JP3322255B2 - 反射鏡アンテナ装置 - Google Patents
反射鏡アンテナ装置Info
- Publication number
- JP3322255B2 JP3322255B2 JP31909999A JP31909999A JP3322255B2 JP 3322255 B2 JP3322255 B2 JP 3322255B2 JP 31909999 A JP31909999 A JP 31909999A JP 31909999 A JP31909999 A JP 31909999A JP 3322255 B2 JP3322255 B2 JP 3322255B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deformation
- reflector antenna
- actuator
- linear expansion
- mode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Aerials With Secondary Devices (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
Description
鏡などに用いられる反射鏡アンテナ装置に関するもので
ある。
す説明図である。図において、1は鏡材の製作単位とし
てのブールであり、2はこのブール1を複数枚重ねて貼
り合わせて作成した部分鏡材としてのスタックである。
3はそのスタック2を複数個、例えば放物面、双曲面な
どの所定の凹面形状に配列して、隣接するスタック2を
相互に貼り合わせて接合した反射鏡アンテナである。
ナ3の表面は前述の放物面、双曲面等の所定の凹面形状
に、非常に高い精度で研磨され、天体からくる可視光
線、赤外線などの電磁波を反射して、その焦点に当該天
体の像を結像させる。
いため、温度が変化すると反射鏡アンテナ3には熱変形
が生じる。反射鏡アンテナ3全体の線膨張係数が均一で
あれば、反射鏡アンテナ3は相似形に変形するため、天
体からの電磁波は本来の焦点と相似な位置に集光され
て、その天体の像を結像する。しかしながら、現実には
線膨張係数には不均一性が存在し、この不均一性による
熱変形は、反射鏡アンテナ3の表面を歪ませ、結像性能
の劣化を引き起こす。
じめ測定されたブール1の厚み方向の線膨張係数の変化
率データに基づいてブール1を組み合わせ、その平均の
変化率を零に近くする。すなわち互いに変形を相殺しあ
うと考えられるブール1を組み合わせることによりスタ
ック2を構成する。これにより、各スタック2の熱変形
は低減される。また、反射鏡アンテナ3は、このような
スタック2を無作為に配置して構成される。
装置は以上のように構成されているので、残存している
厚み方向の線膨張係数の変化率の各スタック2間での不
均一性や、各スタック2の平均線膨張係数の不均一性に
よって、反射鏡アンテナ3全体に不均一な熱変形が生じ
るという課題があった。
ためになされたもので、反射鏡アンテナの熱変形を補正
しやすい比較的簡単なパターンになるようにコントロー
ルし、生じた熱変形をアクチュエータによって補正し、
像の広がりを軽減する反射鏡アンテナ装置を得ることを
目的とする。
る反射鏡アンテナ装置は、複数個の部分鏡材をその線膨
張係数に基づいて配置し、それを互いに接合して構成し
た反射鏡アンテナと、前記反射鏡アンテナの裏面側に配
置され、前記反射鏡アンテナに対して力を印加する複数
個のアクチュエータと、前記反射鏡アンテナの表面の変
形を測定する変形測定手段と、前記変形測定手段で測定
した変形量の測定値から、前記反射鏡アンテナの表面の
変形をモード展開し、元の変形から前記アクチュエータ
で補正するモードを差し引いた残りの変形である残留変
形を、あらかじめ指定された変形量以下とするために補
正すべきモードを所定の順番に選び出し、選び出したモ
ードを合成して前記アクチュエータにおける変形補正量
を算出し、前記アクチュエータに印加すべき補正力を演
算する演算手段と、前記演算手段からの補正力を対応す
る前記アクチュエータに供給して当該アクチュエータを
駆動させる制御手段とを備えたものである。
ンテナ装置は、あらかじめ平均線膨張係数の大きさを測
定しておいた複数個の部分鏡材を、その平均線膨張係数
の大きさの順に互いに隣接させて、渦巻き状、あるいは
一端から他端へ向かうライン状であって互いに隣接する
ライン間において前記平均線膨張係数の大きさの順に配
設し、互いを接合して構成された反射鏡アンテナを設け
たものである。
ンテナ装置は、あらかじめ厚さ方向における線膨張係数
分布から変化率の大きさを測定しておいた複数個の部分
鏡材を、その変化率の大きさの順に互いに隣接させて、
渦巻き状、あるいは一端から他端へ向かうライン状であ
って互いに隣接するライン間において前記変化率の大き
