JP3338937B2 - 研磨方法および研磨装置 - Google Patents
研磨方法および研磨装置Info
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- JP3338937B2 JP3338937B2 JP8581591A JP8581591A JP3338937B2 JP 3338937 B2 JP3338937 B2 JP 3338937B2 JP 8581591 A JP8581591 A JP 8581591A JP 8581591 A JP8581591 A JP 8581591A JP 3338937 B2 JP3338937 B2 JP 3338937B2
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- Japan
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- glass substrate
- polishing
- plate
- surface plate
- polishing method
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manipulator (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ワークとしてのフォト
マスクブランク用ガラス基板の主表面を研磨する研磨方
法および研磨装置に関するものである。
マスクブランク用ガラス基板の主表面を研磨する研磨方
法および研磨装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、フォトマスクブランク用ガラス基
板やセラミックス等の板状物を研磨加工する加工機に使
用されるロボットハンドとしては図８（ａ）〜（ｄ）に
示すように構成されたものが知られている。すなわち、
このロボットハンド１は、開閉自在な２つの把持部材
２、３で定盤５上のガラス基板４を把持するもので、各
把持部材２、３はフレーム６の両側に接近離間自在に対
向して配置され、その基部に設けた支軸７、８がフレー
ムに内蔵された、例えば特開平１−２２２８８２号公報
等に開示された駆動装置によって動作されるように構成
されており、接近時に各把持部材２、３の先端部内側面
に対設されたつかみ爪９、１０が定盤５の表面に密接し
た状態でガラス基板４の互いに対向する１組の側面近傍
の周縁部を把持する。各つかみ爪９、１０の内側面には
ワーク把持部としてのＶ字状の凹部１１、１２がそれぞ
れ水平方向に形成され、ガラス基板４の把持動作は該凹
部１１、１２の下側斜面１１ａ、１２ａによりガラス基
板４を定盤５からすくい上げる形で行なわれる。なお、
１４はフレーム６を作業範囲内の任意の位置に移動させ
るロボットハンド１のアームである。
板やセラミックス等の板状物を研磨加工する加工機に使
用されるロボットハンドとしては図８（ａ）〜（ｄ）に
示すように構成されたものが知られている。すなわち、
このロボットハンド１は、開閉自在な２つの把持部材
２、３で定盤５上のガラス基板４を把持するもので、各
把持部材２、３はフレーム６の両側に接近離間自在に対
向して配置され、その基部に設けた支軸７、８がフレー
ムに内蔵された、例えば特開平１−２２２８８２号公報
等に開示された駆動装置によって動作されるように構成
されており、接近時に各把持部材２、３の先端部内側面
に対設されたつかみ爪９、１０が定盤５の表面に密接し
た状態でガラス基板４の互いに対向する１組の側面近傍
の周縁部を把持する。各つかみ爪９、１０の内側面には
ワーク把持部としてのＶ字状の凹部１１、１２がそれぞ
れ水平方向に形成され、ガラス基板４の把持動作は該凹
部１１、１２の下側斜面１１ａ、１２ａによりガラス基
板４を定盤５からすくい上げる形で行なわれる。なお、
１４はフレーム６を作業範囲内の任意の位置に移動させ
るロボットハンド１のアームである。
【０００３】以上の構成により不図示の制御装置に指令
をインプットしておくことにより、ロボットハンド１は
この指令に基づいて動作し、つかみ爪９、１０によりガ
ラス基板４の周縁部を把持し、該ガラス基板４を定盤５
から上方に離間搬送したり、またはガラス基板４を定盤
５上に載置することができる。
をインプットしておくことにより、ロボットハンド１は
この指令に基づいて動作し、つかみ爪９、１０によりガ
ラス基板４の周縁部を把持し、該ガラス基板４を定盤５
から上方に離間搬送したり、またはガラス基板４を定盤
５上に載置することができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ガラス基板
