JP3241399B2 - マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物 - Google Patents
マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物Info
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Description
線性樹脂組成物に関する。更に詳しくは、微小な光学レ
ンズ体およびレンズ体が規則的に配列してなるレンズア
レイ体などに使用し得るマイクロレンズ用感放射線性樹
脂組成物に関する。
るマイクロレンズ、あるいはそれらのマイクロレンズを
規則的に配列して構成したマイクロレンズアレイは、フ
ァクシミリや電子複写機等の結像光学系に、あるいは光
ファイバコネクタの光学系等に応用されている。
イクロレンズアレイ)で実用されているものとして、イ
オン交換法により作製される分布屈折率型平板マイクロ
レンズおよび感光性ガラスを用いて作製される凸型マイ
クロレンズが挙げられる。
ンズは、いずれもその製造方法が複雑であり、従って製
造コストが高く、また、製造方法に由来する制約からレ
ンズの製造段階での他の部分と一体化させることができ
ない等の問題がある。さらにイオン交換法による分布屈
折率型平板マイクロレンズは、レンズ形成後に表面研磨
を行なう必要があり、また感光性ガラスを用いた凸型マ
イクロレンズは決められた形状にしか成形できないとい
う問題点を有している。そこで近年、感光性樹脂組成物
を用いてレジストパターンを形成した後、加熱処理する
ことによってレジストパターンをメルトフローさせ、マ
イクロレンズを形成する手法が試みられている。
イクロレンズの形状はレジストパターンの加熱処理の際
の条件に依存しており、任意の形状のマイクロレンズの
形成が困難であり、また形成後のマイクロレンズの耐熱
変形性、透明性等にも解決すべき問題が残されている。
ンズ用感放射線性樹脂組成物を提供することにある。本
発明の他の目的は、任意の形状のマイクロレンズを作製
する際の加熱処理の条件依存性が小さく、しかも耐熱変
形性および透明性に優れたレンズを与えるマイクロレン
ズ用樹脂組成物を提供することにある。
の説明から明らかとなろう。
の上記目的および利点は、(A)アルカリ可溶性樹脂で
あるα,β−不飽和カルボン酸の共重合体、(B)感放
射線性酸生成化合物(以下、「酸生成化合物」という)
および(C)エポキシ基を分子内に少くとも2個有する
化合物(以下、「エポキシ化合物」という)、を含有す
ることを特徴とするマイクロレンズ用感放射線性樹脂組
成物によって達成される。
る。 (A)アルカリ可溶性樹脂 本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂は、α,β−不
飽和カルボン酸の共重合体(以下、「共重合体I」とい
う)である。
他のラジカル重合性化合物とを溶媒中でラジカル重合す
ることにより得ることができる。このα,β−不飽和カ
ルボン酸としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、
クロトン酸等のモノカルボン酸;マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカル
ボン酸等を挙げることができる。
例えば酸無水物、例えば無水マレイン酸、無水イタコン
酸等;ジカルボン酸モノエステル、例えばマレイン酸モ
ノエチル、フマル酸モノエチル、イタコン酸モノエチル
等;共役ジオレフィン、例えば1,3−ブタジエン、イ
ソプレン、クロロプレン、ジメチル−1,3−ブタジエ
ン等;モノオレフィン系不飽和化合物、例えばメチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタ
クリレート、sec−ブチルメタクリレート、t−ブチ
ルメタクリレートの如きメタクリル酸アルキルエステ
ル、メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートの
如きアクリル酸アルキルエステル、シクロヘキシルメタ
クリレート、2−メチルシクロヘキシルメタクリレート
の如きメタクリル酸環状アルキルエステル、シクロヘキ
シルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルアクリレ
ートの如きアクリル酸環状アルキルエステル、フェニル
メタクリレート、ベンジルメタクリレートの如きメタク
リル酸アリールエステル、フェニルアクリレート、ベン
ジルアクリレートの如きアクリル酸アリールエステル、
スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、
m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキ
シスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタク
リルアミド、酢酸ビニル等を用いることができる。
共重合割合は、好ましくは5〜40重量%、特に好まし
くは15〜30重量%である。5重量%未満であると、
得られる共重合体がアルカリ水溶液に溶解しにくくなる
ので現像残りを生じ易く十分なるレジストパターンを作
り難い。逆に40重量%を超えると、得られる共重合体
のアルカリ水溶液に体する溶解性が大きくなりすぎて未
露光部の溶解、即ち膜現像を防ぐことが難しくなる。ま
た、他のラジカル重合性化合物としては、得られる共重
合体の性質等から共役ジオレフィンまたはモノオレフィ
ン系不飽和化合物が好ましい。
有の柔軟性を共重合体に与えることができるので、共重
合体に柔軟性が生じ、共重合体の割れがなくなり、製品
の歩留りを著しく向上させることができる。また、基板
に対する共重合体の密着力が高まる。さらに、共役ジオ
レフィンの共重合量を増やすと得られた共重合体の溶融
温度は低温側に移行するようになる。
重合体中に含有させることによって、共重合体の機械的
特性を適度にコントロールし、前述したアルカリ水溶液
に可溶な成分との関係によりアルカリ水溶液に体する溶
解性を微妙に調整することができる。
例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、
n−ブチルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレ
ート、t−ブチルメタクリレート等のメタクリル酸アル
キルエステル;メチルアクリレート、イソプロピルアク
リレート等のアクリル酸アルキルエステル;シクロヘキ
シルメタクリレート、2−メチルシクロヘキシルメタク
リレート等のメタクリル酸環状アルキルエステル;シク
ロヘキシルアクリレート、2−メチルシクロヘキシルア
クリレート等のアクリル酸環状アルキルエステル;フェ
ニルメタクリレート、ベンジルメタクリレート等のメタ
クリル酸アリールエステル;フェニルアクリレート、ベ
ンジルアクリレート等のアクリル酸アリールエステル;
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジ
エチル等のジカルボン酸のジエステル類;2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート等のヒドロキシアルキルエステル類;スチレ
ン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メ
チルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルトルエン、
p−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、酢酸ビニル等を用いることがで
きる。
合して使用することができる。モノオレフィン系不飽和
化合物が諸特性に与える影響を考慮するとその好ましい
共重合量は、25〜90重量%、特に好ましくは30〜
80重量%である。モノオレフィン系不飽和化合物の含
有量が25重量%未満では、樹脂中の他の成分、即ち共
役ジオレフィン系化合物やアルカリ水溶液に可溶な成分
であるα,β−不飽和カルボン酸の含量が増加するの
で、樹脂の機械的物性やアルカリ現像性のコントロール
が難しくなり、他方90重量%を超えると、相対的にア
ルカリ水溶液に対する樹脂の溶解度が減ずるようになる
ので好ましくない。
としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコー
ル類;テトラヒドロフラン等のエーテル類;エチレング
リコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル
類;メチルセロソルブアセテート等のセロソルブエステ
ル類;その他に芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル
類等が挙げられる。
常のラジカル重合開始剤が使用でき、例えば2,2′−
アゾビスイソブチロニトリル、2,2′−アゾビス−
(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2′−アゾビ
ス−(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリ
ル)等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロ
イルペルオキシド、t−ブチルペルオキシピバレート、
1,1−ビス−(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサ
ン等の有機過酸化物および過酸化水素等を挙げることが
できる。過酸化物をラジカル重合開始剤に使用する場
合、還元剤を組み合せてレドックス型の開始剤としても
よい。
発明の組成物の溶液を均一に塗布することが可能である
限り特に限定されるものではない。なお、前述のアルカ
リ可溶性樹脂である共重合体Iは、マイクロレンズを作
製する際の加熱処理時の重要性から特に好ましい。
する化合物であり、例えば1,2−ベンゾキノンジアジ
ドスルホン酸エステル、1,2−ナフトキノンジアジド
スルホン酸エステル、1,2−ベンゾキノンジアジドス
ルホン酸アミド、1,2−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸アミド等を挙げることができる。具体的にはJ.K
osar著“Light−Sensitive Sys
tems”339〜352、(1965)、John
Wiley & Sons社(New York)や
W.S.De Forest著“Photoresis
t”50、(1975)、Mc Graw−Hill、
Inc.(New York)に記載されている1,2
−キノンジアジド化合物を挙げることができる。
0〜800nmの可視光線領域の吸収ができるだけ小さ
くなる化合物、例えば2,3,4−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、2,3,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフ
ェノン、3′−メトキシ−2,3,4,4′−テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、2,2′,5,5′−テトラメチ
ル−2″,4,4′−トリヒドロキシトリフェニルメタ
ン、4,4′−[1−[4−(1−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−1−メチルエチル)フェニル]エチリデン]
ジフェノールおよび2,4,4−トリメチル−2′,4′,
7−トリヒドロキシ−2−フェニルフラバンの1,2−
ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,
2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、
1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステ
ル等を好ましいものとして挙げることができる。
リ可溶性樹脂100重量部に対して5〜100重量部で
あり、特に好ましくは10〜50重量部である。5重量
部未満であると、放射線を吸収して生成するカルボン酸
の量が少なくなるので、放射線照射前後のアルカリ水溶
液に対する溶解度に差をつけることができず、パターニ
ングが困難となり、さらに後述するエポキシ化合物との
反応においても、関与するカルボン酸の量が少ないの
で、形成したマイクロレンズの耐熱変形性に不具合が生
じる恐れがある。また、100重量部を超えると、短時
間の放射線照射では添加した酸生成化合物の大半が未だ
そのままの形で残存するため、アルカリ水溶液への不溶
化効果が高過ぎて現像することが困難となる。
ン酸とマイクロレンズの加熱処理時に反応する化合物で
あり、カルボン酸との反応により熱硬化し、マイクロレ
ンズに耐熱性を付与するものである。従ってエポキシ化
合物は分子内に2個以上のエポキシ基を含有する必要が
あり、その例としては下記のものを例示できる。ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂市販品としては、例えばエピ
コート1001、同1002、同1003、同100
4、同1007、同1009、同1010(油化シェル
エポキシ(株)製);ビスフェノールF型エポキシ樹脂
市販品としては、例えばエピコート807(油化シェル
エポキシ(株)製)ビスフェノールAD型エポキシ樹
脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂市販品として
は、例えばエピコート152、同154(油化シェルエ
ポキシ(株)製)、EPPN−201、同202(日本
化薬(株)製);クレゾールノボラック型エポキシ樹脂
市販品としては、例えばEOCN−102S、同103
S、同104S、同1020、同1025、同1027
(日本化薬(株)製);エピコート180S75(油化
シェルエポキシ(株)製);環状脂肪族エポキシ樹脂市
販品としては、例えばCY−175、同177、同17
9(CIBA−GEIGY社製)、ERL−4234、
同4299、同4221、同4206(U.C.C.社
製);グリシジルエステル系エポキシ樹脂市販品として
は、例えばショーダイン508(昭和電工(株)製)、
アラルダイトCY−182、同192、同184(CI
BA−GEIGY社製)、エピクロン200、同400
(大日本インキ(株)製)、エピコート871、同87
2(油化シェルエポキシ(株)製)、ED−5661、
同5662(セラニーズコーティング(株)製);
しては、例えばテトラグリシジルジアミノジフェニルメ
タン、トリグリシジル−パラ−アミノフェノール、トリ
グリシジル−メタ−アミノフェノール、ジグリシジルア
ニリン、ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルメ
タキシリレンジアミン、ジグリシジルトリブロムアニリ
ン、テトラグリシジルビスアミノメチルシクロヘキサ
ン;複素環式エポキシ樹脂市販品としては、例えばアラ
ルダイトPT810(CIBA−GEIGY社製)、エ
ピコートRXE−15(油化シェルエポキシ(株)
製)、EPITEC(日産化学(株)製)等を挙げるこ
とができる。
は高分子量体であるが、本発明に用いるエポキシ化合物
としては、分子量によって制限されるものではなく、例
えばビスフェノールAあるいはビスフェノールFのジグ
リシジルエーテルの如き低分子量体でも使用することが
できる。
ら、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クルゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、
グリシジルエステル系エポキシ樹脂が好ましい。これら
エポキシ化合物の使用量は酸生成化合物(B)に対し
て、好ましくは1〜100重量部より好ましくは2〜2
0重量部である。
を照射することにより生成するカルボン酸との反応が十
分に進行し難く、また形成したマイクロレンズの耐熱変
形性が十分なものとなり難くなる。また100重量部を
超えると、組成物全体としての融点が低下してしまい、
マイクロレンズを作製する際に行う加熱処理の温度範囲
を広くすることができ難くなる。
もできる。界面活性剤としては、例えば、BM−100
0、BM−1100(BM Chemie社製)、メガ
ファックF142D、同F172、同F173、同F1
83(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラードF
C−135、同FC−170C、同FC−430、同F
C−431(住友スリーエム(株)製)、サーフロンS
−112、同S−113、同S−131、同S−14
1、同S−145(旭硝子(株)製)等の名称で市販さ
れているフッ素系界面活性剤を使用することができる。
これらの界面活性剤の使用量は、アルカリ可溶樹脂
(A)100重量部あたり好ましくは0.005〜5重
量部、より好ましくは0.001〜2重量部の範囲であ
る。
組成物は、上述した各成分を均一に混合することによっ
て容易に調製することができる。また、適当な溶媒に溶
解させて溶液の形で使用に供される。用いる溶媒として
は、アルカリ可溶性樹脂、酸生成化合物およびエポキシ
化合物等の成分を均一に溶解させることができ、かつ各
成分と反応しないものが用いられる。かかる溶媒として
は、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類;
テトラヒドロフラン等のエーテル類;エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル等のグリコールエーテル類;メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレン
グリコールアルキルエーテルアセテート類;ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル等のジエチレングリコール類;プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
プロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコール
アルキルエーテルアセテート類;トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン
等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2
−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢
酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3
−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メ
チル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシ
プロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類を用いるこ
とができる。
−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、
N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベ
ンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニ
ルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1
−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコー
ル、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチ
ル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エ
チレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテー
ト等の高沸点溶剤を添加することもできる。
形成のし易さからいって、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル等のグリコールエーテル類;エチルセロソル
ブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテル
アセテート類;2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の
エステル類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル
等のジエチレングリコール類が好適である。
えばアルカリ可溶性樹脂の溶液、酸生成化合物の溶液お
よびエポキシ化合物の溶液との3種類の溶液を調製して
おき、使用直前にこれら溶液を所定の割合で混合するこ
ともできる。以上のようにして調製した組成物は、例え
ば孔径0.2μmのミリポアフィルター等を用いて濾過
した後、使用に供する。
いては、上述した組成物の溶液を、所定の基体表面に塗
布し、加熱により溶媒を除去することによって所望の塗
膜を形成することができる。基体表面への塗布方法は特
に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回
転塗布法等の各種の方法を採用することができる。
は、各成分の具体的種類、配合割合等によっても異なる
が、通常は70〜90℃で5〜15分間程度である。次
に、得られた塗膜に所定のパターンのマスクを介して、
例えば紫外線を照射した後、アルカリ水溶液を用いて現
像し、レジストパターンを形成させる。本発明における
現像液としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸
ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、n−プロピ
ルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミン、
トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエ
タノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチル
アンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウム
ヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザ
ビシクロ(5,4,0)−7−ウンデセン、1,5−ジア
ザビシクロ(4,3,0)−5−ノナン等のアルカリ類の
水溶液を使用することができる。また上記アルカリ類の
水溶液にメタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒や
界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用
することもできる。
あり、また現像の手法は液盛り法、ディッピング法等の
いずれでもよい。現像後は、流水洗浄を30〜90秒間
行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、
レジストパターンを形成させることができる。その後、
例えば紫外線を照射することによってレジストパターン
中に残存している酸生成化合物をカルボン酸化合物に変
化させる。そして、ホットプレート、オーブン等の加熱
装置を用いて、所定の温度例えば100〜170℃で、
所定の時間例えばホットプレート上なら2〜10分間、
オーブン中ならば15〜45分間、加熱処理をすること
によってマイクロレンズを得ることができる。
説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら制約
されるものではない。また、特にことわりの無い限り、
%は重量%を示す。
ブチロニトリル9.0gを溶解したジエチレングリコー
ルジメチルエーテル溶液459.0gを仕込んだ。引き
続きスチレン37.5g、メチルメタクリレート75.0
およびメタクリル酸37.5gを仕込んだ後、ゆるやか
に攪拌を始めた。80℃で重合を開始し、この温度を8
時間保持した後、90℃で1時間加熱させて重合を終結
させた。
反応物を凝固させた。この凝固物を水洗後、テトラヒド
ロフラン200gに再溶解し、多量の水で再度、凝固さ
せた。この再溶解−凝固操作を計3回行った後、得られ
た凝固物を60℃で48時間真空乾燥し、目的とする共
重合体を得た。その後固形分濃度が25重量%になるよ
うにジエチレングリコールを用いて共重合体溶液とし
た。
スイソブチロニトリル4.5gを溶解したジエチレング
リコールジメチルエーテル溶液229.5gを仕込ん
だ。引き続きスチレン13.05g、メチルメタクリレ
ート27.08g、メタクリル酸13.50gを仕込んだ
後、1,3−ブタジエンを8.03g仕込んだ。70℃で
重合を開始し、この温度を8時間保持した後、90℃で
1時間加熱させて重合を終結させた。その後、合成例1
と同様にして共重合体溶液を得た。
ブチロニトリル4.5g、無水マレイン酸45.0gを溶
解したジエチレングリコールジメチルエーテル溶液50
8.5gを仕込んだ。引き続きα−メチルスチレン13
5.0gを仕込みゆるやかに攪拌を始めた。70℃で重
合を開始し、この温度を5時間保持した後、90℃で1
時間加熱させて重合を終結させた。その後、合成例1と
同様にして共重合体溶液を得た。
5g)をジエチレングリコールジメチルエーテル13.
64gで希釈したのち、4,4′−[1−[4−(1−
(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェ
ニル]エチリデン]ジフェノールの1,2−ナフトキノ
ンジアジド−5−スルホン酸エステル(平均エステル化
率66.7モル%)10.0gおよびo−クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂EOCN−1020(日本化薬
(株)社製)1.25gを溶解し、孔径0.22μmのミ
リポアフィルターで濾過して感放射線液(1)を調製し
た。
るウェハー上にスピンナーで上記感放射線液(1)を塗
布したのち、80℃で10分間オーブン中でプレべーク
して膜厚2.0μmのレジスト膜を形成した。
クをウェハーに密着し、365nmでの光強度が10m
J/cm2である紫外線を30秒間照射した。次いでテ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド0.12%水溶液
で25℃で2分間現像した後、超純水で1分間リンスし
たところ線巾0.8μmのスペースを解像できた。その
後、同じ露光装置を用いて50秒間全面露光し、クリー
ンオーブン中で表1に示すレンズ形成可能温度で30分
間加熱したところ、巾5.0μmのマイクロレンズに形
成することができた。このレンズを用いて耐熱変形性を
評価し、結果を表1に示した(以下、実施例2〜10に
おいて同じ)。
た。 耐熱変形性:得られたマイクロレンズを170℃で3時
間の加熱後、スペースの線巾が加熱前の線巾の80%を
越えた場合を○、50〜80%の場合を△、50%未満
の場合を×とした。
シリコン酸化膜を有するウェハーの代わりに、透明基板
(コーニング7059:コーニング社製)を用いた以外
は上記(2)と同様にレジスト膜を形成した。次いで、
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処
理した後、超純水で1分間リンスした。さらに50秒間
全面露光し、線巾5.0μmのパターンをレンズに形成
することができる温度でクリーンオーブンを用いて加熱
し、さらに200℃で1時間加熱した。得られたマイク
ロレンズを有する透明基板を分光光度計(150−20
型ダブルビーム;(株)日立製作所製)を用いて400
〜800nmの透過率を測定し、最低透過率が95%を
越えた場合を○、90〜95%の場合を△、90%未満
の場合を×とした。結果を表1に示した(以下、実施例
2〜10において同じ)。
得られた共重合体溶液を使用して、実施例1に準じて調
製、評価したところテトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド0.20%水溶液で線巾1.0μmのスペースを解像
できた。また、130〜140℃の温度での加熱により
同様なマイクロレンズに形成することができた。
得られた共重合体溶液を使用して、実施例1に準じて調
製・評価したところ、紫外線を10秒間照射した後、テ
トラメチルアンモニウムヒドロキシド2.0%水溶液で
線巾0.8μmのスペースを解像できた。また、150
〜160℃の温度での加熱により同様なマイクロレンズ
に形成することができた。
−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニ
ル]エチリデン]ジフェノールの1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸エステルの代わりに、m−ク
レゾ−ル/p−クレゾール=6/4(重量比)を用いて
得られた平均核体数3.9のノボラック樹脂と1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル(平均エ
ステル化率58.0モル%)10.0gを用いて実施例1
に準じて調製・評価したところ、30秒間の紫外線照射
後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.16%
水溶液で線巾1.0μmのスペースを解像することがで
きた。また、150〜170℃の温度での加熱により同
様なマイクロレンズに形成することができた。
−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニ
ル]エチリデン]ジフェノールの1,2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホン酸エステルの代わりに、2,3,
4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの1,2−ナ
フトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル(平均エ
ステル化率75モル%)10.0gを用いて実施例1に
準じて調製・評価したところ、30秒間の紫外線照射
後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.14%
水溶液で線巾0.8μmのスペースを解像することがで
きた。また、140〜150℃の温度での加熱により同
様なマイクロレンズに形成することができた。
代わりにビスフェノールA型エポキシ樹脂エピコート8
28(油化シェルエポキシ(株)製)1.25gを用い
て実施例1に準じて調製・評価したところ、30秒間の
紫外線照射後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
0.18%水溶液で線巾1.2μmのスペースを解像する
ことができた。また、140〜160℃の温度での加熱
により同様なマイクロレンズに形成することができた。
代わりにビスフェノールF型エポキシ樹脂エピコート8
15(油化シェルエポキシ(株)製)1.25gを用い
て実施例1に準じて調製・評価したところ、30秒間の
紫外線照射後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド
0.14%水溶液で線巾1.0μmのスペースを解像する
ことができた。また、130〜140℃の温度での加熱
により同様なマイクロレンズに形成することができた。
代わりに環状脂肪族エポキシ樹脂CY−179(CIB
A−GEIGY(株)製)1.25gを用いて実施例1
に準じて調製・評価したところ、30秒間の紫外線照射
後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド0.20%
水溶液で線巾0.8μmのスペースを解像することがで
きた。また、150〜160℃の温度での加熱により同
様なマイクロレンズに形成することができた。
代わりにアラルダイトCY184(CIBA−GEIG
Y(株)製)1.25gを用いて実施例1に準じて調製
・評価したところ、30秒間の紫外線照射後、テトラメ
チルアンモニウムヒドロキシド0.16%水溶液で線巾
1.0μmのスペースを解像することができた。また、
120〜140℃の温度での加熱により同様なマイクロ
レンズに形成することができた。
物を加えないで、同様に合成・調製・評価を行った。そ
の結果を表2にまとめた。
レンズを作製でき、耐熱変形性および透明性に優れたレ
ンズを与えることのできるマイクロレンズ用樹脂組成物
が提供される。
Claims (1)
- 【請求項1】 (A)アルカリ可溶性樹脂であるα,β
−不飽和カルボン酸の共重合体、(B)感放射線性酸生
成化合物および(C)エポキシ基を分子内に少くとも2
個有する化合物、を含有することを特徴とするマイクロ
レンズ用感放射線性樹脂組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15372991A JP3241399B2 (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物 |
US07/888,635 US5362597A (en) | 1991-05-30 | 1992-05-27 | Radiation-sensitive resin composition comprising an epoxy-containing alkali-soluble resin and a naphthoquinone diazide sulfonic acid ester |
EP92304963A EP0520626B1 (en) | 1991-05-30 | 1992-05-29 | Radiation-sensitive resin composition |
KR1019920009256A KR100232372B1 (ko) | 1991-05-30 | 1992-05-29 | 감방사선성 수지 조성물 |
DE69228574T DE69228574T2 (de) | 1991-05-30 | 1992-05-29 | Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15372991A JP3241399B2 (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04352101A JPH04352101A (ja) | 1992-12-07 |
JP3241399B2 true JP3241399B2 (ja) | 2001-12-25 |
Family
ID=15568824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15372991A Expired - Lifetime JP3241399B2 (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | マイクロレンズ用感放射線性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3241399B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW594395B (en) * | 2000-09-29 | 2004-06-21 | Nippon Zeon Co | Photoresist composition for insulating film, insulating film for organic electroluminescent element, and process for producing the same |
WO2003029898A1 (fr) * | 2001-09-27 | 2003-04-10 | Clariant International Ltd. | Composition de resine photosensible |
JP4853155B2 (ja) * | 2005-08-19 | 2012-01-11 | Jsr株式会社 | ポジ型感光性絶縁樹脂組成物、その硬化物および回路基板 |
WO2008069159A1 (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Jsr Corporation | マイクロレンズの製造方法 |
KR20100017758A (ko) * | 2007-05-17 | 2010-02-16 | 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 | 감광성 수지 및 마이크로 렌즈의 제조 방법 |
JP5774054B2 (ja) * | 2012-05-31 | 2015-09-02 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な高分子およびこれを含む着色組成物 |
JP6384678B2 (ja) | 2013-10-21 | 2018-09-05 | 日産化学株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
JP6512390B2 (ja) * | 2014-03-19 | 2019-05-15 | ナガセケムテックス株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
JP6744577B2 (ja) | 2014-12-04 | 2020-08-19 | 日産化学株式会社 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
-
1991
- 1991-05-30 JP JP15372991A patent/JP3241399B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04352101A (ja) | 1992-12-07 |
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