JP3291991B2 - O,s−ジメチル n−アセチルホスホルアミドチオエートの精製法 - Google Patents
O,s−ジメチル n−アセチルホスホルアミドチオエートの精製法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/025—Purification; Separation; Stabilisation; Desodorisation of organo-phosphorus compounds
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- C07F9/2479—Compounds containing the structure P(=X)n-N-acyl, P(=X)n-N-heteroatom, P(=X)n-N-CN (X = O, S, Se; n = 0, 1)
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、O,S−ジメチル
N−アセチルホスホルアミドチオエートの改良された
精製法に関する。
N−アセチルホスホルアミドチオエートの改良された
精製法に関する。
【0002】
【従来の技術】O,S−ジメチル N−アセチルホスホ
ルアミドチオエートは殺虫剤としてよく知られた化合物
であり、その製造法としても、O,S−ジメチルホスホ
ルアミドチオエートと無水酢酸を酸触媒の存在下に反応
させてアセチル化する方法が知られている。かかる方法
により得られたO,S−ジメチル N−アセチルホスホ
ルアミドチオエートは、該反応混合物からクロロホルム
などで抽出し、これを濃縮する方法(特公昭48−34
583号)や、該反応混合物をアルカリ性水溶液で中和
処理し、これをクロロホルムなどのハロゲン系溶媒で抽
出した後、抽出液を濃縮し、濃縮液を冷却して晶析する
(特開昭64−75494号)ことにより単離、精製さ
れていた。
ルアミドチオエートは殺虫剤としてよく知られた化合物
であり、その製造法としても、O,S−ジメチルホスホ
ルアミドチオエートと無水酢酸を酸触媒の存在下に反応
させてアセチル化する方法が知られている。かかる方法
により得られたO,S−ジメチル N−アセチルホスホ
ルアミドチオエートは、該反応混合物からクロロホルム
などで抽出し、これを濃縮する方法(特公昭48−34
583号)や、該反応混合物をアルカリ性水溶液で中和
処理し、これをクロロホルムなどのハロゲン系溶媒で抽
出した後、抽出液を濃縮し、濃縮液を冷却して晶析する
(特開昭64−75494号)ことにより単離、精製さ
れていた。
【0003】しかし、前者の方法では目的化合物が油状
で得られるため、その後の取扱が非常に困難であった
り、高純度品を得るためには更に再結晶を必要とするな
どの問題があり、また、後者の方法は結晶が得られると
いう利点はあるが、工業規模での操作を行なう場合に
は、晶析後のスラリー濃度が高くなってスラリー液の移
送が困難になるという問題がある。これはハロゲン系溶
媒は比重が大きく、同じスラリー濃度でも低比重溶媒の
ものに比べて固体に対する液体部分の容量が小さくな
り、スラリー移送性が悪化するためである。また、ハロ
ゲン系溶媒は環境保全や労働衛生上の立場からも好まし
い溶媒とはいえないなどの問題があった。
で得られるため、その後の取扱が非常に困難であった
り、高純度品を得るためには更に再結晶を必要とするな
どの問題があり、また、後者の方法は結晶が得られると
いう利点はあるが、工業規模での操作を行なう場合に
は、晶析後のスラリー濃度が高くなってスラリー液の移
送が困難になるという問題がある。これはハロゲン系溶
媒は比重が大きく、同じスラリー濃度でも低比重溶媒の
ものに比べて固体に対する液体部分の容量が小さくな
り、スラリー移送性が悪化するためである。また、ハロ
ゲン系溶媒は環境保全や労働衛生上の立場からも好まし
い溶媒とはいえないなどの問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このようなことから、
本発明者らは、その製造工程で得られる粗O,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエート水溶液か
ら、ハロゲン系溶媒を使用することなく、移送可能なス
ラリー液として晶析が可能で、しかも高い晶析収率で、
かつ好純度でO,S−ジメチル N−アセチルホスホル
アミドチオエートの結晶を得るべく、検討の結果、本発
明に至った。
