JP3328378B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JP3328378B2 JP3328378B2 JP17025693A JP17025693A JP3328378B2 JP 3328378 B2 JP3328378 B2 JP 3328378B2 JP 17025693 A JP17025693 A JP 17025693A JP 17025693 A JP17025693 A JP 17025693A JP 3328378 B2 JP3328378 B2 JP 3328378B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- frequency
- circuit
- welding
- power
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- General Induction Heating (AREA)
- Control Of Voltage And Current In General (AREA)
- Motor Or Generator Cooling System (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は高周波加熱装置に関
し、特に、金属管の高周波電縫溶接に使用する高周波加
熱装置に関する。
し、特に、金属管の高周波電縫溶接に使用する高周波加
熱装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】製管溶接法には、サブマージアーク溶接
法、プラズマ溶接法、ＴＩＧ溶接法、高周波電縫溶接法
などがあり、このうち高周波電縫溶接法は製管溶接プロ
セスの中で最も高能率なプロセスであることから、一般
に広く採用されている。高周波電縫溶接法は、図４に示
すように、金属帯の両溶接端面５１，５２がＶ字形を形
成するようにロールで連続的に環状に曲げ成形してオー
プンパイプ５０となした後、高周波加熱装置Ｃからコン
タクトチップ５６，５６を介して両溶接端面５１，５２
に高周波電流を通じて加熱溶融させ、次いでスクイズロ
ール５５によって側圧を加え、両溶接端面５１，５２を
衝合溶接して金属管５４を製造する方法である。
法、プラズマ溶接法、ＴＩＧ溶接法、高周波電縫溶接法
などがあり、このうち高周波電縫溶接法は製管溶接プロ
セスの中で最も高能率なプロセスであることから、一般
に広く採用されている。高周波電縫溶接法は、図４に示
すように、金属帯の両溶接端面５１，５２がＶ字形を形
成するようにロールで連続的に環状に曲げ成形してオー
プンパイプ５０となした後、高周波加熱装置Ｃからコン
タクトチップ５６，５６を介して両溶接端面５１，５２
に高周波電流を通じて加熱溶融させ、次いでスクイズロ
ール５５によって側圧を加え、両溶接端面５１，５２を
衝合溶接して金属管５４を製造する方法である。
【０００３】図５はこのような高周波電縫溶接法におい
て従来から一般的に用いられている高周波加熱装置Ｃの
構成を示すブロック図である。この高周波加熱装置Ｃ
は、降圧トランス３２、サイリスタ回路３３、昇圧トラ
ンス３４、整流回路３５、フィルタ回路３６、発振回路
３７およびカーレントトランス３８を含み、高圧トラン
ス３２は交流電源３１に接続され、カーレントトランス
３８は負荷回路３９であるオープンパイプ５０に接続さ
れる。交流電源３１から供給された３相の商用周波数電
圧は、降圧トランス３２によって所定の電圧に降圧さ
れ、さらにはサイリスタ回路３３において回路素子のス
イッチング動作により所定の出力に調整される。次いで
昇圧トランス３４を経て整流回路３５で直流電圧に変換
され、コンデンサなどよりなるフィルタ回路３６にて平
滑化された後、発振回路３７に印加される。発振回路３
７は、真空管、コイル、抵抗およびコンデンサなどより
なる回路であり、真空管の発振現象を利用して通常２０
０ｋＨｚ〜４５０ｋＨｚ程度の高周波電力ＷRFを発生す
る。この高周波電力ＷRFはカーレントトランス３８によ
って出力変換された後、最終的にワークコイルあるいは
コンタクトチップ５６，５６を介して負荷回路３９であ