４を特に高精度に研磨した後は、ガラス基板４における
研磨済面との間に、研磨の際供給される研磨液が流入
し、この研磨液の表面張力の影響によりガラス基板４と
定盤５とが強固に密着している。このような状態で定盤
５上に載置されたガラス基板４をつかみ爪９、１０で把
持しようとすると、つかみ爪９、１０の各々の先端部が
ガラス基板４と定盤５との間に挿入され難くなり、結果
としてロボットハンド１によりガラス基板４の把持をし
損じる回数が多くなるという問題があった。また、ガラ
ス基板４と定盤５との密着力に抗して把持力を、支軸
７、８の駆動装置のパワーアップにより得ようとする
と、ガラス基板４を損傷させるという新たな問題を生じ
る。
４を特に高精度に研磨した後は、ガラス基板４における
研磨済面との間に、研磨の際供給される研磨液が流入
し、この研磨液の表面張力の影響によりガラス基板４と
定盤５とが強固に密着している。このような状態で定盤
５上に載置されたガラス基板４をつかみ爪９、１０で把
持しようとすると、つかみ爪９、１０の各々の先端部が
ガラス基板４と定盤５との間に挿入され難くなり、結果
としてロボットハンド１によりガラス基板４の把持をし
損じる回数が多くなるという問題があった。また、ガラ
ス基板４と定盤５との密着力に抗して把持力を、支軸
７、８の駆動装置のパワーアップにより得ようとする
と、ガラス基板４を損傷させるという新たな問題を生じ
る。
【０００５】したがって、本発明は上記したような従来
の問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするとこ
ろは、比較的簡単な構成で定盤上のフォトマスクブラン
ク用ガラス基板を損傷することなく適確に把持すること
ができるようにした研磨方法および研磨装置を提供する
ことにある。
の問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするとこ
ろは、比較的簡単な構成で定盤上のフォトマスクブラン
ク用ガラス基板を損傷することなく適確に把持すること
ができるようにした研磨方法および研磨装置を提供する
ことにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するためになされたもので、その第１の発明は、定盤上
にフォトマスクブランク用のガラス基板を載置し、研磨
液をガラス基板表面に供給して定盤を回転駆動すること
によりガラス基板の表面を研磨加工する研磨方法におい
て、前記ガラス基板の表面を研磨した後、前記ガラス基
板と前記定盤との間に研磨液が介在している側の前記ガ
ラス基板の表面と定盤表面との間にガラス基板を挟持す
るワーク把持部を挿入して前記ガラス基板を定盤から離
間させる際、前記研磨液の表面張力により密着している
前記ガラス基板と前記定盤との密着力を低減するよう
に、面取り面が施された前記ガラス基板側面の下端部近
傍に向かって流体を噴出することを特徴とする。第２の
発明は、上記第１の発明において、前記ガラス基板と前
記定盤との間に介在する研磨液を部分的に除去するよう
にガラス基板側面の下端部近傍に向かって流体を噴出す
ることを特徴とする。第３の発明は、上記第１の発明に
おいて、前記ガラス基板に定盤から離間する方向に力を
付与するようにガラス基板側面の下端部近傍に向かって
流体を噴出することを特徴とする。第４の発明は上記第
１〜第３の発明のうちいずれか１つにおいて、前記ガラ
ス基板は、方形の板状体であって、該板状体の少なくと
も定盤側の稜線には面取り面が施されたガラス基板から
なり、前記定盤表面と前記ガラス基板の面取り面とのな
す角に対し、鋭角のつかみ爪のワーク把持部を前記ガラ
ス基板と定盤との間に研磨液が介在している側の前記ガ
ラス基板の表面と定盤表面との間に挿入してガラス基板
を把持することを特徴とする。第５の発明は上記第４の
発明において、前記ワーク把持部が略Ｖ字状の凹部から
なり、この凹部はガラス基板の下側端縁に設けられた面
取り面と実質的に平行な第１傾斜面と、ガラス基板の上
側端縁に設けられた面取り面と実質的に平行な第２傾斜
面と、つかみ爪の下面のガラス基板側縁と前記第１傾斜
面とを直接または間接的に接続し前記下面に対する傾斜
角が前記第１傾斜面より鋭角である第３傾斜面とを備え
ていることを特徴とする。第６の発明は上記第１〜第５
のうちのいずれか１つの発明の研磨方法を実施するため
の研磨装置であって、前記ガラス基板と前記定盤との間
に研磨液が介在している側のガラス基板の表面と定盤表
面との間に挿入してガラス基板を挟持するワーク把持部
と、研磨液の表面張力により密着しているガラス基板と
定盤との密着力を低減すべくガラス基板側面の下端部近
傍に向かって流体を噴出する噴出手段とを有することを