本発明者らは、その製造工程で得られる粗O,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエート水溶液か
ら、ハロゲン系溶媒を使用することなく、移送可能なス
ラリー液として晶析が可能で、しかも高い晶析収率で、
かつ好純度でO,S−ジメチル N−アセチルホスホル
アミドチオエートの結晶を得るべく、検討の結果、本発
明に至った。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、粗
O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエ
ートの水溶液を、水の溶解度が1〜20重量%の範囲に
ある脂肪族カルボン酸エステル、脂肪族ケトン、炭酸エ
ステルもしくは脂肪族アルコールあるいはこれらの混合
溶媒で抽出し、晶析処理を行なうことを特徴とするO,
S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエート
の精製法を提供するものである。
O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエ
ートの水溶液を、水の溶解度が1〜20重量%の範囲に
ある脂肪族カルボン酸エステル、脂肪族ケトン、炭酸エ
ステルもしくは脂肪族アルコールあるいはこれらの混合
溶媒で抽出し、晶析処理を行なうことを特徴とするO,
S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエート
の精製法を提供するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】O,S−ジメチル N−アセチル
ホスホルアミドチオエートは水に対する溶解度が非常に
高い化合物であり、本発明の精製処理の対象となる粗
O,S−ジメチルN−アセチルホスホルアミドチオエー
トの水溶液とは、該化合物および各種の水溶性不純物を
含む水溶液であって、通常、O,S−ジメチルホスホル
アミドチオエートと無水酢酸を酸触媒たとえば硫酸の存
在下に反応させてアセチル化させて得られる反応混合物
に水を加えるか、アセチル化反応に伴う残存酸成分を中
和するために該反応混合物にアルカリ水溶液を加えて中
和処理した水溶液がその対象とされるが、多くの場合に
中和処理した水溶液が対象とされる。かかる中和処理に
おけるアルカリ水溶液としては、通常、、アンモニア水
溶液、苛性ソーダ水溶液、苛性カリ水溶液、炭酸ソーダ
水溶液などが使用されるが、このような工業的に通常使
用されるアルカリ水溶液であれば、本発明の精製処理に
何ら影響はない。勿論、本発明はこのような水溶液のみ
を対象とするものではなく、例えば、O,S−ジメチル
N−アセチルホスホルアミドチオエートを油状物とし
て取り出した粗反応生成物に水やアルカリ水溶液を加え
て溶解させた粗O,S−ジメチルN−アセチルホスホル
アミドチオエートの水溶液であってもよい。
ホスホルアミドチオエートは水に対する溶解度が非常に
高い化合物であり、本発明の精製処理の対象となる粗
O,S−ジメチルN−アセチルホスホルアミドチオエー
トの水溶液とは、該化合物および各種の水溶性不純物を
含む水溶液であって、通常、O,S−ジメチルホスホル
アミドチオエートと無水酢酸を酸触媒たとえば硫酸の存
在下に反応させてアセチル化させて得られる反応混合物
に水を加えるか、アセチル化反応に伴う残存酸成分を中
和するために該反応混合物にアルカリ水溶液を加えて中
和処理した水溶液がその対象とされるが、多くの場合に
中和処理した水溶液が対象とされる。かかる中和処理に
おけるアルカリ水溶液としては、通常、、アンモニア水
溶液、苛性ソーダ水溶液、苛性カリ水溶液、炭酸ソーダ
水溶液などが使用されるが、このような工業的に通常使
用されるアルカリ水溶液であれば、本発明の精製処理に
何ら影響はない。勿論、本発明はこのような水溶液のみ
を対象とするものではなく、例えば、O,S−ジメチル
N−アセチルホスホルアミドチオエートを油状物とし
て取り出した粗反応生成物に水やアルカリ水溶液を加え
て溶解させた粗O,S−ジメチルN−アセチルホスホル
アミドチオエートの水溶液であってもよい。
【0007】本発明の第一段階は、このような粗O,S
−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエートの
水溶液を、水の溶解度が20℃において1〜20重量%
の範囲にある脂肪族カルボン酸エステル、脂肪族ケト
ン、炭酸エステルもしくは脂肪族アルコールまたはこれ