るオープンパイプ５０に供給される。
て従来から一般的に用いられている高周波加熱装置Ｃの
構成を示すブロック図である。この高周波加熱装置Ｃ
は、降圧トランス３２、サイリスタ回路３３、昇圧トラ
ンス３４、整流回路３５、フィルタ回路３６、発振回路
３７およびカーレントトランス３８を含み、高圧トラン
ス３２は交流電源３１に接続され、カーレントトランス
３８は負荷回路３９であるオープンパイプ５０に接続さ
れる。交流電源３１から供給された３相の商用周波数電
圧は、降圧トランス３２によって所定の電圧に降圧さ
れ、さらにはサイリスタ回路３３において回路素子のス
イッチング動作により所定の出力に調整される。次いで
昇圧トランス３４を経て整流回路３５で直流電圧に変換
され、コンデンサなどよりなるフィルタ回路３６にて平
滑化された後、発振回路３７に印加される。発振回路３
７は、真空管、コイル、抵抗およびコンデンサなどより
なる回路であり、真空管の発振現象を利用して通常２０
０ｋＨｚ〜４５０ｋＨｚ程度の高周波電力ＷRFを発生す
る。この高周波電力ＷRFはカーレントトランス３８によ
って出力変換された後、最終的にワークコイルあるいは
コンタクトチップ５６，５６を介して負荷回路３９であ
るオープンパイプ５０に供給される。
【０００４】ところで、金属管５４の品質を最良に保つ
ためには、金属管５４の肉厚や溶接速度、溶接端面５
１，５２の突き合せ状態などに応じて高周波電力ＷRFを
最適値に調整する必要がある。すなわち、高周波電力Ｗ
RFが低い場合は両溶接端面５１，５２が十分に溶融しな
いため溶接部強度が不十分な冷接欠陥を発生させ、逆に
高周波電力ＷRFが高い場合はペネトレータと呼ばれる微
小な酸化物欠陥が両溶接端面５１，５２間に在留する。
ためには、金属管５４の肉厚や溶接速度、溶接端面５
１，５２の突き合せ状態などに応じて高周波電力ＷRFを
最適値に調整する必要がある。すなわち、高周波電力Ｗ
RFが低い場合は両溶接端面５１，５２が十分に溶融しな
いため溶接部強度が不十分な冷接欠陥を発生させ、逆に
高周波電力ＷRFが高い場合はペネトレータと呼ばれる微
小な酸化物欠陥が両溶接端面５１，５２間に在留する。
【０００５】そのため実生産においては、溶接作業者が
溶接後のビード外観、赤熱状態およびスパッタ（飛散溶
鋼）の発生状態などを観察して高周波電力ＷRFの過不足
を経験的に判断し、高周波電力ＷRFを調整していた。し
かしながら、このような作業者の経験的判断に基づいた
方法では個人差が大きく、正確な電力設定を行なうこと
は困難であり、その上作業者に高い熟練度が要求される
などの問題点があった。
溶接後のビード外観、赤熱状態およびスパッタ（飛散溶
鋼）の発生状態などを観察して高周波電力ＷRFの過不足
を経験的に判断し、高周波電力ＷRFを調整していた。し
かしながら、このような作業者の経験的判断に基づいた
方法では個人差が大きく、正確な電力設定を行なうこと
は困難であり、その上作業者に高い熟練度が要求される
などの問題点があった。
【０００６】このため最近では、高周波電力ＷRFの自動
制御が種々試みられており、それらは特公昭５４−３３
７８４号公報や特公昭５４−４０４５４号公報に開示さ
れている。これらに開示されているごとく、一般的に電
縫溶接における溶接点５３は、溶接線方向に周期的に変
動する。これは両溶接端面５１，５２を流れる溶接電流
によって誘起される電磁力で溶融金属が溶接端面５１，
５２の外側へ押出され、両溶接端面５１，５２の接近速
度が遅くなることによって生ずるものである。このよう
な溶接点５３の周期的変動は高周波電流パスを変化させ
るため、インピーダンスが周期的に増減するとともに高
周波電圧および高周波電流も同様に変化する。これらは
上述のような溶接点５３の周期的な変動現象と溶接品質
との関係を見出し、溶接点５３の変動を溶接現象特性値
として検出して、この特性値に基づいたフィードバック
制御を行なうものである。具体的には、溶接点５３の周
期的変動を示す特性値から高周波電力の過不足を検知
し、これに基づいてサイリスタ回路３３の点弧位相角を
調整している。これにより発振回路３７の真空管のプレ
ート電圧が調整され、高周波電力が最適値に調整され
る。
制御が種々試みられており、それらは特公昭５４−３３
