JP3231232U - ICP analyzer - Google Patents

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Abstract

【課題】ユーザの手間を省くことができ、かつ、塩の析出を抑えることのできるＩＣＰ分析装置を提供する。【解決手段】ＩＣＰ分析装置は、プラズマを形成するためのプラズマトーチ３０と、試料Ｓを霧状にしてキャリアガスとともに装置内に導入する試料導入部１０と、試料導入部１０から導入された試料Ｓを希釈するための希釈ガスを導入する希釈ガス導入部２０とを含む。希釈ガス導入部２０は、希釈ガスを加湿する加湿部２４を含む。加湿した希釈ガスで試料Ｓを希釈するため、試料Ｓを予め希釈するというユーザの手間を省くことができるとともに、加湿した希釈ガスを導入することで乾燥による塩の析出を抑えることができる。【選択図】図２PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ICP analyzer capable of saving time and effort of a user and suppressing precipitation of salt. An ICP analyzer includes a plasma torch 30 for forming plasma, a sample introduction unit 10 in which a sample S is atomized and introduced into the apparatus together with a carrier gas, and a sample introduced from the sample introduction unit 10. It includes a diluting gas introduction unit 20 for introducing a diluting gas for diluting S. The dilution gas introduction unit 20 includes a humidification unit 24 that humidifies the dilution gas. Since the sample S is diluted with the humidified dilution gas, the user's labor of diluting the sample S in advance can be saved, and by introducing the humidified dilution gas, the precipitation of salt due to drying can be suppressed. [Selection diagram] Fig. 2

Description

本考案は、ＩＣＰ分析装置に関する。 The present invention relates to an ICP analyzer.

試料に含まれる元素を分析する装置の一つに誘導型結合プラズマ（ＩＣＰ：Inductively Coupled Plasma）を利用したＩＣＰ分析装置がある。ＩＣＰ分析装置は、誘導型プラズマにより試料内の原子をイオン化させ、イオン化させた原子を分析するＩＣＰ質量分析装置（ＩＣＰ−ＭＳ：Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometer）と、誘導型プラズマにより試料を励起発光させ、生じた光を検出するＩＣＰ分光分析装置（ＩＣＰ−ＡＥＳ：Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometer）とを含む。 One of the devices for analyzing elements contained in a sample is an ICP analyzer using inductively coupled plasma (ICP). The ICP analyzer is an ICP mass spectrometer (ICP-MS: Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometer) that ionizes the atoms in the sample with inductive plasma and analyzes the ionized atoms, and the sample is excited and emitted by inductive plasma. It includes an ICP spectroscopic analyzer (ICP-AES: Inductively Coupled Plasma-Atomic Emission Spectrometer) for detecting the generated light.

特開２０１８−１７９５５５号公報（特許文献１）には、プラズマを形成するための発光分析用プラズマトーチと、ネブライザにより霧状にした液体試料をキャリアガスとともに流通させる試料ガス供給部とを備えるＩＣＰ分光分析装置が開示されている。 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2018-179555 (Patent Document 1) includes an ICP including a plasma torch for emission analysis for forming plasma and a sample gas supply unit for circulating a liquid sample atomized by a nebulizer together with a carrier gas. A spectroscopic analyzer is disclosed.

特開２０１８−１７９５５５号公報JP-A-2018-179555

ＩＣＰ分析装置において、液体試料の濃度が高いと、試料ガス供給部からプラズマトーチまでの配管内で塩が析出して、配管が詰まる等の不具合が発生することがあった。 In the ICP analyzer, if the concentration of the liquid sample is high, salt may precipitate in the pipe from the sample gas supply unit to the plasma torch, causing problems such as clogging of the pipe.

塩の析出を防止する方法としては、導入する液体試料を予め希釈する方法および配管内に希釈用のガスを導入する方法がある。配管内に希釈用のガスを導入する方法は、液体試料を予め希釈する方法に比べて、ユーザの手間を省くことができる。しかし、ガスで希釈することにより導入された試料が乾燥により析出してしまう虞があった。 As a method for preventing salt precipitation, there are a method of diluting the liquid sample to be introduced in advance and a method of introducing a diluting gas into the pipe. The method of introducing a diluting gas into the pipe can save the user time and effort as compared with the method of pre-diluting a liquid sample. However, there was a risk that the sample introduced by diluting with gas would precipitate due to drying.