らの混合溶媒で抽出することである。本発明において、
上記特定の性質を有する上記特定の溶媒を使用すること
は極めて重要であって、ベンゼン、トルエン、ヘキサン
などの炭化水素系溶媒ではO,S−ジメチル N−アセ
チルホスホルアミドチオエートの溶解度が極めて低いた
めに実用上使用できず、またメタノール、エタノール、
アセトンなどは脂肪族アルコール、脂肪族ケトンに属す
る溶媒であっても、O,S−ジメチル N−アセチルホ
スホルアミドチオエートに対する溶解度は大きいが水に
対する溶解度も同時に大きいため、粗O,S−ジメチル
N−アセチルホスホルアミドチオエートの水溶液から
O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエ
ートを抽出することができない。
−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエートの
水溶液を、水の溶解度が20℃において1〜20重量%
の範囲にある脂肪族カルボン酸エステル、脂肪族ケト
ン、炭酸エステルもしくは脂肪族アルコールまたはこれ
らの混合溶媒で抽出することである。本発明において、
上記特定の性質を有する上記特定の溶媒を使用すること
は極めて重要であって、ベンゼン、トルエン、ヘキサン
などの炭化水素系溶媒ではO,S−ジメチル N−アセ
チルホスホルアミドチオエートの溶解度が極めて低いた
めに実用上使用できず、またメタノール、エタノール、
アセトンなどは脂肪族アルコール、脂肪族ケトンに属す
る溶媒であっても、O,S−ジメチル N−アセチルホ
スホルアミドチオエートに対する溶解度は大きいが水に
対する溶解度も同時に大きいため、粗O,S−ジメチル
N−アセチルホスホルアミドチオエートの水溶液から
O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエ
ートを抽出することができない。
【0008】本発明に適用する溶媒において、脂肪族カ
ルボン酸エステルとしては好ましくは炭素数1〜4の脂
肪族カルボン酸の炭素数1〜4のアルキルエステル、た
とえばギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチ
ル、プロピオン酸メチルなどが、脂肪族ケトンとしては
好ましくは炭素数4〜8の脂肪族ケトン、たとえばメチ
ルエチルケトン、メチル(n)プロピルケトン、メチル
(n)ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチ
ルケトンなどが、炭酸エステルとしては炭酸ジメチル、
炭酸ジエチル、炭酸プロピルなどが、また脂肪族アルコ
ールとしてはイソブチルアルコール、n−ペンチルアル
コールなどがそれぞれ例示され、これらの内でも酢酸エ
チル、メチルイソブチルケトン、n−ペンチルアルコー
ルが好ましく使用される。かかる溶媒の使用量は、粗
O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエ
ートの水溶液中の水の量や溶媒の種類にもよるが、通常
は該水溶液に対して0.3〜10倍重量である。
ルボン酸エステルとしては好ましくは炭素数1〜4の脂
肪族カルボン酸の炭素数1〜4のアルキルエステル、た
とえばギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸イソプロピル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチ
ル、プロピオン酸メチルなどが、脂肪族ケトンとしては
好ましくは炭素数4〜8の脂肪族ケトン、たとえばメチ
ルエチルケトン、メチル(n)プロピルケトン、メチル
(n)ブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチ
ルケトンなどが、炭酸エステルとしては炭酸ジメチル、
炭酸ジエチル、炭酸プロピルなどが、また脂肪族アルコ
ールとしてはイソブチルアルコール、n−ペンチルアル
コールなどがそれぞれ例示され、これらの内でも酢酸エ
チル、メチルイソブチルケトン、n−ペンチルアルコー
ルが好ましく使用される。かかる溶媒の使用量は、粗
O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエ
ートの水溶液中の水の量や溶媒の種類にもよるが、通常
は該水溶液に対して0.3〜10倍重量である。
【0009】抽出処理は、粗O,S−ジメチル N−ア
セチルホスホルアミドチオエートの水溶液と本発明に特
