JP3257637B2 - Optical card manufacturing method - Google Patents
Optical card manufacturing methodInfo
- Publication number
- JP3257637B2 JP3257637B2 JP19278692A JP19278692A JP3257637B2 JP 3257637 B2 JP3257637 B2 JP 3257637B2 JP 19278692 A JP19278692 A JP 19278692A JP 19278692 A JP19278692 A JP 19278692A JP 3257637 B2 JP3257637 B2 JP 3257637B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent substrate
- ink layer
- ultraviolet
- reflection
- uncured
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は光カードの製造方法に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical card.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、光カードの製造方法において、従
来、透明基板にプレフォーマットパターンを形状する方
法は、金型又はガラス型を用いて透明基板自身を形状す
る時に、同時にプレフォーマットパターンを形成するイ
ンジェクション法、キャスティング法や透明基板に金型
でプレフォーマットを形成するコンプレッション法、さ
らには、スタンパーとフォトプロセスにより透明基板上
にプレフォーマットを形成する２Ｐ法などが知られてい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, in a method of manufacturing an optical card, a conventional method of forming a preformat pattern on a transparent substrate involves forming a preformat pattern at the same time as forming the transparent substrate itself using a mold or a glass mold. Injection method, casting method, compression method of forming a preformat on a transparent substrate with a mold, and 2P method of forming a preformat on a transparent substrate by a stamper and a photo process are known.
【０００３】さらに、特開昭６３−１８３６３８号公報
等に記載されている様に、透明基板又は裏基板上にフォ
トレジストを塗布し、露光、エッチングによりプレフォ
ーマットを形成するフォトレジスト法などが知られてい
る。また、押出し成形時にロール状の金型でプレフォー
マットを形成する方法や、透明基板にプレフォーマット
状のマスクを用いてイオンビームやＵＶ／Ｏ3 処理等を
施し、凹凸形状は形成しないが、光学的特性の変化や光
記録層が接した時に光記録層の光学的特性が変化してプ
レフォーマットパターンが形成される方法等が知られて
いる。Further, as described in JP-A-63-183638 and the like, there is known a photoresist method in which a photoresist is applied on a transparent substrate or a back substrate, and a preformat is formed by exposure and etching. Have been. In addition, a method of forming a pre-format with a roll-shaped mold at the time of extrusion molding, or applying an ion beam or UV / O 3 treatment to a transparent substrate using a pre-formatted mask so that no irregularities are formed, There is known a method of forming a preformat pattern by changing the optical characteristics or changing the optical characteristics of the optical recording layer when the optical recording layer comes into contact with the optical recording layer.
【０００４】しかしながら、上記従来技術では、金型、
スタンパーやガラス型の製造プロセスが複雑で歩留りが
悪くまた金型やガラス型の耐久性が悪い。また、フォト
レジスト法ではエッチング工程等が必要であり、工程全
体を複雑にしている。イオンビーム処理やＵＶ／Ｏ3 処
理は、処理ムラが直接プレフォーマット信号のムラにな
り、光記録媒体層の材質によりその光記録媒体層の光学
特性の変化に差を生じる。[0004] However, in the above prior art, a mold,
The manufacturing process of the stamper and the glass mold is complicated and the yield is poor, and the durability of the mold and the glass mold is poor. In addition, the photoresist method requires an etching step or the like, which complicates the entire process. In the ion beam processing and the UV / O 3 processing, the processing unevenness directly becomes the unevenness of the preformat signal, and a difference occurs in the change in the optical characteristics of the optical recording medium layer depending on the material of the optical recording medium layer.
