JP3247322B2

JP3247322B2 - 洗浄装置

Info

Publication number: JP3247322B2
Application number: JP25557797A
Authority: JP
Inventors: 徹奥田; 大亥桶谷; 正敏林
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1997-09-19
Filing date: 1997-09-19
Publication date: 2002-01-15
Anticipated expiration: 2017-09-19
Also published as: JPH1190364A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば、ガラス
基板などの基板を洗浄するための洗浄装置に関し、特
に、４００ｍｍ×４００ｍｍ以上の大型基板の洗浄に好
適な洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、他の表示装置に
比べて厚さ（奥行き）が格段に薄くできること、消費電
力が小さいこと、フルカラー化が容易なことなどの利点
を有するため、現在幅広い分野で用いられている。この
液晶表示装置は、通常、一対のガラス基板の間に液晶層
を挟持している構成を有している。

【０００３】上記ガラス基板に対しては、透明導電層や
有機高分子膜、金属膜などの薄膜が成膜され、これら薄
膜をパターニングするなどによって、該ガラス基板上に
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）などのスイッチング素子
や、該スイッチング素子を駆動制御するための配線など
が形成される。

【０００４】上記種々の薄膜を形成する工程では、上記
ガラス基板を洗浄することによって、該ガラス基板上に
付着しているサブミクロンから数μｍのパーティクルを
除去する必要がある。これは、ガラス基板上にパーティ
クルが残留した状態で薄膜を形成すると、形成されたこ
の薄膜をパターニングなどして形成される上記配線に断
線やリークなどの配線不良が発生する。この配線不良
は、上記スイッチング素子に対して動作不良を招来する
ことになり、得られる液晶表示装置に線欠陥や点欠陥を
引き起こすことにもなる。これと同様の問題点は、ＩＣ
やＬＳＩなどの製造においても生じる。

【０００５】そこで、上記の問題点を解消するために、
従来より、ガラス基板などの基板を洗浄装置で洗浄する
ことによって、基板上のパーティクルを除去し、その
後、該基板に対して薄膜を成膜する手法が用いられてい
る。上記洗浄装置としては、洗浄液が洗浄槽にほぼ一様
に流入するオーバーフロー方式の洗浄装置が挙げられ
る。このオーバーフロー方式の洗浄装置としては、たと
えば、図７に示すように、ポンプ１０１、フィルタ１０
２、洗浄槽１０３、流入口１０５、排出手段１０６、パ
ンチングプレート１０７を少なくとも備えている洗浄装
置１００がある。

【０００６】この洗浄装置１００では、まず、ポンプ１
０１により圧送される洗浄液に含まれるパーティクルが
フィルタ１０２により除去される。パーティクルが除去
された洗浄液は、洗浄槽１０３の底面に面状に形成され
た流入口１０５から該洗浄槽１０３に流入する。このと
き、流入口１０５の直上には、パンチングプレート１０
７が設置されており、このパンチングプレート１０７に
より、洗浄液の流れが平滑化され、洗浄槽１０３に対し
て洗浄液が一様に流入することになる。

【０００７】洗浄槽１０３内には被洗浄物である基板１
０４（ガラス基板など）が複数配置されており、一様に
流入した洗浄液によって該基板１０４は洗浄される。ま
た、洗浄液は、洗浄槽１０３に設けられた図示しない流
出口を通って、排出手段１０６によって排出される。

【０００８】流入口１０５は、上述したように、洗浄槽
１０３の底面に面状に形成されていること、および、パ
ンチングプレート１０７を設けていることから、図８に
示すように、洗浄液は一様に洗浄槽１０３に流入する。
そして、洗浄槽１０３の下方から２つの流出口１０８の
設けられている上方に向かって洗浄液が流れる。この洗
浄液の流れによって基板１０４を洗浄する。その後、洗
浄液は、上記のように、洗浄槽１０３の上端に接する位
置に形成されている流出口１０８から流出し、上記排出
手段１０６によって排出されることになる。

【０００９】このようなオーバーフロー方式の洗浄装置
としては、上記洗浄装置１００以外に、下記の各洗浄装
置を挙げることができる。まず、洗浄装置１１０では、
図９に示すように、洗浄槽１１３の底面に面状に形成さ
れた流入口１１５から、洗浄液が放物線状に分布しなが
ら該洗浄槽１１３に流入する。流入した洗浄液の流れ
は、基板１０４を洗浄して、洗浄槽１１３側面の上端面
に接する位置に設けられている２つの流出口１１８から
流出する。

【００１０】次に、洗浄装置１２０では、図１０に示す
ように、洗浄槽１２３の上端面に、面状の流入口１２５
が設けられており、この流入口１２５から洗浄液が一様
に流入する。流入した洗浄液の流れは、基板１０４を洗
浄して、洗浄槽１２３側面の底面に接する位置に設けら
れている２つの流出口１２８から流出する。

【００１１】また、複数の流入口から流入した洗浄液を
一様に流出させる洗浄装置、すなわち、上記のオーバー
フロー方式の洗浄装置とは流入口と流出口の構成が逆と
なっている一様流出方式の洗浄装置も知られている。た
とえば、図１１に示すように、洗浄装置１３０では、洗
浄槽１３３側面の上端面に接する位置に形成された流入
口１３５から洗浄液が流入する。流入した洗浄液の流れ
は、基板１０４を洗浄して、洗浄槽１３３の底面に面状
に形成されている流出口１３８から一様に流出する。

【００１２】上記のような一様流出方式の洗浄装置のう
ち、特に、ＩＣやＬＳＩなどに用いられる円盤状の基板
であるシリコンウェハーの洗浄に用いられる洗浄装置と
して、たとえば、図１２に示すような、洗浄槽１４３の
断面形状が略半円形状の洗浄装置１４０が挙げられる。

【００１３】この洗浄装置１４０では、被洗浄物である
シリコンウェハー１４４の形状に合わせて洗浄槽１４３
の形状が設定されている。この洗浄槽１４３の上部に
は、洗浄液である純水を供給する純水供給部１４２が形
成されており、さらに、洗浄槽１４３の内部に、シリコ
ンウェハー１４４の形状に合わせた位置に、純水を噴射
するシャワーパイプ１４５が複数形成されている。シャ
ワーパイプ１４５による純水の噴射によって、洗浄槽１
４３内の純水が撹拌され、シリコンウェハー１４４上の
パーティクルが除去される。その後、流出口１４８から
純水が一様に流出して排出される。

【００１４】同様の構成の洗浄装置としては、他に、特
開平８−２９０１３４号公報に開示されている洗浄装置
がある。この洗浄装置１５０では、図１３に示すよう
に、略直方体状形状の洗浄槽１５３の一方の側面の上端
に、流入する純水（洗浄液）の流入角度が異なるように
形成されている２つの流入口１５５が設けられている。
この２つの流入口１５５から流入した純水の流れは、被
洗浄物であるシリコンウェハー１４４上のパーティクル
を除去し、その後、洗浄槽１５３の底面に面状に形成さ
れた流出口１５８の近傍で合流して、互いの流れの勢い
を相殺する。そして、流れの勢いが相殺された純水は、
流出口１５８から流出して排出されることになる。

【００１５】さらに、複数の流入口から流入した洗浄液
が、同じく単数または複数の流出口から流出するトルネ
ード方式の洗浄装置も知られている。このトルネード方
式の洗浄装置としては、たとえば、図１４に示すよう
に、洗浄槽１６３側面の上端面に接する位置に形成され
ている２つの流入口１６５が設けられ、洗浄槽１６３の
底面に接する位置に形成されている１つの流出口１６８
が設けられている洗浄装置１６０がある。この洗浄装置
１６０では、２つの流入口１６５から流入した洗浄液が
洗浄槽１６３内で渦を巻くように流れて基板１０４を洗
浄し、流出口１６８から洗浄液が流出して排出される。

【００１６】同様に、図１５に示すように、洗浄槽１７
３側面の上端面に接する位置に形成されている２つの流
入口１７５が設けられ、洗浄槽１７３側面の底面に接す
る位置に形成されている２つの流出口１７８が設けられ
ている洗浄装置１７０を挙げることができる。この洗浄
装置１７０でも、洗浄槽１７３内において洗浄液が渦を
巻くように流れ、基板１０４を洗浄する。

【００１７】上述した各洗浄装置で基板１０４を洗浄す
ることにより、該基板１０４上に付着しているパーティ
クルを除去することが可能となる。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記オーバ
ーフロー方式の洗浄装置である洗浄装置１００では、流
入口１０５から一様に流入する洗浄液が被洗浄物である
基板１０４により粘性抵抗を受けることになる。そのた
め、洗浄液の流れは、上方へ向かうにつれて、２つの流
出口１０８のある側面へ逃げるように分かれることにな
る。それゆえ、洗浄液の流れの分かれ目に相当する、洗
浄槽１０３の液面付近の中央部では、洗浄液の澱みが生
じて、この澱みにパーティクルが残留することになる
（残留パーティクルの発生）。

【００１９】上記のような残留パーティクルが発生する
と、洗浄槽１０３内に配置されている基板１０４上にお
ける上記澱みに相当する領域に、特にパーティクルが多
く残留することになる。そのため、該基板１０４上で
は、パーティクルの残留数が多くなりパーティクルによ
る汚染が残っている領域（汚染残存領域とする）と、パ
ーティクルの残留が所定の残留数よりも少なく清浄とな
っている領域（清浄領域とする）とが形成され、基板１
０４上においてパーティクルの残留数にムラが生じるこ
とになる。

【００２０】したがって、洗浄装置１００によって基板
１０４全面を均一に清浄にするためには、上記汚染残存
領域におけるパーテイクル残留数を清浄領域におけるパ
ーティクル残留数とほぼ等しくなるまで、洗浄を継続し
なければならない。それゆえ、基板１０４全面を洗浄す
るためには、かなりの長時間を要するという問題点を招
来している。

【００２１】しかも、基板１０４の洗浄後に、洗浄槽１
０３から基板１０４を引き上げる際に、上記洗浄液の澱
みに残留しているパーティクルが清浄となった基板１０
４に再付着し、基板１０４を再汚染するという問題点も
招来している。

【００２２】一方、洗浄装置１１０では、流入する洗浄
液が放物線状に分布するため、洗浄槽１１３の液面付近
の中央部に洗浄液の流入する量が多くなる。それゆえ、
中央部における残留パーティクルの発生は若干抑制され
るものの、完全に残留パーティクルの発生を防止するこ
とができず、上記各問題点を解消することはできない。