７８４号公報や特公昭５４−４０４５４号公報に開示さ
れている。これらに開示されているごとく、一般的に電
縫溶接における溶接点５３は、溶接線方向に周期的に変
動する。これは両溶接端面５１，５２を流れる溶接電流
によって誘起される電磁力で溶融金属が溶接端面５１，
５２の外側へ押出され、両溶接端面５１，５２の接近速
度が遅くなることによって生ずるものである。このよう
な溶接点５３の周期的変動は高周波電流パスを変化させ
るため、インピーダンスが周期的に増減するとともに高
周波電圧および高周波電流も同様に変化する。これらは
上述のような溶接点５３の周期的な変動現象と溶接品質
との関係を見出し、溶接点５３の変動を溶接現象特性値
として検出して、この特性値に基づいたフィードバック
制御を行なうものである。具体的には、溶接点５３の周
期的変動を示す特性値から高周波電力の過不足を検知
し、これに基づいてサイリスタ回路３３の点弧位相角を
調整している。これにより発振回路３７の真空管のプレ
ート電圧が調整され、高周波電力が最適値に調整され
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の方法では、フィードバックによる制御対象がサイリス
タ回路３３であるために過渡応答の点で商用周波数に起
因する限界があり、制御応答性が悪かった。そのため従
来の方法では、数百ｍｓｅｃ程度の比較的長いピッチで
変動する溶接現象を制御することは可能であるが、数ｍ
ｓｅｃ〜数十ｍｓｅｃ程度、あるいはそれ以下の短い時
間間隔で変動する溶接現象そのものをリアルタイムで制
御することは困難であった。
の方法では、フィードバックによる制御対象がサイリス
タ回路３３であるために過渡応答の点で商用周波数に起
因する限界があり、制御応答性が悪かった。そのため従
来の方法では、数百ｍｓｅｃ程度の比較的長いピッチで
変動する溶接現象を制御することは可能であるが、数ｍ
ｓｅｃ〜数十ｍｓｅｃ程度、あるいはそれ以下の短い時
間間隔で変動する溶接現象そのものをリアルタイムで制
御することは困難であった。
【０００８】この発明はかかる従来の欠点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、溶接現象を
高速で制御することができる高周波加熱装置を提供する
ことにある。
れたものであり、その目的とするところは、溶接現象を
高速で制御することができる高周波加熱装置を提供する
ことにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明の高周波加熱装
置は、設定された高周波電力に応じて直流電圧を発生す
る直流電圧発生手段と、前記直流電圧に応じてパルス信
号を発生するパルス信号発生手段と、所定の直流電源電
圧を発生する直流電源電圧発生手段と、前記パルス信号
に応じて前記直流電源電圧をスイッチングするパワート
ランジスタと、前記パワートランジスタのスイッチング
に応じて高周波電力を発生する高周波電力発生手段と、
前記高周波電力の周期的変動分を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に応じて前記直流電圧を増減さ
せる直流電圧増減手段とを含めて構成される。
置は、設定された高周波電力に応じて直流電圧を発生す
る直流電圧発生手段と、前記直流電圧に応じてパルス信
号を発生するパルス信号発生手段と、所定の直流電源電
圧を発生する直流電源電圧発生手段と、前記パルス信号
に応じて前記直流電源電圧をスイッチングするパワート
ランジスタと、前記パワートランジスタのスイッチング
に応じて高周波電力を発生する高周波電力発生手段と、
前記高周波電力の周期的変動分を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に応じて前記直流電圧を増減さ
せる直流電圧増減手段とを含めて構成される。
【００１０】また、前記直流電源電圧発生手段は、交流
電圧を直流電源電圧に変換するためのサイリスタおよび
整流回路を含むこととしてもよい。
電圧を直流電源電圧に変換するためのサイリスタおよび
整流回路を含むこととしてもよい。
【００１１】
【作用】この発明に係る高周波加熱装置は、パワートラ