【０００５】したがって、従来の光カードの製造方法に
は下記のような欠点があった。 （１）生産性が悪くコストアップとなる。 （２）プレフォーマット信号特性が不安定である。Therefore, the conventional optical card manufacturing method has the following disadvantages. (1) The productivity is poor and the cost increases. (2) Preformat signal characteristics are unstable.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の様な
従来の光カードの製造方法の欠点を改善するためになさ
れたものであり、安定した高信号特性の光カードを低コ
ストで生産性よく製造する方法を提供することを目的と
するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned drawbacks of the conventional optical card manufacturing method, and is capable of producing an optical card having stable and high signal characteristics at low cost. It is an object of the present invention to provide a method for producing the composition with good efficiency.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、 （ａ）透明樹脂フィルムに紫外線硬化性の反射防止用イ
ンク層を積層し、さらに保護シートを貼り合せてなる転
写シートに、フォトマスクを用いて紫外線を露光し、反
射防止用インク層に硬化部と未硬化部のパタ−ンを形成
する工程、 （ｂ）保護シートを剥離し、露出した反射防止用インク
層に透明基板を貼り合せて密着させる工程、 （ｃ）透明樹脂フィルムと共に反射防止用インク層の硬
化部を剥離し、未硬化の反射防止用インク層を透明基板
上に転写する工程、および （ｄ）該透明基板に紫外線を露光し、該透明基板上に転
写された未硬化の該反射防止用インク層を硬化させた
後、その上に光記録媒体層を形成し、接着剤を介してウ
ラ基材と貼り合せる工程からなることを特徴とする光カ
ードの製造方法である。That is, the present invention provides : (a) a photo-mask on a transfer sheet formed by laminating an ultraviolet-curable anti-reflection ink layer on a transparent resin film and further bonding a protective sheet; Exposing to ultraviolet light to form a cured portion and an uncured portion pattern on the anti-reflection ink layer, (b) peeling off the protective sheet and bonding a transparent substrate to the exposed anti-reflection ink layer (C) peeling off the cured portion of the anti-reflection ink layer together with the transparent resin film, and transferring the uncured anti-reflection ink layer onto a transparent substrate; and (d) ultraviolet rays on the transparent substrate. Exposing and curing the uncured anti-reflection ink layer transferred onto the transparent substrate, and then forming an optical recording medium layer thereon and bonding it to the backing substrate via an adhesive. Light characterized by consisting of This is a method for manufacturing a card.
【０００８】以下、本発明を詳細に説明する。本発明
は、透明樹脂フィルムに紫外線硬化性の反射防止用イン
ク層を積層し、さらに保護シートを貼り合せてなる転写
シートに、フォトマスクを用いて紫外線を露光し、反射
防止用インク層に硬化部と未硬化部のパタ−ンを形成し
た後、保護シートを剥離し、露出した反射防止用インク
層に透明基板を貼り合せて密着させ、次に透明樹脂フィ
ルムと共に反射防止用インク層の硬化部を剥離し、未硬
化部のプレフォーマットパターンを透明基板上に形成
し、その後紫外線を露光し前記未硬化部を硬化した後、
その上に光記録媒体層を形成し、接着剤を介してウラ基
材と貼り合せて光カードを製造する方法である。Hereinafter, the present invention will be described in detail. The present invention
Is laminated with an ultraviolet-curable anti-reflection ink layer on a transparent resin film, and further exposed to ultraviolet light using a photomask on a transfer sheet obtained by laminating a protective sheet. After the pattern of the uncured portion is formed, the protective sheet is peeled off, a transparent substrate is adhered to the exposed antireflection ink layer, and then the cured portion of the antireflection ink layer is formed together with the transparent resin film. After peeling, forming a pre-format pattern of the uncured portion on the transparent substrate, and then curing the uncured portion by exposing to ultraviolet light,
This is a method of manufacturing an optical card by forming an optical recording medium layer thereon and bonding it to a backing substrate via an adhesive.
【０００９】以下本発明を図面を参照して説明する。図
１は本発明の光カードの製造方法の一例を示す工程図で
ある。図２は図１の製造方法により得られた光カードの
断面図である。同図において、１２１は紫外線、１２２
はマスク、１２３はプレフォーマットパターン、１２４
は透明樹脂フィルム、１２５は紫外線硬化性反射防止イ
ンク、１２６は保護シート、１２７ａは硬化部、１２７
ｂは未硬化部、１２７ｃは硬化部、１２８は金属板、１
２９は透明基板、１３０は紫外線ランプ、１３１はウラ
基材、１３２は接着剤層、１３３は光記録媒体層、１３
４は変性光記録媒体層である。The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a process chart showing an example of a method for manufacturing an optical card according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view of the optical card obtained by the manufacturing method of FIG. In the figure, reference numeral 121 denotes ultraviolet rays, 122
Is a mask, 123 is a preformat pattern, 124
Is a transparent resin film, 125 is an ultraviolet curable anti-reflection ink, 126 is a protective sheet, 127a is a cured portion, 127
b is an uncured portion, 127c is a cured portion, 128 is a metal plate, 1
29 is a transparent substrate, 130 is an ultraviolet lamp, 131 is a backing substrate, 132 is an adhesive layer, 133 is an optical recording medium layer, 13
Reference numeral 4 denotes a modified optical recording medium layer.
