JP3247135B2 - Plastic cell structure - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明法は、透明導電性フイルム
の導電層を相対せしめたプラスチックセル構造体に関す
る。具体的な例としては透明タッチパネル、液晶セル
（ＬＣＤ）、及び液晶を高分子樹脂中に分散させた調光
シート（ＰＤＬＣ）等を改良するために好適なプラスチ
ックセル構造体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plastic cell structure in which conductive layers of a transparent conductive film are opposed to each other. More specifically, the present invention relates to a plastic cell structure suitable for improving a transparent touch panel, a liquid crystal cell (LCD), and a light control sheet (PDLC) in which liquid crystal is dispersed in a polymer resin.
【０００２】[0002]
【従来の技術】透明タッチパネルは、透明導電性フイル
ムの導電層同士を空間部を介して相対するように配置さ
れた構造を有する。空間部は少なくとも一方の導電層の
上に、非導電性のスペーサーにより、例えばアナログタ
イプでは１〜１０μｍの距離を有し、一定に保持されて
いる。タッチペン又は指の押圧により導電層同士が接触
して導通により位置検出する構造である。しかるに、上
記構造体を組上げ製品検査において、空間部を保持した
にもかかわらず、押圧をかけないでも導通を発生する箇
所が発生し、製品歩留低下をおこしている。また使用中
に部分的に異常導通による誤動作を起すことがある。2. Description of the Related Art A transparent touch panel has a structure in which conductive layers of a transparent conductive film are arranged to face each other via a space. The space is kept constant on at least one of the conductive layers by a non-conductive spacer, for example, at a distance of 1 to 10 μm in an analog type. In this structure, the conductive layers come into contact with each other by pressing a touch pen or a finger, and the position is detected by conduction. However, in the product inspection by assembling the above-mentioned structure, there are places where conduction occurs without applying pressure, even though the space is held, thereby lowering the product yield. In addition, a malfunction may occur partially due to abnormal conduction during use.
【０００３】また、電卓、パソコンの表示部等に使用さ
れているプラスチック液晶セル（ＬＣＤと略称）は、相
対する導電層の間に液晶が封入され、スペーサーにより
５〜１０μｍの間隙に保持されており、更にまた、建
材、行先標示、パソコン表示部等に使用される調光シー
ト（ＰＤＬＣと略称）は、例えば５〜３０μｍの相対す
る導電層の間に、液晶を高分子樹脂中に分散、又は液晶
を一旦カプセル化した後、分散された構造を有し、各々
の導電層、必要に応じてパターン化された導電層へ電圧
を印加して使用される構造を有する。In a plastic liquid crystal cell (abbreviated as LCD) used for a calculator, a display unit of a personal computer, or the like, liquid crystal is sealed between opposing conductive layers, and is held in a gap of 5 to 10 μm by a spacer. Further, a light control sheet (abbreviated as PDLC) used for a building material, a destination sign, a personal computer display unit, or the like is a liquid crystal dispersed in a polymer resin between opposing conductive layers of, for example, 5 to 30 μm. Alternatively, after the liquid crystal is once encapsulated, it has a dispersed structure, and has a structure in which a voltage is applied to each conductive layer and, if necessary, a patterned conductive layer to be used.
【０００４】しかるに、上記ＬＣＤ、ＰＤＬＣは中間組
立て段階の検査において、更に製品検査に置いて誤動作
を起すものがあり歩留低下をきたすことがあるだけでな
く、使用中に誤動作を発生せしめることがある。低電圧
駆動の場合は前記欠点を発生する頻度は少ないが、特に
高電圧駆動例えば４０Ｖ駆動以上の建材、行先標示板等
では黒点が発生し、場合によってはベースフイルムが部
分的に溶融しピンホールが発生することがあり、時間と
共に黒点が大面積に拡大することがある。However, in the above-mentioned LCD and PDLC, in the inspection in the intermediate assembly stage, there is a case where a malfunction may occur in the product inspection and not only the yield may be reduced, but also a malfunction may occur during use. is there. In the case of low-voltage driving, the above-mentioned drawbacks occur less frequently, but in particular, black spots occur in high-voltage driving, for example, building materials of 40 V or higher, destination signboards, etc. May occur, and the black spot may expand to a large area with time.
【０００５】[0005]
【問題を解決するための手段】本発明者らは、上記欠点
の発生原因を追及したところ、透明導電性フイルムの実
質的に平坦な導電層の上に導電性を有する突起物がラン
ダムに存在することによることが判明し、鋭意研究した
結果本発明に到達した。Means for Solving the Problems The present inventors have investigated the causes of the above-mentioned drawbacks, and found that conductive protrusions randomly exist on a substantially flat conductive layer of a transparent conductive film. It has been found that the present invention has been conducted, and as a result of intensive research, the present invention has been achieved.
【０００６】即ち、本発明は、 （１）透明導電性フイルムの導電層が１〜３０μｍの間
隔をおいて互いに相対する一対のセル構造体において、
（１）前記導電層上に該導電層形成時に生じた導電性を
有する付着突起物が存在し、（２）該付着突起物は低級
酸化物からなり、かつ（３）前記導電層間の距離を１０
０としたとき、該付着突起物の高さが５０以下である、
プラスチックセル構造体、 （２）少なくとも一方の透明導電性フイルムの導電層の
上に非導電性のスペーサーが存在し、相対するもう一方
の透明導電性フイルムの導電層との空間部を一定に保持
し、タッチペン、指等により押圧を加えることにより導
通することを特徴としたタッチパネルにおける前項１を
満足するプラスチックセル構造体、 （３）相対する透明導電性フイルムの導電層間に液晶が
封入されており、透明導電性フイルムに通電することに
より液晶を駆動できるように構成された構造体における
前項１のプラスチックセル構造体、及び （４）相対する透明導電性フイルムの導電層間に、高分
子樹脂中に液晶を分散させた層を配置し、各導電層に通
電することにより液晶部を駆動せしめる構造体における
前項１のプラスチックセル構造体、である。That is, the present invention provides: (1) a pair of cell structures in which conductive layers of a transparent conductive film face each other at an interval of 1 to 30 μm;
(1) The conductive protrusions formed during the formation of the conductive layer are present on the conductive layer, (2) the protrusions are made of a lower oxide, and (3) the distance between the conductive layers is reduced. 10
When 0, the height of the attached protrusion is 50 or less,
A plastic cell structure, (2) a non-conductive spacer is present on at least one of the conductive layers of the transparent conductive film, and a space between the non-conductive spacer and the conductive layer of the other transparent conductive film is kept constant. A plastic cell structure that satisfies item 1 in the touch panel, characterized in that the liquid crystal is sealed between the conductive layers of the transparent conductive film facing each other, wherein the liquid crystal is sealed between the transparent conductive films. A plastic cell structure according to the above item 1 in a structure configured to be able to drive liquid crystal by energizing the transparent conductive film; and (4) a polymer resin between the conductive layers of the transparent conductive film facing each other. A plastic cell according to the above item 1 in a structure in which a layer in which liquid crystal is dispersed is arranged, and a liquid crystal unit is driven by applying a current to each conductive layer. Structure, it is.
【０００７】本発明によれば前述の欠点のない構造体を
歩留よく製造することが可能となり、またユーザーから
のクレームも解消できる。According to the present invention, it is possible to manufacture a structure free from the above-mentioned disadvantages with a high yield, and also to solve the user's complaint.
【０００８】以下本発明について詳細に説明する。本発
明に使用される透明導電性フイルムの基板は、透明高分
子基板であればいかなるものでもよく、通常ポリエステ
ルフイルム（一軸、二軸延伸）、ポリアリレートフイル
ム、ポリカーボネートフイルム、ポリイミドフイルム、
アクリレート樹脂フイルム、ポリエステルサルフォンフ
イルムなどいずれも使用できる。通常フイルム厚みは５
０〜２５０μｍが好んで用いられる。Hereinafter, the present invention will be described in detail. The substrate of the transparent conductive film used in the present invention may be any transparent polymer substrate, and is usually a polyester film (uniaxially or biaxially stretched), a polyarylate film, a polycarbonate film, a polyimide film,
Any of acrylate resin film, polyester sulfone film and the like can be used. Normal film thickness is 5
0 to 250 μm is preferably used.
【０００９】上記フイルムは、必要に応じてあらかじ
め、少なくとも一方の面に導電層との密着性を上げるた
めの処理、酸素、窒素、水分などのガスバリヤー性を高
めるための処理を施されていてもよい。The above-mentioned film has been previously subjected to a treatment for increasing the adhesion to the conductive layer and a treatment for increasing the gas barrier properties of oxygen, nitrogen, moisture and the like on at least one surface as required. Is also good.
【００１０】導電層としては、通常知られている金属及
び／又は酸化物の薄膜が使用される。例えば、銀、金、
銅等の金属、酸化インジウム、酸化スズ等の酸化物が単
独、又は混合体として使用されている。As the conductive layer, a generally known metal and / or oxide thin film is used. For example, silver, gold,
Metals such as copper and oxides such as indium oxide and tin oxide are used alone or as a mixture.
【００１１】表面電気抵抗特性は特に制限ないが、５〜
５００Ω／□が好んで用いられる。本発明は、上記の透
明導電性フイルムを使用した構造体であるが、導電性を
有する突起部は、実質的に平坦で微細な凹凸を有しない
導電層の上に存在し、その高さが、導電層間の距離を１
００とした時５０以下であることを要する。好ましくは
３０以下である。これら突起物の発生原因は、通常、前
記フイルムの上に導電層を形成する場合に発生する。通
常スパッタリング、蒸着等の方法で形成するが、異常放
電や突沸等により低級酸化物が飛散し、その一部が形成
され導電層の上に付着し導電層の一部を構成する。[0011] The surface electric resistance characteristic is not particularly limited.
500Ω / □ is preferably used. The present invention is a structure using the above-described transparent conductive film, and the conductive protrusions are present on a substantially flat conductive layer having no fine irregularities, and the height thereof is reduced. , The distance between the conductive layers is 1
When it is set to 00, it must be 50 or less. Preferably it is 30 or less. The cause of these projections usually occurs when a conductive layer is formed on the film. Usually, it is formed by a method such as sputtering or vapor deposition, but a lower oxide is scattered due to abnormal discharge or bumping, and a part thereof is formed and adheres to the conductive layer to constitute a part of the conductive layer.
【００１２】それら導電性を有する付着突起物を回避す
るためには、種々の方法がある。例えば、導電層成形時
に発生させないようにするには、成形前に装置内部を充
分に清掃するとともに、成形に際してはスパッタリング
用ターゲット又は真空蒸着用蒸発源に印加する電力を適
正な値に設定し、異常放電によりターゲット材料、蒸発
材料、マスク材料、シールド板材料等が飛散してフイル
ム基板面に付着することを防止することにより上記突起
物を回避できる。There are various methods for avoiding such conductive projections. For example, in order to prevent generation during the formation of the conductive layer, the inside of the apparatus is sufficiently cleaned before forming, and at the time of forming, the power applied to the sputtering target or the vacuum evaporation source is set to an appropriate value. The projection can be avoided by preventing the target material, the evaporation material, the mask material, the shield plate material, and the like from scattering and adhering to the film substrate surface due to abnormal discharge.
【００１３】適正な電力は用いる装置の形状やターゲッ
ト材料又は蒸発材料の種類により異なり、一概には言え
ないが異常放電、即ち、印加電力が設定値から数％以上
急激に変化する現象が発生するようになる限界の印加電
力を実験的に求め、これ以下に印加電力を設定すればよ
い。The appropriate power varies depending on the shape of the apparatus to be used and the type of target material or evaporating material, and although it cannot be said unconditionally, abnormal discharge, that is, a phenomenon in which the applied power rapidly changes by several percent or more from a set value occurs. It is sufficient to experimentally determine the applied power at the limit where the applied power becomes smaller, and set the applied power below this limit.
【００１４】一例を示せば、インジウム・スズターゲッ
ト（スズ５ｗｔ％）を用いて、アルゴン・酸素ガスを導
入してスパッタリングを行なう場合、インジウム・スズ
ターゲットへの印加電力を０．３０Ｗ／ｃｍ2以下に設
定すれば、長時間スパッタリングを行なっても異常放電
は発生しない。As an example, when sputtering is performed by introducing an argon / oxygen gas using an indium / tin target (5% by weight of tin), the power applied to the indium / tin target is 0.30 W / cm 2 or less. , Abnormal discharge does not occur even if sputtering is performed for a long time.
【００１５】上記成形時に付着した突起物は、容易に剥
離又は除去することが困難である。It is difficult to easily remove or remove the projections adhered during the molding.
【００１６】次に、本発明について更に具体的に述べる
が、本発明は何らこれに限定されるものではない。Next, the present invention will be described more specifically, but the present invention is not limited thereto.
【００１７】[0017]
【実施例１】厚さ１２５μｍの二軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフイルムのロールをスパッタ装置内の所定
位置にセットした。Example 1 A roll of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 125 μm was set at a predetermined position in a sputtering apparatus.
【００１８】スパッタ装置内を２×１０-5Ｔｏｒｒまで
排気後、アルゴン・酸素混合ガス（酸素８％）を導入し
圧力が２×１０-3Ｔｏｒｒになるように調整した。しか
る後、インジウム・スズ（スズ５ｗｔ％）のターゲット
に０．２６Ｗ／ｃｍ2の電力を印加し、該ターゲット上
を上記フイルムを０．３８ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ
ることにより、上記フイルム上にＩＴＯ膜（厚さ２００
オングストローム）を形成した。スパッタリングを開始
してから５時間後の位置から試験用の透明導電性フイル
ムシートをサンプリングした。After the inside of the sputtering apparatus was evacuated to 2 × 10 −5 Torr, an argon / oxygen mixed gas (8% oxygen) was introduced to adjust the pressure to 2 × 10 −3 Torr. Thereafter, a power of 0.26 W / cm 2 is applied to a target of indium tin (tin 5 wt%), and the film is passed over the target at a speed of 0.38 m / min. ITO film (thickness 200
Angstroms). A transparent conductive film sheet for testing was sampled from a position 5 hours after the start of sputtering.
【００１９】かくして得られた透明導電性フイルムの透
過率は８２％（ａｔ５５０ｎｍ）、抵抗値は４５０Ω／
□であった。The transparent conductive film thus obtained has a transmittance of 82% (at 550 nm) and a resistance of 450 Ω / at.
It was □.
【００２０】引き続いて、シアノビフェニル系液晶とし
てＢＤＨ社製のＥ―８を使用し、硬化樹脂原料として単
官能性アクリレートモノマーとしての東亜剛性化学工業
（株）製、アロニックスＭ１１３［ノニルフェノキシ―
テトラエチレンオキシドアクリレート（４ＥＯＡ）］、
共栄社油脂化学工業製、ＨＯＰ―Ａ（２―ヒドロキシプ
ロピルアクリレート）及び６官能のウレタンアクリレー
ト（新中村化学、Ｕ―１２２６Ａ）を８０：１５：５の
重量比で混合したものを用い、また樹脂原料には硬化剤
としてチバガイギー社製、イルガキュアーを３重量％添
加混合した。これらを液晶成分が６７重量％になるよう
に混合したのちよく攪拌し、脱気して塗工液とした。Subsequently, E-8 manufactured by BDH was used as a cyanobiphenyl-based liquid crystal, and Aronix M113 [nonylphenoxy-based] manufactured by Toa Rigid Chemical Industry Co., Ltd. as a monofunctional acrylate monomer was used as a curable resin material.
Tetraethylene oxide acrylate (4EOA)],
A mixture of HOP-A (2-hydroxypropyl acrylate) and hexafunctional urethane acrylate (Shin-Nakamura Chemical, U-1226A) in a weight ratio of 80: 15: 5, manufactured by Kyoeisha Yushi Kagaku Kogyo Co., Ltd. Was mixed with 3% by weight of Irgacure manufactured by Ciba Geigy as a curing agent. These were mixed so that the liquid crystal component became 67% by weight, then stirred well, and degassed to obtain a coating liquid.
【００２１】次に、１枚の透明導電性フイルムの導電層
の上に＃２０のバーコーターを用いて前記塗工液を塗工
した。Next, the coating liquid was applied on the conductive layer of one transparent conductive film using a # 20 bar coater.
【００２２】次に、別の透明導電性フイルムを導電層が
液晶を含む塗工層に接するように重ね合わせたのち、水
銀ランプを光源とする紫外線照射機を用いて６ｍＷ／ｃ
ｍ2の紫外光を約１０分間照射した。紫外光により液晶
を含む塗工層は透明導電性電極層間で硬化し、厚さ２０
μｍの高分子樹脂中に液晶を分散させた層（液晶分散層
と略称）となる。Next, another transparent conductive film is overlaid so that the conductive layer is in contact with the coating layer containing liquid crystal, and then 6 mW / c using an ultraviolet irradiator using a mercury lamp as a light source.
m 2 ultraviolet light was irradiated for about 10 minutes. The coating layer containing the liquid crystal is cured between the transparent conductive electrode layers by ultraviolet light, and has a thickness of 20 μm.
It becomes a layer in which liquid crystal is dispersed in a polymer resin of μm (abbreviated as liquid crystal dispersion layer).
【００２３】かくして得られた調光シートの２つの電極
間に電圧を印加した結果は、表１のように５００Ｖまで
良好であった。なお、上記の使用した透明導電性フイル
ムの導電層表面とあらかじめ顕微鏡により観察したが、
導電層は実質的に平坦で導電層上には突起物は全く認め
られなかった。When a voltage was applied between the two electrodes of the light control sheet thus obtained, the results were good up to 500 V as shown in Table 1. The conductive layer surface of the transparent conductive film used above was observed with a microscope in advance,
The conductive layer was substantially flat, and no protrusion was observed on the conductive layer.
【００２４】[0024]
【実施例２】実施例１において、アルゴン・酸素混合ガ
ス（酸素９％）を導入し、インジウム・スズ（５ｗｔ
％）のターゲットに印加する電力を０．２９Ｗ／ｃ
ｍ2、フイルム速度を０．５３ｍ／ｍｉｎとした以外は
全く同様にして透明導電性フイルムを製造した。スパッ
タリングを開始してから５時間後の位置から試験用の透
明導電性フイルムシートをサンプリングした。透明導電
性フイルムの透過率は８２％（５５０ｎｍ）、抵抗値は
４６０Ω／□であった。Example 2 In Example 1, an argon / oxygen mixed gas (9% oxygen) was introduced, and indium tin (5 wt.
%) Of the power applied to the target is 0.29 W / c.
A transparent conductive film was produced in exactly the same manner except that m 2 and the film speed were 0.53 m / min. A transparent conductive film sheet for testing was sampled from a position 5 hours after the start of sputtering. The transmittance of the transparent conductive film was 82% (550 nm), and the resistance value was 460 Ω / □.
【００２５】引き続いて実施例１と全く同様にして調光
シートを得た。得られた調光シートの電極間に電圧を印
加した結果は表１の如くであり、２００Ｖまで良好であ
り実用上問題ないことが判った。なお、使用した透明導
電性フイルムの導電層表面をあらかじめ顕微鏡で観察し
た結果、インジウム・スズ低級酸化物の突起物が認めら
れた。突起物の高さをＡｌｐｈａ−ｓｔｅｐ２００（Ｔ
ＥＮＣＯＲ社製）で測定したところ９．０μｍであり、
液晶分散層の膜厚を１００とした時の突起物高さは４５
であった。Subsequently, a light control sheet was obtained in exactly the same manner as in Example 1. The result of applying a voltage between the electrodes of the obtained light control sheet is as shown in Table 1, and it was found that the voltage was good up to 200 V and there was no practical problem. In addition, as a result of previously observing the surface of the conductive layer of the used transparent conductive film with a microscope, protrusions of indium tin lower oxide were observed. The height of the protrusion is determined by Alpha-step 200 (T
It was 9.0 μm when measured by ENCOR,
The projection height is 45 when the thickness of the liquid crystal dispersion layer is 100.
Met.
【００２６】[0026]
【比較例１】実施例１において、アルゴン・酸素混合ガ
ス（酸素２０％）を導入し、インジウム・スズ（５ｗｔ
％）のターゲットに印加する電力を０．６５Ｗ／ｃ
ｍ2、フイルム速度を１．４ｍ／ｍｉｎとした以外は全
く同様にして透明導電性フイルムを製造した。Comparative Example 1 In Example 1, an argon / oxygen mixed gas (oxygen 20%) was introduced, and indium tin (5 wt.
%) Of the power applied to the target of 0.65 W / c.
A transparent conductive film was produced in exactly the same manner except that m 2 and the film speed were 1.4 m / min.
【００２７】なお、スパッタリングを開始してから３時
間後に異常放電が認められた。An abnormal discharge was observed three hours after the start of sputtering.
【００２８】スパッタリングを開始してから５時間後の
位置から試験用の透明導電性フイルムシートをサンプリ
ングした。透明導電性フイルムの透過率は８２％（５５
０ｎｍ）、抵抗値は４８０Ω／□であった。A transparent conductive film sheet for testing was sampled from a position 5 hours after the start of sputtering. The transmittance of the transparent conductive film is 82% (55%).
0 nm) and the resistance was 480 Ω / □.
【００２９】引き続いて実施例１と全く同様にして調光
シートを得た。得られた調光シートの電極間に電圧を印
加した。結果は表１の如く１００Ｖ以上印加した時に黒
点が発生し、実用上問題があることが判った。Subsequently, a light control sheet was obtained in exactly the same manner as in Example 1. A voltage was applied between the electrodes of the obtained light control sheet. As a result, as shown in Table 1, when a voltage of 100 V or more was applied, black spots were generated, and it was found that there was a practical problem.
【００３０】なお、使用した透明導電性フイルムの導電
層表面をあらかじめ顕微鏡で観察した結果、インジウム
・スズ低級酸化物の突起物が認められた。実施例２と同
様な方法で高さを測定したところ、１２〜１５μｍであ
り、液晶分散層の膜厚を１００とした時の突起物の高さ
は６０〜７５であった。As a result of previously observing the surface of the conductive layer of the used transparent conductive film with a microscope, protrusions of indium tin lower oxide were recognized. When the height was measured in the same manner as in Example 2, the height was 12 to 15 μm, and when the thickness of the liquid crystal dispersion layer was 100, the height of the protrusion was 60 to 75.
【００３１】[0031]
【表１】 [Table 1]
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 菅 克彦 東京都日野市旭が丘４丁目３番２号 帝 人株式会社 東京研究センター内 (56)参考文献 特開 昭63−294522（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−79530（ＪＰ，Ｕ) 実開 平２−141926（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1343 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Katsuhiko Suga 4-4-2 Asahigaoka, Hino-shi, Tokyo Teijin Limited Tokyo Research Center (56) References JP-A-63-294522 (JP, A) Kaihei 2-79530 (JP, U) Real Kaihei 2-141926 (JP, U) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G02F 1/1343
Claims (4)
μｍの間隔をおいて互いに相対する一対のセル構造体に
おいて、（１）前記導電層上に該導電層形成時に生じた
導電性を有する付着突起物が存在し、（２）該付着突起
物は低級酸化物からなり、かつ（３）前記導電層間の距
離を１００としたとき、該付着突起物の高さが５０以下
である、ことを特徴とするプラスチックセル構造体。1. The conductive layer of the transparent conductive film has a thickness of 1 to 30.
In a pair of cell structures opposed to each other at an interval of μm, (1) formed on the conductive layer when the conductive layer is formed
(2) the adhesion protrusions having conductivity exist;
The object is made of a lower oxide, and (3) the distance between the conductive layers
When the separation is set to 100, the height of the attached protrusion is 50 or less.
In it, a plastic cell structure characterized by.
導電層の上に非導電性のスペーサーが存在し、相対する
もう一方の透明導電性フイルムの導電層との空間部を一
定に保持し、タッチペン、指等により押圧を加えること
により導通することを特徴としたタッチパネルにおける
請求項１のプラスチックセル構造体。2. A touch pen, wherein a non-conductive spacer is present on at least one conductive layer of the transparent conductive film, and a space between the non-conductive spacer and the conductive layer of the other transparent conductive film is kept constant. 2. The plastic cell structure according to claim 1, wherein said plastic cell structure is made conductive by applying pressure with a finger or the like.
に液晶が封入されており、透明導電性フイルムに通電す
ることにより液晶を駆動できるように構成された構造体
における請求項１のプラスチックセル構造体。3. The plastic cell structure according to claim 1, wherein the liquid crystal is sealed between the conductive layers of the transparent conductive film facing each other, and the liquid crystal can be driven by applying a current to the transparent conductive film. body.
に、高分子樹脂中に液晶を分散させた層を配置し、各導
電層に通電することにより液晶部を駆動せしめる構造体
における請求項１のプラスチックセル構造体。4. A structure in which a layer in which liquid crystal is dispersed in a polymer resin is disposed between opposing conductive layers of a transparent conductive film, and a current is applied to each conductive layer to drive the liquid crystal unit. Plastic cell structure.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP35645491A JP3247135B2 (en) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | Plastic cell structure |
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| JP35645491A JP3247135B2 (en) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | Plastic cell structure |
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| JPH05173159A JPH05173159A (en) | 1993-07-13 |
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