特徴とする。
するためになされたもので、その第１の発明は、定盤上
にフォトマスクブランク用のガラス基板を載置し、研磨
液をガラス基板表面に供給して定盤を回転駆動すること
によりガラス基板の表面を研磨加工する研磨方法におい
て、前記ガラス基板の表面を研磨した後、前記ガラス基
板と前記定盤との間に研磨液が介在している側の前記ガ
ラス基板の表面と定盤表面との間にガラス基板を挟持す
るワーク把持部を挿入して前記ガラス基板を定盤から離
間させる際、前記研磨液の表面張力により密着している
前記ガラス基板と前記定盤との密着力を低減するよう
に、面取り面が施された前記ガラス基板側面の下端部近
傍に向かって流体を噴出することを特徴とする。第２の
発明は、上記第１の発明において、前記ガラス基板と前
記定盤との間に介在する研磨液を部分的に除去するよう
にガラス基板側面の下端部近傍に向かって流体を噴出す
ることを特徴とする。第３の発明は、上記第１の発明に
おいて、前記ガラス基板に定盤から離間する方向に力を
付与するようにガラス基板側面の下端部近傍に向かって
流体を噴出することを特徴とする。第４の発明は上記第
１〜第３の発明のうちいずれか１つにおいて、前記ガラ
ス基板は、方形の板状体であって、該板状体の少なくと
も定盤側の稜線には面取り面が施されたガラス基板から
なり、前記定盤表面と前記ガラス基板の面取り面とのな
す角に対し、鋭角のつかみ爪のワーク把持部を前記ガラ
ス基板と定盤との間に研磨液が介在している側の前記ガ
ラス基板の表面と定盤表面との間に挿入してガラス基板
を把持することを特徴とする。第５の発明は上記第４の
発明において、前記ワーク把持部が略Ｖ字状の凹部から
なり、この凹部はガラス基板の下側端縁に設けられた面
取り面と実質的に平行な第１傾斜面と、ガラス基板の上
側端縁に設けられた面取り面と実質的に平行な第２傾斜
面と、つかみ爪の下面のガラス基板側縁と前記第１傾斜
面とを直接または間接的に接続し前記下面に対する傾斜
角が前記第１傾斜面より鋭角である第３傾斜面とを備え
ていることを特徴とする。第６の発明は上記第１〜第５
のうちのいずれか１つの発明の研磨方法を実施するため
の研磨装置であって、前記ガラス基板と前記定盤との間
に研磨液が介在している側のガラス基板の表面と定盤表
面との間に挿入してガラス基板を挟持するワーク把持部
と、研磨液の表面張力により密着しているガラス基板と
定盤との密着力を低減すべくガラス基板側面の下端部近
傍に向かって流体を噴出する噴出手段とを有することを
特徴とする。
【０００７】
【作用】本発明においては、ガラス基板側面の下端部近
傍に向かって流体を噴出することで、ガラス基板と定盤
との密着力を低減することができる。例えば、流体とし
て気体を用いた場合、ガラス基板と定盤との間に介在す
る研磨液を部分的に除去し、この結果、表面張力が低減
するので、ガラス基板と定盤との密着力が低減する。ま
た、流体として液体を用いた場合、ガラス基板に定盤か
ら離間する方向に力を付与することができ、ガラス基板
と定盤との密着力が低減する。第１および第２の傾斜面
は、ガラス基板の上下側端縁に設けられた面取り面に密
接し把持する。第３傾斜面はつかみ爪の下面に対する傾
斜角が第１傾斜面より鋭角で、下面と共にエッジを形成
し、ガラス基板と定盤との間に容易に挿入される。
傍に向かって流体を噴出することで、ガラス基板と定盤
との密着力を低減することができる。例えば、流体とし
て気体を用いた場合、ガラス基板と定盤との間に介在す
る研磨液を部分的に除去し、この結果、表面張力が低減
するので、ガラス基板と定盤との密着力が低減する。ま
た、流体として液体を用いた場合、ガラス基板に定盤か
ら離間する方向に力を付与することができ、ガラス基板
と定盤との密着力が低減する。第１および第２の傾斜面
は、ガラス基板の上下側端縁に設けられた面取り面に密
接し把持する。第３傾斜面はつかみ爪の下面に対する傾
斜角が第１傾斜面より鋭角で、下面と共にエッジを形成
し、ガラス基板と定盤との間に容易に挿入される。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
詳細に説明する。図１（ａ）、（ｂ）は本発明に係る研
磨方法および研磨装置の一実施例を示す非把持時の正面
図および一部破断側面図、図２は把持直前の正面図、図
３は把持した状態の正面図、図４は要部拡大図、図５は
ノズルの斜視図である。なお、図中図８と同一構成部品
のものに対しては同一符号を以て示し、その説明を省略
する。これらの図において、本発明の特徴は、ガラス基
板４の裏面と定盤５の表面との間につかみ爪９、１０を
挿入し易くするため、噴出手段２３、２４を各つかみ爪
９、１０に対応して配設し、これによりガラス基板４の