本開示は、ユーザの手間を省くことができ、かつ、塩の析出を抑えることのできるＩＣＰ分析装置を提供することを一の目的とする。 One object of the present disclosure is to provide an ICP analyzer capable of saving the trouble of the user and suppressing the precipitation of salt.

本開示のＩＣＰ分析装置は、プラズマを形成するためのプラズマトーチと、試料を霧状にしてキャリアガスとともに装置内に導入する試料導入部と、試料導入部から導入された試料を希釈するための希釈ガスを導入する希釈ガス導入部とを含む。希釈ガス導入部は、希釈ガスを加湿する加湿部を含む。 The ICP analyzer of the present disclosure includes a plasma torch for forming plasma, a sample introduction section for atomizing a sample and introducing it into the device together with a carrier gas, and a sample introduced section for diluting the sample introduced from the sample introduction section. It includes a diluting gas introduction unit for introducing the diluting gas. The dilution gas introduction section includes a humidifying section for humidifying the dilution gas.

本開示によれば、加湿した希釈ガスで試料を希釈するため、試料を予め希釈するというユーザの手間を省くことができるとともに、加湿した希釈ガスを導入することで乾燥による塩の析出を抑えることができる。 According to the present disclosure, since the sample is diluted with the humidified diluent gas, the user's labor of diluting the sample in advance can be saved, and the precipitation of salt due to drying can be suppressed by introducing the humidified dilution gas. Can be done.

本実施の形態にかかるＩＣＰ分析装置の全体構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of the ICP analyzer which concerns on this embodiment. 本実施の形態にかかるイオン化部の全体構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of the ionization part which concerns on this embodiment. 変形例１にかかるイオン化部の全体構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of the ionization part which concerns on modification 1. FIG. 変形例２にかかるイオン化部の全体構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of the ionization part which concerns on the modification 2.

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。 Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The same or corresponding parts in the drawings are designated by the same reference numerals, and the description thereof will not be repeated.

［ＩＣＰ分析装置の全体構成］
図１は、本実施の形態にかかるＩＣＰ分析装置の全体構成を示す模式図である。ＩＣＰ分析装置１は、イオン化部１００と質量分析装置２００とを含む。 [Overall configuration of ICP analyzer]
FIG. 1 is a schematic view showing the overall configuration of the ICP analyzer according to the present embodiment. The ICP analyzer 1 includes an ionization unit 100 and a mass spectrometer 200.

イオン化部１００は、プラズマを発生させて、試料をイオン化する。イオン化部１００の詳細な構成については、図２を参照して後述する。 The ionization unit 100 generates plasma to ionize the sample. The detailed configuration of the ionization unit 100 will be described later with reference to FIG.

質量分析装置２００は、イオン化部１００によってイオン化された試料を受けて、イオン化された試料を分析する。質量分析装置２００は、イオン化部１００において発生するプラズマの先端と対向する入口側から第１真空室２１０、第２真空室２２０、および第３真空室２３０に分かれている。 The mass spectrometer 200 receives the sample ionized by the ionization unit 100 and analyzes the ionized sample. The mass spectrometer 200 is divided into a first vacuum chamber 210, a second vacuum chamber 220, and a third vacuum chamber 230 from the inlet side facing the tip of the plasma generated in the ionization unit 100.

第１真空室２１０には、サンプリングコーンまたはスキマーなどのイオン取込口が配置されている。第２真空室２２０には、四重極マスフィルタなどの質量分離器２２１が配置されている。第３真空室２３０には、質量分離器により分離されたイオンを検出する検出器２３１が配置されている。 An ion intake port such as a sampling cone or a skimmer is arranged in the first vacuum chamber 210. A mass separator 221 such as a quadrupole mass filter is arranged in the second vacuum chamber 220. In the third vacuum chamber 230, a detector 231 for detecting ions separated by a mass separator is arranged.

