JP3243929B2 - 脱銅電解液の銅イオン濃度の調節方法 - Google Patents
脱銅電解液の銅イオン濃度の調節方法Info
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】ニッケル精錬における含銅塩化ニ
ッケル溶液から銅を除去する脱銅電解方法に関する。
ッケル溶液から銅を除去する脱銅電解方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の高純度電気ニッケルを製造するニ
ッケル精錬工程を図１を用いて説明図する。なお、図１
中の矢線１１〜１８は溶液又はスラリー及びその流れを
示している。即ち高純度ニッケル精錬は、（ａ）ニッケ
ルマット１及び元素硫黄２を後記の含銅塩化ニッケル溶
液１６ｂ及び脱銅電解廃液１７に混合し精脱銅を行い、
含銅ニッケルスラリー１３及び塩化ニッケル溶液１１を
得るセメンテーション工程３、（ｂ）前記の塩化ニッケ
ル溶液１１中のコバルト、鉄等を除去して高純度化し、
ニッケル電解液１２を得る浄液工程４、（ｃ）前記のニ
ッケル電解液１２を電解して電気ニッケル９を得るニッ
ケル電解工程５からなり、（ｄ）前記のセメンテーショ
ン工程３の含銅ニッケルスラリー１３を塩素で浸出した
含銅塩化ニッケル溶液１６を得る塩素浸出工程６、
（ｅ）前記含銅塩化ニッケル溶液１６の一部（１６ａ）
を脱銅電解液１８として用いて脱銅電解し銅粉１０を得
る脱銅電解工程７からなる。
ッケル精錬工程を図１を用いて説明図する。なお、図１
中の矢線１１〜１８は溶液又はスラリー及びその流れを
示している。即ち高純度ニッケル精錬は、（ａ）ニッケ
ルマット１及び元素硫黄２を後記の含銅塩化ニッケル溶
液１６ｂ及び脱銅電解廃液１７に混合し精脱銅を行い、
含銅ニッケルスラリー１３及び塩化ニッケル溶液１１を
得るセメンテーション工程３、（ｂ）前記の塩化ニッケ
ル溶液１１中のコバルト、鉄等を除去して高純度化し、
ニッケル電解液１２を得る浄液工程４、（ｃ）前記のニ
ッケル電解液１２を電解して電気ニッケル９を得るニッ
ケル電解工程５からなり、（ｄ）前記のセメンテーショ
ン工程３の含銅ニッケルスラリー１３を塩素で浸出した
含銅塩化ニッケル溶液１６を得る塩素浸出工程６、
（ｅ）前記含銅塩化ニッケル溶液１６の一部（１６ａ）
を脱銅電解液１８として用いて脱銅電解し銅粉１０を得
る脱銅電解工程７からなる。
【０００３】さらに、前記ニッケル電解工程５で生じた
ニッケル電解廃液１４は脱塩素処理８を施された液（以
降、アノライトと記載する）１５となり、大部分は前記
のニッケル電解工程５に給液し（１５ａ）、一部は前記
の塩素浸出工程６へ給液する（１５ｂ）。更に、前記の
含銅塩化ニッケル溶液１６の一部（１６ｂ）は前記の脱
銅電解工程７で生じる脱銅電解廃液１７と混合され、含
銅塩化ニッケル溶液１６ｃとなり前記のセメンテーショ
ン工程３へ給液される。
ニッケル電解廃液１４は脱塩素処理８を施された液（以
降、アノライトと記載する）１５となり、大部分は前記
のニッケル電解工程５に給液し（１５ａ）、一部は前記
の塩素浸出工程６へ給液する（１５ｂ）。更に、前記の
含銅塩化ニッケル溶液１６の一部（１６ｂ）は前記の脱
銅電解工程７で生じる脱銅電解廃液１７と混合され、含
銅塩化ニッケル溶液１６ｃとなり前記のセメンテーショ
ン工程３へ給液される。
【０００４】塩素浸出工程６で浸出されて含銅ニッケル
溶液１６となった銅はセメンテーション工程３で脱銅さ
れるため再び残渣となる。系内の銅は塩素浸出工程６、
脱銅電解工程７及びセメンテーション工程３間を循環す
るが、このままでは銅は系外に出ることなく系内で蓄積
してしまうため、脱銅電解工程７で銅を系外に払い出す
ことがおこなわれる。
溶液１６となった銅はセメンテーション工程３で脱銅さ
れるため再び残渣となる。系内の銅は塩素浸出工程６、
脱銅電解工程７及びセメンテーション工程３間を循環す
るが、このままでは銅は系外に出ることなく系内で蓄積