互いに対向する側面４ａ、４ｂの下端部と定盤５の表面
とのなす角部２１（図４参照）に向けて圧縮空気（圧力
３〜４Ｋｇ／ｃｍ2 ）２２を噴出させるようにしたこと
にある。
詳細に説明する。図１（ａ）、（ｂ）は本発明に係る研
磨方法および研磨装置の一実施例を示す非把持時の正面
図および一部破断側面図、図２は把持直前の正面図、図
３は把持した状態の正面図、図４は要部拡大図、図５は
ノズルの斜視図である。なお、図中図８と同一構成部品
のものに対しては同一符号を以て示し、その説明を省略
する。これらの図において、本発明の特徴は、ガラス基
板４の裏面と定盤５の表面との間につかみ爪９、１０を
挿入し易くするため、噴出手段２３、２４を各つかみ爪
９、１０に対応して配設し、これによりガラス基板４の
互いに対向する側面４ａ、４ｂの下端部と定盤５の表面
とのなす角部２１（図４参照）に向けて圧縮空気（圧力
３〜４Ｋｇ／ｃｍ2 ）２２を噴出させるようにしたこと
にある。
【０００９】前記各噴出手段２３、２４は、先端にガラ
ス基板４の下端部と定盤５の表面とのなす角部２１に向
けて圧縮空気２２を噴出する扁平なノズル２５が設けら
れたパイプ２６、一端が不図示のコンプレッサに接続さ
れたチューブ２７、チューブ２７と前記パイプ２６を接
続する中継部材２８、エルボ２９およびニップル３０、
３１等で構成されている。パイプ２６は銅製で、直径５
ｍｍ程度とされる。パイプ２６の基端部はエルボ２９に
ニップル３１を介して接続されている。エルボ２９は水
平面内においてＬ字状に屈曲しており、基端部を把持部
材２、３の上面に配設された中継部材２８の外側面に接
続されている。中継部材２８の上面には、一端を不図示
のコンプレッサに接続されたチューブ２７の他端がニッ
プル３０を介して接続されている。そして、中継部材２
８の内部にはチューブ２７から送られてきた圧縮空気２
２をエルボ２９に導く流路が形成されている。
ス基板４の下端部と定盤５の表面とのなす角部２１に向
けて圧縮空気２２を噴出する扁平なノズル２５が設けら
れたパイプ２６、一端が不図示のコンプレッサに接続さ
れたチューブ２７、チューブ２７と前記パイプ２６を接
続する中継部材２８、エルボ２９およびニップル３０、
３１等で構成されている。パイプ２６は銅製で、直径５
ｍｍ程度とされる。パイプ２６の基端部はエルボ２９に
ニップル３１を介して接続されている。エルボ２９は水
平面内においてＬ字状に屈曲しており、基端部を把持部
材２、３の上面に配設された中継部材２８の外側面に接
続されている。中継部材２８の上面には、一端を不図示
のコンプレッサに接続されたチューブ２７の他端がニッ
プル３０を介して接続されている。そして、中継部材２
８の内部にはチューブ２７から送られてきた圧縮空気２
２をエルボ２９に導く流路が形成されている。
【００１０】フレーム６は図１（ｂ）に示すようにアー
ム１４の下端部に設けたスプライン軸３５に上下動自在
に連結され、またこのスプライン軸３５には前記フレー
ム６を下方に付勢する反力吸収手段としての圧縮コイル
バネ３６が弾装されている。スプライン軸３５は前記フ
レーム６の一端部に配設されたＴ字型部材の軸受孔３７
に相対摺動自在に嵌合され、下端には抜け防止用の鍔３
８が一体に設けられている。その他の構成は図８に示し
た従来構造と略同様である。
ム１４の下端部に設けたスプライン軸３５に上下動自在
に連結され、またこのスプライン軸３５には前記フレー
ム６を下方に付勢する反力吸収手段としての圧縮コイル
バネ３６が弾装されている。スプライン軸３５は前記フ
レーム６の一端部に配設されたＴ字型部材の軸受孔３７
に相対摺動自在に嵌合され、下端には抜け防止用の鍔３
８が一体に設けられている。その他の構成は図８に示し
た従来構造と略同様である。
【００１１】本実施例において、フォトマスクブランク
用のガラス基板４はガラス、石英等によって方形の板状
体に形成され、外形が１２．７ｃｍ角、厚みが２．２ｍ
ｍで、すべての稜線には０．６ｍｍ程度の面取り面（図
４参照）３９ａ、３９ｂが４５°の傾斜角度をもって施
されている。
用のガラス基板４はガラス、石英等によって方形の板状
体に形成され、外形が１２．７ｃｍ角、厚みが２．２ｍ
ｍで、すべての稜線には０．６ｍｍ程度の面取り面（図
４参照）３９ａ、３９ｂが４５°の傾斜角度をもって施
されている。
【００１２】次に、本発明による研磨方法および研磨装
置を説明する。ガラス基板４の研磨は定盤５の表面上に
ガラス基板４を配置し、酸化アルミナ等の粉末を溶質と
する研磨液を供給しながら基板裏面を研磨し、最大粗さ
２ミクロン程度の鏡面に仕上げる。したがって、研磨後
の状態においてはガラス基板４の裏面と定盤５の表面と
の間には研磨液が入り込んでいるため、表面張力の影響
によりガラス基板４と定盤５とは密着している。