定する溶媒を混合、攪拌したり、充填塔中に両液を並流
もしくは向流で通過せしめたのち、油層と水層に分液す
るなどの通常の操作で行われ、処理操作それ自体は任意
の方法が選択される。抽出温度は、溶媒の種類やその使
用量などによっても異なり、混合系の沸点以下であれば
特に限定されないが、高温になると分解するため、通常
は70℃以下、好ましくは50℃以下で行われる。
セチルホスホルアミドチオエートの水溶液と本発明に特
定する溶媒を混合、攪拌したり、充填塔中に両液を並流
もしくは向流で通過せしめたのち、油層と水層に分液す
るなどの通常の操作で行われ、処理操作それ自体は任意
の方法が選択される。抽出温度は、溶媒の種類やその使
用量などによっても異なり、混合系の沸点以下であれば
特に限定されないが、高温になると分解するため、通常
は70℃以下、好ましくは50℃以下で行われる。
【0010】かかる抽出処理により水分を含む油層が得
られ、該油層は、抽出条件たとえば溶媒の種類やその使
用量、抽出温度などによってはそのまま冷却してO,S
−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエートの
結晶を析出せしめてもよいが、通常は抽出油層から溶媒
を一部留去して濃縮液を得、この濃縮液を冷却して結晶
を析出させる方法が採用される。このときの濃縮の程度
は、通常はO,S−ジメチル N−アセチルホスホルア
ミドチオエートの濃度が10〜50重量%になる程度で
あるが、この濃度は限定的でなく、使用する溶媒の種類
によってはこの範囲を外れてもよい。濃縮は、濃縮時の
温度が高すぎると目的化合物が分解するため、通常は7
0℃以下で行われ、必要に応じて減圧下に濃縮される。
冷却は、通常は濃縮液の攪拌下に行われ、冷却温度は、
濃縮の程度、濃縮時の温度などの諸条件によって適宜選
択されるが、通常は−10〜30℃である。
られ、該油層は、抽出条件たとえば溶媒の種類やその使
用量、抽出温度などによってはそのまま冷却してO,S
−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエートの
結晶を析出せしめてもよいが、通常は抽出油層から溶媒
を一部留去して濃縮液を得、この濃縮液を冷却して結晶
を析出させる方法が採用される。このときの濃縮の程度
は、通常はO,S−ジメチル N−アセチルホスホルア
ミドチオエートの濃度が10〜50重量%になる程度で
あるが、この濃度は限定的でなく、使用する溶媒の種類
によってはこの範囲を外れてもよい。濃縮は、濃縮時の
温度が高すぎると目的化合物が分解するため、通常は7
0℃以下で行われ、必要に応じて減圧下に濃縮される。
冷却は、通常は濃縮液の攪拌下に行われ、冷却温度は、
濃縮の程度、濃縮時の温度などの諸条件によって適宜選
択されるが、通常は−10〜30℃である。
【0011】結晶析出後は、常法により結晶を濾取し、
これを減圧乾燥などの通常の手段で乾燥させることによ
り、目的とするO,S−ジメチル N−アセチルホスホ
ルアミドチオエートを高い晶析収率で、しかも好純度で
得ることができる。
これを減圧乾燥などの通常の手段で乾燥させることによ
り、目的とするO,S−ジメチル N−アセチルホスホ
ルアミドチオエートを高い晶析収率で、しかも好純度で
得ることができる。
【0012】
【発明の効果】本発明の方法によれば、粗O,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエートの水溶液
から、移送可能なスラリー液で晶析が可能となり、しか
も高い晶析収率で、かつ好純度でO,S−ジメチル N
−アセチルホスホルアミドチオエートを結晶として得る
ことができる。
チル N−アセチルホスホルアミドチオエートの水溶液
から、移送可能なスラリー液で晶析が可能となり、しか
も高い晶析収率で、かつ好純度でO,S−ジメチル N
−アセチルホスホルアミドチオエートを結晶として得る
ことができる。
【0013】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明がこれによって限定されるものでない
ことはいうまでもない。尚、以下の例における純度分析
は内部標準物質を用いたガスクロマトグラフィーにより
行なったものである。
明するが、本発明がこれによって限定されるものでない
ことはいうまでもない。尚、以下の例における純度分析
は内部標準物質を用いたガスクロマトグラフィーにより
行なったものである。
【0014】参考例1 O,O−ジメチルチオホスホリルクロライド1608.