してしまうため、脱銅電解工程７で銅を系外に払い出す
ことがおこなわれる。
【０００５】脱銅電解は、前記の含銅ニッケル溶液１６
ａを脱銅電解液１８として用い、陽極として不溶性電極
を用い、陰極としてＴｉ電極を用いて脱銅電解して銅粉
１０をカソードに電着させることによりおこなわれる。
カソードに電着した銅粉１０はカソードを振動すること
によりカソードから分離し、槽内に沈降させ、槽底部よ
り抜き取った液を濾過し、ニッケル電解液で洗浄し、更
に水で洗浄して銅粉１０を回収する。
ａを脱銅電解液１８として用い、陽極として不溶性電極
を用い、陰極としてＴｉ電極を用いて脱銅電解して銅粉
１０をカソードに電着させることによりおこなわれる。
カソードに電着した銅粉１０はカソードを振動すること
によりカソードから分離し、槽内に沈降させ、槽底部よ
り抜き取った液を濾過し、ニッケル電解液で洗浄し、更
に水で洗浄して銅粉１０を回収する。
【０００６】また、脱銅電解においては生産性及び製造
コストの点からカソード電流効率を高めることが要求さ
れる。図２は、脱銅電解での脱銅電解液１８中の銅濃度
を種々に変化させてカソード電流効率を特定した結果で
あるが、これによると脱銅電解液１８中の銅濃度とカソ
ード電流効率との間には負の相関があることが分かる。
即ち、脱銅電解液１８中の銅濃度は低いほどカソード電
流効率が高く好ましい。従って、操業上好ましいカソー
ド電流効率を約８０％以上とするには、脱銅電解液１８
中の銅濃度を４０ｇ／リットル以下に管理すれば良いこ
とが分かる。一方、脱銅電解液１８中の銅濃度が３０ｇ
／リットル未満となるとニッケルが電着してしまう虞れ
が生じる。なお、カソード電流効率は次式により定義さ
れる。
コストの点からカソード電流効率を高めることが要求さ
れる。図２は、脱銅電解での脱銅電解液１８中の銅濃度
を種々に変化させてカソード電流効率を特定した結果で
あるが、これによると脱銅電解液１８中の銅濃度とカソ
ード電流効率との間には負の相関があることが分かる。
即ち、脱銅電解液１８中の銅濃度は低いほどカソード電
流効率が高く好ましい。従って、操業上好ましいカソー
ド電流効率を約８０％以上とするには、脱銅電解液１８
中の銅濃度を４０ｇ／リットル以下に管理すれば良いこ
とが分かる。一方、脱銅電解液１８中の銅濃度が３０ｇ
／リットル未満となるとニッケルが電着してしまう虞れ
が生じる。なお、カソード電流効率は次式により定義さ
れる。
【０００７】カソード電流効率（％）＝〔算出銅粉×銅
品位（％）〕／〔Ｃｕ2+電気化学等量×通電時間×通電
電流〕
品位（％）〕／〔Ｃｕ2+電気化学等量×通電時間×通電
電流〕
【０００８】しかし、脱銅電解が十分機能しなくなると
系内に銅が蓄積し、塩素浸出工程６からの液（１６）中
の銅濃度が上昇してしまう。銅濃度が上昇すると脱銅電
解の制御が難しくなり、ますます脱銅電解の制御が難し
くなる悪循環に陥り易くなる。結果的には銅濃度は成り
行きにまかせており、通常、ニッケルマットを塩素で浸
出した含銅塩化ニッケル溶液１６ａの銅濃度は一定では
なく、約３０〜１００ｇ／リットルの範囲で変動する。
系内に銅が蓄積し、塩素浸出工程６からの液（１６）中
の銅濃度が上昇してしまう。銅濃度が上昇すると脱銅電
解の制御が難しくなり、ますます脱銅電解の制御が難し
くなる悪循環に陥り易くなる。結果的には銅濃度は成り
行きにまかせており、通常、ニッケルマットを塩素で浸
出した含銅塩化ニッケル溶液１６ａの銅濃度は一定では
なく、約３０〜１００ｇ／リットルの範囲で変動する。
【０００９】また、Ｃｕ2+濃度を減らす為に脱銅電解へ
の給液量を減らすことも考えられるが、これは電槽内の
銅イオン濃度が高くなり、給液及び廃液配管に塩化物結
晶やカルシウム結晶が析出して配管詰まりがたびたび生
じたり、不溶性電極の塩素捕集用隔膜濾布に塩化物結晶
やカルシウム結晶が析出して目詰まり等が生じる問題が
生じる。前記の給液配管の有効内径が小さくなると、給