【００１０】図１において、本発明の光カードの製造方
法は、透明樹脂フィルム１２４と保護シート１２６に挟
まれた紫外線硬化性反射防止インク層１２５に、プレフ
ォーマットパターン１２３が形成されたマスク１２２を
通して紫外線１２１を照射すると、硬化部１２７ａと未
硬化部１２７ｂが形成される（図１（ａ）参照）。次
に、保護シート１２６を剥離し、露出した反射防止用イ
ンク層１２５に透明基板１２９を貼り合せる。さらに、
所望の形状の金属板１２８を加熱圧着させる（図１
（ｂ）参照）。透明樹脂フィルム１２４を剥離すると、
未硬化部１２７ｂの紫外線硬化性反射防止インクが透明
基板１２９に転写する（図１（ｃ）参照）。この透明基
板１２９に紫外線１２１をさらに照射し、未硬化部を硬
化させ硬化部１２７ｃとする（図１（ｄ）参照）。次
に、光記録媒体層１３３をこの紫外線硬化性反射防止イ
ンクにより形成されたプレフォーマットパターン上に形
成し、さらに接着剤層１３２を介してウラ基材１３１を
積層することにより、図２に示す光カードを得ることが
できる。Referring to FIG. 1, a method for manufacturing an optical card according to the present invention is performed by passing a mask 122 having a preformat pattern 123 formed on an ultraviolet-curable antireflection ink layer 125 sandwiched between a transparent resin film 124 and a protective sheet 126. Irradiation with ultraviolet rays 121 forms a cured portion 127a and an uncured portion 127b (see FIG. 1A). Next, the protective sheet 126 is peeled off, and the transparent substrate 129 is attached to the exposed antireflection ink layer 125. further,
A metal plate 128 having a desired shape is heated and pressed (FIG. 1
(B)). When the transparent resin film 124 is peeled,
The UV-curable anti-reflection ink in the uncured portion 127b is transferred to the transparent substrate 129 (see FIG. 1C). The transparent substrate 129 is further irradiated with ultraviolet rays 121 to cure the uncured portion to form a cured portion 127c (see FIG. 1D). Next, the optical recording medium layer 133 is formed on the preformat pattern formed by the ultraviolet curable anti-reflection ink, and the backing substrate 131 is laminated via the adhesive layer 132, as shown in FIG. You can get an optical card.
【００１１】紫外線１２１及び紫外線ランプ１３０は窒
素等の不活性ガス雰囲気中で用いる方が良く、超高圧水
銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、クセノンア
ーク灯などを用いる。The ultraviolet ray 121 and the ultraviolet lamp 130 are preferably used in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen. An ultrahigh-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon arc lamp or the like is used.
【００１２】マスク１２２はプレフォーマットパターン
が形成されたネガフィルム又はクロム又はアルミ等でパ
ターンが形成されたガラスマスクなどを用いる。As the mask 122, a negative film having a preformat pattern formed thereon or a glass mask having a pattern formed of chromium or aluminum or the like is used.
【００１３】透明樹脂フィルム１２４はポリエステル、
ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
セルロースアセテート、ポリステレン、ポリメチルメタ
クリレート、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、メチルペンチン樹脂、ポリアミド、ポリカーボネ
ート、ポリフェニレンオキシド、ポリサルホン、ポリフ
ッ化エチレン、ポリフッ化エチレンプロピレン、ポリエ
ーテルイミド、ポリイミド等のプラスチックフィルムを
使用できるが、耐熱性、機械的強度、平滑性、光学特
性、および価格を考慮すると、ポリエステルフィルムが
好ましいが特に限定されるものではない。基材の厚みは
１〜５００μｍ、好ましくは５〜１５μｍである。The transparent resin film 124 is made of polyester,
Polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride,
Plastic films such as cellulose acetate, polysterene, polymethyl methacrylate, polypropylene, polyethylene terephthalate, methylpentine resin, polyamide, polycarbonate, polyphenylene oxide, polysulfone, polyfluoroethylene, polyfluoroethylenepropylene, polyetherimide, and polyimide can be used. In consideration of the properties, mechanical strength, smoothness, optical properties, and price, polyester films are preferred, but are not particularly limited. The thickness of the substrate is 1 to 500 μm, preferably 5 to 15 μm.
【００１４】紫外線硬化性の反射防止インクは、不飽和
ポリエステル類、アクリレート類、チオール・エン類、
エポキシ・ルイス酸類にカーボンブラックや有機染料、
顔料を添加し、さらに増感剤として、ベンゾイン、ベン
ゾインエーテル、ベンゾフェノンベンジル、キサントン
等或いはこれらの誘導体を添加しても良い。UV curable antireflective inks include unsaturated polyesters, acrylates, thiol-enes,
Epoxy, Lewis acids, carbon black and organic dyes,
A pigment may be added, and benzoin, benzoin ether, benzophenonebenzyl, xanthone, or the like, or a derivative thereof may be added as a sensitizer.
【００１５】また、これらの化合物を塗布する方法とし
ては、ロールコート法、カーテンコート法、ワイヤーバ
ーコート法、グラビアコート法、エアナイフコート法等
の公知の方法を用いることができる。また厚さは、０．
５μｍ〜５μｍ、好ましくは１〜１．５μｍであり、溶
剤を用いて稀釈した場合は十分な乾燥が必要である。As a method for applying these compounds, known methods such as a roll coating method, a curtain coating method, a wire bar coating method, a gravure coating method, and an air knife coating method can be used. In addition, the thickness is 0.
The thickness is 5 μm to 5 μm, preferably 1 to 1.5 μm. When diluted with a solvent, sufficient drying is required.
【００１６】保護シート１２６は剥離性の良い表面が必
要であり、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ポ
リフッ化エチレン、ポリフッ化エチレンプロピレン等の
プラスチックフィルムが使用できる。好ましくは、ポリ
エチレンフィルムであるが、特に限定されるものではな
い。基材の厚さは１〜５００μｍ、好ましくは１０〜２
０μｍである。The protective sheet 126 needs to have a surface having good releasability, and a plastic film such as polyethylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, cellulose acetate, polypropylene, polyfluoroethylene, or polyfluoroethylenepropylene can be used. Preferably, it is a polyethylene film, but it is not particularly limited. The thickness of the substrate is 1 to 500 μm, preferably 10 to 2 μm.
0 μm.
【００１７】金属板１２８は所望の形状に形成し、表面
は鏡面仕上げが必要である。加熱温度は透明樹脂フィル
ムと紫外線硬化性反射防止インクの耐熱温度で決まる
が、例えばポリエステルでアクリル系樹脂にカーボンブ
ラックを添加した場合、９０℃〜１３０℃、好ましくは
１２０℃程度が良く、圧力は４〜１０ｋｇｆ・ｃｍ-1、
好ましくは８ｋｇｆ・ｃｍ-1程度である。The metal plate 128 is formed in a desired shape, and its surface needs to be mirror-finished. The heating temperature is determined by the heat resistant temperature of the transparent resin film and the ultraviolet curable anti-reflection ink. For example, when carbon black is added to an acrylic resin of polyester, the temperature is preferably 90 ° C. to 130 ° C., preferably about 120 ° C. 4 to 10 kgf · cm -1 ,
Preferably, it is about 8 kgf · cm −1 .
【００１８】透明基板１２９は光学的に透明であり、複
屈折が小さいなどの光学特性の良い材料であり、例えば
ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリス
チレンまたはガラス等を用いることができる。厚さは
０．３ｍｍ〜１．２ｍｍ、好ましくは０．４ｍｍ程度で
ある。The transparent substrate 129 is a material which is optically transparent and has good optical characteristics such as low birefringence. For example, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene or glass can be used. The thickness is 0.3 mm to 1.2 mm, preferably about 0.4 mm.
【００１９】ウラ基材１３１はカードの剛性を保ち光学
記録媒体層を保護する為のもので透明基板に接着剤層を
介して貼合される。したがって、材質的には各種プラス
チックフィルム又はガラスを用いることができるが、好
ましくは加熱、加湿等による収縮を考慮すると透明基板
と同質のものを用いる方が良い。また、ウラ基材には透
明基板との貼り合せ面と反対面に印刷受容層や磁気スト
ライプ等が形成されていても良く、透明基板側には反射
防止層等が形成されていても良い。The backing substrate 131 is for protecting the optical recording medium layer while maintaining the rigidity of the card, and is bonded to a transparent substrate via an adhesive layer. Therefore, various plastic films or glass can be used as the material, but it is preferable to use the same material as the transparent substrate in consideration of shrinkage due to heating, humidification, and the like. The back substrate may have a print receiving layer, a magnetic stripe, or the like formed on the surface opposite to the surface to be bonded to the transparent substrate, and an anti-reflection layer or the like may be formed on the transparent substrate side.
【００２０】接着剤層１３２はホットメルト系、熱硬化
系等の市販の接着剤を用いることができる。As the adhesive layer 132, a commercially available adhesive such as a hot melt type or a thermosetting type can be used.
【００２１】光記録媒体層１３３はレーザー光などによ
り穿孔可能なもの、屈折率が変化するもの、発色，脱色
あるい発泡するものであればいずれでも良く、例えばＳ
ｂ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｃｕ
−Ｓｎなどの金属や合金、シアニン化合物、アントラキ
ノン誘導体、クロマニウム系化合物、アゾ系色素、メチ
ン系色素などの有機染料、Ｔｅ−色素、Ｔｅ−ニトロセ
ルロース、Ａｇ−ゼラチンなどの金属と有機物との複合
体を使用できる。金属膜は厚さ５０〜２０００Å、好ま
しくは５００〜１０００Åであり、蒸着、スパッタ、メ
ッキなどにより形成される。金属と有機物との複合体や
有機染料の溶液等はロールコート法、グラビアコート法
などの公知の方法で形成できる。膜厚は５００〜１５０
０Å、好ましくは７００〜１３００Åである。The optical recording medium layer 133 may be any one that can be perforated by a laser beam or the like, one that changes its refractive index, one that develops, decolorizes or foams.
b, Te, Pb, Cd, Bi, Sn, Se, In, Cu
-Composites of metals and alloys such as metals and alloys such as Sn, organic dyes such as cyanine compounds, anthraquinone derivatives, chromanium compounds, azo dyes and methine dyes, Te-dye, Te-nitrocellulose and Ag-gelatin Can use body. The metal film has a thickness of 50 to 2000 °, preferably 500 to 1000 °, and is formed by vapor deposition, sputtering, plating, or the like. A complex of a metal and an organic substance, a solution of an organic dye, and the like can be formed by a known method such as a roll coating method or a gravure coating method. The film thickness is 500-150
0 °, preferably 700-1300 °.
【００２２】図３は本発明の光カードの製造方法により
得られた光カードの他の例を示す断面図である。同図に
おいては、あらかじめ光記録媒体層１３３を形成した透
明基板１２９を用いて、図１の方法と同様にして得られ
た光カードである。変性光記録媒体層１３４は未硬化の
紫外線硬化性反射防止インクと光記録媒体層との接触に
より反射率等が変化（低下）した状態になっている。FIG. 3 is a sectional view showing another example of the optical card obtained by the method for manufacturing an optical card according to the present invention. In the figure, an optical card obtained by using the transparent substrate 129 on which the optical recording medium layer 133 has been formed in advance in the same manner as in the method of FIG. The modified optical recording medium layer 134 has changed (decreased) in reflectance and the like due to contact between the uncured ultraviolet curable antireflection ink and the optical recording medium layer.
【００２３】[0023]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.
【００２４】実施例１ 厚さ１０μｍのポリエステルフィルムに厚さ１μｍに紫
外線硬化性反射防止用インク（アロニックスＵＶ−３０
３３＜東亜合成ゴム社製＞：カーボンブラック＝１００
重量部：５重量部）を塗布し、厚さ２０μｍのポリエチ
レンフィルムで挟んだ転写シートに、プレフォーマット
パターンが形成されたガラスマスク越しに紫外線（出力
８０Ｗ／ｃｍ、距離１５０ｍｍ、１０ｓｅｃ）を照射し
た。この転写シートのポリエチレンフィルムを剥離した
後、厚さ０．４ｍｍのポリメチルメタクリレート透明基
板に貼り合せた。次に、３５ｍｍ×８０ｍｍの鏡面仕上
げのステンレス板を温度１２０℃、圧力８ｋｇｆ・ｃｍ
-1で押し当てた。EXAMPLE 1 An ultraviolet-curable antireflection ink (Aronix UV-30) was applied to a 1 μm thick polyester film on a 10 μm thick polyester film.
33 <Toa Synthetic Rubber Co.>: carbon black = 100
(Weight part: 5 parts by weight) was applied, and a transfer sheet sandwiched between polyethylene films having a thickness of 20 μm was irradiated with ultraviolet rays (output: 80 W / cm, distance: 150 mm, 10 sec) through a glass mask on which a preformat pattern was formed. . After the polyethylene film of this transfer sheet was peeled off, it was bonded to a 0.4 mm-thick polymethyl methacrylate transparent substrate. Next, a 35 mm × 80 mm mirror-finished stainless steel plate was heated at a temperature of 120 ° C. and a pressure of 8 kgf · cm.
Pressed with -1 .
【００２５】さらに、ポリエステルフィルムを剥離し、
転写した未硬化の紫外線硬化性反射防止インクにより形
成されたプレフォーマットパターンに再度紫外線（出力
８０Ｗ／ｃｍ、距離１５０ｍｍ、１０ｓｅｃ）を照射し
た。この透明基板上に硬化したプレフォーマットパター
ン上に光記録媒体（ＩＲ−８２０＜日本化薬社製＞の３
％ジアセトンアルコール溶液）をスピンコート法で厚さ
約１０００Åに塗布し、さらにホットメルト系接着剤を
介して厚さ０．３ｍｍのポリメチルメタクリレートのウ
ラ基材を貼り合せて光カードを得た。その結果、プレフ
ォーマットと光記録媒体層の反射率コントラストが、約
０．７５の高コントラストの信号特性を得た。Further, the polyester film is peeled off,
Ultraviolet rays (output: 80 W / cm, distance: 150 mm, 10 sec) were again irradiated on the preformat pattern formed by the transferred uncured ultraviolet curable antireflection ink. An optical recording medium (IR-820 <manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
% Diacetone alcohol solution) is applied to a thickness of about 1000 mm by spin coating, and a 0.3 mm-thick backing substrate of polymethyl methacrylate is bonded via a hot melt adhesive to obtain an optical card. . As a result, a high-contrast signal characteristic having a reflectance contrast of about 0.75 between the preformat and the optical recording medium layer was obtained.
【００２６】実施例２ 実施例１と同様にして厚さ１０μｍのポリエステルフィ
ルムと厚さ２０μｍのポリエチレンフィルム間に厚さ１
μｍの紫外線硬化性反射防止インク（アロニックスＵＶ
−３０３３＜東亜合成ゴム社製＞：カーボンブラック＝
１００重量部：５重量部）を挟んだ転写シートに、プレ
フォーマットパターンの紫外線を照射した後、あらかじ
め、厚さ９００Åの光記録媒体層（ＩＲ−８２０＜日本
化薬社製＞）をグラビアコート法で塗布した厚さ０．４
ｍｍの透明ポリメチルメタクリレート基板に貼り合せ
た。さらに、実施例１と同様にステンレス板で加熱、加
圧した後、ポリエステルフィルムを剥し、未硬化の紫外
線硬化性反射防止インクを転写した。これに再度、紫外
線を照射し硬化させた後、ホットメルト系接着剤を介し
て厚さ０．３ｍｍのポリメチルメタクリレートのウラ基
材を貼り合せて光カードを得た。その結果、プレフォー
マットと光記録媒体層の反射率コントラストが、約０．
６５の高コントラストの信号特性を得た。Example 2 A film having a thickness of 1 μm was formed between a polyester film having a thickness of 10 μm and a polyethylene film having a thickness of 20 μm in the same manner as in Example 1.
μm UV curable anti-reflective ink (Aronix UV
-3033 <manufactured by Toa Synthetic Rubber Co.>: carbon black =
(100 parts by weight: 5 parts by weight), a pre-format pattern ultraviolet ray is applied to the transfer sheet sandwiched therebetween, and an optical recording medium layer (IR-820 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)) having a thickness of 900 mm is gravure coated in advance. 0.4 applied by the method
mm transparent polymethyl methacrylate substrate. Further, after heating and pressing with a stainless steel plate in the same manner as in Example 1, the polyester film was peeled off, and the uncured ultraviolet-curable antireflection ink was transferred. This was again irradiated with ultraviolet rays and cured, and then a 0.3 mm-thick backing substrate of polymethyl methacrylate was bonded via a hot melt adhesive to obtain an optical card. As a result, the reflectance contrast between the preformat and the optical recording medium layer is about 0.
65 high-contrast signal characteristics were obtained.
【００２７】[0027]
【発明の効果】本発明によれば、透明樹脂フィルムに紫
外線硬化性の反射防止用インクを積層し、保護シートを
貼り合せた転写シートを用いて、これにフォトマスクに
よる紫外線を照射し、保護シートを剥離して透明基板に
貼り合せ、熱と圧力で密着させた後、透明フィルムを剥
離することによりプレフォーマットパターンを透明基板
上に形成させることにより、生産性が向上し、安定した
高信号特性の光カードを低コストで生産することができ
る。 According to the present invention, an ultraviolet curable anti-reflection ink is laminated on a transparent resin film, and a protective sheet is attached to a transfer sheet, which is irradiated with ultraviolet rays by a photomask to protect the sheet. The sheet is peeled off and bonded to a transparent substrate, and after being adhered by heat and pressure, the preformatted pattern is formed on the transparent substrate by peeling off the transparent film, thereby improving productivity and providing a stable high signal. An optical card having characteristics can be produced at low cost.
【図１】本発明の光カードの製造方法の一例を示す工程
図である。FIG. 1 is a process chart showing an example of a method for manufacturing an optical card of the present invention.
【図２】図１の製造方法により得られた光カードの断面
図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of the optical card obtained by the manufacturing method of FIG.
【図３】本発明の光カードの他の製造方法により得られ
た光カードの断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of an optical card obtained by another method of manufacturing an optical card according to the present invention.
１２１ 紫外線 １２２ マスク １２３ プレフォーマットパターン １２４ 透明樹脂フィルム １２５ 紫外線硬化性反射防止インク １２６ 保護シート １２７ｂ 未硬化部 １２７ａ，１２７ｃ 硬化部 １２８ 金属板 １２９ 透明基板 １３０ 紫外線ランプ １３１ ウラ基材 １３２ 接着剤層 １３３ 光記録媒体層 １３４ 変性光記録媒体層 121 ultraviolet ray 122 mask 123 preformat pattern 124 transparent resin film 125 ultraviolet curable anti-reflection ink 126 protective sheet 127b uncured part 127a, 127c cured part 128 metal plate 129 transparent substrate 130 ultraviolet lamp 131 backing material 132 adhesive layer 133 light Recording medium layer 134 Modified optical recording medium layer
Claims (1)
の反射防止用インク層を積層し、さらに保護シートを貼
り合せてなる転写シートに、フォトマスクを用いて紫外
線を露光し、反射防止用インク層に硬化部と未硬化部の
パタ−ンを形成する工程、 （ｂ）保護シートを剥離し、露出した反射防止用インク
層に透明基板を貼り合せて密着させる工程、 （ｃ）透明樹脂フィルムと共に反射防止用インク層の硬
化部を剥離し、未硬化の反射防止用インク層を透明基板
上に転写する工程、および （ｄ）該透明基板に紫外線を露光し、該透明基板上に転
写された未硬化の該反射防止用インク層を硬化させた
後、その上に光記録媒体層を形成し、接着剤を介してウ
ラ基材と貼り合せる工程からなることを特徴とする光カ
ードの製造方法。(1) A transfer resin sheet comprising a transparent resin film laminated with an ultraviolet-curable anti-reflection ink layer and a protective sheet laminated thereon, is exposed to ultraviolet light using a photomask, and is used for anti-reflection. A step of forming a pattern of a cured portion and an uncured portion in the ink layer, (b) a step of peeling off the protective sheet, attaching a transparent substrate to the exposed anti-reflection ink layer, and bringing it into close contact, (c) a transparent resin Removing the cured portion of the anti-reflection ink layer together with the film, and transferring the uncured anti-reflection ink layer onto a