ンジスタのスイッチングに応じて高周波電力を発生する
高周波電力発生手段と、高周波電力の周期的変動分を検
出する検出手段とを備えており、検出した高周波電力の
周期的変動分に応じてパワートランスのスイッチングを
制御するようになっている。したがって、サイリスタの
点弧位相角を調整することによって高周波電力を制御し
ていた従来に比べ、高周波電力を高速で制御することが
でき、溶接現象を高速で制御することができる。
ンジスタのスイッチングに応じて高周波電力を発生する
高周波電力発生手段と、高周波電力の周期的変動分を検
出する検出手段とを備えており、検出した高周波電力の
周期的変動分に応じてパワートランスのスイッチングを
制御するようになっている。したがって、サイリスタの
点弧位相角を調整することによって高周波電力を制御し
ていた従来に比べ、高周波電力を高速で制御することが
でき、溶接現象を高速で制御することができる。
【００１２】
【実施例】図１はこの発明の一実施例による高周波加熱
装置Ａの構成を示すブロック図である。この高周波加熱
装置Ａは、降圧トランス２、整流回路３、フィルタ回路
４、パワートランジスタ回路５、昇圧トランス６、整流
回路７、フィルタ回路８、発振回路９、カーレントトラ
ンス１０、整流回路１２、微分回路１３、加減算器１
４、パルス発生回路１５および直流電圧発生回路１６を
含み、降圧トランス２は交流電源１に接続され、カーレ
ントトランス１０は負荷回路１１である図４で説明した
オープンパイプ５０に接続される。
装置Ａの構成を示すブロック図である。この高周波加熱
装置Ａは、降圧トランス２、整流回路３、フィルタ回路
４、パワートランジスタ回路５、昇圧トランス６、整流
回路７、フィルタ回路８、発振回路９、カーレントトラ
ンス１０、整流回路１２、微分回路１３、加減算器１
４、パルス発生回路１５および直流電圧発生回路１６を
含み、降圧トランス２は交流電源１に接続され、カーレ
ントトランス１０は負荷回路１１である図４で説明した
オープンパイプ５０に接続される。
【００１３】交流電源１から供給された３相の商用周波
数電圧は、降圧トランス２によって所定の電圧に降圧さ
れ、さらには整流回路３によって直流電圧に変換され
る。この直流電圧は幾分脈流を含んでいるため、次のコ
ンデンサなどよりなるフィルタ回路４で平滑化される。
平滑化された直流電圧はパワートランジスタ回路５に直
流電源電圧ＶCCとして与えられる。
数電圧は、降圧トランス２によって所定の電圧に降圧さ
れ、さらには整流回路３によって直流電圧に変換され
る。この直流電圧は幾分脈流を含んでいるため、次のコ
ンデンサなどよりなるフィルタ回路４で平滑化される。
平滑化された直流電圧はパワートランジスタ回路５に直
流電源電圧ＶCCとして与えられる。
【００１４】一方、溶接作業者が溶接しようとするオー
プンパイプ５０に応じた高周波電力ＷRFをたとえばダイ
ヤルにより設定すると、直流電圧発生回路１６は、それ
に応じた直流電圧ＶS を加減算器１４を介してパルス発
生回路１５に出力する。パルス回路１５は、図２に示す
ように、直流電圧ＶS に応じた時間幅ＴONの正パルスＰ
+ （ＴON）および負パルスＰ- （ＴON）を所定の周期Ｔ
（ただし、０≦ＴON≦Ｔである。）で交互に出力する。
この交流パルス信号Ｐはパワートランジスタ回路５にス
イッチング信号として与えられる。
プンパイプ５０に応じた高周波電力ＷRFをたとえばダイ
ヤルにより設定すると、直流電圧発生回路１６は、それ
に応じた直流電圧ＶS を加減算器１４を介してパルス発
生回路１５に出力する。パルス回路１５は、図２に示す
ように、直流電圧ＶS に応じた時間幅ＴONの正パルスＰ
+ （ＴON）および負パルスＰ- （ＴON）を所定の周期Ｔ
（ただし、０≦ＴON≦Ｔである。）で交互に出力する。
この交流パルス信号Ｐはパワートランジスタ回路５にス
イッチング信号として与えられる。
【００１５】したがって、パワートランジスタ回路５か
らは交流パルス信号Ｐと相似の波形の交流パルス電圧ｖ
O が出力され、交流パルス電圧ｖO の実効値は交流パル
ス信号Ｐのオン時間比率（ＴON／Ｔ）を変更することに
より調整される。ここでのスイッチング周波数ｆ（＝１
／Ｔ）はできるだけ高い方が高周波制御に適している