【００２３】同様に、洗浄装置１２０のように、洗浄槽
１２３の上方から洗浄液を一様に流入させるオーバーフ
ロー方式の洗浄装置であっても、洗浄槽１２３の下方の
２つの流出口１２８のある側へ洗浄液の流れが逃げるよ
うに分かれることになる。それゆえ、上記流れの分かれ
目で洗浄液の澱みが生じ、残留パーティクルの発生を防
止することはできない。

【００２４】また、一様流出方式の洗浄装置である洗浄
装置１３０では、２つの流入口１３５から流入した洗浄
液は、洗浄槽１３３内で大きく渦を巻くように流れるこ
とになる。洗浄液がこのように渦を巻いて流れると、洗
浄液の流れの勢いが弱くなる。それゆえ、洗浄装置１３
０では、オーバーフロー方式の洗浄装置のように、洗浄
槽１３３内に洗浄液の澱みが形成されることはないが、
洗浄液の流れの勢いが弱いため、基板１０４上のパーテ
ィクルを効果的に除去することができなくなり、基板１
０４全面が清浄になるまで洗浄するには長時間を必要と
するという問題点を有している。

【００２５】上記洗浄装置１３０と同様の構成を有する
洗浄装置１４０では、洗浄槽１４３の上部から純水が供
給され、さらに、洗浄槽１４３の中央部であるシリコン
ウェハー１４４周辺で純水が噴射される。このため、シ
リコンウェハー１４４の洗浄には効果があものの、洗浄
槽１４３の中央部で純水が撹拌されることになるため、
洗浄により除去されたパーティクルは、すぐに流出口１
４８から排出されず、洗浄槽１４３内に残留することに
なるという問題点を有している。

【００２６】また、上記特開平８−２９０１３４号公報
に開示されている洗浄装置１５０では、純水の流れの勢
いが流出口１５８の近傍で相殺される。そのため、除去
されたパーティクルは洗浄槽１５３内に残留せず、すぐ
に流出口１５８から排出される。それゆえ、上記洗浄装
置１４０における問題点は解消されることになる。しか
しながら、図１３に示すように、２つの流入口１５５か
ら流入する純水の流れによって、洗浄槽１５３の上方の
矢印Ａで指し示す領域で純水の澱みが生じることにな
る。

【００２７】この洗浄装置１５０では、被洗浄物がシリ
コンウェハー１４４のように、液晶表示装置に用いられ
るガラス基板ほど大きくないために、上記澱みによる洗
浄への影響はさほど大きくない。ところが、被洗浄物の
大きさが上記ガラス基板のように大きくなれば、上記オ
ーバーフロー方式の洗浄装置と同様に、上記澱みにより
残留パーティクルが発生し、洗浄効率が大幅に低下する
ことになる。

【００２８】一方、トルネード方式の洗浄装置１６０・
１７０では、上記洗浄装置１３０と同様に洗浄液が大き
く渦を巻くように流れるため、洗浄槽１６３・１７３内
で洗浄液の澱みが発生することは抑制できる。しかしな
がら、大きく渦を巻くような洗浄液の流れでは、基板１
０４を洗浄するために十分な勢いを有しておらず、やは
り、基板１０４上のパーティクルを効率よく除去するこ
とができない。

【００２９】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、その目的は、洗浄槽内における洗浄液の澱み
の発生を防止するとともに、パーティクルを除去できる
勢いを有する洗浄液の流れを洗浄槽全体に形成すること
によって、洗浄槽内に配置された、特に、液晶表示装置
などに用いられる大型のガラス基板などの大型の被洗浄
物を効率的に洗浄することができる洗浄装置を提供する
ことである。

【００３０】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
洗浄装置は、上記の課題を解決するために、被洗浄物を
収納する領域を有する略直方体形状の洗浄槽と、上記洗
浄槽の第１の側面に形成され、該洗浄槽に流体を流入す
る第１流入部と、上記第１の側面に対向する面である第
２の側面に形成され、該洗浄槽に流体を流入する第２流
入部と、上記第１流入部と第２流入部とから流入する流
体を排出する流出口とを備えているとともに、上記第１
流入部または／および第２流入部は、洗浄槽底面からの
高さが互いに異なる複数の流入口を有していることを特
徴としている。

【００３１】通常の洗浄装置では、洗浄槽内において、
流体は所定の大きな流れを形成するようになっているこ
とから、洗浄槽内では、流体は、単純な流れを形成する
傾向にある。そのため、この単純で大きな流れでは、流
れの勢いが弱くなるとともに、この単純で大きな流れか
ら外れる領域では、流体の澱みが発生し易くなる。

【００３２】これに対して、上記請求項１記載の構成で
は、流体の流れが、少なくとも３つ以上形成されるとと
もに、それら流れが互いに対向した状態となっている。
この状態では、洗浄槽内では、流体は、互いにその流れ
の勢いを相殺することがなく、より複雑な流れを形成す
ることになる。

【００３３】つまり、洗浄槽内では、流体が所定の大き
な流れを形成することが抑制され、従来よりも、より複
雑、かつ、勢いの強い流体の流れを形成することにな
る。そのため、洗浄槽内において、流体の澱みの発生が
効果的に防止されるとともに、流体が大きな渦を巻くよ
うな単純で弱い流れを形成することが抑制される。

【００３４】したがって、被洗浄物の表面上の汚れは、
複雑かつ強い勢いの流れによって、洗浄時間の経過とと
もに、該表面全面で大きなムラを生ずることなく、ほぼ
均一に効率よく除去される。また、流体の澱みがなく、
かつ、流れの勢いが強いため、被洗浄物から除去された
汚れが洗浄槽内に残留することが防止される。

【００３５】しかも、上記構成では、洗浄槽が略直方体
形状となっており、この形状の洗浄槽全体に複雑かつ勢
いの強い流れが形成されることになる。そのため、特定
の形状を有する洗浄物だけが洗浄可能であるような、従
来のシリコンウェハーなどの洗浄装置と比較して、様々
な被洗浄物の洗浄に用いることが可能であるとともに、
大型の被洗浄物の洗浄も可能となる。また、流体の流れ
の勢いが従来よりも強いため、洗浄により除去されたパ
ーティクルなどの被洗浄物の汚れは、すぐに洗浄槽から
排出することができる。

【００３６】本発明の請求項２記載の洗浄装置は、上記
の課題を解決するために、上記請求項１記載の構成に加
えて、上記第１流入部の流入口から洗浄槽へ流入する流
体の流入角度と、第２流入部の流入口から洗浄槽へ流入
する流体の流入角度とは、互いに異なっていることを特
徴としている。

【００３７】上記請求項２記載の構成によれば、流入口
からの流入角度が異なっていることから、洗浄槽内での
流体の流れをより複雑化することができる。そのため、
洗浄槽内における流体の澱みや勢いの弱い流れの発生を
さらに効果的に防止することができる。

【００３８】本発明の請求項３記載の洗浄装置は、上記
の課題を解決するために、上記請求項１または２記載の
構成に加えて、上記第１流入部の流入口の設けられてい
る位置と、第２流入部の流入口の形成されている位置と
は、洗浄槽底面からの高さが互いに異なっていることを
特徴としている。

【００３９】上記請求項３記載の構成によれば、流入口
の洗浄槽底面からの高さが互いに異なっていることか
ら、洗浄槽内での流体の流れをより複雑化することがで
きる。そのため、洗浄槽内における流体の澱みや勢いの
弱い流れの発生をさらに効果的に防止することができ
る。

【００４０】本発明の請求項４記載の洗浄装置は、上記
の課題を解決するために、上記請求項１、２または３記
載の構成に加えて、上記第１流入部および第２流入部が
有する複数の流入口のうちの少なくとも１つが、洗浄槽
底面に接する位置に設けられていることを特徴としてい
る。

【００４１】上記請求項４記載の構成によれば、複数の
流入口のうちの少なくとも１つが、上記の位置に形成さ
れていることで、洗浄槽底面の近傍において、強い流体
の流れを形成することになる。そのため、洗浄槽底面の
近傍で発生し易くなる流体の澱みや勢いの弱い流れを効
果的に防止することができる。

【００４２】本発明の請求項５記載の洗浄装置は、上記
の課題を解決するために、被洗浄物を傾斜させて収納す
る領域を有する略直方体形状の洗浄槽と、上記傾斜させ
た被洗浄物の上端側が近接する上記洗浄槽の第１の側面
において、洗浄槽底面から見て、被洗浄物の上端と下端
とに相当する高さの間となる位置に設けられており、該
洗浄槽に流体を流入する第１流入部と、上記第１流入部
の設けられている側面に対向する第２の側面において、
洗浄槽底面からの高さが上記傾斜させた被洗浄物の下端
近傍となる位置に設けられており、該洗浄槽に流体を流
入する第２流入部と、上記第１の側面および第２の側面
において、洗浄槽の上端面に接する位置に設けられてお
り、第１流入部と第２流入部とから流入する流体を排出
する複数の流出口とを備えているとともに、上記第１流
入部または／および第２流入部は、洗浄槽底面からの高
さが互いに異なる複数の流入口を有していることを特徴
としている。

【００４３】上記請求項５記載の構成によれば、上記第
１流入部および第２流入部は、それぞれ、被洗浄物の上
端または下端側が近接している側面に形成されている。
そのため、傾斜して配置されている被洗浄物の上端およ
び下端に近接した真横から流体が流入することになる。
その結果、被洗浄物上において、より複雑で、強い勢い
の流れが形成されるため、洗浄効果を上昇させることが
できる。

【００４４】しかも、被洗浄物が傾斜して配置されてい
るため、被洗浄物を洗浄槽から引き上げた際に、洗浄液
の切れが良くなる。そのため、仮に、洗浄液にパーティ
クルが含まれていても、被洗浄物からほとんど洗浄液が
取り除かれるため、被洗浄物にこのパーティクルが残留
することがない。したがって、被洗浄物に対する洗浄効
果をより向上させることができる。

【００４５】本発明の請求項６記載の洗浄装置は、上記
の課題を解決するために、上記請求項５記載の構成に加
えて、上記第１流入部は、傾斜している被洗浄物の中央
部よりも下方となる位置に設けられている第１の流入口
と、上記中央部よりも上方となる位置に設けられている
第２の流入口とを有しているとともに、上記第２流入部
は、洗浄槽底面に接する位置に設けられている第３の流
入口と、洗浄槽底面から見て上記被洗浄物の下端とほぼ
同じ高さとなる位置に設けられている第４の流入口とを
有していることを特徴としている。