置を説明する。ガラス基板４の研磨は定盤５の表面上に
ガラス基板４を配置し、酸化アルミナ等の粉末を溶質と
する研磨液を供給しながら基板裏面を研磨し、最大粗さ
２ミクロン程度の鏡面に仕上げる。したがって、研磨後
の状態においてはガラス基板４の裏面と定盤５の表面と
の間には研磨液が入り込んでいるため、表面張力の影響
によりガラス基板４と定盤５とは密着している。
【００１３】次に、ガラス基板４をロボットハンドで把
持するため、アーム１４を図１の状態から下降させてつ
かみ爪９、１０の下面を定盤５の表面に当接させる。図
２はこの当接した状態を示す。この時、つかみ爪９、１
０からガラス基板４の端部までの距離ｄは５ｍｍ程度で
ある。具体的に述べると、アーム１４の下降量は把持部
材２、３の初期位置から定盤５までの距離Ｌより若干
（２〜３ｍｍ程度）大きく設定されているので、アーム
１４が所定ストローク下降すると、つかみ爪９、１０は
定盤５の表面に押し付けられ、この時の反力はフレーム
６がスプライン３５に沿って上昇し圧縮コイルバネ３６
を圧縮することで吸収される。
持するため、アーム１４を図１の状態から下降させてつ
かみ爪９、１０の下面を定盤５の表面に当接させる。図
２はこの当接した状態を示す。この時、つかみ爪９、１
０からガラス基板４の端部までの距離ｄは５ｍｍ程度で
ある。具体的に述べると、アーム１４の下降量は把持部
材２、３の初期位置から定盤５までの距離Ｌより若干
（２〜３ｍｍ程度）大きく設定されているので、アーム
１４が所定ストローク下降すると、つかみ爪９、１０は
定盤５の表面に押し付けられ、この時の反力はフレーム
６がスプライン３５に沿って上昇し圧縮コイルバネ３６
を圧縮することで吸収される。
【００１４】次に、この押圧状態で把持部材２、３をフ
レーム内蔵のエアシリンダ等の駆動装置によって内側に
移動させると共に、図４に示すようにコンプレッサから
供給される圧縮空気２２を各噴出手段２３、２４のノズ
ル２５からガラス基板４の側面４ａ、４ｂと定盤５との
なす角部２１に向けて噴出させる。すると、ガラス基板
４の周縁部と定盤５との間の一部研磨液が部分的に除去
されて表面張力が低減する。この結果、ガラス基板４と
定盤５との密着力が低減するので、つかみ爪９、１０の
先端部をガラス基板４の裏面と定盤５の表面との間に容
易に挿入することができ、所定ストローク内側に移動す
ることで、図３に示すようにつかみ爪９、１０のＶ字状
凹部１１、１２がガラス基板４を把持する。しかる後、
ロボットハンドは制御部からの指令に基づき把持したガ
ラス基板４を定盤５から所定の位置へ移動させる。
レーム内蔵のエアシリンダ等の駆動装置によって内側に
移動させると共に、図４に示すようにコンプレッサから
供給される圧縮空気２２を各噴出手段２３、２４のノズ
ル２５からガラス基板４の側面４ａ、４ｂと定盤５との
なす角部２１に向けて噴出させる。すると、ガラス基板
４の周縁部と定盤５との間の一部研磨液が部分的に除去
されて表面張力が低減する。この結果、ガラス基板４と
定盤５との密着力が低減するので、つかみ爪９、１０の
先端部をガラス基板４の裏面と定盤５の表面との間に容
易に挿入することができ、所定ストローク内側に移動す
ることで、図３に示すようにつかみ爪９、１０のＶ字状
凹部１１、１２がガラス基板４を把持する。しかる後、
ロボットハンドは制御部からの指令に基づき把持したガ
ラス基板４を定盤５から所定の位置へ移動させる。
【００１５】なお、上記実施例は噴出手段２３、２４か
ら噴出する流体として圧縮空気２２を用いたが、これに
限らず水などの液体あるいは気体と液体との混合流体で
あってもよい。また、本実施例は噴出手段２３、２４の
パイプ２６をつかみ爪９、１０の前方にその先端、すな
わちノズル２５部が位置するように配置したが、つかみ
爪９、１０の後方でもよいし、更につかみ爪９、１０の
内部に流路を形成し、ノズルをつかみ爪９、１０のＶ字
状凹部１１、１２に開口させてもよい。更にまた、本実
施例はつかみ爪９、１０が定盤５に当接した時に噴出手
段２３、２４から圧縮空気２２が噴出するように空気を
制御したが、例えばつかみ爪９、１０が定盤５の表面上
を摺動して基板４に接する少し前または接した時に圧縮
空気が噴出するようにしてもよい。また、噴出する流体
はガラス基板４と定盤５とのなす角部２１に必ずしも向
かう必要はなく、例えば流体と定盤５の表面に当たって
しかる後、前記角部２１に向かうようにしてガラス基板
４と定盤との密着力を低減させるようにしてもよい。
ら噴出する流体として圧縮空気２２を用いたが、これに
限らず水などの液体あるいは気体と液体との混合流体で
あってもよい。また、本実施例は噴出手段２３、２４の
パイプ２６をつかみ爪９、１０の前方にその先端、すな