さの順に配設し、互いを接合して構成された反射鏡アン
テナを設けたものである。
実施の一形態を説明する。図1はこの発明の実施の形態
1による反射鏡アンテナ装置の反射アンテナ部分を示す
斜視図である。図において、1はブール、2は部分鏡材
としてのスタックであり、3は37個のスタック2を配
列し、隣接するものの相互を貼り合わせて接合した反射
鏡アンテナ装置である。これら各スタック2に付けられ
た番号“1”〜“37”は各々の平均線膨張係数の大き
さの順を示すものである。また、図には示されていない
が、反射鏡アンテナ3の裏面には複数個のアクチュエー
タが取り付けられ、その押し引きにより反射鏡アンテナ
3の変形を補正できるようになっている。
ナ3の結像鏡としての動作、および線膨張係数の不均一
性による熱変形で結像性能の劣化を引き起こす点、熱変
形を相殺し合うようなブール1の組み合わせでスタック
2を構成する点については、従来の反射鏡アンテナ3の
場合と同じであるので、説明は省略する。
ール1の組み合わせで構成されているとはいえ、厚み方
向の線膨張係数の変化率はいくらかは残っており、この
変化率は各スタック2の間でばらついている。また各ス
タック2の平均線膨張係数の間にも不均一性が存在す
る。
形状に正しく設定されていたとしても、光の回折現象に
よって天体の星像は点にはならず、口径Dと波長λに基
づく理論限界FWHM(Full Width at Half Maxim
um)を持つ。このFWHMは一般に、次式で現わされ
る。
焦点面での星の像の光の強度分布における光の強度が1
/2になる時の幅である。例えば、可視光(λ=0.5
μm)で反射鏡アンテナ1の直径が7.5m,F比2の
焦点では焦点面で1.02μmとなる。
Mは、口径Dと波長λで決まり、口径Dが大きくなるほ
ど小さくなり、また集光力が高まる。このため、従来よ
り反射鏡アンテナ装置の改良として反射鏡アンテナ3の
大口径化がなされてきた。
星像を小さくすることになり、分解能の向上、検出限界
の向上、さらには露出時間の短縮のためにも重要な意義
を有する。しかしながら、実際には反射鏡アンテナ3の
形状はスタック2の熱膨張によって、例えば図3(a)
に示すような熱変形が生ずる。このような熱変形が生ず
ると、星から入射される光は散乱され、星像は図3
(b)に示すように強度分布が広がってぼやけた像とな
ってしまう。
のRMS値(σ)を用いて近似的に次式のように表わさ
れる。
いときの焦点強度を1.0とする。この関係は図4に示
すようになる。これにより、結像性能を劣化させないた
めに、鏡面変形は波長の数十分の1程度、すなわち可視
光(λ=0.5μm)の場合には0.01μmのオーダ
ーに抑える必要がある。
ても反射鏡アンテナ3の熱変形が大きいと、せっかくの
大口径化の利点が生かせなくなり、また反射鏡アンテナ
3を大口径化すると、各スタック2の線膨張係数のばら
つきによって反射鏡アンテナ3の熱変形も大きくなり易
い。
(Coefficient of Thermal Expansion)は次式のよ
うに定義される。
℃における長さとする。これより、温度が0℃からT℃
に変化したときの長さの変化量ΔLは、ΔLを(L−L
0 )、ΔTを(T−0)とすると次式となり、どの方向
にもこの割合で膨張する。
て、CTEが均一の場合には、どの方向にも(1+CT
E×ΔT)倍に膨張する。これは相似変形であり、焦点
位置が相似の位置に移動するだけで一点に収束するとい
う性質は変わらない。しかし実際には反射鏡アンテナ3
を構成するスタック2間には線膨張係数CTEの不均一
性が存在する。このため、反射鏡アンテナ3は部分的に
伸びたり、縮んだりして鏡面に歪みが生じ、星像は一点
に収束しなくなる。
線膨張係数CTEのばらつきがある場合について説明す
る。ここで、反射鏡アンテナ3のスタック2間の線膨張
係数のばらつきは、次の2種類に分けられる。
スタック2間でばらつく場合である。反射鏡アンテナ3
を構成する全てのスタック2の線膨張係数の平均と、所
定のスタック2の平均線膨張係数との差をそのスタック
のΔαと定義する。このΔαが各スタック2毎にばらつ
いていると、各スタック2毎に曲率の変化の仕方が異な
り、結果的に反射鏡アンテナ3の鏡面変形が生ずる。
数の変化率がスタック2間でばらつく場合である。スタ
ックの厚さ方向には、図5に示すような線膨張係数CT
Eの分布が存在する。この線膨張係数分布を直線近似し
たときの直線の変化率の大きさをΔβと定義する。この
Δβによる変形は、バイメタル的変形であり、各スタッ
ク2の曲率が変化する。実際には、この曲率の変化がス
タック2毎に異なることから、結果的に鏡面変形が生ず
る。
うにΔα,Δβが存在する。ところで、各スタック2の
Δα,Δβはそれぞれ異なった値を有するので、例えば
各スタックのΔβの値に着目してΔβの値の大きい順番
にある一定の配列を行うとき、Δαの値はランダムな配
列となる。しかし、Δαによる鏡面変形量がΔβのそれ