【００４６】上記請求項６記載の構成によれば、第１流
入部における第１および第２の流入口と第２流入部にお
ける第３および第４の流入口とが、被洗浄物の真横の位
置となるように互いに対向しているとともに、洗浄槽底
面からの高さが互いに異なる位置となるように設けられ
ている。そのため、被洗浄物上における流体の流れは、
互いにその勢いを相殺することなく、より複雑化するこ
とになり、流体の澱みや弱い流れの発生を効果的に防止
することができる。また、第３の流入口により洗浄槽底
面の近傍で発生し易くなる流体の澱みや勢いの弱い流れ
を効果的に防止することができる。

【００４７】本発明の請求項７記載の洗浄装置は、上記
の課題を解決するために、上記請求項６記載の構成に加
えて、上記第１の流入口から流入する流体は、洗浄槽底
面にほぼ平行となるように流入し、第２の流入口から流
入する流体は、洗浄槽底面に向かって斜め下方に流入す
るとともに、上記第３の流入口から流入する流体は、洗
浄槽底面にほぼ平行となるように流入し、第４の流入口
から流入する流体は、第２の側面にほぼ平行となるよう
に流入することを特徴としている。

【００４８】上記請求項７記載の構成によれば、第２の
流入口から斜め下方に流体が流入することで、被洗浄物
を真横から洗浄する第１の流入口からの流体の流れと、
斜め方向から被洗浄物を洗浄する流体の流れの２つが形
成されることになる。しかも、これら流れは、第２流入
部の流入口からの流れにより、勢いを相殺されずに複雑
に流れることになるため、流体の澱みや勢いの弱い流れ
の発生を効果的に防止することができる。

【００４９】さらに、上記第４の流入口から第２の側面
にほぼ平行となるように、すなわち、第２の側面に沿う
ように流体が流れることになるため、第２の側面近傍に
おいても、流体の澱みや勢いの弱い流れの発生を効果的
に防止することができる。

【００５０】本発明の請求項８記載の洗浄装置は、上記
の課題を解決するために、上記請求項６または７記載の
構成に加えて、上記第２流入部は、さらに、第２の側面
に設けられている流出口の近傍となる位置に第５の流入
口を有していることを特徴としている。

【００５１】上記請求項８記載の構成によれば、上記第
５の流入口からの流体の流れによって、洗浄槽の上方の
水面近傍において残留する傾向にある被洗浄物から除去
された汚れを効果的に取り除くことができる。そのた
め、被洗浄物を洗浄後に洗浄槽から引き上げる際に、残
留した汚れによる被洗浄物の再汚染を防止することがで
きる。また、上記第５の流入口からの流体の流れによっ
て、洗浄槽内に配置されている被洗浄物の上方となる領
域で、流体の澱みや勢いの弱い流れの発生を効果的に防
止することができる。

【００５２】本発明の請求項９記載の洗浄装置は、上記
の課題を解決するために、上記請求項８の構成に加え
て、上記第５の流入口からの流体の流入量は、他の流入
口からの流体の流入量よりも少ない量であることを特徴
としている。

【００５３】上記請求項９記載の構成によれば、上記第
５の流入口からの流体の流入量が少ないため、第５の流
入口からの流体の流れは、他の流入口からの流体の流れ
よりも若干弱くなる。そのため、洗浄槽の上方の水面近
傍において残留する傾向にある被洗浄物から除去された
汚れを、他の流体の流れを乱すことなく効果的に取り除
くことができる。

【００５４】本発明の請求項１０記載の洗浄装置は、上
記の課題を解決するために、上記請求項１から９の何れ
か１項に記載の構成に加えて、複数の上記流出口から排
出された流体を濾過し、この濾過した流体を再び上記第
１および第２流入部が有する流入口から洗浄槽内に流入
する循環手段を備えていることを特徴としている。

【００５５】上記請求項１０記載の構成によれば、流出
口から洗浄槽の外部の排出された流体は、上記濾過手段
によって、被洗浄物から除去した汚れを取り除かれる。
さらに、汚れを取り除かれた清浄な流体は、上記循環手
段によって、再び洗浄槽内に流入することになる。その
ため、被洗浄物の洗浄に用いる流体を効率的に利用でき
るとともに、大量の流体を使用する必要がないことか
ら、洗浄のコストを低減することができる。

【００５６】

【発明の実施の形態】

〔実施の形態１〕本発明の実施の一形態を、図１ないし
図３に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、こ
れによって本発明が限定されるものではない。本実施の
形態の洗浄装置１は、図１に示すように、循環部２、洗
浄槽３、第１流入部４、第２流入部５、２つの流出口６
ａ・６ｂ、配管７を備えている。

【００５７】上記循環部２は、ポンプ２ａとフィルタ２
ｂとを備えている。ポンプ２ａは、流体としての洗浄液
を洗浄槽３へ圧送する。フィルタ２ｂは、ポンプ２ａに
より圧送される洗浄液中に含まれるパーティクルなどの
汚れを除去する。洗浄槽３は、内部に液晶表示装置に用
いられる大型のガラス基板を複数枚収納できるような領
域を有する略直方体状の形状となっている。この洗浄槽
３に対して、ポンプ２ａから圧送されてフィルタ２ｂに
より清浄にされた洗浄液が、配管７を経由して第１流入
部４および第２流入部５が有する流入口から流入する。

【００５８】上記第１流入部４は、本実施の形態では、
図１および図２に示すように、洗浄槽３底面に近い位置
に形成される第１の流入口４ａと、その鉛直方向上方、
すなわち、洗浄槽３底面からの高さが上記流入口４ａよ
りも高い位置に形成されている第２の流入口４ｂとを有
している。なお、以下、洗浄槽３底面からの高さを単に
高さと略す。

【００５９】同様に、上記第２流入部５は、本実施の形
態では、洗浄槽３底面に近い位置に形成されている第３
の流入口５ａと、この流入口５ａよりも高い位置に形成
されている第４の流入口５ｂとを有している。流入口５
ａは、第１流入部４における流入口４ａと同じ高さとな
る位置に形成されており、流入口５ｂは、流入口４ｂと
同じ高さとなるような位置に形成されている。また、こ
れら第２流入部の流入口５ａ・５ｂは、図２に示すよう
に、被洗浄物８を収納する領域を介して、第１流入部４
の流入口４ａ・４ｂと対向する位置に形成されている。

【００６０】洗浄液を洗浄槽３から外部へ排出する２つ
の流出口６ａ・６ｂは、上記第１流入部４の流入口４ａ
・４ｂおよび第２流入部５の流入口５ａ・５ｂよりも高
い位置に形成されている。本実施の形態では、洗浄槽３
の上端面に近接した位置にそれぞれ形成されている。流
出口６ａは、第１流入部４の鉛直上方となる位置に形成
されており、流出口６ｂは、流出口６ａと対向する位
置、すなわち、第２流入部の鉛直上方となる位置に形成
されている。

【００６１】排出された洗浄液は、配管７を経由して上
記循環部２のポンプ２ａに戻り、再び圧送される。圧送
された直後の洗浄液はフィルタ２ｂにより濾過され、洗
浄液中の汚れが除去されて清浄になる。清浄となった洗
浄液は、そのまま配管７へと流れていき、再び上記洗浄
槽３へ流入する。

【００６２】上記のような構成を有する洗浄装置１で
は、互いに対向する位置に形成されている流入口４ａ・
４ｂを有する第１流入部４と、流入口５ａ・５ｂを有す
る第２流入部５とから、洗浄槽３へ洗浄液が流入するた
めに、該洗浄槽３内では、複数の対向する洗浄液の流れ
が形成される。このような流れが形成されると、洗浄槽
３内では、洗浄液は、互いにその流れの勢いを相殺する
ことがなく、より複雑な流れを形成することになる。

【００６３】そのため、洗浄槽３内では、洗浄液が単純
で大きな流れを形成することが抑制され、従来よりもよ
り複雑で、かつ、勢いの強い洗浄液の流れを形成するこ
とになる。それゆえ、洗浄槽３内において、洗浄液の澱
みの発生が効果的に防止されるとともに、洗浄液が大き
な渦を巻くような単純で勢いの弱い流れを形成すること
も抑制される。

【００６４】したがって、被洗浄物８であるガラス基板
上に付着するパーティクルは、複雑かつ勢いの強い流れ
によって、洗浄時間の経過とともに、該表面全面で大き
なムラを生ずることなく、ほぼ均一に効率よく除去され
る。しかも、洗浄液の流れの勢いが従来よりも強いた
め、洗浄により除去されたパーティクルは、洗浄槽３内
に残留することがなく、すぐに洗浄槽３から排出され
る。そのため、洗浄槽３内の残留パーティクルによる被
洗浄物８の再汚染の発生も抑制できる。

【００６５】さらに、上記循環部２では、上記流出口６
ａ・６ｂから排出された洗浄液をフィルタ２ｂで濾過
し、洗浄液内のパーティクルなどの汚れを取り除く。そ
の後、この濾過により清浄となった洗浄液は、再びポン
プ２ａによって洗浄槽３内に再流入する。つまり、循環
部２は、循環手段として機能するため、洗浄液を効率的
に利用できるとともに、大量の洗浄液を使用する必要が
ないことから、洗浄のコストを低減することができる。

【００６６】本実施の形態では、上記洗浄槽３の大きさ
は、縦６００ｍｍ×横６００ｍｍ×深さ６００ｍｍとな
っているが特に限定されるものではなく、収納される被
洗浄物８が十分に収納できる大きさであればよい。ま
た、本実施の形態では、洗浄液として純水が用いられて
いるが、これに限定されるものではなく、被洗浄物８の
種類や洗浄の目的などに応じて、種々の薬剤を混合した
り、他の溶剤を用いたりすることができる。

【００６７】本実施の形態では、被洗浄物８として、液
晶表示装置に使用される大型のガラス基板が用いられて
いるが、特に限定されるものではなく、種々のものを洗
浄することができる。たとえば、上記被洗浄物８として
は、シリコンウェハーなどの円盤状の小型の被洗浄物で
あってもよい。本実施の形態では、上記の大型のガラス
基板として４００ｍｍ×５００ｍｍの大きさのものが用
いられている。なお、以下の説明では、被洗浄物８をガ
ラス基板８とする。

【００６８】上記ガラス基板８を洗浄して、洗浄槽３か
らガラス基板８を引き上げた後には、該ガラス基板８上
から洗浄液をできる限り取り除く必要がある。これは、
残留している洗浄液にパーティクルが含まれていると、
乾燥によりガラス基板８上から洗浄液を除去することに
よって、該ガラス基板８にパーティクルが残留して再汚
染されることになるためである。