わちノズル２５部が位置するように配置したが、つかみ
爪９、１０の後方でもよいし、更につかみ爪９、１０の
内部に流路を形成し、ノズルをつかみ爪９、１０のＶ字
状凹部１１、１２に開口させてもよい。更にまた、本実
施例はつかみ爪９、１０が定盤５に当接した時に噴出手
段２３、２４から圧縮空気２２が噴出するように空気を
制御したが、例えばつかみ爪９、１０が定盤５の表面上
を摺動して基板４に接する少し前または接した時に圧縮
空気が噴出するようにしてもよい。また、噴出する流体
はガラス基板４と定盤５とのなす角部２１に必ずしも向
かう必要はなく、例えば流体と定盤５の表面に当たって
しかる後、前記角部２１に向かうようにしてガラス基板
４と定盤との密着力を低減させるようにしてもよい。
【００１６】図６はつかみ爪の他の実施例を示す斜視図
である。この実施例はガラス基板４の裏面と定盤表面と
の間につかみ爪９（爪１０も同様）を挿入し易くするた
め、つかみ爪９に４つの斜面、すなわちガラス基板４の
下側端縁に設けられた面取り面３９ａと平行な第１下側
斜面（第１傾斜面）５０と、ガラス基板４の上側端縁に
設けられた面取り面３９ｂと平行で前記第１下側斜面５
０と直交する第１上側斜面（第２傾斜面）５１と、つか
み爪９の下面５２の基板側端縁５２ａと前記第１下側斜
面５０とを接続し前記下面５１に対する傾斜角Θが前記
第１下側斜面５０の傾斜角度α（４５°）より鋭角
（例：３０°）で、前記下面５２と共にエッジ５３を形
成する第２下側斜面（第３傾斜面）５４と、つかみ爪９
の上面５５の基板側端縁５６ａと前記第１上側斜面５１
とを接続し前記上面５５に対する傾斜角βが前記第１上
側斜面５１の傾斜角度γ（４５°）より鋭角（３０°）
で、前記上面５５と共にエッジ５７を形成する第２上側
斜面（第４傾斜面）５８とからなる略Ｖ字状の凹部１１
を設けたものである。なお、つかみ爪９の材質として
は、ポリエステル・エーテル・ケトン等の樹脂が使用さ
れる。
である。この実施例はガラス基板４の裏面と定盤表面と
の間につかみ爪９（爪１０も同様）を挿入し易くするた
め、つかみ爪９に４つの斜面、すなわちガラス基板４の
下側端縁に設けられた面取り面３９ａと平行な第１下側
斜面（第１傾斜面）５０と、ガラス基板４の上側端縁に
設けられた面取り面３９ｂと平行で前記第１下側斜面５
０と直交する第１上側斜面（第２傾斜面）５１と、つか
み爪９の下面５２の基板側端縁５２ａと前記第１下側斜
面５０とを接続し前記下面５１に対する傾斜角Θが前記
第１下側斜面５０の傾斜角度α（４５°）より鋭角
（例：３０°）で、前記下面５２と共にエッジ５３を形
成する第２下側斜面（第３傾斜面）５４と、つかみ爪９
の上面５５の基板側端縁５６ａと前記第１上側斜面５１
とを接続し前記上面５５に対する傾斜角βが前記第１上
側斜面５１の傾斜角度γ（４５°）より鋭角（３０°）
で、前記上面５５と共にエッジ５７を形成する第２上側
斜面（第４傾斜面）５８とからなる略Ｖ字状の凹部１１
を設けたものである。なお、つかみ爪９の材質として
は、ポリエステル・エーテル・ケトン等の樹脂が使用さ
れる。
【００１７】このような構成においては、つかみ爪９の
下側エッジ部５３をガラス基板４と定盤の間により一層
容易に進入させることができ、ガラス基板４の保持が確
実である。
下側エッジ部５３をガラス基板４と定盤の間により一層
容易に進入させることができ、ガラス基板４の保持が確
実である。
【００１８】図７はつかみ爪のさらに他の実施例を示す
側面図である。この実施例は図６に示した第２上側斜面
５８を省略し、第１下側斜面（第１傾斜面）５０、第２
下側斜面（第３傾斜面）５４および第１上側斜面（第２
傾斜面）５１とで略Ｖ字状の凹部１１を形成し、下側エ
ッジ部５３を上側エッジ部５７より前方へ延在させたも
のである。
側面図である。この実施例は図６に示した第２上側斜面
５８を省略し、第１下側斜面（第１傾斜面）５０、第２
下側斜面（第３傾斜面）５４および第１上側斜面（第２
傾斜面）５１とで略Ｖ字状の凹部１１を形成し、下側エ
ッジ部５３を上側エッジ部５７より前方へ延在させたも
のである。
【００１９】このような構成においても上記実施例と同
様、つかみ爪９の下側エッジ部５３をガラス基板４と定
盤の間に容易に進入させることができ、ガラス基板４を
確実に把持することができるものである。
様、つかみ爪９の下側エッジ部５３をガラス基板４と定
盤の間に容易に進入させることができ、ガラス基板４を
確実に把持することができるものである。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る研磨方
法および研磨装置は、ワーク把持部によって定盤上のガ
ラス基板を把持する際、噴出出段によって流体をガラス