［イオン化部の構成］
図２は、本実施の形態にかかるイオン化部の全体構成を示す模式図である。イオン化部１００は、主な構成として、試料導入部１０と、希釈ガス導入部２０と、プラズマトーチ３０とを備える。 [Structure of ionization section]
FIG. 2 is a schematic view showing the overall configuration of the ionized portion according to the present embodiment. The ionization unit 100 includes a sample introduction unit 10, a dilution gas introduction unit 20, and a plasma torch 30 as main configurations.

試料導入部１０は、スプレーチャンバー４０に接続されており、イオン化部１００内のスプレーチャンバー４０にキャリアガスとともに試料Ｓを導入する。試料導入部１０は、キャピラリ１２と、キャリアガス口１４の形成されたネブライザ１６とを含む。 The sample introduction unit 10 is connected to the spray chamber 40, and introduces the sample S together with the carrier gas into the spray chamber 40 in the ionization unit 100. The sample introduction unit 10 includes a capillary 12 and a nebulizer 16 in which a carrier gas port 14 is formed.

キャピラリ１２は、ネブライザ１６の中心を通るように配置されており、一端が試料容器Ｃ中の試料Ｓに挿入されている。 The capillary 12 is arranged so as to pass through the center of the nebulizer 16, and one end thereof is inserted into the sample S in the sample container C.

ネブライザ１６は、キャリアガス口１４から供給されるキャリアガス（たとえば、アルゴンガス）を、スプレーチャンバー４０内に位置するノズルからスプレーチャンバー４０内に噴出する。 The nebulizer 16 ejects a carrier gas (for example, argon gas) supplied from the carrier gas port 14 into the spray chamber 40 from a nozzle located in the spray chamber 40.

試料Ｓは、キャリアガスの噴射に伴う負圧により吸引され、霧状になってキャピラリ１２の先端からスプレーチャンバー４０内に噴出される。霧状の試料Ｓは、スプレーチャンバー４０内でキャリアガスと混合され、スプレーチャンバー４０の上部に接続されたキャリアガス管４２を通ってプラズマトーチ３０の先端に形成されるプラズマ３５の中心に送り込まれる。なお、霧状となった試料Ｓのうち、荒い霧滴は、スプレーチャンバー４０内壁に付着し、スプレーチャンバー４０の下部に接続された廃液管４１を通って排出される。 The sample S is sucked by the negative pressure accompanying the injection of the carrier gas, becomes atomized, and is ejected into the spray chamber 40 from the tip of the capillary 12. The mist-like sample S is mixed with the carrier gas in the spray chamber 40 and sent to the center of the plasma 35 formed at the tip of the plasma torch 30 through the carrier gas tube 42 connected to the upper part of the spray chamber 40. .. Of the atomized sample S, the coarse mist droplets adhere to the inner wall of the spray chamber 40 and are discharged through the waste liquid pipe 41 connected to the lower part of the spray chamber 40.

希釈ガス導入部２０は、希釈ガス（たとえば、アルゴンガス）をキャリアガス管４２内に導入する。希釈ガス導入部２０は、スプレーチャンバー４０の上部に接続されたキャリアガス管４２上であって、プラズマトーチ３０とキャリアガス管４２との接続部分４３よりも下流に位置する中途部４４に接続されている。すなわち、希釈ガス導入部２０は、霧状の試料Ｓとキャリアガスとが混合された試料中であって、当該試料がプラズマトーチ３０内に導入される前に、当該試料に希釈ガスを導入する。 The dilution gas introduction unit 20 introduces a dilution gas (for example, argon gas) into the carrier gas pipe 42. The dilution gas introduction portion 20 is connected to a carrier gas pipe 42 connected to the upper part of the spray chamber 40, and is connected to an intermediate portion 44 located downstream of the connection portion 43 between the plasma torch 30 and the carrier gas pipe 42. ing. That is, the dilution gas introduction unit 20 introduces the dilution gas into the sample in which the atomized sample S and the carrier gas are mixed, and before the sample is introduced into the plasma torch 30. ..