が、実用上は数ｋＨｚ〜数十ｋＨｚ以上あればよい。こ
の後、交流パルス電圧ｖ O は、図５に示した従来の回路
と同様に、昇圧トランス６によって昇圧され、整流回路
７にて再度直流電圧に変換され、フィルタ回路８で平滑
化されて発振回路９に印加される。発振回路９において
発生した高周波電力ＷRFはカーレントトランス１０を介
して負荷回路１１であるオープンパイプ５０に供給され
る。
らは交流パルス信号Ｐと相似の波形の交流パルス電圧ｖ
O が出力され、交流パルス電圧ｖO の実効値は交流パル
ス信号Ｐのオン時間比率（ＴON／Ｔ）を変更することに
より調整される。ここでのスイッチング周波数ｆ（＝１
／Ｔ）はできるだけ高い方が高周波制御に適している
が、実用上は数ｋＨｚ〜数十ｋＨｚ以上あればよい。こ
の後、交流パルス電圧ｖ O は、図５に示した従来の回路
と同様に、昇圧トランス６によって昇圧され、整流回路
７にて再度直流電圧に変換され、フィルタ回路８で平滑
化されて発振回路９に印加される。発振回路９において
発生した高周波電力ＷRFはカーレントトランス１０を介
して負荷回路１１であるオープンパイプ５０に供給され
る。
【００１６】整流回路１２は、負荷回路１１において変
動する溶接現象を検出するため、発振回路８における高
周波電流ＩRFを検出する。前述のように、電縫溶接にお
ける溶接点５３は、溶接線方向に周期的に変動してお
り、この現象によって溶接電流パスが変化し、インピー
ダンスが増減するため高周波電流ＩRFも同様に変化す
る。本来は負荷回路１１において高周波電流ＩRFあるい
は高周波電圧を検出するのが望ましいが、計測の困難性
から本実施例では発振回路９内の高周波電流ＩRFを計測
することとした。
動する溶接現象を検出するため、発振回路８における高
周波電流ＩRFを検出する。前述のように、電縫溶接にお
ける溶接点５３は、溶接線方向に周期的に変動してお
り、この現象によって溶接電流パスが変化し、インピー
ダンスが増減するため高周波電流ＩRFも同様に変化す
る。本来は負荷回路１１において高周波電流ＩRFあるい
は高周波電圧を検出するのが望ましいが、計測の困難性
から本実施例では発振回路９内の高周波電流ＩRFを計測
することとした。
【００１７】微分回路１３は、整流回路１２で検出され
た高周波電流ＩRFの変動分ΔＩRFを検出し、その変動分
ΔＩRFに基づいてオープンパイプ５０に与えている高周
波電力ＷRFの過不足を検知し、高周波電力ＷRFの過不足
を補正するのに必要な直流電圧ΔＶS を加減算器１４に
出力する。加減算器１４は、直流電圧発生回路１６から
入力された直流電圧ＶS と、微分回路１３から入力され
た直流電圧ΔＶS とを加減算してパルス発生回路１５に
出力する。パルス発生回路１５は、補正された直流電圧
ＶS ＋ΔＶS に応じたパルス信号Ｐをパワートランジス
タ回路５に出力する。パワートランジスタ回路１５はパ
ルス信号Ｐに応じて交流パルス電圧ｖOを出力し、交流
パルス電圧ｖO は直流電圧ＶPPに変換されて発振回路９
に印加される。したがって、高周波電力ＷRFが適値に補
正される。
た高周波電流ＩRFの変動分ΔＩRFを検出し、その変動分
ΔＩRFに基づいてオープンパイプ５０に与えている高周
波電力ＷRFの過不足を検知し、高周波電力ＷRFの過不足
を補正するのに必要な直流電圧ΔＶS を加減算器１４に
出力する。加減算器１４は、直流電圧発生回路１６から
入力された直流電圧ＶS と、微分回路１３から入力され
た直流電圧ΔＶS とを加減算してパルス発生回路１５に
出力する。パルス発生回路１５は、補正された直流電圧
ＶS ＋ΔＶS に応じたパルス信号Ｐをパワートランジス
タ回路５に出力する。パワートランジスタ回路１５はパ
ルス信号Ｐに応じて交流パルス電圧ｖOを出力し、交流
パルス電圧ｖO は直流電圧ＶPPに変換されて発振回路９
に印加される。したがって、高周波電力ＷRFが適値に補
正される。
【００１８】表１は種々の条件下（外径、肉厚、製管速
度）で製管を行なった場合の溶接欠陥発生率、スパッタ
発生による表面疵発生率および同原因によるミル停機回
数を、本実施例の高周波加熱装置Ａを使用した場合と従
来の高周波加熱装置Ｂを使用した場合とで比較したもの
である。表１では、従来の高周波加熱装置Ｃを使用した
場合の溶接欠陥発生率などを１とし、本実施例の高周波
加熱装置Ａを使用した場合のそれを１に対する比率で示
している。
度）で製管を行なった場合の溶接欠陥発生率、スパッタ
発生による表面疵発生率および同原因によるミル停機回
数を、本実施例の高周波加熱装置Ａを使用した場合と従
来の高周波加熱装置Ｂを使用した場合とで比較したもの
である。表１では、従来の高周波加熱装置Ｃを使用した
場合の溶接欠陥発生率などを１とし、本実施例の高周波
加熱装置Ａを使用した場合のそれを１に対する比率で示
している。
【００１９】
【表１】
【００２０】表１に示すように、本実施例の高周波加熱
装置Ａを使用すれば、溶接欠陥発生率などを従来の１／
３から１／１０程度に減少させられることがわかった。
装置Ａを使用すれば、溶接欠陥発生率などを従来の１／
３から１／１０程度に減少させられることがわかった。
【００２１】このように本実施例の高周波加熱装置Ａを
使用すれば、溶接現象が安定化して溶接欠陥が減少する
だけでなく、スパッタ発生も抑制され、スパッタ押し込
みによる表面品質の悪化や内面ビード切削治具への堆積
によるミル停機などの生産性悪化が防止される。
使用すれば、溶接現象が安定化して溶接欠陥が減少する
だけでなく、スパッタ発生も抑制され、スパッタ押し込
みによる表面品質の悪化や内面ビード切削治具への堆積
によるミル停機などの生産性悪化が防止される。
【００２２】なお、この実施例においては、交流パルス
信号Ｐのスイッチング周期Ｔを一定としオン時間ＴONを
制御することにより高周波電力ＷRFを制御したが、逆
に、オン時間ＴONを一定としスイッチング周期Ｔを制御
することにより高周波電力ＷRFを制御することとしても
よい。
信号Ｐのスイッチング周期Ｔを一定としオン時間ＴONを
制御することにより高周波電力ＷRFを制御したが、逆
に、オン時間ＴONを一定としスイッチング周期Ｔを制御
することにより高周波電力ＷRFを制御することとしても
よい。
【００２３】また、この実施例では、負荷回路１１にお
いて変動する溶接現象を検出するために発振回路９の高
周波電流ＩRFを検出したが、これに限るものではなく、
高周波電圧や周波数や位相差などを検出してもよい。ま
た、１つに限らず複数を検出してもよい。
いて変動する溶接現象を検出するために発振回路９の高
周波電流ＩRFを検出したが、これに限るものではなく、
高周波電圧や周波数や位相差などを検出してもよい。ま
た、１つに限らず複数を検出してもよい。
【００２４】また、図３に示すように、降圧トランス２
と整流回路３の間にサイリスタ回路１７および昇圧トラ
ンス１８を設ければ、パワートランジスタ回路５に与え
る直流電源電圧ＶCCをも調整することができ、高周波電
力ＷRFをより適切に制御することができる。
と整流回路３の間にサイリスタ回路１７および昇圧トラ
ンス１８を設ければ、パワートランジスタ回路５に与え
る直流電源電圧ＶCCをも調整することができ、高周波電
力ＷRFをより適切に制御することができる。
【００２５】
【発明の効果】以上のように、この発明にあっては、パ
ワートランジスタのスイッチングを制御することにより
高周波電力を制御するので、サイリスタの点弧位相角を
制御することにより高周波電力を制御していた従来に比
べ、高周波電力を高速で制御することができ、溶接現象
を高速で制御することができる。また、溶接現象の高速
制御が可能となって溶接現象が安定化し、溶接欠陥の発
生率が激減することは無論、入熱管理も容易となって溶
接作業者の負荷が軽減される。また、スパッタ発生をも
抑制可能となるため、スパッタ押し込みによる表面品質
の悪化や、内面ビード切削治具への堆積による停機がな
くなるなど、優れた効果を奏する。
ワートランジスタのスイッチングを制御することにより
高周波電力を制御するので、サイリスタの点弧位相角を
制御することにより高周波電力を制御していた従来に比
べ、高周波電力を高速で制御することができ、溶接現象
を高速で制御することができる。また、溶接現象の高速
制御が可能となって溶接現象が安定化し、溶接欠陥の発
生率が激減することは無論、入熱管理も容易となって溶
接作業者の負荷が軽減される。また、スパッタ発生をも
抑制可能となるため、スパッタ押し込みによる表面品質