基板に向けて噴出し、ガラス基板と定盤との密着力を低
減させるようにしたので、ワーク把持部によってガラス
基板を容易に且つ確実に把持することができ、また把持
するための力を大きくする必要がないため、ガラス基板
の損傷を防止することができる。また、つかみ爪のワー
ク把持部を、ガラス基板の上下側端縁に設けられた面取
り面に密接する第１および第２傾斜面と、つかみ爪の下
面に対する傾斜角が第１傾斜面より鋭角で、下面と共に
エッジを形成する第３傾斜面とからなる略Ｖ字状の凹部
で構成したので、ガラス基板と定盤との間につかみ爪を
容易に挿入することができ、ガラス基板の把持が確実で
ある。
法および研磨装置は、ワーク把持部によって定盤上のガ
ラス基板を把持する際、噴出出段によって流体をガラス
基板に向けて噴出し、ガラス基板と定盤との密着力を低
減させるようにしたので、ワーク把持部によってガラス
基板を容易に且つ確実に把持することができ、また把持
するための力を大きくする必要がないため、ガラス基板
の損傷を防止することができる。また、つかみ爪のワー
ク把持部を、ガラス基板の上下側端縁に設けられた面取
り面に密接する第１および第２傾斜面と、つかみ爪の下
面に対する傾斜角が第１傾斜面より鋭角で、下面と共に
エッジを形成する第３傾斜面とからなる略Ｖ字状の凹部
で構成したので、ガラス基板と定盤との間につかみ爪を
容易に挿入することができ、ガラス基板の把持が確実で
ある。
【図１】 （ａ）、（ｂ）は本発明に係る研磨方法およ
び研磨装置の一実施例を示す非把持時の正面図および一
部破断側面図である。
び研磨装置の一実施例を示す非把持時の正面図および一
部破断側面図である。
【図２】 把持直前の正面図である。
【図３】 把持した状態の正面図である。
【図４】 要部拡大図である。
【図５】 ノズルの斜視図である。
【図６】 つかみ爪の他の実施例を示す斜視図である。
【図７】 つかみ爪のさらに他の実施例を示す斜視図で
ある。
ある。
【図８】（ａ）〜（ｄ）は従来のロボットハンドを示す
平面図、側面図、把持状態の正面図および把持直前の正
面図である。
平面図、側面図、把持状態の正面図および把持直前の正
面図である。
１…ロボットハンド、 ２、３…把持部材、４…ガラス
基板、４ａ、４ｂ…側面、５…定盤、６…フレーム、
９、１０…つかみ爪、１１、１２…凹部、２２…圧縮空
気、２３、２４…噴出手段、２５…ノズル、３９ａ、３
９ｂ…面取り面、５０…第１下側斜面（第１傾斜面）、
５１…第１上側斜面（第２傾斜面）、５２…下面、５３
…エッジ、５４…第２下側斜面（第３傾斜面）、５７…
エッジ、５８…第２上側斜面（第４傾斜面）。
基板、４ａ、４ｂ…側面、５…定盤、６…フレーム、
９、１０…つかみ爪、１１、１２…凹部、２２…圧縮空
気、２３、２４…噴出手段、２５…ノズル、３９ａ、３
９ｂ…面取り面、５０…第１下側斜面（第１傾斜面）、
５１…第１上側斜面（第２傾斜面）、５２…下面、５３
…エッジ、５４…第２下側斜面（第３傾斜面）、５７…
エッジ、５８…第２上側斜面（第４傾斜面）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−109688（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−295840（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−93493（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭59−124091（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−134245（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−128632（ＪＰ，Ｕ)
Claims (6)
- 【請求項１】 定盤上にフォトマスクブランク用のガラ
ス基板を載置し、研磨液をこのガラス基板の表面に供給
して定盤を回転駆動することにより前記ガラス基板の表
面を研磨加工する研磨方法において、 前記ガラス基板の表面を研磨した後、前記ガラス基板と
前記定盤との間に研磨液が介在している側の前記ガラス
基板の表面と定盤表面との間にガラス基板を挟持するワ
ーク把持部を挿入して前記ガラス基板を定盤から離間さ
せる際、 前記研磨液の表面張力により密着している前記ガラス基
板と前記定盤との密着力を低減するように、面取り面が
施された前記ガラス基板側面の下端部近傍に向かって流
体を噴出することを特徴とする研磨方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の研磨方法において、 前記ガラス基板と前記定盤との間に介在する研磨液を部