希釈ガス導入部２０は、希釈ガスを供給する供給部に接続された供給管２２と、供給管２２に接続された加湿部２４と、加湿部２４とキャリアガス管４２とをつなぐ導入管２６とを備える。 The dilution gas introduction unit 20 includes a supply pipe 22 connected to a supply unit for supplying the dilution gas, a humidification unit 24 connected to the supply pipe 22, and an introduction pipe 26 connecting the humidification unit 24 and the carrier gas pipe 42. To be equipped with.

加湿部２４は、希釈ガスを加湿する。より具体的には、加湿部２４の内部には、蒸留水が貯留されている。供給管２２から供給された希釈ガスは、加湿部２４内の蒸留水を通過することで加湿される。加湿された希釈ガスは、導入管２６を通ってキャリアガス管４２内に導入される。 The humidifying unit 24 humidifies the diluted gas. More specifically, distilled water is stored inside the humidifying section 24. The diluting gas supplied from the supply pipe 22 is humidified by passing through the distilled water in the humidifying section 24. The humidified diluted gas is introduced into the carrier gas pipe 42 through the introduction pipe 26.

本実施の形態においては、加湿された希釈ガスによって、キャリアガス管４２内を通る霧状になった試料Ｓを希釈できる。キャリアガス口１４から供給されるキャリアガスの流量を増やすと、霧状になってキャピラリ１２の先端からスプレーチャンバー４０内に噴出される試料Ｓの量も増えてしまい、塩が析出しやすくなる虞がある。本実施の形態においては、スプレーチャンバー４０内でキャリアガスと霧状の試料Ｓとを混合させた後に希釈ガスを導入するため、試料Ｓの噴出量を抑えつつ、キャリアガス管４２内を通過する試料Ｓの濃度を下げることができる。 In the present embodiment, the atomized sample S passing through the carrier gas pipe 42 can be diluted with the humidified dilution gas. If the flow rate of the carrier gas supplied from the carrier gas port 14 is increased, the amount of sample S that becomes atomized and is ejected from the tip of the capillary 12 into the spray chamber 40 also increases, and there is a risk that salt is likely to precipitate. There is. In the present embodiment, since the carrier gas and the atomized sample S are mixed in the spray chamber 40 and then the diluted gas is introduced, the sample S passes through the carrier gas pipe 42 while suppressing the amount of the sample S ejected. The concentration of sample S can be reduced.

また、希釈ガスを加湿してからキャリアガス管４２に導入することで、試料Ｓを予め希釈するというユーザの手間を省くことができるとともに、キャリアガス管４２内を通るガスを加湿させることができ、乾燥による塩の析出を抑えることができる。 Further, by humidifying the diluting gas and then introducing it into the carrier gas pipe 42, it is possible to save the user's trouble of diluting the sample S in advance and to humidify the gas passing through the carrier gas pipe 42. , It is possible to suppress the precipitation of salt due to drying.

プラズマトーチ３０は、プラズマ３５を形成するための装置である。プラズマトーチ３０内にアルゴンガス（キャリアガスおよび希釈ガス）を流しつつ、プラズマトーチ３０が備える高周波誘導コイルに高周波電流を流すことで、プラズマトーチ３０の先端にプラズマ３５が形成される。プラズマ３５を霧状になった試料が通過することで、試料Ｓ中の化合物が原子化およびイオン化される。イオン化された原子は、質量分析装置２００に導かれる。 The plasma torch 30 is a device for forming the plasma 35. Plasma 35 is formed at the tip of the plasma torch 30 by passing a high-frequency current through the high-frequency induction coil included in the plasma torch 30 while flowing argon gas (carrier gas and diluting gas) in the plasma torch 30. When the atomized sample passes through the plasma 35, the compound in the sample S is atomized and ionized. The ionized atoms are guided to the mass spectrometer 200.