に比べて十分小さい場合、Δβの値の大きい順番に配列
の仕方をコントロールすることにより反射鏡アンテナ3
の変形を所望のパターンで生じさせることができる。
大きい順に一端部から他端部に向かって順次ライン状に
配列して反射鏡アンテナ3を構成したものである。図6
(a),(b)に示す番号は各スタックのΔβの値の大
きい順番に示す。
中心部へ、および中心部から周縁部へ向かってdβの値
の大きい順に各スタックを配列いたものである。その
他、図6(e)に示すような配列の仕方も考えられる。
きい順に図6(a)〜(e)に示すような配列により反
射鏡アンテナ3を構成すると、隣り合うスタック2同士
が互いに押し引きして力を及ぼし熱変形が生ずるが、そ
の熱変形は非常にゆるやかな、比較的簡単なパターンと
なる。
その変形パターンは図7(a)のようになり、また図6
(c)のような配列の場合、その変形パターンは図7
(b)のようになる。この図7(a),(b)は反射鏡
アンテナ3の各点における変形量ΔZが等しい点を結ん
だ等高線図である。
度が高く、反対方向の周縁部の密度は低くなっており、
また図7(b)では反射鏡アンテナ3の周縁部の密度は
高く、その中央部の密度は低くなっている。例えば、図
7(a)においてX−Xで切断したときの反射鏡アンテ
ナ3の断面形状は図8に示すようになる。
うなスタック2の配列によって、反射鏡アンテナ3の全
体の熱変形は比較的簡単なパターンとなる。このこと
は、反射鏡アンテナ3の熱変形をアクチュエータに用い
て各スタック2に力を加えて補正する場合、アクチュエ
ータの個数が少なくて済むことになる。
(a)に示すような比較的簡単なパターンの場合と、図
9(b)に示すような、そうでない場合とを比較すると
明らかな如く、熱変形パターンが複雑になるほど多数の
アクチュエータが必要となる。なお、図9(a),
(b)は反射鏡アンテナ3全体の断面形状を示してい
る。
より大きい場合について説明したものであるが、Δαに
よる変形がΔβによる変形より大きい場合も同様であ
る。また、複数個のスタック2のうち一部についてはΔ
βによる変形の方がΔαによる変形より大きく、残りに
ついてはΔαによる変形がΔβによる変形より大きい場
合については、いずれの方のスタック2が多いかによ
り、ΔαまたはΔβのいずれかに着目すれば良い。
ば、複数個の部分鏡材を平均線膨張係数の大きさに従っ
て、あるいは各部分鏡材を厚さ方向の線膨張係数の変化
率の大きさの順に配設することにより、反射鏡アンテナ
全体としての熱変形パターンが比較的簡単なパターンを
呈するようにし、少数のアクチュエータによって上記熱
変形を補正することが可能な反射鏡アンテナ装置を実現
する。
形態2による反射鏡アンテナ装置を示す構成図である。
図において、3は反射鏡アンテナで、複数個のスタック
2をその厚さ方向の線膨張係数分布を直線近似したとき
の変化率Δβに着目し、このΔβの大きい順番に、例え
ば図6(a)〜(e)に示すいずれかの配列をして所定
の凹面形状に構成したものである。4は反射鏡アンテナ
3の裏面側またはその付近に設けられた温度測定手段と
しての温度センサである。5はアクチュエータで、反射
鏡アンテナ3の裏面にその駆動軸6の一端が固定され、
駆動部7によってその駆動軸6を伸縮させてスタック2
に力を印加するものである。8は処理部であり、9は処
理部8からの補正力を対応するアクチュエータ5に供給
して、当該アクチュエータ5の駆動を行う制御手段とし
てのアクチュエータコントローラである。
反射鏡アンテナ装置に使用される処理部8を含んだブロ
ック図であり、図12はそのフローチャートである。こ
れら図11および図12において、10は記憶手段とし
てのメモリ、11は演算手段としてのCPUであり、前
記処理部8はこのメモリ10およびCPU11を含んで
いる。メモリ10には反射鏡アンテナ3が所定の凹面形
状、即ち理想の放物面状あるいは双曲面状などを呈する
ときの基準である基準温度T0 を記憶するとともに、あ
らかじめ求めておいた当該基準温度T0 と反射鏡アンテ
ナ3の温度との温度差ΔTが1℃のときに、熱変形した
反射鏡アンテナ3を所定の凹面形状に補正する際に、各
アクチュエータ5に対して印加すべき補正力を、各アク
チュエータ5に対応して記憶している。
力f1 ,f2 ,…,fn は複数個のスタック製造時に各
スタック2のΔβを測定しておき、これらΔβのデータ
をもとにして上述のような配列でもって反射鏡アンテナ
モデルを作成し、後述するように予め有限要素法にて温
度差ΔTが1℃のときに、各アクチュエータ2に印加す
べき補正力を求め、これをメモリ10に記憶しておく。
ンテナ3の温度T1 が入力され、メモリ10から基準温
度T0 が入力されて、図12に示すように温度差ΔTを
算出すると共に、この温度差ΔTを用いてメモリ10の
記憶されている各アクチュエータ5に対応した補正力f
1 ,f2 ,…,fn を順次に取り出して、各アクチュエ