【００６９】そこで、被洗浄物が円盤状や球形状などで
ない場合、具体的には、被洗浄物がガラス基板８のよう
に略長方形状である場合、洗浄槽３内では、該洗浄槽３
底面に対して傾斜した状態で配置することが好ましい。
これによって、ガラス基板８を洗浄液から引き上げる際
に、洗浄液が該ガラス基板８における最も下方となる頂
点部に集まることになる。そのため、洗浄液の切れが良
くなり、ガラス基板８上の残留パーティクルの発生を抑
制することができる。

【００７０】上記ガラス基板８の傾斜の範囲としては、
洗浄槽３底面に対して、１０°〜３０°の範囲が好まし
い。傾斜が上記の範囲内であれば、残留パーティクルの
発生が抑制されるとともに、洗浄槽３の大きさを、被洗
浄物（ガラス基板）８の大きさに対して必要以上に大き
くする必要がなくなる。

【００７１】ここで、洗浄槽３の形状は、略直方体形状
である必要がある。これは、大型のガラス基板８を洗浄
する際に、洗浄槽３内において、無駄な領域の発生を抑
制することができるためである。また、洗浄槽３の形状
が略直方体以外の形状である場合、洗浄槽３内で澱みな
く複雑な強い洗浄液の流れを形成するという本発明の作
用が得られにくくなるため好ましくない。

【００７２】本実施の形態の洗浄装置１では、第１流入
部４および第２流入部５が有する複数の流入口のうちの
少なくとも１つが、洗浄槽３底面に接する位置に設けら
れていることが好ましい。たとえば、図２に示すよう
に、第１流入部４の下側の流入口４ａと第２流入部５の
下側の流入口５ａとは、どちらも、洗浄槽３底面に近接
する位置に形成されている。なお、これら流入口４ａ・
５ａのうち、何方か一方のみが洗浄槽３底面に接する位
置に設けられていてもよい。

【００７３】また、第１流入部４および第２流入部５が
有する流入口のうち、洗浄槽３底面に接する位置に形成
されている流入口（流入口４ａ・５ａ）以外の流入口
（流入口４ｂ・５ｂ）の設けられている位置としては特
に限定されるものではない。本発明にかかる洗浄装置１
では、上記流入口４ｂ・５ｂは、少なくとも、洗浄槽３
内において、洗浄液の流れの勢いが相殺されず、かつ、
洗浄液の澱みが生じないように洗浄液が流入し得る位置
に形成されておればよい。図１および図２に示す洗浄装
置１では、上記流入口４ｂと流入口５ｂとは、それら流
入口の中心が洗浄槽３底面から２６０ｍｍの高さとなる
位置にそれぞれ形成されている。

【００７４】仮に、上記洗浄装置１が、上記第１流入部
４および第２流入部５に、それぞれ単数の流入口のみを
有しているとする。その場合、洗浄槽３内で単純で大き
な流れが形成され易くなり、この大きな流れから外れる
領域では、洗浄液の澱みが発生し易くなる。また、大き
な流れ自身が、渦を巻くなどして勢いの弱い流れになり
得ることにもなり、ガラス基板８を効果的に洗浄するこ
とができなくなる。

【００７５】また、上記第１流入部４および第２流入部
５が有する流入口のうち、少なくとも１つが、洗浄槽３
底面に接する位置に形成されていない場合、該洗浄槽３
底面の近傍において、洗浄液の澱みなどが発生し易くな
るため好ましくない。

【００７６】つまり、本実施の形態の洗浄装置１では、
少なくとも、上記第１流入部４または／および第２流入
部５において、洗浄槽３底面からの高さが互いに異なる
複数の流入口をそれぞれ有しておればよく、好ましく
は、上記第１流入部４および第２流入部５が有する複数
の流入口のうちの少なくとも１つが、洗浄槽３底面に隣
接する位置に形成されておればよい。

【００７７】したがって、本実施の形態においては、上
記洗浄装置１の他の例として、図３に示すように、第１
流入部１４の有する２つの流入口１４ａ・１４ｂにおけ
る洗浄槽３底面からの高さの差分が、上記洗浄装置１の
第１流入部４における２つの流入口４ａ・４ｂの高さの
差分よりも小さくなっている洗浄装置１１であってもよ
い。この洗浄装置１１は、第１流入部１４および第２流
入部１５の構成が上記洗浄装置１と異なっている以外
は、洗浄槽３、流出口６ａ・６ｂなどの構成は、洗浄装
置１と同一となっている。

【００７８】この洗浄装置１１では、さらに、上記流入
口１４ａ・１４ｂにおける洗浄液の流入角度と第２流入
部１５の有する流入口１５ａにおける洗浄液の流入角度
とは、上記洗浄装置１の流入口５ａと同様に各流入口の
形成されている側面に対してほぼ垂直となっているが、
第２流入部１５の上側の流入口１５ｂにおける洗浄液の
流入角度は、上記側面に対して斜め下方となっている。

【００７９】この洗浄装置１１のように、第１流入部１
４の流入口１４ａ・１４ｂにおける流入角度と、第２流
入部１５の流入口１５ｂにおける流入角度とが、互いに
異なっておれば、上記洗浄装置１と比較して、洗浄槽３
内における洗浄液の流れをより複雑、かつ、勢いの強い
流れとすることができる。より好ましくは、流入口１５
ａにおける流入角度も、第１流入部１４の流入口１４ａ
・１４ｂにおける流入角度と異なっておればよい。

【００８０】つまり、上記各流入口からの洗浄液の流入
角度を適宜変化させることによって、洗浄槽３内におい
て、洗浄液の流れがより複雑化し、洗浄液の澱みや、勢
いの弱い洗浄液の流れの発生をより効果的に防止するこ
とができる。なお、この角度の変化の範囲や最適な流入
角度は、流入口が形成される位置によって適宜変化する
ことになる。たとえば、上記流入口１５ｂにおける流入
角度の範囲としては、３５°〜５５°であることが好ま
しく、４０°〜５０°であることがより好ましいが、こ
の流入角度の範囲は、他の流入口１４ａ・１４ｂ・１５
ａに対して、そのまま無条件に適応できるものではな
い。

【００８１】本実施の形態の洗浄装置１・１１において
は、第１流入部４・１４、第２流入部５・１５が有する
流入口の形状は特に限定されるものではない。上記流入
口の形状としては、洗浄槽３側面に面状に形成された大
きな流入口でなければよい。本実施の形態の洗浄装置１
・１１では、上記流入口として、大きさが直径３ｍｍ〜
４ｍｍの範囲内の円形の開口部を５つまとめて有するノ
ズルを用いている。このように、小さい開口部を複数ま
とめて有するノズルを流入口として利用することによっ
て、洗浄槽３への洗浄液の流入速度を向上させて、洗浄
槽３内において、勢いの強い洗浄液の流れが形成される
ことになる。そのため、ガラス基板８をより効果的に洗
浄することができる。

【００８２】上記第１流入部の流入口（洗浄装置１で
は、流入口４ａ・４ｂ、洗浄装置１１では、流入口１４
ａ・１４ｂ）および第２流入部の流入口（洗浄装置１で
は、流入口５ａ・５ｂ、洗浄装置１１では、流入口１５
ａ・１５ｂ）として用いられているノズルの形状は、そ
れぞれほぼ同一形状となっている。そのため、上記各流
入口から流入する洗浄液の運動エネルギーはほぼ同等と
なる。ここで、洗浄槽３内では、ガラス基板８を挟持す
るような位置に、第１流入部４または１４と第２流入部
５または１５とが配置されている。それゆえ、ガラス基
板８に対して、側面から流入する洗浄液の流れは同等の
運動エネルギーを有することになる。その結果、洗浄槽
３内において、洗浄液の澱みがより発生しにくくなって
いる。

【００８３】なお、上記各流入口としては、洗浄槽３側
面に形成される開口部であってもよく、洗浄槽３内にパ
イプを配管し、このパイプに対して形成されるスリット
や開口部であってもよい。

【００８４】上記各流入口からの洗浄液の流入量は、本
実施の形態では、５０リットル／分〜２００リットル／
分の範囲内であることが好ましく、約１００リットル／
分であることがより好ましい。洗浄液の流入量が上記の
範囲内であることによって、洗浄槽３内全体に洗浄液が
流れて、澱みを形成することがなく、さらには、洗浄液
が渦を巻くように流れることを回避して、複雑かつ勢い
の強い洗浄液の流れを形成することができるためであ
る。これによって、ガラス基板８の表面に付着している
パーティクルを迅速かつ均一に除去することができる。

【００８５】本実施の形態の洗浄装置１・１１におい
て、上記洗浄槽３から洗浄液を排出する２つの流出口６
ａ・６ｂは、第１流入部４・１４および第２流入部５・
１５よりも、洗浄槽３底面から高い位置である、洗浄槽
３の上端面に接する位置に設けられている。また、流出
口６ａは、第１流入部４・１４の上方に位置しており、
流出口６ｂは、第２流入部５・１５の上方に位置してい
る。また、この流出口６ａ・６ｂは、どちらも、洗浄槽
３の上面から洗浄液を一様に流出させるオーバーフロー
方式の流出口として形成されている。

【００８６】流出口６ａ・６ｂが上記の位置に上記の形
状で設けられていれば、洗浄槽３内に流入した洗浄液
は、洗浄槽３の下方から流出口６ａ・６ｂが設けられて
いる洗浄槽３の上方に向かって流れることになる。しか
しながら、洗浄液そのものは重力のために、洗浄槽３の
下方へ流れる傾向を有しているため、洗浄液の流れはよ
り複雑化する。しかも、２つの流出口６ａ・６ｂが形成
されるため、流出口が１つである場合よりも、より洗浄
液の流れは複雑化することになる。その結果、洗浄槽３
内における洗浄液の澱みや勢いの弱い洗浄液の流れの発
生をさらに効果的に防止することができる。

【００８７】以上のように、本実施の形態の洗浄装置
は、略直方体形状の洗浄槽の側面に互いに対向するよう
に第１流入部と第２流入部とが形成されており、これら
第１・第２流入部のうちの少なくとも何方か一方が複数
の流入口を有しているものである。しかも、同一側面上
に設けられている流入口同士では、その高さが互いに異
なっている。それゆえ、洗浄槽内における洗浄液の澱み
の発生を防止するとともに、パーティクルを除去できる
勢いを有する洗浄液の流れを洗浄槽全体に形成すること
ができる。したがって、上記洗浄装置を用いれば、液晶
表示装置などに用いられるガラス基板などのような大型
の被洗浄物を効率的に洗浄することができる。

【００８８】なお、本実施の形態で説明した洗浄装置
（洗浄装置１・１１）では、上述してきたように、第１
流入部および第２流入部が、それぞれ２つずつの流入口
を有している。しかしながら、本発明にかかる洗浄装置
の構成は、上記構成に限定されるものではなく、第１流
入部または／および第２流入部が３つ以上の流入口を有
していてもよい。

【００８９】〔実施の形態２〕本発明の実施の他の形態
について、図４および図５に基づいて説明すれば以下の
通りである。なお、前記実施の形態１において説明した
部材と同一の機能を有する部材については、同一の部材
番号を付記し、その説明を省略する。また、本実施の形
態により、本発明が限定されるものではない。

【００９０】本実施の形態の洗浄装置は、第１流入部の
有する２つの流入口の設けられる高さの範囲が限定され
ている点、および、第２流入部の有する２つの流入口の
うち、上方にある流入口の位置が異なる点以外は前記実
施の形態１における洗浄装置１・１１と同一の構成であ
る。

【００９１】つまり、本実施の形態の洗浄装置２１は、
図４に示すように、図示しない循環部および配管、洗浄
槽３、第１流入部２４、第２流入部２５、流出口６ａ・
６ｂを備えている。洗浄装置２１は、洗浄槽３で被洗浄
物となるガラス基板８を洗浄した後に、流出口６ａ・６
ｂから洗浄槽３の外部に排出される。そして、排出され
た洗浄液は、図示しない循環部によって、前記実施の形
態１の洗浄装置１と同様に流体としての洗浄液を濾過し
て再流入させることができる。

【００９２】上記第１流入部２４は、洗浄槽３におい
て、略直方体形状の洗浄槽３に配置されている被洗浄物
であるガラス基板８の上端側が接する側面である、第１
の側面に設けられている。一方、第２流入部２５は、傾
斜した上記ガラス基板８の下端側が接する側面である第
２の側面に設けられている。この第１の側面と第２の側
面とは、前記実施の形態１と同様に互いに対向してい
る。

【００９３】上記第１流入部２４は、洗浄槽３底面から
見て、ガラス基板８の上端と下端とに相当する高さの間
となる位置に設けられており、２つの流入口２４ａ・２
４ｂを有している。一方、第２流入部２５は、洗浄槽３
底面からの高さが上記傾斜させたガラス基板８の下端近
傍となる位置に設けられており、２つの流入口２５ａ・
２５ｂを有している。また、これら第１流入部２４・第
２流入部２５の上方、すなわち、第１の側面および第２
の側面における洗浄槽３の上端面に接する位置には、洗
浄液を排出する流出口６ａ・６ｂが、前記実施の形態１
における洗浄装置１・１１と同様に設けられている。

【００９４】上記第１流入部２４における第１の流入口
２４ａおよび第２の流入口２４ｂの形成されている位置
としては、上記傾斜させたガラス基板８の上端と下端と
に相当する高さの間となる位置であれば特に限定される
ものではないが、上記第１の流入口２４ａは、傾斜して
いるガラス基板８の中央部よりも下方となる位置に設け
られており、上記第２の流入口２４ｂは、上記中央部よ
りも上方となる位置に設けられていることが好ましい。

【００９５】同様に、上記第２流入部２５における第３
の流入口２５ａおよび第４の流入口２５ｂの形成されて
いる位置としては、上記傾斜させたガラス基板８の下端
近傍となる位置であれば特に限定されるものではない
が、上記第３の流入口２５ａは、洗浄槽３底面に接する
位置に設けられており、上記第４の流入口２５ｂは、洗
浄槽３底面から見て上記ガラス基板８の下端とほぼ同じ
高さとなる位置に設けられていることが好ましい。

【００９６】本実施の形態では、上記洗浄槽３の大きさ
は、前記実施の形態１と同様、縦６００ｍｍ×横６００
ｍｍ×深さ６００ｍｍとなっている。また、上記ガラス
基板８の傾斜の範囲としては、前記実施の形態１と同様
に、洗浄槽３底面に対して、１０°〜３０°の範囲が好
ましい。

【００９７】本実施の形態では、上記第１流入部２４に
おける第１の流入口２４ａは、第１の側面において、洗
浄槽３底面から９０ｍｍの高さに設けられており、第２
の流入口２４ｂは、第１の側面において、洗浄槽３底面
から３７０ｍｍの高さに設けられている。一方、第２流
入部２５における第３の流入口２５ａは、第２の側面に
おいて、洗浄槽３底面に隣接して設けられており、第４
の流入口２５ｂは、第２の側面において、洗浄槽３底面
から５０ｍｍの高さに設けられている。

【００９８】上記第１流入部２４の流入口２４ａ・２４
ｂおよび第２流入部２５の流入口２５ａ・２５ｂの形状
としては、前記実施の形態１と同様に、洗浄槽３側面に
面状に形成された大きな流入口でなければ、特に限定さ
れるものではない。本実施の形態では、大きさが直径３
ｍｍ〜５ｍｍの範囲内の円形の開口部を５つまとめて有
するノズルを用いている。このように、小さい開口部を
複数まとめて有するノズルを各流入口として利用するこ
とによって、洗浄槽３への洗浄液の流入速度を向上させ
るとともに、洗浄液の流入の勢いを強くすることができ
る。そのため、ガラス基板８をより効果的に洗浄するこ
とができる。

【００９９】上記第１流入部２４の流入口２４ａ・２４
ｂおよび第２流入部２５の流入口２５ａ・２５ｂとして
用いられているノズルの形状は、それぞれほぼ同一形状
となっている。そのため、各流入口から流入する洗浄液
の運動エネルギーはほぼ同等となり、前記実施の形態１
と同様に洗浄槽３の側面から流入する洗浄液の流れは同
等の運動エネルギーを有することになるため、洗浄槽３
内において、洗浄液の澱みがより発生しにくくなってい
る。

【０１００】なお、上記各流入口としては、洗浄槽３の
側面に形成される開口部であってもよく、洗浄槽３内に
パイプを配管し、このパイプに設けられるスリットや開
口部であってもよい。

【０１０１】このように、上記第１流入部２４が傾斜さ
せたガラス基板８の上端と下端とに相当する高さの間と
なる位置に設けられ、第２流入部が傾斜させたガラス基
板８の下端近傍となる位置に設けられておれば、第１流
入部２４および第２流入部２５は、それぞれ、ガラス基
板８の真横に位置していることになる。そのため、ガラ
ス基板８に対して真横から流入する洗浄液は、ガラス基
板８上において、より複雑で、勢いの強い流れを形成す
ることになる。

【０１０２】さらに、第１流入部２４における第１の流
入口２４ａおよび第２の流入口２４ｂと、第２流入部２
５における第３の流入口２５ａおよび第４の流入口２５
ｂとの設けられている位置が、上記のように、ガラス基
板８の真横の位置となるように互いに対向しているとと
もに、洗浄槽３底面からの高さが異なる位置に設けられ
ておれば、ガラス基板８上における洗浄液の流れは、互
いにその勢いを相殺することなく、より複雑化すること
になる。その結果、洗浄液の澱みや勢いの弱い流れの発
生を効果的に防止することができる。また、第３の流入
口２５ａにより洗浄槽３底面の近傍で発生し易くなる洗
浄液の澱みや勢いの弱い洗浄液の流れを効果的に防止す
ることができる。

【０１０３】しかも、ガラス基板８が傾斜して配置され
ているため、ガラス基板８を洗浄槽から引き上げた際
に、洗浄液の切れが良くなる。そのため、仮に、洗浄液
にパーティクルが含まれていても、ガラス基板８からほ
とんど洗浄液が取り除かれるため、ガラス基板８にこの
パーティクルが残留することがない。したがって、ガラ
ス基板８に対する洗浄効果をより向上させることができ
る。

【０１０４】さらに、本実施の形態の洗浄装置２１で
は、上記流入口２４ａからは、洗浄液は、洗浄槽３底面
にほぼ平行となるように流入し、上記流入口２４ｂから
は、洗浄槽３底面に向かって斜め下方に流入する。ま
た、上記流入口２５ａからは、洗浄液は、洗浄槽３底面
にほぼ平行となるように流入し、上記流入口２５ｂから
は、第２の側面にほぼ平行となるように流入する。すな
わち、本実施の形態の洗浄装置２１では、対向する第１
および第２流入部において、各流入口の設けられている
高さが異なっているとともに、洗浄液の流入角度も異な
っている。

【０１０５】上記のように各流入口が設けられている
と、流入口２４ａから斜め下方に洗浄液が流入すること
で、被洗浄物であるガラス基板８を真横から洗浄する流
入口２４ｂからの洗浄液の流れと、斜め上方からガラス
基板８を洗浄する洗浄液の流れの２つが形成されること
になる。しかも、第１流入部２４の流入口２４ａ・２４
ｂと第２流入口２５の流入口２５ａ・２５ｂの高さが異
なっているため、流入口２４ａ・２４ｂからの各流れ
は、第２流入部２５における流入口２５ａ・２５ｂから
の洗浄液の流れによって勢いを相殺されないようにもな
っている。

【０１０６】その結果、洗浄槽３内における洗浄液の流
れは、互いにその勢いを相殺することなく、より複雑化
することになる。そのため、洗浄液の澱みや勢いの弱い
洗浄液の流れの発生を効果的に防止して、ガラス基板８
の洗浄効率を向上させることができる。

【０１０７】しかも、第１流入部２４における２つの流
入口２４ａ・２４ｂは、ガラス基板８の真横に形成され
ているために、該ガラス基板８上において、より複雑
で、強い勢いの洗浄液の流れが形成されることになる。
したがって、ガラス基板８に対する洗浄効果をより向上
させることができる。

【０１０８】さらに、第３の流入口２５ａは、ガラス基
板８の下端と同じ高さに位置している。つまり、流入口
２５ａは、洗浄槽３底面に接する位置に設けられている
ことになる。そのため、洗浄槽３底面の近傍で発生し易
くなる洗浄液の澱みや、勢いの弱い洗浄液の流れを効果
的に防止することができる。

【０１０９】加えて、洗浄液を洗浄槽３から流出して排
出する流出口６ａ・６ｂは、前記実施の形態１と同様
に、第１流入部２４および第２流入部２５よりも、洗浄
槽３底面から高い位置である、洗浄槽３の上端面に接す
る位置に設けられている。また、その形状も、前記実施
の形態１と同様である。そのため、洗浄槽３内におい
て、洗浄液の流れをより複雑化することができ、洗浄槽
３内における洗浄液の澱みや勢いの弱い洗浄液の流れの
発生をさらに効果的に防止することができる。

【０１１０】上記第２の流入口２４ｂにおける洗浄液の
流入角度の範囲としては、３０°〜６０°の範囲が好ま
しく、４０°〜５０°の範囲がより好ましい。流入口２
４ｂにおける洗浄液の流入角度が上記の範囲から外れる
と、ガラス基板８上において、洗浄液の澱みや、弱い流
れを生ずることになるため好ましくない。また、第４の
流入口２５ｂにおける洗浄液の流入角度の範囲として
は、１０°以下が好ましく、５°以下がより好ましい。
流入口２５ｂにおける洗浄液の流入角度が上記の範囲か
ら外れると、洗浄槽３の上方において、洗浄液の澱みが
生じ易くなるため好ましくない。

【０１１１】また、上記各流入口からの洗浄液の流入量
は、本実施の形態でも前記実施の形態１と同様に、５０
リットル／分〜２００リットル／分の範囲内であること
が好ましく、１００リットル／分前後であることがより
好ましい。洗浄液の流入量が上記の範囲内であることに
よって、洗浄槽３内全体に洗浄液が流れて、澱みを形成
することがなく、さらには、洗浄液が渦を巻くように単
純かつ大きく流れることを回避して、被洗浄物であるガ
ラス基板８などの表面に付着しているパーティクルを迅
速かつ均一に除去することができるためである。

【０１１２】本実施の形態の洗浄装置としては、上記構
成に加えて、さらに、図５に示すように、第５の流入口
２５ｃが設けられている洗浄装置２１ａであってもよ
い。この第５の流入口２５ｃが設けられる位置として
は、上記第２流入部２５の２つの流入口２５ａ・２５ｂ
の上方に設けられている流出口６ｂの近傍となる位置で
ある。具体的には、洗浄装置２１ａの流出口６ｂの下端
から１６ｍｍ下方となる位置に上記流入口２５ｃが設け
られている。

【０１１３】上記の位置に第５の流入口２５ｃが形成さ
れておれば、上記流入口２５ｃからの洗浄液の流れによ
って、洗浄槽３の上方の水面近傍において残留する傾向
にあるガラス基板８から除去されたパーティクルなどの
汚れを効果的に取り除くことができる。そのため、ガラ
ス基板８を洗浄後に洗浄槽３から引き上げる際に、残留
したパーティクルなどによるガラス基板８の再汚染を防
止することができる。また、上記流入口２５ｃからの洗
浄液の流れによって、洗浄槽３内に配置されているガラ
ス基板８の上方となる領域で、洗浄液の澱みや弱い洗浄
液の流れの発生を効果的に防止することができる。

【０１１４】さらに、上記流入口２５ｃからの洗浄液の
流入量は、他の流入口からの流体の流入量よりも少ない
量であることが好ましい。具体的には、流入口２５ｃか
らの流入量は３リットル／分〜１０リットル／分の範囲
内であることが好ましく、約５リットル／分であること
がより好ましい。

【０１１５】第５の流入口２５ｃからの洗浄液の流入量
が上記の範囲内であれば、該流入口２５ｃからの洗浄液
の流れは、他の流入口からの洗浄液の流れよりも若干弱
くなる。そのため、洗浄槽３の上方の水面近傍において
残留する傾向にあるパーティクルを、他の流入口からの
洗浄液の流れを乱すことなく効果的に取り除くことがで
きる。また、ガラス基板８を洗浄槽３から引き上げる際
に、ガラス基板８表面をさらに洗浄することになるた
め、パーティクルによる再汚染の発生を防止することが
できる。

【０１１６】これに対して、流入口２５ｃから流入する
洗浄液の流入量が上記の範囲から外れると、上記流入口
２５ｃからの洗浄液の流れが他の洗浄液の流れを乱すこ
とになる。この洗浄液の流れの乱れは、洗浄液同士の流
れの勢いを相殺し合うなどして、洗浄液の流れの勢いを
弱くするおそれがある。また、洗浄槽３の洗浄液上方に
残留し易いパーティクルを効果的に取り除くことができ
ず、ガラス基板８を引き上げる際に、残留パーティクル
による再汚染を引き起こすおそれもある。

【０１１７】以上のように、本実施の形態の洗浄装置
は、略直方体形状の洗浄槽の側面に互いに対向するよう
に形成されている第１流入部と第２流入部とにおいて、
第１流入部の２つの流入口が被洗浄物の真横となる位置
に形成されており、第２流入部の２つの流入口の一方が
洗浄槽底面に接して形成されており、その直上の近傍に
もう一方の流入口が形成されているものである。そのた
め、洗浄槽内における洗浄液の流れの勢いが強い状態を
維持しながらより複雑化するとともに、洗浄液の澱みの
発生を効果的に防止することができる。

【０１１８】さらに、本実施の形態の洗浄装置は、第２
流入部が流出口の近傍にさらにもう１つの流入口を有し
ているため、洗浄槽内における洗浄液の澱みの発生を防
止するとともに、パーティクルを除去できる勢いを有す
る洗浄液の流れを洗浄槽全体に形成することができる。
したがって、上記洗浄装置を用いれば、液晶表示装置な
どに用いられるガラス基板などのような大型の被洗浄物
をより効率的に洗浄することができる。

【０１１９】なお、本実施の形態で説明した洗浄装置
（洗浄装置２１・２１ａ）では、上述してきたように、
第１流入部および第２流入部が、それぞれ２つまたは３
つずつの流入口を有している。しかしながら、本発明に
かかる洗浄装置の構成は、上記構成に限定されるもので
はなく、第１流入部および第２流入部がそれぞれ３つ以
上の流入口を有していてもよい。

【０１２０】

【実施例】本発明にかかる洗浄装置の具体的な実施例に
ついて、図面に基づいて以下に説明する。

【０１２１】〔実施例１〕前記実施の形態１において説
明した図１および図２に示す洗浄装置１を用い、液晶表
示装置に使用される４００ｍｍ×５００ｍｍのガラス基
板８を１０枚被洗浄物として洗浄した。洗浄液として
は、脱イオン水（純水）を用いた。また、洗浄装置１に
おける流入口からの脱イオン水の流入量は、全て１００
リットル／分とした。その他の条件、たとえば、流入口
・流出口の形成されている位置やその形状、各流入口に
おける脱イオン水の流入角度などは、前記実施の形態１
に詳細に説明しているため省略する。

【０１２２】洗浄装置１を用いて上記ガラス基板８を１
０枚１０分間洗浄し、その後、洗浄槽３から引き上げ
た。洗浄槽３から引き上げたガラス基板８を乾燥させた
後に、該ガラス基板８上のパーティクル数を、日立ＤＥ
ＣＯ社製パーティクル測定装置（商品番号：ＧＩ−４７
００）を用いて測定した。そのときの結果を図６（ａ）
に示す。

【０１２３】〔実施例２〕前記実施の形態２において説
明した図５に示す洗浄装置２１ａを用いた以外は、上記
実施例１と同様にして、ガラス基板８を１０枚洗浄し
た。このとき、洗浄装置２１ａにおける第２の流入口２
４ｂにおける脱イオン水の流入角度は４５°であり、第
４の流入口２５ｂにおける脱イオン水の流入角度は０°
であった。また、各流入口からの脱イオン水の流入量
は、第５の流入口２５ｃを除いて全て１００リットル／
分とし、第５の流入口２５ｃにおける脱イオン水の流入
量は５リットル／分とした。その他の条件、たとえば、
流入口および流出口の形成されている位置やその大きさ
などは、前記実施の形態２に詳細に説明しているため省
略する。洗浄後の上記ガラス基板８上のパーティクル数
を上記実施例１と同様に測定した。その結果を図６
（ｂ）に示す。

【０１２４】〔比較例１〕従来の洗浄装置である図７お
よび図８に示すようなオーバーフロー方式の洗浄装置１
００を用い、液晶表示装置に使用される４００ｍｍ×５
００ｍｍのガラス基板８（図中では１０４で示す）を１
０枚被洗浄物として洗浄した。洗浄液としては、脱イオ
ン水（純水）を用いた。また、洗浄装置１００における
流入口１０５は、洗浄槽１０３の底面に設けられ、該流
入口１０３からの脱イオン水の流入量は、１００リット
ル／分とした。洗浄槽１０３の大きさは、縦６００ｍｍ
×横６００ｍｍ×深さ６００ｍｍのものを用いた。流出
口１０８としては、洗浄槽１０３の対向する側面の上端
部に、実施例１の洗浄装置１における流出口６ａ・６ｂ
と同様の構成を有する流出口１０８を２つ設けた。洗浄
後の上記ガラス基板８上のパーティクル数を上記実施例
１と同様に測定した。その結果を図１６（ａ）に示す。

【０１２５】〔比較例２〕従来の洗浄装置である図９に
示すようなオーバーフロー方式の洗浄装置１１０を用い
た以外は、比較例１と同様にしてガラス基板８を洗浄し
た。このときの洗浄装置１１０の構成や洗浄条件は、脱
イオン水が放物線状に広がるように流入口１１５から流
入する以外は、比較例１と同様であるため省略する。洗
浄後の上記ガラス基板８上のパーティクル数を上記実施
例１と同様に測定した。その結果を図１６（ｂ）に示
す。

【０１２６】〔比較例３〕従来の洗浄装置である図１０
に示すようなオーバーフロー方式の洗浄装置１２０を用
いた以外は、比較例１と同様にしてガラス基板８を洗浄
した。このときの洗浄装置１２０の構成や洗浄条件は、
流入口１２５が洗浄槽１２３の上端面に設けられ、２つ
の流出口１２８が洗浄槽１２３の底面に接して設けられ
ている以外は、比較例１と同様であるため省略する。洗
浄後の上記ガラス基板８上のパーティクル数を上記実施
例１と同様に測定した。その結果を図１６（ｃ）に示
す。