［変形例］
図３は、変形例１にかかるイオン化部の全体構成を示す模式図である。変形例１にかかるイオン化部１００ａは、希釈ガス導入部２０に代えて希釈ガス導入部２０ａを備える点で上記実施の形態にかかるイオン化部１００と異なる。 [Modification example]
FIG. 3 is a schematic view showing the overall configuration of the ionized portion according to the modified example 1. The ionization unit 100a according to the first modification is different from the ionization unit 100 according to the above embodiment in that the dilution gas introduction unit 20a is provided in place of the dilution gas introduction unit 20.

希釈ガス導入部２０ａは、加温部２１ａをさらに備える点で希釈ガス導入部２０と異なる。加温部２１ａは、供給管２２に配置されており、加湿部２４を通過する希釈ガスを加温する。なお、加温部２１ａは、図示していない希釈ガスの供給部に設けられていてもよく、また、導入管２６に設けられていてもよい。 The dilution gas introduction unit 20a is different from the dilution gas introduction unit 20 in that the heating unit 21a is further provided. The heating unit 21a is arranged in the supply pipe 22 and heats the diluting gas passing through the humidifying unit 24. The heating unit 21a may be provided in a dilution gas supply unit (not shown), or may be provided in the introduction pipe 26.

図４は、変形例２にかかるイオン化部の全体構成を示す模式図である。変形例２にかかるイオン化部１００ｂは、希釈ガス導入部２０に代えて希釈ガス導入部２０ｂを備える点で上記実施の形態にかかるイオン化部１００と異なる。希釈ガス導入部２０ｂは、加温部２１ｂをさらに備える点で希釈ガス導入部２０と異なる。 FIG. 4 is a schematic view showing the overall configuration of the ionized portion according to the modified example 2. The ionization unit 100b according to the second modification is different from the ionization unit 100 according to the above embodiment in that the dilution gas introduction unit 20b is provided in place of the dilution gas introduction unit 20. The dilution gas introduction unit 20b is different from the dilution gas introduction unit 20 in that the heating unit 21b is further provided.

加温部２１ｂは、加湿部２４内の蒸留水を加温する。これにより、蒸留水を通るキャリアガスを加温することができる。 The heating unit 21b heats the distilled water in the humidifying unit 24. Thereby, the carrier gas passing through the distilled water can be heated.

すなわち、加温部２１ａおよび加温部２１ｂは、いずれも、キャリアガス管４２内に導入される希釈ガスの温度を上げるための加温部２１の一具体化例である。キャリアガス管４２内に導入される希釈ガスの温度を上げることで、キャリアガス管４２内を通過するガスの温度が上がり、試料の溶解度を上げることができ、塩の析出をさらに抑えることができる。 That is, both the heating unit 21a and the heating unit 21b are specific examples of the heating unit 21 for raising the temperature of the diluted gas introduced into the carrier gas pipe 42. By raising the temperature of the diluting gas introduced into the carrier gas pipe 42, the temperature of the gas passing through the carrier gas pipe 42 rises, the solubility of the sample can be increased, and the precipitation of salt can be further suppressed. ..

なお、加温部２１は、希釈ガスの温度をスプレーチャンバー４０から送られるガスの温度以上にすることができればよく、たとえば、４０度以上にできればよい。 The heating unit 21 may be able to set the temperature of the diluting gas to be equal to or higher than the temperature of the gas sent from the spray chamber 40, for example, 40 degrees or higher.

また、上記実施の形態において、ＩＣＰ分析装置１は、ＩＣＰ−ＭＳであるとした。なお、ＩＣＰ分析装置１は、ＩＣＰ−ＭＳに限られず、ＩＣＰ−ＡＥＳであってもよい。 Further, in the above embodiment, the ICP analyzer 1 is assumed to be ICP-MS. The ICP analyzer 1 is not limited to ICP-MS, but may be ICP-AES.