ータに対する補正力の指令値を、次式にて演算してアク
チュエータコントローラ9に出力する。
CPU11から供給された補正力の指令値Δfi を受
け、この指令値Δfi はどのアクチュエータ5に印加す
べきかを判定して、そのアクチュエータ5に該当する指
令値Δfi を供給するものである。この判定に当って
は、指令値Δfi に番地を付加しておき、この番地を判
別することにより該当するアクチュエータ5を選択すれ
ば良い。
エータ5の駆動部7に伝達され、例えばその指令値に応
じた電流が流され、電磁力によってその指令値に対応し
た補正力を発生して該当するスタック2に力を印加する
ように構成されている。ここで、メモリ10に記憶する
補正力f1 ,f2 ,…,fn を有限要素法を用いて求め
る方法について説明する。反射鏡アンテナ3を構成する
各スタック2のΔαまたはΔβがわかれば、有限要素法
を用いて、任意の温度変化に対する反射鏡の各点での熱
変形量を計算することができる。今、m個のスタック2
から成る反射鏡アンテナ3を考え、図13に示すように
各スタック2に番号をつけ、番号jのスタック2のΔα
をΔαj、ΔβをΔβj(j=1,2,…,m)と呼ぶ
ことにする。
を多数の微小要素に分け、各要素にヤング率、ポアソン
比、線膨張係数などの植物値や荷重を与えて変形を計算
するもので、最終的には、要素の各頂点(格子点)にお
ける変位を求めることができる。
ば、アクチュエータ点に印加した荷重と、アクチュエー
タ点における変形量とを結びつけるマトリックス(剛性
マトリックス)を計算できる。この関係は各アクチュエ
ータ点での変位をΔZ1 ,ΔZ 2 ,…,Zn 、各アクチ
ュエータ点に印加した荷重をf1 ,f2 ,…,fn 、n
×nの剛性マトリックスをKとすると、次式のように表
現できる。
の逆マトリックスK-1を用いると、次式のように変形量
から、その変形を生じさせるのに必要な荷重を求めるこ
とができる。
有限要素法で計算しておいた温度差ΔT=1℃のときに
生じる熱変形量を代入すれば、そのような変形を生じさ
せるのに必要な力f1 ,f2 ,…,fn が求まる。よっ
てこのf1 ,f2 ,…,fnを逆向きにしたものが熱変
形を相殺するのに必要な補正力である。このようにして
ΔT=1℃の時にアクチュエータに印加すべき補正力を
求め、メモリ9に記憶する。
ば、反射鏡アンテナが熱変形を起こしたときに、各アク
チュエータに対応して単位温度に対する補正力を記憶手
段に記憶しておき、反射鏡アンテナの温度を測定するこ
とによって各アクチュエータに実際に印加すべき補正力
を演算手段にて演算し、制御手段にてその補正力を対応
するアクチュエータに供給することにより、反射鏡アン
テナの熱変形を自動的に補正でき、温度変化の激しい地
域においても常に所定の凹面形状を維持することが可能
な反射鏡アンテナ装置を実現する。
実施の形態3による反射鏡アンテナ装置を示す構成図で
ある。図において、3は反射鏡アンテナ、5はアクチュ
エータ、8はメモリ10および演算手段としてのCPU
11を含んだ処理部、9は制御手段としてのアクチュエ
ータコントローラであり、図10に同一符号を付したも
のと同一、もしくは相当部分であるため、詳細な説明は
省略する。また、12は光の干渉、あるいは反射光のず
れを検出して、前記反射鏡アンテナ3の表面の各点の変
形を測定する変形測定手段としての鏡面変形測定装置で
ある。
アンテナ3の表面変形のモード展開について説明する。
よく知られているように、弦の振動は、固有振動モード
の重ね合わせと考えることができる。図16は弦の振動
とその固有振動モードを説明した図である。このように
各モードφk(x),k=1…と振幅Ak ,k=1…を求
め、弦の振動φ(x) を次式で示すそれらの和の形で表わ
すことを弦の振動をモード展開すると言う。
ることができる。展開に用いるモードはツェルニケ級
数、2次元のフーリエ級数などの空間周波数の関数で表
わされる無限項または有限項の級数、および固有振動モ
ードなどがある。ここでは固有振動モードで展開する例
について説明する。
射鏡アンテナ3の固有振動モードの等高線図の例であ
る。これは反射鏡アンテナ3のモデルから有限要素法を
用いて計算により求めることができる。各モードに付し
た番号はモード番号で、これの小さい順に空間周波数が
小さく同じ最大振幅を得るのに必要な力が小さくてよい
という性質がある。以下、モード番号の小さいモードを
低次のモード、大きいモードを高次のモードと呼ぶ。
をφk (γ,θ)(γ,θは鏡面上の位置の極座標表
示)と表わすことにすれば、鏡面変形φ(γ,θ)は次
式のように、各モードの重ね合わせで表わせる。
幅に対応)である。なお、展開法としては、変形測定値
と各モードの内積をとる方法、最小自乗法でフィッティ
ングする方法などがある。固有振動モードは各モードが
直交しているので本質的にはどちらの方法も同じであ
