JP3280323B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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Description
密着性を有し、更にフォトレジストフィルムとしての保
存安定性に優れた感光性樹脂組成物に関し、特にプラズ
マディスプレイパネル(PDP)等の透明電極加工に有
用な感光性樹脂組成物に関するものである。
ム上に感光性樹脂組成物を層状に塗布乾燥成層し、その
上からポリエステルフィルム、ポリビニルアルコールフ
ィルム等の保護フィルムを積層した3層ラミネートフィ
ルムは、一般にフォトレジストフィルムと称され、プラ
ズマディスプレイの製造用、金属の精密加工用、プリン
ト配線板製造用等に広く利用されている。
開発が盛んに行われおり、中でもPDPが注目を浴びて
おり、今後ラップトップ型パソコンの表示画面から、各
種掲示板、更には、いわゆる「壁掛けテレビ」へとその
用途は拡大しつつあり、かかるPDPの表示パネルは、
ガラス基材に電極が形成されており、該電極形成に上記
のフォトレジストフィルムが利用され始めている。
トフィルムからベースフィルム又は保護フィルムのうち
接着力の小さいほうのフィルムを剥離除去して感光性樹
脂組成物層の側をパターンを形成させたい基材表面に張
り付けた後、パターンマスクを他方のフィルム上に当接
させた状態で露光し(当該他方のフィルムを剥離除去し
てから露光する場合もある)、ついでその他方のフィル
ムを剥離除去して現像に供する。露光後の現像方式とし
ては、溶剤現像型のものと稀アルカリ現像型のものとが
ある。フォトレジストフィルムのほか、該基材面に直接
感光性樹脂組成物を塗布成層し、その上に積層したポリ
エステルフィルム等のフィルムを介してパターンマスク
を密着させ、露光を行う方法も良く知られている。
近年のパターンの高密度化に伴い高解像度が求められて
おり、例えば、酸価が100〜600mgKOH/gで
重量平均分子量が10000〜500000のベースポ
リマー、重合性不飽和基を1個有する化合物10〜50
重量%と重合性不飽和基を2個有する化合物10〜90
重量%を含有する重合性不飽和化合物及び光重合開始剤
からなる感光性樹脂組成物(特開平3−6202号公
報)や酸価が100〜200mgKOH/gで重量平均
分子量が30000〜120000のベースポリマー、
重合性不飽和基を2個有してなり、エチレン性不飽和化
合物成分中で95重量%以上含有するエチレン性不飽和
化合物、P,P′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフ
ェノン、ヘキサアリールビイミダゾール及びロイコ染料
からなる感光性樹脂組成物(特開平7−248621号
公報)が提案されている。
3−6202号公報開示技術では、感光層の厚みが50
μmでライン/スペース=60(μm)/60(μm)
程度の解像度で、アスペクト比0.83(50μm/6
0μm)でアスペクト比が1.0以下であり、更に、P
DPの電極形成においてはガラスやITO膜、SnO2
膜等の基材に対する細線密着性が充分でなく、まだまだ
満足のいくものではなかった。
術では、解像力や細線密着性については良好であるもの
の、フォトレジストフィルムとして保存する場合にフィ
ルムロールの端部からレジストがしみ出しやすく、いわ
ゆるエッジフュージョンに問題が残るものであり、フィ
ルムの保存安定性において満足のいくものではなかっ
た。
いて、解像力、細線密着性に優れ、更に保存安定性に非
常に優れた感光性樹脂組成物を提供し、更にPDPの表
示パネルの製造において、ガラス基材の電極形成に有用
な感光性樹脂組成物を提供することを目的とするもので
ある。
かる事情に鑑み、鋭意研究をした結果、カルボキシル基
含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、
光重合開始剤(C)、染料(D)及び炭素数が4以上の
トリアルキルアミン(E)からなり、該光重合開始剤
(C)として、ヘキサアリールビイミダゾール(c1)
及びP,P′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノ
ン(c2)を含有し、それぞれの含有量がカルボキシル
基含有ポリマー(A)とエチレン性不飽和化合物(B)
の合計量100重量部に対して、1.0〜10重量部、
0.01〜0.25重量部である感光性樹脂組成物が解
像力、細線密着性、保存安定性に優れ、特に上記PDP
の電極形成に有用であることを見いだし、本発明を完成
した。
説明する。本発明のカルボキシル基含有ポリマー(A)
としては、特に限定されないが、カルボキシル基含有の
アクリル系樹脂が好適に用いられ、(メタ)アクリレー
トを主成分とし、エチレン性不飽和カルボン酸と必要に
応じて他の共重合可能なモノマーを共重合したアクリル
系共重合体が用いられる。アセトアセチル基含有アクリ
ル系共重合体を用いることもできる。
チル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレー
ト、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア
クリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチ
ルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メ
タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ジ
メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシ
エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等
が例示される。
クリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン
酸が好適に用いられ、そのほか、マレイン酸、フマール
酸、イタコン酸等のジカルボン酸、あるいはそれらの無
水物やハーフエステルも用いることができる。これらの
中では、アクリル酸とメタクリル酸が特に好ましい。他
の共重合可能モノマーとしては、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、アル
キルビニルエーテル等が例示できる。
については特に制限されないが、100〜200mgK
OH/gが好ましく、より好ましくは120〜180m
gKOH/g、特に好ましくは130〜170mgKO
H/gである。酸価が100mgKOH/g未満では現
像性が低下し、解像力の低下を招き、200mgKOH
/gを越えると硬化レジストの耐現像液性が低下し、細
線密着性の低下を招くことになり好ましくない。該酸価
を満足させる方法としては、例えばエチレン性不飽和カ
ルボン酸を15〜30重量%程度共重合することにより
可能である。
(A)の重量平均分子量は30000〜120000
で、好ましくは50000〜100000、特に好まし
くは60000〜90000であり、重量平均分子量が
30000未満では樹脂が柔らかくなり過ぎてロール形
態に加工したときに該樹脂が染み出すエッジフュージョ
ンが発生する。逆に120000を越えると解像度が低
下し不適当である。
重合性不飽和基を2個有し、かつ重量平均分子量が90
0以下、好ましくは300〜900、特に好ましくは3
20〜900であるエチレン性不飽和化合物(b)が好
ましく用いられ、該重量平均分子量が900を越えると
架橋間距離が長くなり充分な硬化が得られず、解像力の
低下、細線密着性の低下を招くこととなり好ましくな
い。
アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポ
リプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチル
グリコールジ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイ
ド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレート、プ
ロピレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)ア
クリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペン
タエリスリトールジ(メタ)アクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレー
ト、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メ
タ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ
(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸変性ネオ
ペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等の2官能
モノマーが挙げられる。中でも特に、テトラエチレング
リコールジ(メタ)アクリレートやエチレンオキサイド
変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレートが好ま
しく用いられる。
することも可能であると共に、下記の単官能モノマー或
いは3官能以上のモノマーを適当量併用することもでき
る。かかる重合性不飽和基を2個有し、かつ重量平均分
子量が900以下であるエチレン性不飽和化合物(b)
の含有量は、特に限定されないが、エチレン性不飽和化
合物(B)成分中に70重量%以上であることが好まし
く、特に好ましくは80重量%以上である。該含有量が
70重量%未満では、解像力の低下、細線密着性の低
下、パターンの形成不良等が起こり、本発明の効果を顕
著に得ることができない。
キシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、3−ク
ロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
グリセリンモノ(メタ)アクリレート、2−(メタ)ア
クリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル
酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート、N−メチロー
ル(メタ)アクリルアミド等が挙げられ、又、3官能以
上のモノマーとしてはトリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)
アクリレート、トリ(メタ)アクリロイルオキシエトキ
シトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジル
エーテルポリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
重量部に対するエチレン性不飽和化合物(B)の配合割
合は、10〜200重量部、特に40〜100重量部の
範囲から選ぶことが望ましい。エチレン性不飽和化合物
(B)の過少は硬化不良、可撓性の低下、現像速度の遅
延を招き、エチレン性不飽和化合物(B)の過多は粘着
性の増大、コールドフロー、硬化レジストの剥離速度低
下を招くことになる。
に、光重合開始剤(C)、染料(D)及びアルキルアミ
ン化合物(E)が含有されるが、光重合開始剤(C)と
してはヘキサアリールビイミダゾール(c1)及びP,
P′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン(c
2)を併用することが必要である。
しては、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,
5,4’,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,
5,4’,5’−テトラフェニル−1,1’−ビイミダ
ゾール、2,2’−ビス(o−フルオロフェニル)−
4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,1’−ビイ
ミダゾール、2,2’−ビス(o−メトキシフェニル)
−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,1’−ビ
イミダゾール、2,2’−ビス(p−メトキシフェニ
ル)−4,5,4’,5’−テトラフェニル−1,1’
−ビイミダゾール、2,4,2’,4’−ビス[ビ(p
−メトキシフェニル)]−5,5’−ジフェニル−1,
1’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジメ
トキシフェニル)−4,5,4’,5’−ジフェニル−
1,1’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(p−メチ
ルチオフェニル)−4,5,4’,5’−ジフェニル−
1,1’−ビイミダゾール、ビス(2,4,5−トリフ
ェニル)−1,1’−ビイミダゾール等が挙げられ、更
には特公昭45−37377号公報に開示される1,
2’−、1,4’−、2,4’−で共有結合している互
変異性体を用いることもできるが、中でも2,2’−ビ
ス(o−クロロフェニル)−4,5,4’,5’−テト
ラフェニル−1,2’−ビイミダゾールが好適に用いら
れる。
ゾフェノン(c2)としては、具体的にP,P′−ビス
(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、P,P′−ビス
(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、P,P′−ビス
(ジブチルアミノ)ベンゾフェノン等が挙げられ、P,
P′−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好適に
用いられる。
1)及びP,P′−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフ
ェノン(c2)の含有量については、カルボキシル基含
有ポリマー(A)とエチレン性不飽和化合物(B)の合
計量100重量部に対して、ヘキサアリールビイミダゾ
ール(c1)が1.0〜10重量部であることが必要
で、2〜6重量部であることが好ましい。又、P,P′
−ビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン(c2)が
0.01〜0.25重量部であることが必要で、0.0
5〜0.2重量部であることが好ましい。
1.0重量部未満では、感度が低く作業性の低下とな
り、10重量部を越えるとフィルム状での保存安定性が
低下し不適当である。P,P′−ビス(ジアルキルアミ
ノ)ベンゾフェノン(c2)が0.01重量部未満で
は、充分な表面硬化が得られず、細線密着性が低下する
こととなり、0.25重量部を越えると深部の硬化が得
られず、細線密着性が低下し不適当である。
ができる他の光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインn−ブチル
エーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル、ベンジルジフェニルジスルフィド、