6gを含むトルエン溶液2100g中に50℃で29%
(重量)アンモニア水1292gを40分を要して加え
た。その後同温度で1時間保温し、これに水359gを
加えてトルエン層と水層に分液した。得られた水層にト
ルエン600gを加えて50℃で抽出処理した。得られ
たトルエン抽出層を先に分離したトルエン層と合わせた
のちトルエンを減圧下に留去してO,O−ジメチルホス
ホルアミドチオエート1506g(純度:86.3%)
を得た。このO,O−ジメチルホスホルアミドチオエー
ト296g中に40℃でジメチル硫酸19.1gを30
分で加え、続いて、これにO,0−ジメチルホスホルア
ミドチオエート1180gとジメチル硫酸76.1gを
同温度で2時間をを要して併注した。その後同温度で6
時間保温してO,S−ジメチルホスホルアミドチオエー
ト1562g(純度:73.1%)を得た。得られた
O,S−ジメチルホスホルアミドチオエート1562g
中に、無水酢酸1218gおよび濃硫酸41gを40℃
で1時間を要して併注したのち、同温度で1時間熟成し
て粗O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチ
オエート2799g(純度49.13%)を得た。
6gを含むトルエン溶液2100g中に50℃で29%
(重量)アンモニア水1292gを40分を要して加え
た。その後同温度で1時間保温し、これに水359gを
加えてトルエン層と水層に分液した。得られた水層にト
ルエン600gを加えて50℃で抽出処理した。得られ
たトルエン抽出層を先に分離したトルエン層と合わせた
のちトルエンを減圧下に留去してO,O−ジメチルホス
ホルアミドチオエート1506g(純度:86.3%)
を得た。このO,O−ジメチルホスホルアミドチオエー
ト296g中に40℃でジメチル硫酸19.1gを30
分で加え、続いて、これにO,0−ジメチルホスホルア
ミドチオエート1180gとジメチル硫酸76.1gを
同温度で2時間をを要して併注した。その後同温度で6
時間保温してO,S−ジメチルホスホルアミドチオエー
ト1562g(純度:73.1%)を得た。得られた
O,S−ジメチルホスホルアミドチオエート1562g
中に、無水酢酸1218gおよび濃硫酸41gを40℃
で1時間を要して併注したのち、同温度で1時間熟成し
て粗O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチ
オエート2799g(純度49.13%)を得た。
【0015】実施例1 参考例1で得た粗O,S−ジメチル N−アセチルホス
ホルアミドチオエート(純度49.13%)2000g
に、30℃で水556gを加え、続いて29%(重量)
アンモニア水741gを加えてpH7に調整して、粗
O,S−ジメチルN−アセチルホスホルアミドチオエー
トの水溶液を得た。この水溶液に酢酸エチル8992g
を加え、30℃で向流連続抽出して酢酸エチル層102
72gを得た。酢酸エチル層を減圧下に蒸留して酢酸エ
チルを一部留去し、O,S−ジメチルN−アセチルホス
ホルアミドチオエート含量が20.5重量%の濃縮液
(水分含量:1.3重量%)4504gを得た。この濃
縮液を、攪拌下に40℃から10℃まで3時間を要して
冷却し、10℃で1時間保温した後、析出した結晶(ス
ラリー濃度:14.3%)を濾取し、減圧乾燥してO,
S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエート
の白色結晶646g(純度:99.6%)を得た。この
ときの晶析収率は69.6%であった。尚、このときの
結晶析出後のスラリー液は、スラリー液の状態で容易に
移送することができた。
ホルアミドチオエート(純度49.13%)2000g
に、30℃で水556gを加え、続いて29%(重量)
アンモニア水741gを加えてpH7に調整して、粗
O,S−ジメチルN−アセチルホスホルアミドチオエー
トの水溶液を得た。この水溶液に酢酸エチル8992g
を加え、30℃で向流連続抽出して酢酸エチル層102
72gを得た。酢酸エチル層を減圧下に蒸留して酢酸エ
チルを一部留去し、O,S−ジメチルN−アセチルホス
ホルアミドチオエート含量が20.5重量%の濃縮液
(水分含量:1.3重量%)4504gを得た。この濃
縮液を、攪拌下に40℃から10℃まで3時間を要して
冷却し、10℃で1時間保温した後、析出した結晶(ス
ラリー濃度:14.3%)を濾取し、減圧乾燥してO,
S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエート
の白色結晶646g(純度:99.6%)を得た。この
ときの晶析収率は69.6%であった。尚、このときの
結晶析出後のスラリー液は、スラリー液の状態で容易に
移送することができた。
【0016】実施例2 参考例1と同様にして得た粗O,S−ジメチル N−ア
セチルホスホルアミドチオエート(純度49.13%)
327gに、30℃で水91gを加え、続いて29%
(重量)アンモニア水121gを加えてpH7に調整し
て、粗O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミド
チオエートの水溶液を得た。この水溶液に酢酸エチル1
470gを加え、30℃で向流連続抽出して酢酸エチル
層1680gを得た。この酢酸エチル層を減圧下に蒸留
して酢酸エチルを一部留去し、O,S−ジメチル N−
アセチルホスホルアミドチオエート含量が30.8重量
%の濃縮液(水分含量:1.1重量%)500gを得
た。この濃縮液を、攪拌下に40℃から10℃まで3時
間を要して冷却し、10℃で1時間保温した後、析出し
た結晶(スラリー濃度:24.9%)を濾取し、減圧乾
燥してO,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミド
チオエートの白色結晶124g(純度:99.2%)を
得た。このときの晶析収率は80.5%であった。尚、
このときの結晶析出後のスラリー液は、スラリー液の状
態で容易に移送することができた。
セチルホスホルアミドチオエート(純度49.13%)
327gに、30℃で水91gを加え、続いて29%
(重量)アンモニア水121gを加えてpH7に調整し
て、粗O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミド
チオエートの水溶液を得た。この水溶液に酢酸エチル1
470gを加え、30℃で向流連続抽出して酢酸エチル
層1680gを得た。この酢酸エチル層を減圧下に蒸留
して酢酸エチルを一部留去し、O,S−ジメチル N−
アセチルホスホルアミドチオエート含量が30.8重量
%の濃縮液(水分含量:1.1重量%)500gを得
た。この濃縮液を、攪拌下に40℃から10℃まで3時
間を要して冷却し、10℃で1時間保温した後、析出し
た結晶(スラリー濃度:24.9%)を濾取し、減圧乾
燥してO,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミド
チオエートの白色結晶124g(純度:99.2%)を
得た。このときの晶析収率は80.5%であった。尚、
このときの結晶析出後のスラリー液は、スラリー液の状
態で容易に移送することができた。
【0017】実施例3〜6 抽出溶媒として酢酸エチルに代えて表1に記載の抽出溶
媒を使用する以外は実施例2に準じて、粗O,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエートの水溶液
から精製処理を行なった。なお、それぞれの精製処理に
おける結晶析出後のスラリー液は、スラリー液の状態で
容易に移送することができた。結果を実施例1,2と併
せて表1に示す。
媒を使用する以外は実施例2に準じて、粗O,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエートの水溶液
から精製処理を行なった。なお、それぞれの精製処理に
おける結晶析出後のスラリー液は、スラリー液の状態で
容易に移送することができた。結果を実施例1,2と併
せて表1に示す。
【0018】
【0019】比較例1 参考例1と同様にして得た粗O,S−ジメチル N−ア
セチルホスホルアミドチオエート(純度49.13%)
200gに、30℃で水53.6gを加え、続いて24
%(重量)アンモニア水70.8gを加えてpH7に調
整して、粗O,S−ジメチル N−アセチルホスホルア
ミドチオエートの水溶液を得た。この水溶液に塩化メチ
レン330gを加えて抽出処理を行ない、O,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエートの含量が
20.2重量%の抽出塩化メチレン層462gを得た。
得られた塩化メチレン層を減圧下に蒸留して塩化メチレ
ンを一部留去し、O,S−ジメチル N−アセチルホス
ホルアミドチオエート含量が51.7重量%の濃縮塩化
メチレン溶液180.6gを得た。この濃縮塩化メチレ
ン溶液を、攪拌下に30℃から移送可能なスラリー濃度
となる18℃まで3時間を要して冷却し、18℃で1時
間保温した後、析出した結晶(スラリー濃度:18.6
%)を濾取し、減圧乾燥して98.6%のO,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエートの白色結
晶33.6gを得た。このときの晶析収率は35.5%
であった。
セチルホスホルアミドチオエート(純度49.13%)