る。
りやすさはモード番号の順となっている。よって高次の
モードは低次のモードに比べて起こりにくく、よって振
幅は小さい。ところが表面変形測定値から直接変形を打
ち消すような補正力を求めると、細かいピッチの変形、
すなわち高次のモードも補正目標となるため、それを補
正するために大きな補正力が必要となり、その割合に
は、もともと振幅が小さいので補正の効果が小さい。そ
こで、一旦モード展開を行い、変形の主要なモードだけ
を選択して補正を行えば小さい補正力で効率よく補正す
ることができる。
ける処理のフローチャートである。固有振動モードの場
合、モードのパターンは関数形では求まらないので、反
射鏡面上の各座標点における値として求め、処理部8内
のメモリ10にモード番号、座標とともに記憶させる。
力されると、処理部8のCPU11は、そのメモリ10
からこのモードの値を呼び出し、最小自乗法を用いて補
正すべきモードのモード係数Ak を算出する。次にCP
U11は、このモード係数A k と、モードの値を用いて
各アクチュエータ点における変形補正量を計算する。
にしていたとすると、まず、Ak をk=1〜Nまで求
め、次にi番目のアクチュエータ点における変形補正量
ΔZi,i=1…nを次式にて求めることになる。但
し、γi ,θi はアクチュエータ点iの極座標とする。
からN+1次以上の高次のモードを除いたものとなって
いる。ここで、変形補正量ΔZi を補正力Δfj に変換
するK-1はあらかじめ前に述べた方法で求めておき処理
部8のメモリ10に記憶しておくものとする。
リ10に記憶されている変形補正量を補正力に変換する
行列K-1を呼び出し、それを求められた前記補正量ΔZ
i ,i=1…nに乗じて各アクチュエータ5に対する補
正力を演算し、それをアクチュエータコントローラ7へ
出力する。
PU11から供給された補正力を受け、各アクチュエー
タ5に該当する指令値を供給する。各アクチュエータ5
はその指令値に対応した補正力を発生して反射鏡アンテ
ナ3に力を印加し、その変形を補正する。
量以下となるために補正すべきモードを選び出して補正
をかけるようにしたので、補正する必要のない空間周波
数の高い変形の補正は行われず、従って補正に必要な力
が小さくなる。また、表面変形をいったんモードに展開
するため、測定値の一つがノイズなどによって誤った値
として測定された場合でも、変形量をほぼ正しく推定す
ることができ、正しい補正力を算出することができる。
ば、反射鏡アンテナの表面変形量をモード展開し、残留
変形をあらかじめ指定された変形量以下とするために補
正すべきモードを所定の順番に選び出して補正力を演算
し、それに基づいてアクチュエータを駆動することによ
り、ノイズの影響を受けにくく、小さな力で効率よく変
形の補正を行うことが可能な反射鏡アンテナ装置を実現
する。
れば、反射鏡アンテナの表面変形をモード展開し、残留
変形をあらかじめ指定された変形量以下とするために補
正すべきモードを所定の順番に選び出して補正力を演算
し、それに基づいてアクチュエータを駆動するように構
成したので、小さな力で効率よく変形の補正を行うこと
が可能となり、ノイズの影響も受けにくく、高い精度の
鏡面を維持できる反射鏡アンテナ装置が得られる効果が
ある。
によれば、平均膨張係数もしくは厚み方向の線膨張係数
の変化率の大きさの順にスタックの配列を行って、発生
する熱変形パターンが比較的簡単なパターンとなるよう
に反射鏡アンテナを構成したので、少数のアクチュエー
タによって熱変形を補正することが可能な反射鏡アンテ
ナ装置が得られる効果がある。
ナ装置の反射鏡アンテナ部分を示す斜視図である。
図である。
射とその光強度分布を示す説明図である。
ある。
を示す説明図である。
列方法を示す反射鏡アンテナ装置の平面図である。
図である。
X−Xで切断した断面図である。
る。
テナ装置を示す構成図である。
る。
トである。
る。
の説明図である。
テナ装置を示す構成図である。
す説明図である。
示す等高線図である。
の処理を示すフローチャートである。
ある。
温度センサ(温度測定手段)、5 アクチュエータ、9
アクチュエータコントローラ(制御手段)、10 メ
モリ(記憶手段)、11 CPU(演算手段)、12
鏡面変形測定装置(変形測定手段)。
Claims (3)
- 【請求項1】 複数個の部分鏡材をその線膨張係数に基
づいて配置し、それを互いに接合して構成した反射鏡ア
ンテナと、前記反射鏡アンテナの裏面側に配置され、前
記反射鏡アンテナに対して力を印加する複数個のアクチ
ュエータと、前記反射鏡アンテナの表面の変形を測定す
る変形測定手段と、前記変形測定手段で測定した変形量
の測定値から、前記反射鏡アンテナの表面の変形をモー
ド展開し、元の変形から前記アクチュエータで補正する
モードを差し引いた残りの変形である残留変形を、あら
かじめ指定された変形量以下とするために補正すべきモ
ードを所定の順番に選び出し、選び出したモードを合成
して前記アクチュエータにおける変形補正量を算出し、
前記アクチュエータに印加すべき補正力を演算する演算
手段と、前記演算手段からの補正力を対応する前記アク
チュエータに供給して当該アクチュエータを駆動させる
制御手段とを備えた反射鏡アンテナ装置。 - 【請求項2】 反射鏡アンテナは、あらかじめ平均線膨
張係数の大きさを測定しておいた複数個の部分鏡材を、
その平均線膨張係数の大きさの順に互いに隣接させて、
渦巻き状、あるいは一端から他端へ向かうライン状であ
って互いに隣接するライン間において前記平均線膨張係
数の大きさの順に配設し、互いを接合して構成されたこ
とを特徴とする請求項1に記載の反射鏡アンテナ装置。 - 【請求項3】 反射鏡アンテナは、あらかじめ厚さ方向
における線膨張係数分布から変化率の大きさを測定して
おいた複数個の部分鏡材を、その変化率の大きさの順に
互いに隣接させて、渦巻き状、あるいは一端から他端へ
向かうライン状であって互いに隣接するライン間におい
て前記変化率の大きさの順に配設し、互いを接合して構
成されたことを特徴とする請求項1に記載の反射鏡アン
テナ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31909999A JP3322255B2 (ja) | 1999-11-10 | 1999-11-10 | 反射鏡アンテナ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31909999A JP3322255B2 (ja) | 1999-11-10 | 1999-11-10 | 反射鏡アンテナ装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9011749A Division JP3034212B2 (ja) | 1990-08-15 | 1997-01-24 | 反射鏡アンテナ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000121814A JP2000121814A (ja) | 2000-04-28 |
JP3322255B2 true JP3322255B2 (ja) | 2002-09-09 |
Family
ID=18106470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31909999A Expired - Lifetime JP3322255B2 (ja) | 1999-11-10 | 1999-11-10 | 反射鏡アンテナ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3322255B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4783558B2 (ja) * | 2003-07-22 | 2011-09-28 | 日本碍子株式会社 | アクチュエータ装置 |
JP5574941B2 (ja) * | 2010-12-20 | 2014-08-20 | 株式会社東芝 | ミラーホルダー |
WO2013050081A1 (en) | 2011-10-07 | 2013-04-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for controlling a motion of optical elements in lithography systems |
FR2989229B1 (fr) * | 2012-04-06 | 2015-03-06 | Thales Sa | Reflecteur d'antenne reconfigurable en service |
DE102013201082A1 (de) | 2013-01-24 | 2014-03-13 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Anordnung zur Aktuierung eines Elementes in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage |
-
1999
- 1999-11-10 JP JP31909999A patent/JP3322255B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2000121814A (ja) | 2000-04-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04313702A (ja) | 反射鏡アンテナ方法 | |
JP3034212B2 (ja) | 反射鏡アンテナ装置 | |
US4773748A (en) | Dynamically controlled mirror for reduction of projected image distortion | |
EP2083327B1 (en) | Improved grazing incidence collector optical systems for EUV and X-ray applications | |
US20130188246A1 (en) | Imaging Optical System for Microlithography | |
US7292385B2 (en) | Mirror with local deformation by thickness variation of an electro-active material controlled by electrical effect | |
CN104516212B (zh) | 光学装置、投影光学***、曝光装置及物品的制造方法 | |
JPH096011A (ja) | リソグラフィ用の照明装置 | |
JP3234152B2 (ja) | 反射鏡の鏡面形状制御装置 | |
US20100183122A1 (en) | X-ray condensing method and its device using phase restoration method | |
JP3322255B2 (ja) | 反射鏡アンテナ装置 | |
WO2019142313A1 (ja) | 波面計測装置および波面計測システム | |
JP2016200818A5 (ja) | ||
RU2623661C2 (ru) | Способ компенсации оптических аберраций с использованием деформируемого зеркала | |
US8030629B2 (en) | Adaptive X-ray optics | |
EP0471362B1 (en) | Reflector with passive and active temperature compensation | |
JP2016092366A (ja) | 光学装置、投影光学系、露光装置、および物品の製造方法 | |
Ahn et al. | Silicon carbide deformable mirror with 37 actuators for adaptive optics | |
Ahn et al. | Laboratory demonstrations of EFC and spatial LDFC on Subaru/SCExAO | |
JP2641348B2 (ja) | 反射鏡の生産方法 | |
US5353231A (en) | Method of fabricating a reflecting mirror such that mirror segments can be arranged to reduce the effects of thermal deformation | |
Spiga | X-ray beam-shaping via deformable mirrors: surface profile and point spread function computation for Gaussian beams using physical optics | |
JP2871918B2 (ja) | 反射鏡の生産方法 | |
JP2945489B2 (ja) | 画像検出装置 | |
Long et al. | A piezoelectric deformable mirror for intra-cavity laser adaptive optics |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080628 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080628 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090628 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100628 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100628 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 9 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110628 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110628 Year of fee payment: 9 |