transparent substrate; and (d) exposing the transparent substrate to ultraviolet light and transferring it onto the transparent substrate After curing the uncured anti-reflection ink layer that has been cured, forming an optical recording medium layer thereon, and bonding it to a backing substrate via an adhesive, Production method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19278692A JP3257637B2 (en) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | Optical card manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19278692A JP3257637B2 (en) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | Optical card manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH068680A JPH068680A (en) | 1994-01-18 |
| JP3257637B2 true JP3257637B2 (en) | 2002-02-18 |
Family
ID=16296977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19278692A Expired - Fee Related JP3257637B2 (en) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | Optical card manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3257637B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101176153A (en) * | 2005-05-17 | 2008-05-07 | 松下电器产业株式会社 | Multilayer information recording medium and production method therefor |
| KR101321882B1 (en) * | 2012-10-05 | 2013-10-28 | 주식회사 와이비엘 | Hologram stamping card and preparing method for the same |
| JP6017919B2 (en) * | 2012-10-23 | 2016-11-02 | 京セラ株式会社 | Manufacturing method of multilayer ceramic capacitor |
| JP7224729B2 (en) * | 2019-04-25 | 2023-02-20 | 日東電工株式会社 | LAMINATED POLARIZED FILM MANUFACTURING METHOD AND LAMINATED POLARIZED FILM MANUFACTURING APPARATUS |
-
1992
- 1992-06-29 JP JP19278692A patent/JP3257637B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH068680A (en) | 1994-01-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4619804A (en) | Fabricating optical record media | |
| US5281373A (en) | Process for producing substrate sheet for optical recording media | |
| JPH03116460A (en) | Method of manufacturing optically readable medium including embossing information | |
| WO2007040339A1 (en) | Manufacturing process of pattern ornament through molding ultraviolet-curing resin | |
| JPH04364243A (en) | Substrate sheet for optical recording medium and method and apparatus for producing substrate sheet for optical recording medium | |
| JPH0354742A (en) | Optical disk, production thereof and reading method thereof | |
| JPH11273147A (en) | Optical disk | |
| JPH0614414B2 (en) | Transfer type optical recording medium | |
| JP3257637B2 (en) | Optical card manufacturing method | |
| JPS60202557A (en) | Manufacture of substrate for optical disk | |
| JPH02156433A (en) | Information recording medium and its manufacture | |
| JPH05314545A (en) | Continuous production of substrate for optical information recording medium | |
| JP3068275B2 (en) | Manufacturing method of information recording medium | |
| JP2701027B2 (en) | Manufacturing method of optical recording card | |
| JP4133266B2 (en) | Multilayer optical disc manufacturing method | |
| JPH0316720A (en) | Manufacture of board for optical recording medium | |
| JPH05325272A (en) | Continuous manufacture of substrate for optical information recording medium | |
| JPS63121143A (en) | Optical card and its manufacture | |
| JPH11161142A (en) | Production of hologram | |
| JPH07311983A (en) | Manufacture of master stamper for optical recording medium | |
| JPH06215423A (en) | Method and apparatus for producing substrate sheet for optical recording medium, production of stamper and production of photomask | |
| JP2712368B2 (en) | Optical recording medium | |
| JPH0326375A (en) | Continuous production of substrate for optical information recording medium | |
| JPH02217234A (en) | Roll-type stamper for 2p and production thereof | |
| KR19990054116A (en) | Manufacturing method of holographic master roll |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |