JP3247135B2 - プラスチックセル構造体 - Google Patents
プラスチックセル構造体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明法は、透明導電性フイルム
の導電層を相対せしめたプラスチックセル構造体に関す
る。具体的な例としては透明タッチパネル、液晶セル
（ＬＣＤ）、及び液晶を高分子樹脂中に分散させた調光
シート（ＰＤＬＣ）等を改良するために好適なプラスチ
ックセル構造体に関する。
の導電層を相対せしめたプラスチックセル構造体に関す
る。具体的な例としては透明タッチパネル、液晶セル
（ＬＣＤ）、及び液晶を高分子樹脂中に分散させた調光
シート（ＰＤＬＣ）等を改良するために好適なプラスチ
ックセル構造体に関する。
【０００２】
【従来の技術】透明タッチパネルは、透明導電性フイル
ムの導電層同士を空間部を介して相対するように配置さ
れた構造を有する。空間部は少なくとも一方の導電層の
上に、非導電性のスペーサーにより、例えばアナログタ
イプでは１〜１０μｍの距離を有し、一定に保持されて
いる。タッチペン又は指の押圧により導電層同士が接触
して導通により位置検出する構造である。しかるに、上
記構造体を組上げ製品検査において、空間部を保持した
にもかかわらず、押圧をかけないでも導通を発生する箇
所が発生し、製品歩留低下をおこしている。また使用中
に部分的に異常導通による誤動作を起すことがある。
ムの導電層同士を空間部を介して相対するように配置さ
れた構造を有する。空間部は少なくとも一方の導電層の
上に、非導電性のスペーサーにより、例えばアナログタ
イプでは１〜１０μｍの距離を有し、一定に保持されて
いる。タッチペン又は指の押圧により導電層同士が接触
して導通により位置検出する構造である。しかるに、上
記構造体を組上げ製品検査において、空間部を保持した
にもかかわらず、押圧をかけないでも導通を発生する箇
所が発生し、製品歩留低下をおこしている。また使用中
に部分的に異常導通による誤動作を起すことがある。
【０００３】また、電卓、パソコンの表示部等に使用さ
れているプラスチック液晶セル（ＬＣＤと略称）は、相
対する導電層の間に液晶が封入され、スペーサーにより
５〜１０μｍの間隙に保持されており、更にまた、建
材、行先標示、パソコン表示部等に使用される調光シー
ト（ＰＤＬＣと略称）は、例えば５〜３０μｍの相対す
る導電層の間に、液晶を高分子樹脂中に分散、又は液晶
を一旦カプセル化した後、分散された構造を有し、各々
の導電層、必要に応じてパターン化された導電層へ電圧
を印加して使用される構造を有する。
れているプラスチック液晶セル（ＬＣＤと略称）は、相
対する導電層の間に液晶が封入され、スペーサーにより
５〜１０μｍの間隙に保持されており、更にまた、建
材、行先標示、パソコン表示部等に使用される調光シー
ト（ＰＤＬＣと略称）は、例えば５〜３０μｍの相対す
る導電層の間に、液晶を高分子樹脂中に分散、又は液晶
を一旦カプセル化した後、分散された構造を有し、各々
の導電層、必要に応じてパターン化された導電層へ電圧
を印加して使用される構造を有する。
【０００４】しかるに、上記ＬＣＤ、ＰＤＬＣは中間組
立て段階の検査において、更に製品検査に置いて誤動作
を起すものがあり歩留低下をきたすことがあるだけでな
く、使用中に誤動作を発生せしめることがある。低電圧
駆動の場合は前記欠点を発生する頻度は少ないが、特に
高電圧駆動例えば４０Ｖ駆動以上の建材、行先標示板等
では黒点が発生し、場合によってはベースフイルムが部
分的に溶融しピンホールが発生することがあり、時間と
共に黒点が大面積に拡大することがある。
立て段階の検査において、更に製品検査に置いて誤動作
を起すものがあり歩留低下をきたすことがあるだけでな
く、使用中に誤動作を発生せしめることがある。低電圧
駆動の場合は前記欠点を発生する頻度は少ないが、特に
高電圧駆動例えば４０Ｖ駆動以上の建材、行先標示板等
では黒点が発生し、場合によってはベースフイルムが部
分的に溶融しピンホールが発生することがあり、時間と
共に黒点が大面積に拡大することがある。
【０００５】
【問題を解決するための手段】本発明者らは、上記欠点
の発生原因を追及したところ、透明導電性フイルムの実
質的に平坦な導電層の上に導電性を有する突起物がラン
ダムに存在することによることが判明し、鋭意研究した
結果本発明に到達した。
の発生原因を追及したところ、透明導電性フイルムの実
質的に平坦な導電層の上に導電性を有する突起物がラン
ダムに存在することによることが判明し、鋭意研究した
結果本発明に到達した。
【０００６】即ち、本発明は、 （１）透明導電性フイルムの導電層が１〜３０μｍの間
隔をおいて互いに相対する一対のセル構造体において、
（１）前記導電層上に該導電層形成時に生じた導電性を
有する付着突起物が存在し、（２）該付着突起物は低級
酸化物からなり、かつ（３）前記導電層間の距離を１０
０としたとき、該付着突起物の高さが５０以下である、
プラスチックセル構造体、 （２）少なくとも一方の透明導電性フイルムの導電層の
上に非導電性のスペーサーが存在し、相対するもう一方
の透明導電性フイルムの導電層との空間部を一定に保持
し、タッチペン、指等により押圧を加えることにより導
通することを特徴としたタッチパネルにおける前項１を
満足するプラスチックセル構造体、 （３）相対する透明導電性フイルムの導電層間に液晶が
封入されており、透明導電性フイルムに通電することに
より液晶を駆動できるように構成された構造体における
前項１のプラスチックセル構造体、及び （４）相対する透明導電性フイルムの導電層間に、高分
子樹脂中に液晶を分散させた層を配置し、各導電層に通
電することにより液晶部を駆動せしめる構造体における
前項１のプラスチックセル構造体、である。
隔をおいて互いに相対する一対のセル構造体において、
（１）前記導電層上に該導電層形成時に生じた導電性を
有する付着突起物が存在し、（２）該付着突起物は低級
酸化物からなり、かつ（３）前記導電層間の距離を１０
０としたとき、該付着突起物の高さが５０以下である、
プラスチックセル構造体、 （２）少なくとも一方の透明導電性フイルムの導電層の
上に非導電性のスペーサーが存在し、相対するもう一方
の透明導電性フイルムの導電層との空間部を一定に保持
し、タッチペン、指等により押圧を加えることにより導
通することを特徴としたタッチパネルにおける前項１を
満足するプラスチックセル構造体、 （３）相対する透明導電性フイルムの導電層間に液晶が
封入されており、透明導電性フイルムに通電することに
より液晶を駆動できるように構成された構造体における
前項１のプラスチックセル構造体、及び （４）相対する透明導電性フイルムの導電層間に、高分
子樹脂中に液晶を分散させた層を配置し、各導電層に通
電することにより液晶部を駆動せしめる構造体における
前項１のプラスチックセル構造体、である。
【０００７】本発明によれば前述の欠点のない構造体を
歩留よく製造することが可能となり、またユーザーから
のクレームも解消できる。
歩留よく製造することが可能となり、またユーザーから
のクレームも解消できる。
【０００８】以下本発明について詳細に説明する。本発
明に使用される透明導電性フイルムの基板は、透明高分
子基板であればいかなるものでもよく、通常ポリエステ
ルフイルム（一軸、二軸延伸）、ポリアリレートフイル
ム、ポリカーボネートフイルム、ポリイミドフイルム、
アクリレート樹脂フイルム、ポリエステルサルフォンフ
イルムなどいずれも使用できる。通常フイルム厚みは５
０〜２５０μｍが好んで用いられる。
明に使用される透明導電性フイルムの基板は、透明高分
子基板であればいかなるものでもよく、通常ポリエステ
ルフイルム（一軸、二軸延伸）、ポリアリレートフイル
ム、ポリカーボネートフイルム、ポリイミドフイルム、
アクリレート樹脂フイルム、ポリエステルサルフォンフ
イルムなどいずれも使用できる。通常フイルム厚みは５
０〜２５０μｍが好んで用いられる。
【０００９】上記フイルムは、必要に応じてあらかじ
め、少なくとも一方の面に導電層との密着性を上げるた
めの処理、酸素、窒素、水分などのガスバリヤー性を高
めるための処理を施されていてもよい。
め、少なくとも一方の面に導電層との密着性を上げるた