【０１２７】〔比較例４〕従来の洗浄装置である図１１
に示すような一様流出方式の洗浄装置１３０を用いた以
外は、比較例１と同様にしてガラス基板８を洗浄した。
このときの洗浄装置１３０の構成や洗浄条件は、流入口
１３５が周辺から脱イオン水を流し込む構成であり、こ
の脱イオン水の流入量が１００リットル／分であること
と、流出口１３８からの脱イオン水の流出量が１００リ
ットル／分であること以外は、比較例１と同様であるた
め省略する。洗浄後の上記ガラス基板８上のパーティク
ル数を上記実施例１と同様に測定した。その結果を図１
７（ａ）に示す。

【０１２８】〔比較例５〕従来の洗浄装置である図１４
に示すようなトルネード方式の洗浄装置１６０を用いた
以外は、比較例１と同様にしてガラス基板８を洗浄し
た。このときの洗浄装置１６０の構成や洗浄条件は、流
入口１６５が洗浄槽１６３の対向する側面の上端部に２
つ設けられていることと、流出口１６８が上記流入口１
６５の１つが設けられている側面の下端部に１つ設けら
れていること以外は、比較例１と同様であるため省略す
る。洗浄後の上記ガラス基板８上のパーティクル数を上
記実施例１と同様に測定した。その結果を図１７（ｂ）
に示す。

【０１２９】〔比較例６〕従来の洗浄装置である図１５
に示すようなトルネード方式の洗浄装置１７０を用いた
以外は、比較例１と同様にしてガラス基板８を洗浄し
た。このときの洗浄装置１７０の構成や洗浄条件は、流
出口１７８が２つ設けられていること以外は、比較例５
と同様であるため省略する。洗浄後の上記ガラス基板８
上のパーティクル数を上記実施例１と同様に測定した。
その結果を図１７（ｃ）に示す。

【０１３０】図６（ａ）・図６（ｂ）に示すように、本
実施の形態の洗浄装置１および２１ａでは、ガラス基板
８上のパーティクルは、全体的にムラなく均一かつ十分
に除去されており、特に、第５の流入口２５ｃを設けて
いる洗浄装置２１ａでは、白点で表されるガラス基板８
上に所定の大きさ以上のパーティクルがほとんど見られ
なかった。

【０１３１】これに対して、図１６（ａ）・図１６
（ｂ）・図１６（ｃ）に示すように、従来のオーバーフ
ロー方式の洗浄装置では、本発明の洗浄装置と同一の条
件で洗浄しても、洗浄槽内に、脱イオン水の澱みや勢い
の弱い流れが形成されるため、ガラス基板８上のパーテ
ィクルを均一に取り除くことができなかった。同様に、
図１７（ａ）・図１７（ｂ）・図１７（ｃ）に示すよう
に、一様流出方式や従来のトルネード方式の洗浄装置で
も、ガラス基板８上のパーティクルを均一に取り除くこ
とができなかった。

【０１３２】また、上記実施例１で洗浄した１０枚のガ
ラス基板８上には、液晶表示装置の製造上問題となる５
μｍ以上の大きさのパーティクルは、平均１６個しか残
存しておらず、さらに、実施例２で洗浄した１０枚のガ
ラス基板８上には、平均４個のパーティクルしか残存し
ていなかった。

【０１３３】これに対して、比較例１ないし６で洗浄し
た１０枚のガラス基板８上には、平均５０個以上のパー
ティクルが残存しているとともに、図１６（ａ）〜図１
６（ｃ）、図１７（ａ）〜図１７（ｃ）に示すように、
ガラス基板８上に残存するパーティクルにムラが生じて
いた。それゆえ、上記従来の洗浄装置を用いて液晶表示
装置を製造した場合、液晶表示装置の歩留りの低下を招
来することになる。また、パーティクル数を製造に影響
のない量以下に減少させるためには、液晶表示装置のス
ループットも低下することになる。

【０１３４】以上のように、本発明にかかる洗浄装置で
は、液晶表示装置に使用されるガラス基板のような大型
の基板であっても効率的に洗浄することが可能である。
そのため、被洗浄物であるガラス基板上に付着している
パーティクルをムラなく短時間で処理することができ
る。それゆえ、パーティクルなどの汚染によるガラス基
板の品質低下や歩留り低下を抑制して、製造される液晶
表示装置などのスループットを向上させることができ
る。

【０１３５】また、本発明にかかる洗浄装置は、既存の
超音波洗浄法と組み合わせることによって、さらに洗浄
効果を向上させることができる。さらに、上記実施例に
おいては、被洗浄物であるガラス基板を洗浄槽底面に対
して傾斜させたが、本発明にかかる洗浄装置では、被洗
浄物を傾斜させなくとも、高い洗浄効果が得られるもの
となっている。なお、被洗浄物としては、液晶表示装置
に用いられる上記ガラス基板に限定されるものではな
く、ＩＣやＬＳＩなどの製造に用いられるシリコンウェ
ハーなどであってもよい。

【０１３６】

【発明の効果】本発明の請求項１記載の洗浄装置は、以
上のように、被洗浄物を収納する領域を有する略直方体
形状の洗浄槽と、上記洗浄槽の第１の側面に形成され、
該洗浄槽に流体を流入する第１流入部と、上記第１の側
面に対向する面である第２の側面に形成され、該洗浄槽
に流体を流入する第２流入部と、上記第１流入部と第２
流入部とから流入する流体を排出する流出口とを備えて
いるとともに、上記第１流入部または／および第２流入
部は、洗浄槽底面からの高さが互いに異なる複数の流入
口を有している構成である。

【０１３７】それゆえ、上記構成では、洗浄槽内におい
て、流体が所定の大きな流れを形成することが抑制さ
れ、従来よりも、より複雑、かつ、勢いの強い流体の流
れを形成することになる。したがって、被洗浄物の表面
上の汚れは、複雑かつ強い勢いの流れによって、洗浄時
間の経過とともに、該表面全面で大きなムラを生ずるこ
となく、ほぼ均一に効率よく除去される。また、流体の
澱みがなく、かつ、流れの勢いが強いため、被洗浄物か
ら除去された汚れが洗浄槽内に残留することが防止され
るという効果を奏する。

【０１３８】しかも、上記構成では、洗浄槽が略直方体
形状となっており、この形状の洗浄槽全体に複雑かつ勢
いの強い流れが形成されることになる。そのため、様々
な被洗浄物の洗浄に用いることが可能であるとともに、
大型の被洗浄物の洗浄も可能となる。また、流体の流れ
の勢いが従来よりも強いため、洗浄により除去されたパ
ーティクルなどの被洗浄物の汚れは、すぐに洗浄槽から
排出することができるという効果も奏する。

【０１３９】本発明の請求項２記載の洗浄装置は、以上
のように、上記請求項１記載の構成に加えて、上記第１
流入部の流入口から洗浄槽へ流入する流体の流入角度
と、第２流入部の流入口から洗浄槽へ流入する流体の流
入角度とは、互いに異なっている構成である。

【０１４０】それゆえ、上記構成では、流入口からの流
入角度が異なっていることから、洗浄槽内での流体の流
れをより複雑化することができる。そのため、洗浄槽内
における流体の澱みや勢いの弱い流れの発生をさらに効
果的に防止することができるという効果を奏する。

【０１４１】本発明の請求項３記載の洗浄装置は、以上
のように、上記請求項１または２記載の構成に加えて、
上記第１流入部の流入口の設けられている位置と、第２
流入部の流入口の形成されている位置とは、洗浄槽底面
からの高さが互いに異なっている構成である。

【０１４２】それゆえ、上記構成では、流入口の洗浄槽
底面からの高さが互いに異なっていることから、洗浄槽
内での流体の流れをより複雑化することができる。その
ため、洗浄槽内における流体の澱みや勢いの弱い流れの
発生をさらに効果的に防止することができるという効果
を奏する。

【０１４３】本発明の請求項４記載の洗浄装置は、以上
のように、上記請求項１、２または３記載の構成に加え
て、上記第１流入部および第２流入部が有する複数の流
入口のうちの少なくとも１つが、洗浄槽底面に接する位
置に設けられている構成である。

【０１４４】それゆえ、上記構成では、流入口のうちの
少なくとも１つが、上記の位置に形成されていること
で、洗浄槽底面の近傍において、強い流体の流れを形成
することになる。そのため、洗浄槽底面の近傍で発生し
易くなる流体の澱みや勢いの弱い流れの発生を効果的に
防止することができるという効果を奏する。

【０１４５】本発明の請求項５記載の洗浄装置は、以上
のように、被洗浄物を傾斜させて収納する領域を有する
略直方体形状の洗浄槽と、上記傾斜させた被洗浄物の上
端側が近接する上記洗浄槽の第１の側面において、洗浄
槽底面から見て、被洗浄物の上端と下端とに相当する高
さの間となる位置に設けられており、該洗浄槽に流体を
流入する第１流入部と、上記第１流入部の設けられてい
る側面に対向する第２の側面において、洗浄槽底面から
の高さが上記傾斜させた被洗浄物の下端近傍となる位置
に設けられており、該洗浄槽に流体を流入する第２流入
部と、上記第１の側面および第２の側面において、洗浄
槽の上端面に接する位置に設けられており、第１流入部
と第２流入部とから流入する流体を排出する複数の流出
口とを備えているとともに、上記第１流入部または／お
よび第２流入部は、洗浄槽底面からの高さが互いに異な
る複数の流入口を有している構成である。

【０１４６】それゆえ、上記構成では、傾斜して配置さ
れている被洗浄物の上端および下端に近接した真横から
流体が流入することになる。その結果、被洗浄物上にお
いて、より複雑で、強い勢いの流れが形成されるため、
洗浄効果を上昇させることができるという効果を奏す
る。

【０１４７】しかも、被洗浄物が傾斜して配置されてい
るため、被洗浄物を洗浄槽から引き上げた際に、洗浄液
の切れが良くなるため、被洗浄物にパーティクルが残留
することがない。したがって、被洗浄物に対する洗浄効
果をより向上させることができるという効果も奏する。

【０１４８】本発明の請求項６記載の洗浄装置は、以上
のように、上記請求項５記載の構成に加えて、上記第１
流入部は、傾斜している被洗浄物の中央部よりも下方と
なる位置に設けられている第１の流入口と、上記中央部
よりも上方となる位置に設けられている第２の流入口と
を有しているとともに、上記第２流入部は、洗浄槽底面
に接する位置に設けられている第３の流入口と、洗浄槽
底面から見て上記被洗浄物の下端とほぼ同じ高さとなる
位置に設けられている第４の流入口とを有している構成
である。

【０１４９】それゆえ、上記構成では、被洗浄物上にお
ける流体の流れは、互いにその勢いを相殺することな
く、より複雑化することになり、流体の澱みや勢いの弱
い流れの発生を効果的に防止することができる。また、
第３の流入口により洗浄槽底面の近傍で発生し易くなる
流体の澱みや勢いの弱い流れを効果的に防止することが
できるという効果を奏する。

【０１５０】本発明の請求項７記載の洗浄装置は、以上
のように、上記請求項６記載の構成に加えて、上記第１
の流入口から流入する流体は、洗浄槽底面にほぼ平行と
なるように流入し、第２の流入口から流入する流体は、
洗浄槽底面に向かって斜め下方に流入するとともに、上
記第３の流入口から流入する流体は、洗浄槽底面にほぼ
平行となるように流入し、第４の流入口から流入する流
体は、第２の側面にほぼ平行となるように流入する構成
である。

【０１５１】それゆえ、上記構成では、第２の流入口か
ら斜め下方に流体が流入することで、被洗浄物を真横か
ら洗浄する第１の流入口からの流体の流れと、斜め方向
から被洗浄物を洗浄する流体の流れの２つが形成される
ことになる。しかも、これら流れは、第２流入部の流入
口からの流れにより、勢いを相殺されずに複雑に流れる
ことになるため、流体の澱みや勢いの弱い流れの発生を
効果的に防止することができるという効果を奏する。

【０１５２】さらに、上記第４の流入口から第２の側面
にほぼ平行となるように、すなわち、第２の側面に沿う
ように流体が流れることになるため、第２の側面近傍に
おいても、流体の澱みや勢いの弱い流れの発生を効果的
に防止することができるという効果も奏する。

【０１５３】本発明の請求項８記載の洗浄装置は、以上
のように、上記請求項６または７記載の構成に加えて、
上記第２流入部は、さらに、第２の側面に設けられてい
る流出口の近傍となる位置に第５の流入口を有している
構成である。

【０１５４】それゆえ、上記構成では、上記第５の流入
口からの流体の流れによって、洗浄槽の上方の水面近傍
において残留する傾向にある被洗浄物から除去された汚
れを効果的に取り除くことができる。そのため、被洗浄
物を洗浄後に洗浄槽から引き上げる際に、残留した汚れ
による被洗浄物の再汚染を防止することができる。ま
た、上記第５の流入口からの流体の流れによって、洗浄
槽内に配置されている被洗浄物の上方となる領域で、流
体の澱みや勢いの弱い流れの発生を効果的に防止するこ
とができるという効果を奏する。

【０１５５】本発明の請求項９記載の洗浄装置は、以上
のように、上記請求項８の構成に加えて、上記第５の流
入口からの流体の流入量は、他の流入口からの流体の流
入量よりも少ない量である構成である。

【０１５６】それゆえ、上記構成では、上記第５の流入
口からの流体の流入量が少ないため、第５の流入口から
の流体の流れは、他の流入口からの流体の流れよりも若
干弱くなる。そのため、洗浄槽の上方の水面近傍におい
て残留する傾向にある被洗浄物から除去された汚れを、
他の流体の流れを乱すことなく効果的に取り除くことが
できるという効果を奏する。

【０１５７】本発明の請求項１０記載の洗浄装置は、以
上のように、上記請求項１から９の何れか１項に記載の
構成に加えて、複数の上記流出口から排出された流体を
濾過し、この濾過した流体を再び上記第１および第２流
入部が有する流入口から洗浄槽内に流入する循環手段を
備えている構成である。

【０１５８】それゆえ、上記構成では、流出口から洗浄
槽の外部の排出された流体は、上記濾過手段によって、
被洗浄物から除去した汚れを取り除かれる。さらに、汚
れを取り除かれた清浄な流体は、上記循環手段によっ
て、再び洗浄槽内に流入することになる。そのため、被
洗浄物の洗浄に用いる流体を効率的に利用できるととも
に、大量の流体を使用する必要がないことから、洗浄の
コストを低減することができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態にかかる洗浄装置の構成
を示す説明図である。

【図２】図１の洗浄装置における洗浄槽の構成を示す説
明図である。

【図３】図１の洗浄装置の変形例における洗浄槽の構成
を示す説明図である。

【図４】本発明の実施の他の形態にかかる洗浄装置にお
ける洗浄槽の構成を示す説明図である。

【図５】図４の洗浄装置の変形例における洗浄槽の構成
を示す説明図である。

【図６】（ａ）は、図１の洗浄装置を用いて洗浄した場
合におけるガラス基板上のパーティクル濃度を示す図で
あり、（ｂ）は、図５の洗浄装置を用いて洗浄した場合
におけるガラス基板上のパーティクル濃度を示す図であ
る。

【図７】従来のオーバーフロー方式の洗浄装置の構成を
示す説明図である。

【図８】図７のオーバーフロー方式の洗浄装置における
洗浄槽の構成を示す説明図である。

【図９】従来のオーバーフロー方式の洗浄装置の他の例
における洗浄槽の構成を示す説明図である。

【図１０】従来のオーバーフロー方式の洗浄装置のさら
に他の例における洗浄槽の構成を示す説明図である。

【図１１】従来の一様流出方式の洗浄装置における洗浄
槽の構成を示す説明図である。

【図１２】従来の一様流出方式の洗浄装置の他の例にお
ける洗浄槽の構成を示す説明図である。

【図１３】従来の一様流出方式の洗浄装置のさらに他の
例における洗浄槽の構成を示す説明図である。

【図１４】従来のトルネード方式の洗浄装置における洗
浄槽の構成を示す説明図である。

【図１５】従来のトルネード方式の洗浄装置の他の例に
おける洗浄槽の構成を示す説明図である。

【図１６】（ａ）は、図７の洗浄装置を用いて洗浄した
場合におけるガラス基板上のパーティクル濃度を示す図
であり、（ｂ）は、図９の洗浄装置を用いて洗浄した場
合におけるガラス基板上のパーティクル濃度を示す図で
あり、（ｃ）は、図１０の洗浄装置を用いて洗浄した場
合におけるガラス基板上のパーティクル濃度を示す図で
ある。

【図１７】（ａ）は、図１１の洗浄装置を用いて洗浄し
た場合におけるガラス基板上のパーティクル濃度を示す
図であり、（ｂ）は、図１４の洗浄装置を用いて洗浄し
た場合におけるガラス基板上のパーティクル濃度を示す
図であり、（ｃ）は、図１５の洗浄装置を用いて洗浄し
た場合におけるガラス基板上のパーティクル濃度を示す
図である。

【符号の説明】

１洗浄装置２循環部（循環手段）４第１流入部４ａ流入口４ｂ流入口５第２流入部５ａ流入口５ｂ流入口１１洗浄装置１４第１流入部１４ａ流入口１４ｂ流入口１５第２流入部１５ａ流入口１５ｂ流入口２１洗浄装置２１ａ洗浄装置２４第１流入部２４ａ流入口２４ｂ流入口２５第２流入部２５ａ流入口２５ｂ流入口２５ｃ流入口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B08B 3/10

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】被洗浄物を収納する領域を有する略直方体
形状の洗浄槽と、上記洗浄槽の第１の側面に形成され、該洗浄槽に流体を
流入する第１流入部と、上記第１の側面に対向する面である第２の側面に形成さ
れ、該洗浄槽に流体を流入する第２流入部と、上記第１流入部と第２流入部とから流入する流体を排出
する流出口とを備えているとともに、上記第１流入部または／および第２流入部は、洗浄槽底
面からの高さが互いに異なる複数の流入口を有している
ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】上記第１流入部の流入口から洗浄槽へ流入
する流体の流入角度と、第２流入部の流入口から洗浄槽
へ流入する流体の流入角度とは、互いに異なっているこ
とを特徴とする請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】上記第１流入部の流入口の設けられている
位置と、第２流入部の流入口の形成されている位置と
は、洗浄槽底面からの高さが互いに異なっていることを
特徴とする請求項１または２記載の洗浄装置。
【請求項４】上記第１流入部および第２流入部が有する
複数の流入口のうちの少なくとも１つが、洗浄槽底面に
接する位置に設けられていることを特徴とする請求項
１、２または３記載の洗浄装置。
【請求項５】被洗浄物を傾斜させて収納する領域を有す
る略直方体形状の洗浄槽と、上記傾斜させた被洗浄物の上端側が近接する上記洗浄槽
の第１の側面において、洗浄槽底面から見て、被洗浄物
の上端と下端とに相当する高さの間となる位置に設けら
れており、該洗浄槽に流体を流入する第１流入部と、上記第１流入部の設けられている側面に対向する第２の
側面において、洗浄槽底面からの高さが上記傾斜させた
被洗浄物の下端近傍となる位置に設けられており、該洗
浄槽に流体を流入する第２流入部と、上記第１の側面および第２の側面において、洗浄槽の上
端面に接する位置に設けられており、第１流入部と第２
流入部とから流入する流体を排出する複数の流出口とを
備えているとともに、上記第１流入部または／および第２流入部は、洗浄槽底
面からの高さが互いに異なる複数の流入口を有している
ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項６】上記第１流入部は、傾斜している被洗浄物
の中央部よりも下方となる位置に設けられている第１の
流入口と、上記中央部よりも上方となる位置に設けられ
ている第２の流入口とを有しているとともに、上記第２流入部は、洗浄槽底面に接する位置に設けられ
ている第３の流入口と、洗浄槽底面から見て上記被洗浄
物の下端とほぼ同じ高さとなる位置に設けられている第
４の流入口とを有していることを特徴とする請求項５記
載の洗浄装置。
【請求項７】上記第１の流入口から流入する流体は、洗
浄槽底面にほぼ平行となるように流入し、第２の流入口
から流入する流体は、洗浄槽底面に向かって斜め下方に
流入するとともに、上記第３の流入口から流入する流体は、洗浄槽底面にほ
ぼ平行となるように流入し、第４の流入口から流入する
流体は、第２の側面にほぼ平行となるように流入するこ
とを特徴とする請求項６記載の洗浄装置。
【請求項８】上記第２流入部は、さらに、第２の側面に
設けられている流出口の近傍となる位置に第５の流入口
を有していることを特徴とする請求項６または７記載の
洗浄装置。
【請求項９】上記第５の流入口からの流体の流入量は、
他の流入口からの流体の流入量よりも少ない量であるこ
とを特徴とする請求項８記載の洗浄装置。
【請求項１０】複数の上記流出口から排出された流体を
濾過し、この濾過した流体を再び上記第１および第２流
入部が有する流入口から洗浄槽内に流入する循環手段を
備えていることを特徴とする請求項１から９の何れか１
項に記載の洗浄装置。