200gに、30℃で水53.6gを加え、続いて24
%(重量)アンモニア水70.8gを加えてpH7に調
整して、粗O,S−ジメチル N−アセチルホスホルア
ミドチオエートの水溶液を得た。この水溶液に塩化メチ
レン330gを加えて抽出処理を行ない、O,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエートの含量が
20.2重量%の抽出塩化メチレン層462gを得た。
得られた塩化メチレン層を減圧下に蒸留して塩化メチレ
ンを一部留去し、O,S−ジメチル N−アセチルホス
ホルアミドチオエート含量が51.7重量%の濃縮塩化
メチレン溶液180.6gを得た。この濃縮塩化メチレ
ン溶液を、攪拌下に30℃から移送可能なスラリー濃度
となる18℃まで3時間を要して冷却し、18℃で1時
間保温した後、析出した結晶(スラリー濃度:18.6
%)を濾取し、減圧乾燥して98.6%のO,S−ジメ
チル N−アセチルホスホルアミドチオエートの白色結
晶33.6gを得た。このときの晶析収率は35.5%
であった。
【0020】比較例2 比較例1と同様にして得られた濃縮塩化メチレン溶液9
0.3g(O,S−ジメチル N−アセチルホスホルア
ミドチオエートの含量:51.7重量%)について、攪
拌下に30℃から10℃まで3時間を要して冷却し、1
0℃で1時間保温した後、析出した結晶(スラリー濃
度:29.5%)を濾取し、減圧乾燥して98.6%の
O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエ
ートの白色結晶26.6gを得た。このときの晶析収率
は56.2%であった。尚、このときの結晶析出後のス
ラリー液は極めて粘稠であり、スラリー液として移送す
ることは困難であった。
0.3g(O,S−ジメチル N−アセチルホスホルア
ミドチオエートの含量:51.7重量%)について、攪
拌下に30℃から10℃まで3時間を要して冷却し、1
0℃で1時間保温した後、析出した結晶(スラリー濃
度:29.5%)を濾取し、減圧乾燥して98.6%の
O,S−ジメチル N−アセチルホスホルアミドチオエ
ートの白色結晶26.6gを得た。このときの晶析収率
は56.2%であった。尚、このときの結晶析出後のス
ラリー液は極めて粘稠であり、スラリー液として移送す
ることは困難であった。
フロントページの続き (72)発明者 南坂 和也 大分県大分市大字鶴崎2200番地 住友化 学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−75494(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07F 9/24 CA(STN)
Claims (5)
- 【請求項1】粗O,S−ジメチル N−アセチルホスホ
ルアミドチオエートの水溶液を、水の溶解度が1〜20
重量%の範囲にある脂肪族カルボン酸エステル、脂肪族
ケトン、炭酸エステルもしくは脂肪族アルコールあるい
はこれらの混合溶媒で抽出し、晶析処理を行なうことを
特徴とするO,S−ジメチル N−アセチルホスホルア
ミドチオエートの精製法。 - 【請求項2】脂肪族カルボン酸エステルが、炭素数1〜
4の脂肪族カルボン酸の炭素数1〜4のアルキルエステ
ルである請求項1に記載のO,S−ジメチル N−アセ
チルホスホルアミドチオエートの精製法。 - 【請求項3】脂肪族カルボン酸エステルが酢酸エチルで
ある請求項2に記載のO,S−ジメチル N−アセチル
ホスホルアミドチオエートの精製法。 - 【請求項4】脂肪族ケトンが、炭素数4〜8の脂肪族ケ
トンである請求項1に記載のO,S−ジメチル N−ア
セチルホスホルアミドチオエートの精製法。 - 【請求項5】脂肪族ケトンがメチルイソブチルケトンで
ある請求項4に記載のO,S−ジメチル N−アセチル
ホスホルアミドチオエートの精製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21464295A JP3291991B2 (ja) | 1994-09-22 | 1995-08-23 | O,s−ジメチル n−アセチルホスホルアミドチオエートの精製法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6-227885 | 1994-09-22 | ||
JP22788594 | 1994-09-22 | ||
JP21464295A JP3291991B2 (ja) | 1994-09-22 | 1995-08-23 | O,s−ジメチル n−アセチルホスホルアミドチオエートの精製法 |
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