の悪化や、内面ビード切削治具への堆積による停機がな
くなるなど、優れた効果を奏する。
【図１】この発明の一実施例による高周波加熱装置の構
成を示すブロック図である。
成を示すブロック図である。
【図２】図１に示した高周波加熱装置のパルス発生回路
から出力される交流パルス信号Ｐを例示する波形図であ
る。
から出力される交流パルス信号Ｐを例示する波形図であ
る。
【図３】この発明の他の実施例による高周波加熱装置の
構成を示すブロック図である。
構成を示すブロック図である。
【図４】高周波加熱装置が使用される高周波電縫溶接法
を示す一部破断した正面図である。
を示す一部破断した正面図である。
【図５】従来の高周波加熱装置の構成を示すブロック図
である。
である。
５ パワートランジスタ回路 ９ 発振回路（高周波電力発生手段） １３ 微分回路（検出手段） １４ 加減算器（直流電圧増減手段） １５ パルス発生回路 １６ 直流電圧発生回路 ５０ オープンパイプ ５１，５２ 溶接端面 ５３ 溶接点 ５４ 金属管 Ａ，Ｂ 高周波加熱装置
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｂ 6/10 ３４１ Ｈ０５Ｂ 6/10 ３４１ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B23K 13/00 B23K 13/08 G05F 1/02 H02K 9/00 H05B 6/08 H05B 6/10
Claims (2)
- 【請求項１】 設定された高周波電力に応じて直流電圧
を発生する直流電圧発生手段と、 前記直流電圧に応じてパルス信号を発生するパルス信号
発生手段と、 所定の直流電源電圧を発生する直流電源電圧発生手段
と、 前記パルス信号に応じて前記直流電源電圧をスイッチン
グするパワートランジスタと、 前記パワートランジスタのスイッチングに応じて高周波
電力を発生する高周波電力発生手段と、 前記高周波電力の周期的変動分を検出する検出手段と、 前記検出手段の検出結果に応じて前記直流電圧を増減さ
せる直流電圧増減手段とを含むことを特徴とする、高周
波加熱装置。 - 【請求項２】 前記直流電源電圧発生手段は、交流電圧
を直流電源電圧に変換するためのサイリスタおよび整流
回路を含むことを特徴とする、請求項１に記載の高周波
加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17025693A JP3328378B2 (ja) | 1993-07-09 | 1993-07-09 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17025693A JP3328378B2 (ja) | 1993-07-09 | 1993-07-09 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0724582A JPH0724582A (ja) | 1995-01-27 |
| JP3328378B2 true JP3328378B2 (ja) | 2002-09-24 |
Family
ID=15901573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17025693A Expired - Fee Related JP3328378B2 (ja) | 1993-07-09 | 1993-07-09 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3328378B2 (ja) |
-
1993
- 1993-07-09 JP JP17025693A patent/JP3328378B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0724582A (ja) | 1995-01-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5225660A (en) | Consumable-electrode ac gas shield arc welding method and apparatus therefor | |