めの処理、酸素、窒素、水分などのガスバリヤー性を高
めるための処理を施されていてもよい。
【００１０】導電層としては、通常知られている金属及
び／又は酸化物の薄膜が使用される。例えば、銀、金、
銅等の金属、酸化インジウム、酸化スズ等の酸化物が単
独、又は混合体として使用されている。
び／又は酸化物の薄膜が使用される。例えば、銀、金、
銅等の金属、酸化インジウム、酸化スズ等の酸化物が単
独、又は混合体として使用されている。
【００１１】表面電気抵抗特性は特に制限ないが、５〜
５００Ω／□が好んで用いられる。本発明は、上記の透
明導電性フイルムを使用した構造体であるが、導電性を
有する突起部は、実質的に平坦で微細な凹凸を有しない
導電層の上に存在し、その高さが、導電層間の距離を１
００とした時５０以下であることを要する。好ましくは
３０以下である。これら突起物の発生原因は、通常、前
記フイルムの上に導電層を形成する場合に発生する。通
常スパッタリング、蒸着等の方法で形成するが、異常放
電や突沸等により低級酸化物が飛散し、その一部が形成
され導電層の上に付着し導電層の一部を構成する。
５００Ω／□が好んで用いられる。本発明は、上記の透
明導電性フイルムを使用した構造体であるが、導電性を
有する突起部は、実質的に平坦で微細な凹凸を有しない
導電層の上に存在し、その高さが、導電層間の距離を１
００とした時５０以下であることを要する。好ましくは
３０以下である。これら突起物の発生原因は、通常、前
記フイルムの上に導電層を形成する場合に発生する。通
常スパッタリング、蒸着等の方法で形成するが、異常放
電や突沸等により低級酸化物が飛散し、その一部が形成
され導電層の上に付着し導電層の一部を構成する。
【００１２】それら導電性を有する付着突起物を回避す
るためには、種々の方法がある。例えば、導電層成形時
に発生させないようにするには、成形前に装置内部を充
分に清掃するとともに、成形に際してはスパッタリング
用ターゲット又は真空蒸着用蒸発源に印加する電力を適
正な値に設定し、異常放電によりターゲット材料、蒸発
材料、マスク材料、シールド板材料等が飛散してフイル
ム基板面に付着することを防止することにより上記突起
物を回避できる。
るためには、種々の方法がある。例えば、導電層成形時
に発生させないようにするには、成形前に装置内部を充
分に清掃するとともに、成形に際してはスパッタリング
用ターゲット又は真空蒸着用蒸発源に印加する電力を適
正な値に設定し、異常放電によりターゲット材料、蒸発
材料、マスク材料、シールド板材料等が飛散してフイル
ム基板面に付着することを防止することにより上記突起
物を回避できる。
【００１３】適正な電力は用いる装置の形状やターゲッ
ト材料又は蒸発材料の種類により異なり、一概には言え
ないが異常放電、即ち、印加電力が設定値から数％以上
急激に変化する現象が発生するようになる限界の印加電
力を実験的に求め、これ以下に印加電力を設定すればよ
い。
ト材料又は蒸発材料の種類により異なり、一概には言え
ないが異常放電、即ち、印加電力が設定値から数％以上
急激に変化する現象が発生するようになる限界の印加電
力を実験的に求め、これ以下に印加電力を設定すればよ
い。
【００１４】一例を示せば、インジウム・スズターゲッ
ト（スズ５ｗｔ％）を用いて、アルゴン・酸素ガスを導
入してスパッタリングを行なう場合、インジウム・スズ
ターゲットへの印加電力を０．３０Ｗ／ｃｍ2以下に設
定すれば、長時間スパッタリングを行なっても異常放電
は発生しない。
ト（スズ５ｗｔ％）を用いて、アルゴン・酸素ガスを導
入してスパッタリングを行なう場合、インジウム・スズ
ターゲットへの印加電力を０．３０Ｗ／ｃｍ2以下に設
定すれば、長時間スパッタリングを行なっても異常放電
は発生しない。
【００１５】上記成形時に付着した突起物は、容易に剥
離又は除去することが困難である。
離又は除去することが困難である。
【００１６】次に、本発明について更に具体的に述べる
が、本発明は何らこれに限定されるものではない。
が、本発明は何らこれに限定されるものではない。
【００１７】
【実施例１】厚さ１２５μｍの二軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフイルムのロールをスパッタ装置内の所定
位置にセットした。
レフタレートフイルムのロールをスパッタ装置内の所定
位置にセットした。
【００１８】スパッタ装置内を２×１０-5Ｔｏｒｒまで
排気後、アルゴン・酸素混合ガス（酸素８％）を導入し
圧力が２×１０-3Ｔｏｒｒになるように調整した。しか
る後、インジウム・スズ（スズ５ｗｔ％）のターゲット
に０．２６Ｗ／ｃｍ2の電力を印加し、該ターゲット上
を上記フイルムを０．３８ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ
ることにより、上記フイルム上にＩＴＯ膜（厚さ２００
オングストローム）を形成した。スパッタリングを開始
してから５時間後の位置から試験用の透明導電性フイル
ムシートをサンプリングした。
排気後、アルゴン・酸素混合ガス（酸素８％）を導入し
圧力が２×１０-3Ｔｏｒｒになるように調整した。しか
る後、インジウム・スズ（スズ５ｗｔ％）のターゲット
に０．２６Ｗ／ｃｍ2の電力を印加し、該ターゲット上
を上記フイルムを０．３８ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ
ることにより、上記フイルム上にＩＴＯ膜（厚さ２００
オングストローム）を形成した。スパッタリングを開始
してから５時間後の位置から試験用の透明導電性フイル
ムシートをサンプリングした。
【００１９】かくして得られた透明導電性フイルムの透
過率は８２％（ａｔ５５０ｎｍ）、抵抗値は４５０Ω／
□であった。
過率は８２％（ａｔ５５０ｎｍ）、抵抗値は４５０Ω／
□であった。
【００２０】引き続いて、シアノビフェニル系液晶とし
てＢＤＨ社製のＥ―８を使用し、硬化樹脂原料として単
官能性アクリレートモノマーとしての東亜剛性化学工業
（株）製、アロニックスＭ１１３［ノニルフェノキシ―
テトラエチレンオキシドアクリレート（４ＥＯＡ）］、
共栄社油脂化学工業製、ＨＯＰ―Ａ（２―ヒドロキシプ
ロピルアクリレート）及び６官能のウレタンアクリレー
ト（新中村化学、Ｕ―１２２６Ａ）を８０：１５：５の
重量比で混合したものを用い、また樹脂原料には硬化剤
としてチバガイギー社製、イルガキュアーを３重量％添
加混合した。これらを液晶成分が６７重量％になるよう
に混合したのちよく攪拌し、脱気して塗工液とした。
てＢＤＨ社製のＥ―８を使用し、硬化樹脂原料として単
官能性アクリレートモノマーとしての東亜剛性化学工業
（株）製、アロニックスＭ１１３［ノニルフェノキシ―
テトラエチレンオキシドアクリレート（４ＥＯＡ）］、
共栄社油脂化学工業製、ＨＯＰ―Ａ（２―ヒドロキシプ
ロピルアクリレート）及び６官能のウレタンアクリレー
ト（新中村化学、Ｕ―１２２６Ａ）を８０：１５：５の
重量比で混合したものを用い、また樹脂原料には硬化剤
としてチバガイギー社製、イルガキュアーを３重量％添
加混合した。これらを液晶成分が６７重量％になるよう
に混合したのちよく攪拌し、脱気して塗工液とした。
【００２１】次に、１枚の透明導電性フイルムの導電層
の上に＃２０のバーコーターを用いて前記塗工液を塗工
した。
の上に＃２０のバーコーターを用いて前記塗工液を塗工
した。
【００２２】次に、別の透明導電性フイルムを導電層が
液晶を含む塗工層に接するように重ね合わせたのち、水
銀ランプを光源とする紫外線照射機を用いて６ｍＷ／ｃ
ｍ2の紫外光を約１０分間照射した。紫外光により液晶
を含む塗工層は透明導電性電極層間で硬化し、厚さ２０
μｍの高分子樹脂中に液晶を分散させた層（液晶分散層
と略称）となる。
液晶を含む塗工層に接するように重ね合わせたのち、水
銀ランプを光源とする紫外線照射機を用いて６ｍＷ／ｃ
ｍ2の紫外光を約１０分間照射した。紫外光により液晶
を含む塗工層は透明導電性電極層間で硬化し、厚さ２０
μｍの高分子樹脂中に液晶を分散させた層（液晶分散層
と略称）となる。
【００２３】かくして得られた調光シートの２つの電極
間に電圧を印加した結果は、表１のように５００Ｖまで
良好であった。なお、上記の使用した透明導電性フイル
ムの導電層表面とあらかじめ顕微鏡により観察したが、
導電層は実質的に平坦で導電層上には突起物は全く認め
られなかった。
間に電圧を印加した結果は、表１のように５００Ｖまで
良好であった。なお、上記の使用した透明導電性フイル
ムの導電層表面とあらかじめ顕微鏡により観察したが、
導電層は実質的に平坦で導電層上には突起物は全く認め
られなかった。
【００２４】
【実施例２】実施例１において、アルゴン・酸素混合ガ
ス（酸素９％）を導入し、インジウム・スズ（５ｗｔ
％）のターゲットに印加する電力を０．２９Ｗ／ｃ
ｍ2、フイルム速度を０．５３ｍ／ｍｉｎとした以外は
全く同様にして透明導電性フイルムを製造した。スパッ
タリングを開始してから５時間後の位置から試験用の透
明導電性フイルムシートをサンプリングした。透明導電
性フイルムの透過率は８２％（５５０ｎｍ）、抵抗値は
４６０Ω／□であった。
ス（酸素９％）を導入し、インジウム・スズ（５ｗｔ
％）のターゲットに印加する電力を０．２９Ｗ／ｃ
ｍ2、フイルム速度を０．５３ｍ／ｍｉｎとした以外は
全く同様にして透明導電性フイルムを製造した。スパッ
タリングを開始してから５時間後の位置から試験用の透
明導電性フイルムシートをサンプリングした。透明導電
性フイルムの透過率は８２％（５５０ｎｍ）、抵抗値は
４６０Ω／□であった。
【００２５】引き続いて実施例１と全く同様にして調光
シートを得た。得られた調光シートの電極間に電圧を印
加した結果は表１の如くであり、２００Ｖまで良好であ
り実用上問題ないことが判った。なお、使用した透明導
電性フイルムの導電層表面をあらかじめ顕微鏡で観察し
た結果、インジウム・スズ低級酸化物の突起物が認めら
れた。突起物の高さをＡｌｐｈａ−ｓｔｅｐ２００（Ｔ
ＥＮＣＯＲ社製）で測定したところ９．０μｍであり、
液晶分散層の膜厚を１００とした時の突起物高さは４５
であった。
シートを得た。得られた調光シートの電極間に電圧を印
加した結果は表１の如くであり、２００Ｖまで良好であ
り実用上問題ないことが判った。なお、使用した透明導
電性フイルムの導電層表面をあらかじめ顕微鏡で観察し
た結果、インジウム・スズ低級酸化物の突起物が認めら
れた。突起物の高さをＡｌｐｈａ−ｓｔｅｐ２００（Ｔ
ＥＮＣＯＲ社製）で測定したところ９．０μｍであり、
液晶分散層の膜厚を１００とした時の突起物高さは４５
であった。
【００２６】
【比較例１】実施例１において、アルゴン・酸素混合ガ
ス（酸素２０％）を導入し、インジウム・スズ（５ｗｔ
％）のターゲットに印加する電力を０．６５Ｗ／ｃ
ｍ2、フイルム速度を１．４ｍ／ｍｉｎとした以外は全
く同様にして透明導電性フイルムを製造した。
ス（酸素２０％）を導入し、インジウム・スズ（５ｗｔ
％）のターゲットに印加する電力を０．６５Ｗ／ｃ
ｍ2、フイルム速度を１．４ｍ／ｍｉｎとした以外は全
く同様にして透明導電性フイルムを製造した。
【００２７】なお、スパッタリングを開始してから３時
間後に異常放電が認められた。
間後に異常放電が認められた。
【００２８】スパッタリングを開始してから５時間後の
位置から試験用の透明導電性フイルムシートをサンプリ
ングした。透明導電性フイルムの透過率は８２％（５５
０ｎｍ）、抵抗値は４８０Ω／□であった。
位置から試験用の透明導電性フイルムシートをサンプリ
ングした。透明導電性フイルムの透過率は８２％（５５
０ｎｍ）、抵抗値は４８０Ω／□であった。
【００２９】引き続いて実施例１と全く同様にして調光
シートを得た。得られた調光シートの電極間に電圧を印
加した。結果は表１の如く１００Ｖ以上印加した時に黒
点が発生し、実用上問題があることが判った。
シートを得た。得られた調光シートの電極間に電圧を印
加した。結果は表１の如く１００Ｖ以上印加した時に黒
点が発生し、実用上問題があることが判った。
【００３０】なお、使用した透明導電性フイルムの導電
層表面をあらかじめ顕微鏡で観察した結果、インジウム
・スズ低級酸化物の突起物が認められた。実施例２と同
様な方法で高さを測定したところ、１２〜１５μｍであ
り、液晶分散層の膜厚を１００とした時の突起物の高さ
は６０〜７５であった。
層表面をあらかじめ顕微鏡で観察した結果、インジウム
・スズ低級酸化物の突起物が認められた。実施例２と同
様な方法で高さを測定したところ、１２〜１５μｍであ
り、液晶分散層の膜厚を１００とした時の突起物の高さ
は６０〜７５であった。
【００３１】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅 克彦 東京都日野市旭が丘４丁目３番２号 帝 人株式会社 東京研究センター内 (56)参考文献 特開 昭63−294522（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−79530（ＪＰ，Ｕ) 実開 平２−141926（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1343
Claims (4)
- 【請求項１】 透明導電性フイルムの導電層が１〜３０
μｍの間隔をおいて互いに相対する一対のセル構造体に
おいて、（１）前記導電層上に該導電層形成時に生じた
導電性を有する付着突起物が存在し、（２）該付着突起
物は低級酸化物からなり、かつ（３）前記導電層間の距
離を１００としたとき、該付着突起物の高さが５０以下
である、ことを特徴とするプラスチックセル構造体。 - 【請求項２】 少なくとも一方の透明導電性フイルムの
導電層の上に非導電性のスペーサーが存在し、相対する
もう一方の透明導電性フイルムの導電層との空間部を一
定に保持し、タッチペン、指等により押圧を加えること
により導通することを特徴としたタッチパネルにおける
請求項１のプラスチックセル構造体。 - 【請求項３】 相対する透明導電性フイルムの導電層間
に液晶が封入されており、透明導電性フイルムに通電す
ることにより液晶を駆動できるように構成された構造体
における請求項１のプラスチックセル構造体。 - 【請求項４】 相対する透明導電性フイルムの導電層間
に、高分子樹脂中に液晶を分散させた層を配置し、各導
電層に通電することにより液晶部を駆動せしめる構造体
における請求項１のプラスチックセル構造体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35645491A JP3247135B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | プラスチックセル構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35645491A JP3247135B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | プラスチックセル構造体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05173159A JPH05173159A (ja) | 1993-07-13 |
| JP3247135B2 true JP3247135B2 (ja) | 2002-01-15 |
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ID=18449094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35645491A Expired - Fee Related JP3247135B2 (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | プラスチックセル構造体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3247135B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3373691B2 (ja) * | 1995-02-23 | 2003-02-04 | 株式会社東芝 | 座標入力機能付き表示装置 |
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