 ...
... Signal recording surface, 6, 20 ... Optical disc master, 8 ... Mechanical layer, 9 ... Stamper, 10 ... Plastic board, 1
1 ... protective film, 14 ... radical polymerization type ultraviolet curable resin, 15 ... radical polymerization type ultraviolet curable resin layer, 1
7 ... Solvent, L1 ... Ultraviolet light.
Claims (5)
光デイスク原盤において、 円盤状のプラスチツク盤と、 上記プラスチツク盤の第１の面に形成された紫外線硬化
樹脂層と、 上記紫外線硬化樹脂層を介して上記プラスチツク盤に形
成され、表面に記録信号に応じた凹凸が形成されたレジ
スト層とを具えたことを特徴とする光デイスク原盤。1. An optical disk master serving as a stamper mold for forming an optical disk, comprising: a disk-shaped plastic disk; an ultraviolet-curable resin layer formed on a first surface of the plastic disk; An optical disc master, comprising: a resist layer formed on the plastic board via a substrate, and formed on the surface thereof with irregularities corresponding to recording signals.
の紫外線硬化樹脂でなることを特徴とする請求項１に記
載の光デイスク原盤。2. The optical disk master according to claim 1, wherein said ultraviolet curable resin layer is made of a radical polymerization type ultraviolet curable resin.
線硬化樹脂層を形成する前に取り除いたプラスチツク盤
であることを特徴とする請求項１に記載の光デイスク原
盤。3. The plastic board according to claim 1, wherein a protective film is formed on the surface of the plastic board in advance, and the protective film is removed before forming the ultraviolet curable resin layer. Optical disk master.
光デイスク原盤を作成する光デイスク原盤作成方法にお
いて、 円盤状のプラスチツク盤の第１の面に紫外線硬化樹脂層
を形成し、 上記紫外線硬化樹脂層に紫外線を照射することにより上
記紫外線硬化樹脂層を重合させ、 上記紫外線硬化樹脂層の表面を所定の溶剤により洗浄
し、 洗浄された上記紫外線樹脂層の表面にレジストを塗布
し、 上記レジストの所望の位置に照射光束を照射して上記レ
ジストを部分露光し、 上記レジストを現像して上記レジストに記録信号に応じ
た凹凸を形成することにより上記光デイスク原盤を作成
することを特徴とする光デイスク原盤作成方法。4. An optical disk master forming method for forming an optical disk master serving as a stamper mold for forming an optical disk, comprising: forming an ultraviolet curable resin layer on a first surface of a disc-shaped plastic disk; Irradiating the resin layer with ultraviolet light to polymerize the ultraviolet curable resin layer, washing the surface of the ultraviolet curable resin layer with a predetermined solvent, applying a resist to the washed surface of the ultraviolet resin layer, Irradiating an irradiation light beam to a desired position of the resist, partially exposing the resist, developing the resist, and forming irregularities corresponding to a recording signal on the resist to form the optical disc master. How to make an optical disc master.
射を、酸素を含む空気中で行うようにしたことを特徴と
する請求項４に記載の光デイスク原盤作成方法。5. The method according to claim 4, wherein the irradiation of the ultraviolet ray to the ultraviolet curable resin layer is performed in air containing oxygen.
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| JP35446993A JP3344602B2 (en) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | Optical disk master and method of making the same |
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| JPH07201085A JPH07201085A (en) | 1995-08-04 |
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