分的に除去するようにガラス基板側面の下端部近傍に向
かって流体を噴出することを特徴とする研磨方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の研磨方法において、 前記ガラス基板に定盤から離間する方向に力を付与する
ようにガラス基板側面の下端部近傍に向かって流体を噴
出することを特徴とする研磨方法。 - 【請求項４】 請求項１〜３のうちのいずれか１つに記
載の研磨方法において、 前記ガラス基板は、方形の板状体であって、該板状体の
少なくとも定盤側の稜線には面取り面が施されたガラス
基板からなり、前記定盤表面と前記ガラス基板の面取り
面とのなす角に対し、鋭角のつかみ爪のワーク把持部を
前記ガラス基板と定盤との間に研磨液が介在している側
の前記ガラス基板の表面と定盤表面との間に挿入してガ
ラス基板を把持することを特徴とする研磨方法。 - 【請求項５】 請求項４記載の研磨方法において、 前記ワーク把持部が略Ｖ字状の凹部からなり、この凹部
はガラス基板の下側端縁に設けられた面取り面と実質的
に平行な第１傾斜面と、ガラス基板の上側端縁に設けら
れた面取り面と実質的に平行な第２傾斜面と、つかみ爪
の下面のガラス基板側縁と前記第１傾斜面とを直接また
は間接的に接続し前記下面に対する傾斜角が前記第１傾
斜面より鋭角である第３傾斜面とを備えていることを特
徴とする研磨方法。 - 【請求項６】 請求項１〜５のうちのいずれか１つに記
載の研磨方法を実施するための研磨装置であって、 前記ガラス基板と前記定盤との間に研磨液が介在してい
る側のガラス基板の表面と定盤表面との間に挿入してガ
ラス基板を挟持するワーク把持部と、研磨液の表面張力
により密着しているガラス基板と定盤との密着力を低減
すべくガラス基板側面の下端部近傍に向かって流体を噴
出する噴出手段とを有することを特徴とする研磨装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8581591A JP3338937B2 (ja) | 1990-03-29 | 1991-03-27 | 研磨方法および研磨装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7888690 | 1990-03-29 | ||
| JP2-78886 | 1990-03-29 | ||
| JP8581591A JP3338937B2 (ja) | 1990-03-29 | 1991-03-27 | 研磨方法および研磨装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04223886A JPH04223886A (ja) | 1992-08-13 |
| JP3338937B2 true JP3338937B2 (ja) | 2002-10-28 |
Family
ID=26419948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8581591A Expired - Lifetime JP3338937B2 (ja) | 1990-03-29 | 1991-03-27 | 研磨方法および研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3338937B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5582313B2 (ja) * | 2011-06-28 | 2014-09-03 | 株式会社安川電機 | ロボットシステム |
| JP2013193130A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-30 | Seiko Epson Corp | ロボットハンド、ロボット装置及びロボットハンドの駆動方法 |
| US11413765B2 (en) | 2017-04-03 | 2022-08-16 | Sony Corporation | Robotic device, production device for electronic apparatus, and production method |
-
1991
- 1991-03-27 JP JP8581591A patent/JP3338937B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04223886A (ja) | 1992-08-13 |
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