液速度が下がり過ぎるため流量調整が困難となる。前記
の隔膜濾布が目詰まりすると隔膜電圧が上昇し、これに
より槽電圧が上昇し、その分発生するジュール熱が多く
なる。さらに冷却の役目を果たす給液の液循環量が限ら
れているため持ち去り熱も限られてしまい、槽内温度が
８０℃以上の高温に上昇することが起こる。槽内温度が
高くなり過ぎると有機樹脂製アノードボックス等の槽内
のアクセサリー類が変形してしまうことも生じる。
の給液量を減らすことも考えられるが、これは電槽内の
銅イオン濃度が高くなり、給液及び廃液配管に塩化物結
晶やカルシウム結晶が析出して配管詰まりがたびたび生
じたり、不溶性電極の塩素捕集用隔膜濾布に塩化物結晶
やカルシウム結晶が析出して目詰まり等が生じる問題が
生じる。前記の給液配管の有効内径が小さくなると、給
液速度が下がり過ぎるため流量調整が困難となる。前記
の隔膜濾布が目詰まりすると隔膜電圧が上昇し、これに
より槽電圧が上昇し、その分発生するジュール熱が多く
なる。さらに冷却の役目を果たす給液の液循環量が限ら
れているため持ち去り熱も限られてしまい、槽内温度が
８０℃以上の高温に上昇することが起こる。槽内温度が
高くなり過ぎると有機樹脂製アノードボックス等の槽内
のアクセサリー類が変形してしまうことも生じる。
【００１０】また、温水を添加して脱銅電解液１８中の
銅イオン濃度を下げることも考えられるが、新規の水を
追加する分、適当な工程に脱水の工程を新たに設けなけ
ればならない問題が生じる。さらにまたニッケル濃度や
塩素濃度を下げ過ぎてしまうこともあり、適正な脱銅電
解が行われない問題も生じる。
銅イオン濃度を下げることも考えられるが、新規の水を
追加する分、適当な工程に脱水の工程を新たに設けなけ
ればならない問題が生じる。さらにまたニッケル濃度や
塩素濃度を下げ過ぎてしまうこともあり、適正な脱銅電
解が行われない問題も生じる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規の水を
添加することなく、またニッケル及び塩素濃度を大幅に
下げることなしに脱銅電解液１８中の銅濃度を低下させ
脱銅電解液１８中の銅濃度を安定した状態で給液を行う
方法を提供することを課題とする。
添加することなく、またニッケル及び塩素濃度を大幅に
下げることなしに脱銅電解液１８中の銅濃度を低下させ
脱銅電解液１８中の銅濃度を安定した状態で給液を行う
方法を提供することを課題とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記課題は、（ａ）ニッ
ケルマット１及び元素硫黄２を含銅塩化ニッケル溶液１
６ｃに混合し精脱銅を行い含銅ニッケルスラリー１３及
び塩化ニッケル溶液１１を得る工程３、（ｂ）前記の塩
化ニッケル溶液１１中のコバルト、鉄等を除去して高純
度化しニッケル電解液１２を得る工程４、（ｃ）前記ニ
ッケル電解液１２を電解して電気ニッケル９を得る工程
５からなり、（ｄ）前記の含銅ニッケルスラリー１３を
塩素で浸出して含銅塩化ニッケル溶液１６を得る工程
６、（ｅ）前記の含銅ニッケル溶液１６の一部（１６
ａ）を脱銅電解液１８として用いて脱銅電解し銅粉１０
を得る工程７からなり、前記の（ｃ）工程５でのニッケ
ル電解廃液１４を脱塩素処理を施しアノライト１５と
し、前記の（ｃ）工程５及び前記の（ｄ）工程６へ給液
し（１５ａ，１５ｂ）、また、前記の含銅ニッケル溶液
１６及び前記の（ｅ）工程４での脱銅電解廃液１７を前
記の（ａ）工程３へ給液する工程からなるニッケル精錬
法において、前記のアノライト１５の一部を前記の
（ｅ）工程４に給液して（１５ｃ）、脱銅電解液１８の
銅イオン濃度を調節することにより解決される。
ケルマット１及び元素硫黄２を含銅塩化ニッケル溶液１
６ｃに混合し精脱銅を行い含銅ニッケルスラリー１３及
び塩化ニッケル溶液１１を得る工程３、（ｂ）前記の塩
化ニッケル溶液１１中のコバルト、鉄等を除去して高純
度化しニッケル電解液１２を得る工程４、（ｃ）前記ニ
ッケル電解液１２を電解して電気ニッケル９を得る工程
５からなり、（ｄ）前記の含銅ニッケルスラリー１３を
塩素で浸出して含銅塩化ニッケル溶液１６を得る工程
６、（ｅ）前記の含銅ニッケル溶液１６の一部（１６
ａ）を脱銅電解液１８として用いて脱銅電解し銅粉１０
を得る工程７からなり、前記の（ｃ）工程５でのニッケ
ル電解廃液１４を脱塩素処理を施しアノライト１５と
し、前記の（ｃ）工程５及び前記の（ｄ）工程６へ給液
し（１５ａ，１５ｂ）、また、前記の含銅ニッケル溶液
１６及び前記の（ｅ）工程４での脱銅電解廃液１７を前
記の（ａ）工程３へ給液する工程からなるニッケル精錬
法において、前記のアノライト１５の一部を前記の
（ｅ）工程４に給液して（１５ｃ）、脱銅電解液１８の
銅イオン濃度を調節することにより解決される。
【００１３】
【作用】本発明により、銅濃度が約０．０１ｇ／リット
ル以下と低いアノライト１５ｃを、銅濃度が約３０〜１
００ｇ／リットルと高い含銅ニッケル溶液１６ａに任意
量混合することにより、新規の水を添加することなく銅
濃度が３０〜４０ｇ／リットルに安定した脱銅電解液１
８を供給することができる。
ル以下と低いアノライト１５ｃを、銅濃度が約３０〜１
００ｇ／リットルと高い含銅ニッケル溶液１６ａに任意
量混合することにより、新規の水を添加することなく銅
濃度が３０〜４０ｇ／リットルに安定した脱銅電解液１
８を供給することができる。
【００１４】そして、脱銅電解での脱銅電解液１８中の
銅濃度を４０ｇ／リットル以下に管理することにより、
安定して約８０％以上の、液中の銅イオンを全てＣｕ2+
として換算したカソード電流効率を得られる。
銅濃度を４０ｇ／リットル以下に管理することにより、
安定して約８０％以上の、液中の銅イオンを全てＣｕ2+
として換算したカソード電流効率を得られる。
【００１５】脱銅電解液１８中の銅濃度は３０〜４０ｇ
／リットルに調節するのが好ましい。銅濃度が４０ｇ／
リットルを越えると、液中のＣｕ2+／Ｃｕ+比が大きく
なり過ぎ、脱銅電解中に生成した金属Ｃｕと脱銅電解液
１８中に多量に存在するＣｕ2+とが、Ｃｕ＋Ｃｕ2+→２
Ｃｕ+の反応を起こす。このため、イオンとなったＣｕ
は系外に払い出されないまま次工程へ行き、脱銅電解で
の電流効率が低下してしまう。一方、脱銅電解液１８中
の銅濃度が３０ｇ／リットル未満となるとニッケルが電
着してしまう虞れが生じる。
／リットルに調節するのが好ましい。銅濃度が４０ｇ／
リットルを越えると、液中のＣｕ2+／Ｃｕ+比が大きく
なり過ぎ、脱銅電解中に生成した金属Ｃｕと脱銅電解液
１８中に多量に存在するＣｕ2+とが、Ｃｕ＋Ｃｕ2+→２
Ｃｕ+の反応を起こす。このため、イオンとなったＣｕ
は系外に払い出されないまま次工程へ行き、脱銅電解で
の電流効率が低下してしまう。一方、脱銅電解液１８中
の銅濃度が３０ｇ／リットル未満となるとニッケルが電
着してしまう虞れが生じる。
【００１６】
【実施例】図３は本発明のニッケル精錬の工程説明図で
あり、図３中の太い矢線で示されるように脱塩素処理８
により生成されたアノライト１５を配管により脱銅電解
工程７に導くのが特徴で（１５ｃ）、他は図１に示され
る従来の工程と同様である。脱銅電解工程７では、前記
のアノライト１５ｃと含銅ニッケル溶液１６ａとを受け
入れ槽（図示せず）に導入し混合して脱銅電解液１８と
し脱銅電解槽（図示せず）に給液される。前記の脱銅電
解液１８に含まれる銅濃度が約３５ｇ／リットルとなる
ようアノライト１５ｃと含銅ニッケル溶液１６ａの混合
比率を適宜調整してニッケル精錬試験を行った。
あり、図３中の太い矢線で示されるように脱塩素処理８
により生成されたアノライト１５を配管により脱銅電解
工程７に導くのが特徴で（１５ｃ）、他は図１に示され
る従来の工程と同様である。脱銅電解工程７では、前記
のアノライト１５ｃと含銅ニッケル溶液１６ａとを受け
入れ槽（図示せず）に導入し混合して脱銅電解液１８と
し脱銅電解槽（図示せず）に給液される。前記の脱銅電
解液１８に含まれる銅濃度が約３５ｇ／リットルとなる
ようアノライト１５ｃと含銅ニッケル溶液１６ａの混合
比率を適宜調整してニッケル精錬試験を行った。
【００１７】なお前記の銅濃度は、脱銅電解液１８の初
期濃度をＣdｇ／リットル、脱銅電解液１８の給液速度
をＳdリットル／分、アノライト１５の濃度をＣaｇ／リ
ットル、脱銅電解液１８の目標濃度をＣoｇ／リットル
とすると、Ｃa≒０により、アノライト１５ｃの給液速
度Ｓaリットル／分を、 近似式Ｓa＝Ｓd×（Ｃd−Ｃo）／Ｃo により求めて、調節した。ただし、脱銅電解液１８の初
期濃度Ｃdが脱銅電解液１８の目標濃度Ｃoより低濃度の
時はアノライトの給液はおこなわなかった。
期濃度をＣdｇ／リットル、脱銅電解液１８の給液速度
をＳdリットル／分、アノライト１５の濃度をＣaｇ／リ
ットル、脱銅電解液１８の目標濃度をＣoｇ／リットル
とすると、Ｃa≒０により、アノライト１５ｃの給液速
度Ｓaリットル／分を、 近似式Ｓa＝Ｓd×（Ｃd−Ｃo）／Ｃo により求めて、調節した。ただし、脱銅電解液１８の初
期濃度Ｃdが脱銅電解液１８の目標濃度Ｃoより低濃度の
時はアノライトの給液はおこなわなかった。
【００１８】これにより、脱銅電解におけるカソード電
流効率は８５〜１１０％で平均カソード電流効率は９５
％となり、ばらつき無く安定して高い水準であった。従
来法によるカソード電流効率は６５〜１００％の範囲を
ばらついており、平均カソード電流効率は７６％であっ
た。
流効率は８５〜１１０％で平均カソード電流効率は９５
％となり、ばらつき無く安定して高い水準であった。従
来法によるカソード電流効率は６５〜１００％の範囲を
ばらついており、平均カソード電流効率は７６％であっ
た。
【００１９】アノライトの添加により脱銅電解液１８の
銅イオン濃度が下がると同時にカルシウム結晶の付着も
無くなり、配管詰まり及び隔膜濾布の目詰まりは激減し
た。また、アノライトの添加により給液流量が確保さ
れ、持ち去り熱が増え、槽電圧は低めで安定して推移
し、槽内温度は６０℃前後で安定した。これにより槽内
アクセサリーの寿命が大幅に伸びた。
銅イオン濃度が下がると同時にカルシウム結晶の付着も
無くなり、配管詰まり及び隔膜濾布の目詰まりは激減し
た。また、アノライトの添加により給液流量が確保さ
れ、持ち去り熱が増え、槽電圧は低めで安定して推移
し、槽内温度は６０℃前後で安定した。これにより槽内
アクセサリーの寿命が大幅に伸びた。
【００２０】
【発明の効果】以上詳細に説明した通り、本発明によ
り、新規の水を添加することなく、またニッケル及び塩
素濃度を大幅に下げることなしに脱銅電解液中の銅濃度
を低下させ脱銅電解液中の銅濃度を安定した状態で給液
を行う方法を提供することができた。
り、新規の水を添加することなく、またニッケル及び塩
素濃度を大幅に下げることなしに脱銅電解液中の銅濃度
を低下させ脱銅電解液中の銅濃度を安定した状態で給液
を行う方法を提供することができた。
【図１】図１は従来のニッケル精錬の工程説明図であ
る。
る。
【図２】図２は脱銅電解における脱銅電解液中の銅濃度
とカソード電流効率の関係を示す図である。
とカソード電流効率の関係を示す図である。
【図３】図３は本発明のニッケル精錬の工程説明図であ
る。
る。
１ ニッケルマット ２ 元素硫黄 ３ セメンテーション工程 ４ 浄液工程 ５ ニッケル電解工程 ６ 塩素浸出工程 ７ 脱銅電解工程 ８ 脱塩素処理工程 ９ 電気ニッケル １０ 銅粉 １１ 塩化ニッケル溶液 １２ ニッケル電解液 １３ 含銅ニッケルスラリー １４ ニッケル電解廃液 １５，１５ａ，１５ｂ，１５ｃ アノライト １６，１６ａ，１６ｂ，１６ｃ 含銅ニッケル溶液 １７ 脱銅電解廃液 １８ 脱銅電解液
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−125580（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−295467（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−145731（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25C 1/00 - 7/08
Claims (1)
- 【請求項１】 （ａ）ニッケルマット及び元素硫黄を含
銅塩化ニッケル溶液に混合し精脱銅を行い含銅ニッケル
スラリー及び塩化ニッケル溶液を得る工程、（ｂ）前記
の塩化ニッケル溶液中のコバルト、鉄等を除去して高純
度化しニッケル電解液を得る工程、（ｃ）前記ニッケル
電解液を電解して電気ニッケルを得る工程、（ｄ）前記
の含銅ニッケルスラリーを塩素で浸出して含銅塩化ニッ
ケル溶液を得る工程、（ｅ）前記の含銅ニッケル溶液を
脱銅電解液として用いて脱銅電解し銅粉を得る工程から
なり、前記の（ｃ）工程でのニッケル電解廃液を脱塩素
処理を施しアノライトとし、前記の（ｃ）工程及び前記
の（ｄ）工程へ給液し、また、前記の含銅ニッケル溶液
の一部及び前記の（ｅ）工程での脱銅電解廃液を前記の
（ａ）工程へ給液する工程からなるニッケル精錬法にお
いて、前記のアノライトの一部を前記の（ｅ）工程に給
液することを特徴とする脱銅電解液の銅イオン濃度の調
節方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09083594A JP3243929B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 脱銅電解液の銅イオン濃度の調節方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09083594A JP3243929B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 脱銅電解液の銅イオン濃度の調節方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07300691A JPH07300691A (ja) | 1995-11-14 |
| JP3243929B2 true JP3243929B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=14009651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09083594A Expired - Lifetime JP3243929B2 (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 脱銅電解液の銅イオン濃度の調節方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3243929B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| CN103255435A (zh) * | 2012-02-15 | 2013-08-21 | 重庆重冶铜业有限公司 | 一种对阴极铜生产中产生的电解液的回收利用方法 |
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-
1994
- 1994-04-28 JP JP09083594A patent/JP3243929B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| JPH07300691A (ja) | 1995-11-14 |
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