ジベンジル、ジアセチル、アントラキノン、ナフトキノ
ン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノ
ン、ベンゾフェノン、ピバロインエチルエーテル、1,
1−ジクロロアセトフェノン、p−t−ブチルジクロロ
アセトフェノン、ヘキサアリールイミダゾール二量体、
2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,2−ジエト
キシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニ
ルアセトフェノン、2,2−ジクロロ−4−フェノキシ
アセトフェノン、フェニルグリオキシレート、α−ヒド
ロキシイソブチルフェノン、ジベゾスパロン、1−(4
−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチ
ル−1−プロパノン、2−メチル−[4−(メチルチ
オ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、
トリブロモフェニルスルホン、トリブロモメチルフェニ
ルスルホン等が例示される。
メチル)]−1,3,5−トリアジン、2,4−[ビス
(トリクロロメチル)]−6−(4’−メトキシフェニ
ル)−1,3,5−トリアジン、2,4−[ビス(トリ
クロロメチル)]−6−(4’−メトキシナフチル)−
1,3,5−トリアジン、2,4−[ビス(トリクロロ
メチル)]−6−(ピペロニル)−1,3,5−トリア
ジン、2,4−[ビス(トリクロロメチル)]−6−
(4’−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン
等のトリアジン誘導体やアクリジン及び9−フェニルア
クリジン等のアクリジン誘導体も使用することができ
る。
ジエチルアミノ−o−トリル)メチレンジルチオフェニ
ルメタン、ビス(4−N,N−ジエチルアミノ−o−ト
リル)ベンジルチオフェニルメタン、ロイコクリスタル
バイオレット、ロイコマラカイトグリーン等が挙げら
れ、中でもロイコ染料、特にはロイコクリスタルバイオ
レットが好ましく用いられる。
有ポリマー(A)とエチレン性不飽和化合物(B)の合
計量100重量部に対して、0.05重量部〜2重量部
であることが好ましく、特には0.1〜1重量部である
ことが好ましい。かかる含有量が0.05重量部未満で
は充分な内部硬化が得られず、2重量部を越えるとドー
プ配合時に溶解しにくくなり好ましくない。
素数4以上のトリアルキルアミンであることが必要で、
具体的にはトリ−n−ブチルアミン、トリイソブチルア
ミン、トリ−tert−ブチルアミン、トリ−n−ペン
チルアミン、トリ−n−オクチルアミン、トリス(2−
エチルヘキシル)アミン、トリイソオクチルアミン、ト
リ−n−デシルアミン、トリドデシルアミン、トリ−n
−ヘキシルアミン等が挙げられ、中でもトリ−n−ブチ
ルアミン、トリ−n−ペンチルアミンが好ましく用いら
れる。
カルボキシル基含有ポリマー(A)とエチレン性不飽和
化合物(B)の合計量100重量部に対して、0.05
〜7重量部であることが好ましく、特には0.1〜5重
量部、更には0.3〜3重量部であることが好ましい。
かかる含有量が0.05重量部未満では期待する増粘効
果が得られず、7重量部を越えると現像性の低下を招き
好ましくない。
クリスタルバイオレット,マラカイトグリーン,マラカ
イトグリーンレイク,ブリリアントグリーン,パテント
ブルー,メチルバイオレット,ビクトリアブルー,ロー
ズアニリン,パラフクシン,エチレンバイオレット等の
着色染料、密着性付与剤、可塑剤、酸化防止剤、熱重合
禁止剤、溶剤、表面張力改質材、安定剤、連鎖移動剤、
消泡剤、難燃剤、等の添加剤を適宜添加することができ
る。
レジストフィルムの製造及びそれを用いるPDP用基板
に電極形成(パターン形成)する方法について説明す
る。 (成層方法)上記の感光性樹脂組成物は、これをポリエ
ステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレ
ンフィルム等のベースフィルム面に塗工した後、その塗
工面の上からポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコ
ール系フィルム等の保護フィルムを被覆してフォトレジ
ストフィルムとする。フォトレジストフィルム以外の用
途としては、本発明の感光性樹脂組成物を、ディップコ
ート法、フローコート法、スクリーン印刷法等の常法に
より、加工すべき(ガラス、金属等の)基板上に直接塗
工し、厚さ1〜150μmの感光層を容易に形成するこ
ともできる。塗工時に、メチルエチルケトン、メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、シ
クロヘキサン、メチルセルソルブ、塩化メチレン、1,
1,1−トリクロルエタン等の溶剤を添加することもで
きる。
画像を形成させるにはベースフィルムと感光性樹脂組成
物層との接着力及び保護フィルムと感光性樹脂組成物層
との接着力を比較し、接着力の低い方のフィルムを剥離
してから感光性樹脂組成物層の側をガラス面やITO膜
に貼り付けた後、他方のフィルム上にパターンマスクを
密着させて露光する。感光性樹脂組成物が粘着性を有し
ないときは、前記他方のフィルムを剥離してからパター
ンマスクを感光性樹脂組成物層に直接接触させて露光す
ることもできる。
は、その塗工面に直接またはポリエステルフィルム等を
介してパターンマスクを接触させ、露光に供する。露光
は通常紫外線照射により行い、その際の光源としては、
高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノ
ン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプ等が用い
られる。紫外線照射後は、必要に応じ加熱を行って、硬
化の完全を図ることもできる。
を剥離除去してから現像を行う。本発明の感光性樹脂組
成物は稀アルカリ現像型であるので、露光後の現像は、
炭酸ソーダ、炭酸カリウム等のアルカリ0.5〜3重量
%程度の稀薄水溶液を用いて行う。
う。エッチングは、通常塩化第二銅−塩酸又は塩化第二
鉄−塩酸等の酸性エッチング液が用いられるが、希にア
ンモニア系のアルカリエッチング液も用いられる。
残っている硬化レジストの剥離を行う。硬化レジストの
剥離除去は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
0.5〜10重量%程度の濃度のアルカリ水溶液からな
るアルカリ剥離液を用いて行う。次いで、充分に水洗浄
を行った後、乾燥される。かくして、PDP用前面基板
上に電極が形成されて、その後、背面基材との間にガス
封入後、接合されてPDPとして実用に供されるのであ
る。
ル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物
(B)、光重合開始剤(C)、染料(D)及びアルキル
アミン化合物(E)を含有してなるため、解像力、細線
密着性、フィルムの保存安定性に非常に優れた効果を示
し、ITO等の透明導電膜の加工や42アロイ,SUS
等のケミカルリング等の高解像度、高細線密着性を要求
される用途に大変有用であり、特にPDPの電極形成に
多いに期待される。
する。尚、実施例中「%」、「部」とあるのは、断りの
ない限り重量基準を意味する。 実施例1 (ドープの調整)下記の如きカルボキシル基含有ポリマ
ー(A1)60部、エチレン性不飽和化合物(B)40
部、光重合開始剤(C)3.2部、染料(D)0.3部
及びアルキルアミン化合物(E)1.5部を配合し、更
に溶媒としてメチルエチルケトン90部及びメチルセロ
ソルブ20部を混合してドープを調製した。
2−ヒドロキシエチルメタクリレート/メタクリル酸の
共重合割合が重量基準で50/10/15/25である
共重合体(酸価163.1mgKOH/g、ガラス転移
点102℃、重量平均分子量8万)
ープを、ギャップ3ミルのアプリケーターを用いて厚さ
20μmのポリエステルフィルム上に塗工し、室温で1
分30秒放置した後、60℃、90℃、110℃のオー
ブンでそれぞれ3分間乾燥して、レジスト厚20μmの
フォトレジストフィルムとなした(ただし保護フィルム
は設けていない)。
フォトレジストフィルムをオーブンで60℃に予熱した
ITO付きガラス基材(200mm×200mm×2m
m)上に、ラミネートロール温度100℃、同ロール圧
3kg/cm2、ラミネート速度1.5m/secにて
ラミネートした。
にL/S(ライン/スペース)=100μm/100μ
mになるようにラインパターンをポリエステルフィルム
上に置いて、オーク製作所製の露光機HMW−532D
にて3kw超高圧水銀灯で100mjになるよう露光し
た。露光後15分間のホールドタイムをとった後、1%
炭酸ナトリウム水溶液、30℃で、最小現像時間の1.
5倍の時間で現像し、その後、水洗、乾燥を行って、L
/S=100μm/100μmのレジスト層のパターン
を形成した。
パターンを塩化第2鉄(45℃、42°Be)でエッチ
ングし、その後、レジストパターンに3%水酸化ナトリ
ウム水溶液を50℃にて2kgの圧力でスプレーして、
レジスト層の剥離を行ってITOパターン(L/S=1
00μm/100μm)を、PDP用基板上に形成する
ことができた。
て、別途以下の評価を行った。 (解像力)ラミネート後、ライン/スペース=1/1、
10〜50μmで5μm毎に設計したガラスパターンマ
スクを真空密着させてストゥファー21段ステップタブ
レットの7段相当量の露光量で露光し、現像後にレジス
ト画像が解像されている最小ライン幅(μm)を調べ、
そのときのアスペクト比(レジスト厚/最小ライン幅)
も算出した。
0、15、20、25、30、35、40、45、50
μmの各々のパターンマスク(ラインは1本のみ−スペ
ース幅∞)を用いて上記の解像力評価と同様に現像して
密着性良好な最小ライン幅(μm)を調べ、そのときの
硬化レジストの断面形状についてもSEM(走査型電子
顕微鏡)により観察した。
ルフィルム上に上記感光性樹脂組成物を塗工し、乾燥
し、乾燥後の膜厚が40μmのレジスト層を得、その上
にポリエチレンフィルムを貼合し、三層構成の積層体を
得た。該積層体を幅300mmにスリットしながら、長
さ100mのものを支管(外径82.2mm)に巻き取
った。そして、温度22±2℃、湿度55%RHの条件
下で、両端にブラケットをはめ空中、横置きで放置し、
端部からのレジストの染みだし具合を目視観察し、染み
だしまでの日数を求めた。評価基準は下記の通りであ
る。 ◎・・・3ヶ月以上 ○・・・2ヶ月以上3ヶ月未満 △・・・1ヶ月以上2ヶ月未満 ×・・・1ヶ月未満
記の如く変更した以外は同様に行い、感光性樹脂組成物
を得、実施例1と同様の評価を行った。エチレン性不飽和化合物(B) ・エチレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジメタクリレート (変性量10モル%、重量平均分子量804) 85% ・フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレート (重量平均分子量428) 15%
に変えた以外は同様に行い、感光性樹脂組成物を得、実
施例1と同様の評価を行った。
記の如く変更した以外は同様に行い、感光性樹脂組成物
を得、実施例1と同様の評価を行った。エチレン性不飽和化合物(B) ・フェノキシヘキサエチレングリコールアクリレート (重量平均分子量428) 15% ・エチレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジメタクリレート (変性量17モル%、重量平均分子量1112) 85%
かった以外は同様に行い、感光性樹脂組成物を得、実施
例1と同様の評価を行った。実施例、比較例の結果を表
1に示す。
シル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物
(B)、光重合開始剤(C)、染料(D)及び炭素数が
4以上のトリアルキルアミン(E)からなり、該光重合
開始剤(C)として、ヘキサアリールビイミダゾール
(c1)及びP,P′−ビス(ジアルキルアミノ)ベン
ゾフェノン(c2)を含有し、それぞれの含有量がカル
ボキシル基含有ポリマー(A)とエチレン性不飽和化合
物(B)の合計量100重量部に対して、1.0〜10
重量部、0.01〜0.25重量部であるため、解像
力、細線密着性、フィルムの保存安定性に非常に優れた
効果を示し、ITO等の透明導電膜の加工や42アロ
イ,SUS等のケミカルリング等の高解像度、高細線密
着性を要求される用途、特にPDPの電極形成に大変有
用である。
Claims (6)
- 【請求項1】 カルボキシル基含有ポリマー(A)、エ
チレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)、染
料(D)及び炭素数が4以上のトリアルキルアミン
(E)からなり、該光重合開始剤(C)として、ヘキサ
アリールビイミダゾール(c1)及びP,P′−ビス
(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン(c2)を含有
し、それぞれの含有量がカルボキシル基含有ポリマー
(A)とエチレン性不飽和化合物(B)の合計量100
重量部に対して、1.0〜10重量部、0.01〜0.
25重量部であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 【請求項2】 エチレン性不飽和化合物(B)として、
重合性不飽和基を2個有し、かつ重量平均分子量が90
0以下であるエチレン性不飽和化合物(b)を、エチレ
ン性不飽和化合物(B)中に70重量%以上含有するこ
とを特徴とする請求項1記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項3】 重合性不飽和基を2個有し、かつ重量平
均分子量が900以下であるエチレン性不飽和化合物
(b)がテトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ
(メタ)アクリレートの少なくとも1種であることを特
徴とする請求項1又は2いずれか記載の感光性樹脂組成
物。 - 【請求項4】 カルボキシル基含有ポリマー(A)とエ
チレン性不飽和化合物(B)の合計量100重量部に対
して、トリアルキルアミン化合物(E)を0.05〜7
重量部含有してなることを特徴とする請求項1〜3いず
れか記載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項5】 染料(D)として、ロイコ染料(d)を
含有してなることを特徴とする請求項1〜4いずれか記
載の感光性樹脂組成物。 - 【請求項6】 カルボキシル基含有ポリマー(A)とエ
チレン性不飽和化合物(B)の合計量100重量部に対
して、ロイコ染料(d)を0.05〜2重量部含有して
なることを特徴とする請求項5記載の感光性樹脂組成
物。
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-
1998
- 1998-09-29 JP JP27502298A patent/JP3280323B2/ja not_active Expired - Lifetime
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