なお、ＩＣＰ−ＭＳは、プラズマ３５によってイオン化された原子を水平方向（重力方向に対して垂直な方向）に導く必要がある。そのため、ＩＣＰ−ＭＳにおいては、プラズマトーチ３０を水平に配置する必要がある。一方、ＩＣＰ−ＡＥＳにおいては、ＩＣＰ−ＭＳのような配置の制限がなく、プラズマトーチ３０を垂直に配置することができる。 The ICP-MS needs to guide the atoms ionized by the plasma 35 in the horizontal direction (direction perpendicular to the direction of gravity). Therefore, in ICP-MS, it is necessary to arrange the plasma torch 30 horizontally. On the other hand, in ICP-AES, the plasma torch 30 can be arranged vertically without any limitation of arrangement unlike ICP-MS.

プラズマトーチ３０を水平に配置した場合、キャリアガス管４２内で析出した塩がキャリアガス管４２に蓄積しやすく、キャリアガス管４２が詰まる等の不具合が生じやすくなる。すなわち、ＩＣＰ−ＭＳにおいては、ＩＣＰ−ＡＥＳに比べてキャリアガス管４２内で析出した塩がキャリアガス管４２に蓄積しやすく、キャリアガス管４２が詰まる等の不具合が生じやすい。 When the plasma torch 30 is arranged horizontally, the salt precipitated in the carrier gas pipe 42 is likely to accumulate in the carrier gas pipe 42, and problems such as clogging of the carrier gas pipe 42 are likely to occur. That is, in ICP-MS, as compared with ICP-AES, the salt precipitated in the carrier gas pipe 42 is more likely to accumulate in the carrier gas pipe 42, and problems such as clogging of the carrier gas pipe 42 are more likely to occur.

そのため、加湿部２４を備える希釈ガス導入部２０をＩＣＰ−ＭＳが備えることにより、ＩＣＰ−ＡＥＳに比べてより顕著な効果を得ることができる。 Therefore, when the ICP-MS includes the dilution gas introduction unit 20 including the humidifying unit 24, a more remarkable effect can be obtained as compared with the ICP-AES.

［態様］
上述した実施の形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。 [Aspect]
It will be understood by those skilled in the art that the above-described embodiment is a specific example of the following aspects.

（第１項）一態様に係るＩＣＰ分析装置は、プラズマを形成するためのプラズマトーチと、試料を霧状にしてキャリアガスとともに装置内に導入する試料導入部と、試料導入部から導入された試料を希釈するための希釈ガスを導入する希釈ガス導入部とを備える。希釈ガス導入部は、希釈ガスを加湿する加湿部を含む。 (Item 1) The ICP analyzer according to one embodiment was introduced from a plasma torch for forming plasma, a sample introduction unit for atomizing a sample and introducing it into the apparatus together with a carrier gas, and a sample introduction unit. It is provided with a diluting gas introduction unit for introducing a diluting gas for diluting the sample. The dilution gas introduction section includes a humidifying section for humidifying the dilution gas.

第１項にかかるＩＣＰ分析装置は、加湿した希釈ガスで試料を希釈するため、試料を予め希釈するというユーザの手間を省くことができるとともに、加湿した希釈ガスを導入することで乾燥による塩の析出を抑えることができる。 Since the ICP analyzer according to the first item dilutes the sample with a humidified diluent gas, it is possible to save the user's trouble of pre-diluting the sample, and by introducing the humidified diluent gas, the salt due to drying can be saved. Dilution can be suppressed.

（第２項）第１項にかかるＩＣＰ分析装置における希釈ガス導入部は、希釈ガスを加温する加温部をさらに備える。 (Item 2) The dilution gas introduction unit in the ICP analyzer according to the item 1 further includes a heating unit for heating the dilution gas.

第２項にかかるＩＣＰ分析装置は、加温した希釈ガスを導入することで試料の溶解度を上げることができ、塩の析出をさらに抑えることができる。 In the ICP analyzer according to the second item, the solubility of the sample can be increased by introducing a heated diluted gas, and the precipitation of salt can be further suppressed.

（第３項）第１項または第２項にかかるＩＣＰ分析装置は、ＩＣＰ質量分析装置である。 (Item 3) The ICP analyzer according to the first or second paragraph is an ICP mass spectrometer.

ＩＣＰ質量分析装置は、プラズマトーチを水平に配置する必要があるため、析出した塩が配管内に蓄積しやすい。そのため、第３項にかかるＩＣＰ分析装置は、プラズマトーチを鉛直に配置可能なＩＣＰ分光分析装置に比べて、加湿部を備える希釈ガス導入部を設けることによる効果を得やすい。 Since the ICP mass spectrometer needs to arrange the plasma torch horizontally, the precipitated salt tends to accumulate in the pipe. Therefore, the ICP analyzer according to the third item is more likely to obtain the effect of providing the diluting gas introduction portion provided with the humidifying portion than the ICP spectroscopic analyzer in which the plasma torch can be arranged vertically.

今回開示された各実施の形態は、技術的に矛盾しない範囲で適宜組合わせて実施することも予定されている。そして、今回開示された実施の形態は、全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本考案の範囲は、上記した実施の形態の説明ではなくて実用新案登録請求の範囲によって示され、実用新案登録請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。 It is also planned that the embodiments disclosed this time will be appropriately combined and implemented within a technically consistent range. And it should be considered that the embodiments disclosed this time are exemplary in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the scope of the utility model registration claims rather than the description of the above-described embodiment, and is intended to include all changes within the meaning and scope equivalent to the scope of the utility model registration claims. Will be done.

１ 分析装置、１０ 試料導入部、１２ キャピラリ、１４ キャリアガス口、１６ ネブライザ、２０，２０ａ，２０ｂ 希釈ガス導入部、２１，２１ａ，２１ｂ 加温部、２２ 供給管、２４ 加湿部、２６ 導入管、３０ プラズマトーチ、３５ プラズマ、４０ スプレーチャンバー、４１ 廃液管、４２ キャリアガス管、４３ 接続部分、４４ 中途部、１００，１００ａ，１００ｂ イオン化部、２００ 質量分析装置、２１０ 第１真空室、２２０ 第２真空室、２２１ 質量分離器、２３０ 第３真空室、２３１ 検出器、Ｃ 試料容器、Ｓ 試料。 1 Analyzer, 10 sample introduction part, 12 capillary, 14 carrier gas port, 16 nebulizer, 20, 20a, 20b diluted gas introduction part, 21,21a, 21b heating part, 22 supply pipe, 24 humidification part, 26 introduction pipe , 30 Plasma torch, 35 Plasma, 40 Spray chamber, 41 Waste liquid tube, 42 Carrier gas tube, 43 Connection part, 44 Midway part, 100, 100a, 100b Ionization part, 200 Mass spectrometer, 210 1st vacuum chamber, 220th 2 vacuum chamber, 221 mass separator, 230 third vacuum chamber, 231 detector, C sample container, S sample.

Claims (3)

ＩＣＰ分析装置であって、
プラズマを形成するためのプラズマトーチと、
試料を霧状にしてキャリアガスとともに装置内に導入する試料導入部と、
前記試料導入部から導入された試料を希釈するための希釈ガスを導入する希釈ガス導入部とを備え、
前記希釈ガス導入部は、前記希釈ガスを加湿する加湿部を含む、ＩＣＰ分析装置。 ICP analyzer
A plasma torch for forming plasma,
A sample introduction unit that atomizes the sample and introduces it into the device together with the carrier gas.
It is provided with a dilution gas introduction unit for introducing a dilution gas for diluting the sample introduced from the sample introduction unit.
The diluted gas introduction unit is an ICP analyzer including a humidifying unit that humidifies the diluted gas. 前記希釈ガス導入部は、前記希釈ガスを加温する加温部をさらに備える請求項１に記載のＩＣＰ分析装置。 The ICP analyzer according to claim 1, wherein the diluted gas introduction unit further includes a heating unit that heats the diluted gas. ＩＣＰ質量分析装置である、請求項１または請求項２に記載のＩＣＰ分析装置。
The ICP analyzer according to claim 1 or 2, which is an ICP mass spectrometer.
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