| JP4263886B2 (ja) | パルスアーク溶接のアーク長制御方法 | |
| US6376802B1 (en) | Method of controlling the AC pulsed arc welding and welding power supply apparatus therefor | |
| JP3206714B2 (ja) | パルスアーク溶接方法および装置 | |
| US20040238513A1 (en) | Method and apparatus for welding | |
| EP0868959A1 (en) | Pulse arc welding apparatus | |
| CN102430840B (zh) | 交流脉冲电弧焊接控制方法 | |
| JP3328378B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| JPH10146673A (ja) | 交流セルフシールドアーク溶接方法 | |
| EP1710037A1 (en) | Apparatus and method for short-circuit arc welding | |
| US5889262A (en) | System for and method of automatically controlling amount of input heat in high-frequency electric resistance welding machine | |
| EP1068041A1 (en) | Method for arc welding with melting electrode | |
| JPH0938772A (ja) | 交流セルフシールドアーク溶接方法 | |
| JP3320509B2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| US3524041A (en) | Electric arc process and apparatus | |
| JPH0699287A (ja) | 高周波溶接装置の溶接電力制御方法 | |
| JPS6224180B2 (ja) | ||
| JP2022099368A (ja) | パルスアーク溶接電源 | |
| JP2001001142A (ja) | パルスアーク溶接のアーク長制御方法 | |
| JP3162137B2 (ja) | 消耗電極式ガスシールドアーク溶接方法および装置 | |
| JP5495758B2 (ja) | プラズマミグ溶接方法 | |
| JP5506580B2 (ja) | プラズマミグ溶接方法 | |
| JP2024069804A (ja) | パルスアーク溶接の溶接品質判定方法 | |
| JPH09206941A (ja) | 炭酸ガスシールドパルスアーク溶接方法 | |
| JP4294149B2 (ja) | アーク電流制御方法及び溶接装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020604 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070712 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080712 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080712 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090712 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090712 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100712 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110712 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |