JP3233907U - 光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡 - Google Patents

光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡 Download PDF

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Abstract

【課題】励起スポットと損失光スポットを素早く高精度で集束させ得る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡を提供する。【解決手段】光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡であって、STEDイメージングユニット100と、集束テストユニット200と、を備え、集束テストユニットにより励起光と損失光を精度よく集束させ、2種の光ビームがSTEDイメージングユニットを経て形成したイメージングスポットを精度よく重なり合せ、それにより、良好な超解像度イメージングの効果を奏する。【選択図】図1

Description

本考案は、顕微光学イメージングの技術分野に関し、特に、誘導放出抑制超解像度顕微鏡に関する。
超解像度光学顕微鏡法では、イメージングの解像度が光回折の限界を超え、そのイメージング解像度が従来の光学顕微鏡よりもはるかに高く、近年の研究の焦点となっており、さまざまなタイプのものがみられる。誘導放出抑制(Stimulated Emission Depletion、STED)顕微鏡法は、最初に提案された直接光回折の限界を克服する遠視野光学顕微鏡法であり、レーザー共焦点顕微イメージングに基づくものであり、他のタイプの超解像度顕微鏡法に比べて、イメージングの速度が高く、生細胞をイメージングすることができ、生物医学の研究においてより精細な構造を検出できる。
STEDイメージングでは、励起光と損失光を精度よく集束させ、2種の光ビームを対物レンズで集束させてなるスポットを精度よく重なり合わせる必要があり、周辺環境の振動、温度の変化や機械部品の応力放出などの要因のため、励起光と損失光とのスポットの位置がドリフトしやすく、2つのスポットが精度よく重ならなくなり、その結果、超解像度イメージングの効果が低下するか、又は完全に消える。
これを鑑み、従来技術に存在している欠陥に対して、励起スポットと損失光スポットを素早く高精度で集束させ得る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡を提供することが求められる。
上記の目的を達成させるために、本考案は下記の技術案を採用する。
光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡であって、STEDイメージングユニットと、集束テストユニットと、を備え、前記STEDイメージングユニットは、第1レーザー、第1反射鏡、第2レーザー、位相板、第1ダイクロイックミラー、λ/4スライド、第2反射鏡、XYスキャンガルバノメータ、走査レンズ、チューブレンズ、第2ダイクロイックミラー、対物レンズ、サンプルを置くための3次元ナノ変位プラットフォーム、フィルタ、第1レンズ、ピンホール、及び点検出器を有し、前記第1レーザーから放射された光ビームは励起光となり、前記励起光は前記第1反射鏡によって反射されて前記第1ダイクロイックミラーに入り、前記第1ダイクロイックミラーを透過し、前記第2レーザーから放射された光ビームは損失光となり、前記損失光は前記位相板を透過して前記第1ダイクロイックミラーに射入し、前記第1ダイクロイックミラーによって反射され、前記第1ダイクロイックミラーを透過した励起光ビーム及び前記第1ダイクロイックミラーによって反射された損失光ビームは集束光ビームを形成し、前記集束テストユニットは、前記集束光ビームを受け取り、前記励起光ビームと損失光ビームを精度よく重なり合わせるように前記集束光ビームを調整するために使用され、精度よく重なり合った光ビームは、前記λ/4スライドに入り、前記λ/4スライドによって偏光調整され、前記第2反射鏡によって反射された後、前記XYスキャンガルバノメータに入り、前記XYスキャンガルバノメータから射出された光ビームは、順次前記走査レンズ及び前記チューブレンズに入り、前記チューブレンズから射出された光ビームは、前記第2ダイクロイックミラーを透過して前記対物レンズに入り、前記対物レンズによって前記サンプルに集束され、サンプルから放射された蛍光は前記対物レンズによって収集された後、前記対物レンズ外まで後方向に伝送され、さらに前記第2ダイクロイックミラーによって反射されて、前記フィルタに入り、前記フィルタは射入レーザー光を抑制し、蛍光を透過し、透過された蛍光は前記第1レンズに入り、前記第1レンズによって焦点位置に設けられた前記ピンホールに集束され、前記ピンホールから射出された光ビームは前記点検出器に入り、それによって、STEDイメージング蛍光信号の検出を実現する。
いくつかの好適な実施例では、前記第1反射鏡及び前記第1ダイクロイックミラーは両方ともに、角度をXY軸の周りに調整可能であり、前記第2反射鏡は、所在する光路の外に移動可能である。
いくつかの好適な実施例では、前記集束テストユニットは、分光プリズム、第2レンズ、第1平面検出器及び第2平面検出器を備え、
前記集束テストユニットは、前記集束光ビームを調整する際に、前記第2反射鏡を所在する光路の外に移動し、前記集束光ビームは、前記λ/4スライドを通過して、前記分光プリズムに射入し、前記分光プリズムは、射入した集束光ビームを反射・透過し、射出した反射光は前記第1平面検出器に射入し、前記第1平面検出器に近点スポットを形成し、射出した透過光は前記第2レンズによって前記第2平面検出器に集束され、前記第2平面検出器に遠点スポットを形成し、前記第1ダイクロイックミラーの角度を一定に保ちながら、前記損失光が前記第1平面検出器に形成された近点スポットの中心位置Ps1をマークし、前記中心位置Ps1を基準位置として、x軸又はy軸方向の周りに第1反射鏡の角度を調整することで、前記励起光が前記第1平面検出器に形成された近点スポットの位置Pj1を変えながら、Pj1がPs1に徐々に移動していくようにし、前記第1反射鏡の角度を一定に保ちながら、前記励起光が前記第2平面検出器に形成された遠点スポットの中心位置Pj2をマークし、前記中心位置Pj2を基準位置として、x軸又はy軸方向の周りに前記第1ダイクロイックミラーの角度を調整することで、前記損失光が前記第2平面検出器に形成された遠点スポットの位置Ps2を変えながら、Ps2がPj2に徐々に移動していくようにし、前記第1反射鏡と前記第1ダイクロイックミラーとの角度を交互に調整し、前記第1平面検出器及び第2平面検出器での励起光のスポット位置Pj1、Pj2を対応する損失光のスポット位置Ps1、Ps2と重なり合せ、それにより、前記励起光ビームと損失光ビームとを精度よく重なり合せる。
いくつかの好適な実施例では、前記位相板上の位相分布は0〜2πのらせん分布である。
いくつかの好適な実施例では、前記点検出器はアバランシェダイオードである。
本考案では、上記技術案による利点は以下のとおりである。
本考案に係る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡は、STEDイメージングユニットと、集束テストユニットと、を備え、集束テストユニットにより励起光と損失光を精度よく集束させ、2種の光ビームがSTEDイメージングユニットを経て形成したイメージングスポットを精度よく重なり合せ、それにより、良好な超解像度イメージングの効果を奏する
本考案の実施例又は従来技術の技術案をより明確に説明するために、以下、実施例又は従来技術の説明に必要な図面を簡単に説明するが、無論、以下の説明における図面は本考案の実施例の一部に過ぎず、当業者であれば、創造的な努力を必要とせずに、これらの図面に基づいて他の図面を得ることもできる。
本考案の実施例に係る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡の構造模式図である。 本考案に係る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡の対物レンズの焦点での励起スポットの光強度分布である。 本考案に係る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡の対物レンズの焦点での損失光スポットの光強度分布である。
以下、本考案の実施例の図面を参照しながら、本考案の実施例の技術案を明瞭かつ完全に説明するが、無論、説明する実施例は、本考案の実施例の一部に過ぎず、すべての実施例ではない。本考案の実施例に基づいて、当業者が創造的な努力を必要とせず得たすべてのほかの実施例は、本考案の保護範囲に属する。
図1は、本考案の実施例に係る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡の構造模式図であり、STEDイメージングユニット100と、集束テストユニット200と、を備える。
前記STEDイメージングユニット100は、第1レーザー10、第1反射鏡11、第2レーザー12、位相板13、第1ダイクロイックミラー14、λ/4スライド15、第2反射鏡16、XYスキャンガルバノメータ17、走査レンズ18、チューブレンズ19、第2ダイクロイックミラー110、対物レンズ120、サンプルを置くための3次元ナノ変位プラットフォーム130、フィルタ140、第1レンズ150、ピンホール160、及び点検出器170を備える。
本考案の実施例に係る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡の作動方式は以下のとおりである。
前記第1レーザー10から放射された光ビームは励起光となり、前記励起光は前記第1反射鏡11によって反射されて前記第1ダイクロイックミラー14に入り、前記第1ダイクロイックミラー14を透過し、前記第2レーザー12から放射された光ビームは損失光となり、前記損失光は前記位相板13を透過して前記第1ダイクロイックミラー14に射入し、前記第1ダイクロイックミラー14によって反射され、前記第1ダイクロイックミラー14を透過した励起光ビーム及び前記第1ダイクロイックミラー14によって反射された損失光ビームは集束光ビームを形成し、前記集束テストユニット200は、前記集束光ビームを受け取り、前記励起光ビームと損失光ビームを精度よく重なり合わせるように前記集束光ビームを調整するために使用される。
精度よく重なり合った光ビームは、前記λ/4スライド15に入り、前記λ/4スライド15によって偏光調整され、前記第2反射鏡16によって反射された後、前記XYスキャンガルバノメータ17に入り、前記XYスキャンガルバノメータ17から射出された光ビームは、順次前記走査レンズ18及び前記チューブレンズ19に入り、前記チューブレンズ19から射出された光ビームは、前記第2ダイクロイックミラー110を透過して前記対物レンズ120に入り、前記対物レンズ120によって前記サンプルに集束され、サンプルから放射された蛍光は前記対物レンズ120によって収集された後、前記対物レンズ120の外まで後方向に伝送され、さらに前記第2ダイクロイックミラー110によって反射されて、前記フィルタ140に入り、前記フィルタ140は射入レーザー光を抑制し、蛍光を透過し、透過された蛍光は前記第1レンズ150に入り、前記第1レンズ150によって焦点位置に設けられた前記ピンホール160に集束され、前記ピンホール160から射出された光ビームは前記点検出器170に入り、それによって、STEDイメージング蛍光信号の検出を実現する。
いくつかの好適な実施例では、前記位相板13上の位相分布は0〜2πのらせん分布である。
いくつかの好適な実施例では、前記点検出器170はアバランシェダイオードである。
いくつかの好適な実施例では、前記第1反射鏡11及び前記第1ダイクロイックミラー14は両方ともに、角度をXY軸方向の周りに調整可能であり、前記第2反射鏡16は、所在する光路から取り外し可能である。
いくつかの好適な実施例では、前記集束テストユニット200は、分光プリズム20、第2レンズ21、第1平面検出器22、及び第2平面検出器23を備える。
前記集束テストユニット200は、前記集束光ビームを調整する際に、前記第2反射鏡16を所在する光路の外に移動し、前記集束光ビームは、前記λ/4スライド15を通過して、前記分光プリズム20に射入し、前記分光プリズム20は、射入した集束光ビームを反射・透過し、射出した反射光は前記第1平面検出器22に射入し、前記第1平面検出器22に近点スポットを形成し、射出した透過光は前記第2レンズ21によって前記第2平面検出器23に集束され、前記第2平面検出器23に遠点スポットを形成し、前記第1ダイクロイックミラー14の角度を一定に保ちながら、前記損失光が前記第1平面検出器22に形成された近点スポットの中心位置Ps1をマークし、前記中心位置Ps1を基準位置として、x軸又はy軸方向の周りに第1反射鏡11の角度を調整することで、前記励起光が前記第1平面検出器22に形成された近点スポットの位置Pj1を変えながら、Pj1がPs1に徐々に移動するようにし、
前記第1反射鏡11の角度を一定に保ちながら、前記励起光が前記第2平面検出器23に形成された遠点スポットの中心位置Pj2をマークし、前記中心位置Pj2を基準位置として、x軸又はy軸方向の周りに前記第1ダイクロイックミラー14の角度を調整することで、前記損失光が前記第2平面検出器23に形成された遠点スポットの位置Ps2を変えながら、Ps2がPj2に徐々に移動していくようにし、前記第1反射鏡11と前記第1ダイクロイックミラー14との角度を交互に調整し、前記第1平面検出器22及び第2平面検出器23での励起光のスポット位置Pj1、Pj2を対応する損失光のスポット位置Ps1、Ps2と重なり合せ、それにより、前記励起光ビームと損失光ビームとを精度よく重なり合わせる。
なお、上記操作では、第1平面検出器22での励起光のスポット位置Pj1と損失光のスポット位置Ps1とが分離する可能性があり、同様に、第2平面検出器23での励起光のスポット位置Pj2と損失光のスポット位置Ps2とも分離する可能性があり、第1平面検出器22及び第2平面検出器23での励起光のスポット位置Pj1、Pj2と対応する損失光のスポット位置Ps1、Ps2とが完全に重なるまで、前記第1反射鏡11と前記第1ダイクロイックミラー14との角度を交互に調整する。
図2は、励起光と損失光が前記第1平面検出器22に形成された近点スポットの位置を示し、図3は、励起光と損失光が前記第2平面検出器23に形成された遠点スポットの位置を示す。
本考案に係る光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡は、集束テストユニット200により励起光と損失光を精度よく集束させ、2種の光ビームが前記STEDイメージングユニット100を経て形成したイメージングスポットを精度よく重ね合わせ、それにより、良好な超解像度イメージングの効果を奏する。
もちろん、本考案の光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡にはさまざまな置換や変形を加えることもでき、上記実施形態の特定の構造に制限されない。要するに、本考案の保護範囲は、当業者にとって明らかな置換、代替や変形を含むべきである。

Claims (5)

  1. 光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡であって、
    STEDイメージングユニットと、集束テストユニットと、を備え、
    前記STEDイメージングユニットは、第1レーザー、第1反射鏡、第2レーザー、位相板、第1ダイクロイックミラー、λ/4スライド、第2反射鏡、XYスキャンガルバノメータ、走査レンズ、チューブレンズ、第2ダイクロイックミラー、対物レンズ、サンプルを置くための3次元ナノ変位プラットフォーム、フィルタ、第1レンズ、ピンホール、及び点型検出器を有し、
    前記第1レーザーから放射された光ビームは励起光となり、前記励起光は前記第1反射鏡によって反射されて前記第1ダイクロイックミラーに入り、前記第1ダイクロイックミラーを透過し、前記第2レーザーから放射された光ビームは損失光となり、前記損失光は前記位相板を透過して前記第1ダイクロイックミラーに射入し、前記第1ダイクロイックミラーによって反射され、前記第1ダイクロイックミラーを透過した励起光ビーム及び前記第1ダイクロイックミラーによって反射された損失光ビームは集束光ビームを形成し、
    前記集束テストユニットは、前記集束光ビームを受け取り、前記励起光ビームと損失光ビームを精度よく重なり合わせるように前記集束光ビームを調整するために使用され、
    精度よく重なり合った光ビームは、前記λ/4スライドに入り、前記λ/4スライドによって偏光調整され、前記第2反射鏡によって反射された後、前記XYスキャンガルバノメータに入り、前記XYスキャンガルバノメータから射出された光ビームは、順次前記走査レンズ及び前記チューブレンズに入り、前記チューブレンズから射出された光ビームは、前記第2ダイクロイックミラーを透過して前記対物レンズに入り、前記対物レンズによって前記サンプルに集束され、サンプルから放射された蛍光は前記対物レンズによって収集された後、前記対物レンズに後方向に伝送され、さらに前記第2ダイクロイックミラーによって反射されて、前記フィルタに入り、前記フィルタは射入レーザー光を抑制し、蛍光を透過し、透過された蛍光は前記第1レンズに入り、前記第1レンズによって焦点位置に設けられた前記ピンホールに集束され、前記ピンホールから射出された光ビームは前記点型検出器に入り、それによって、STEDイメージング蛍光信号の検出を実現する光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡。
  2. 前記第1反射鏡及び前記第1ダイクロイックミラーは両方ともに、角度をXY軸の周りに調整可能であり、前記第2反射鏡は、所在する光路から取り外し可能である請求項1に記載の光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡。
  3. 前記集束テストユニットは、分光プリズム、第2レンズ、第1平面検出器及び第2平面検出器を備え、
    前記集束テストユニットは、前記集束光ビームを調整する際に、前記第2反射鏡を所在する光路の外に移動し、前記集束光ビームは、前記λ/4スライドを経て、前記分光プリズムに射入し、前記分光プリズムは、射入した集束光ビームを反射・透過し、射出した反射光は前記第1平面検出器に射入し、前記第1平面検出器に近点スポットを形成し、射出した透過光は前記第2レンズによって前記第2平面検出器に集束され、前記第2平面検出器に遠点スポットを形成し、
    前記第1ダイクロイックミラーの角度を一定に保ちながら、前記損失光が前記第1平面検出器上に形成された近点スポットの中心位置(Ps1)をマークし、前記中心位置(Ps1)を基準位置として、x軸又はy軸方向の周りに第1反射鏡の角度を調整することで、前記励起光が前記第1平面検出器上に形成された近点スポットの位置(Pj1)を変えながら、(Pj1)が(Ps1)に徐々に移動していくようにし、
    前記第1反射鏡の角度を一定に保ちながら、前記励起光が前記第2平面検出器上に形成された遠点スポットの中心位置(Pj2)をマークし、前記中心位置(Pj2)を基準位置として、x軸又はy軸方向の周りに前記第1ダイクロイックミラーの角度を調整することで、前記損失光が前記第2平面検出器上に形成された遠点スポットの位置(Ps2)を変えながら、(Ps2)が(Pj2)に徐々に移動していくようにし、
    前記第1反射鏡と前記第1ダイクロイックミラーとの角度を交互して調整し、前記第1平面検出器及び第2平面検出器での励起光のスポット位置(Pj1)、(Pj2)を対応する損失光のスポット位置(Ps1)、(Ps2)と重なり合せ、それにより、前記励起光ビームと損失光ビームとを精度よく重なり合せる、請求項2に記載の光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡。
  4. 前記位相板上の位相分布は0〜2πのらせん分布である、請求項1に記載の光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡。
  5. 前記点型検出器はアバランシェダイオードである請求項1に記載の光ビームの高速集束を可能にする誘導放出抑制超解像度顕微鏡。
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