JP3218771B2 - ヒンダードピペリジン化合物による有機材料の安定化および該化合物の製造 - Google Patents
ヒンダードピペリジン化合物による有機材料の安定化および該化合物の製造Info
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3435—Piperidines
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、有機材料用安定剤、そ
れに用いるヒンダードピペリジン化合物およびその化合
物の製法に関するものである。
れに用いるヒンダードピペリジン化合物およびその化合
物の製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩
化ビニル、ポリウレタン、ＡＢＳ樹脂をはじめとする各
種合成樹脂、天然または合成ゴム、塗料などの有機材料
は、光により劣化し、軟化、脆化または変色といった現
象を伴って、その物性が著しく低下することが知られて
いる。そこで従来より、各種の光安定剤が開発され、ま
た使用されているが、現在でも新たな光安定剤に対する
要望が強い。とりわけ、ヒンダードピペリジン骨格、す
なわち２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
基を有する化合物の開発が盛んである。
化ビニル、ポリウレタン、ＡＢＳ樹脂をはじめとする各
種合成樹脂、天然または合成ゴム、塗料などの有機材料
は、光により劣化し、軟化、脆化または変色といった現
象を伴って、その物性が著しく低下することが知られて
いる。そこで従来より、各種の光安定剤が開発され、ま
た使用されているが、現在でも新たな光安定剤に対する
要望が強い。とりわけ、ヒンダードピペリジン骨格、す
なわち２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
基を有する化合物の開発が盛んである。
【０００３】例えばヨーロッパ公開特許第 34 829 号明
細書には、２，２，６，６−テトラアルキル−４−アミ
ノピペリジン骨格を有し、かつ別の部位がカルボン酸
塩、特にニッケル塩になっている化合物が開示されてい
る。しかしながら、ここに示されているニッケル塩は緑
色であり、化合物自体のこうした着色は、有機材料用光
安定剤として用いる場合に大きな障害となる。
細書には、２，２，６，６−テトラアルキル−４−アミ
ノピペリジン骨格を有し、かつ別の部位がカルボン酸
塩、特にニッケル塩になっている化合物が開示されてい
る。しかしながら、ここに示されているニッケル塩は緑
色であり、化合物自体のこうした着色は、有機材料用光
安定剤として用いる場合に大きな障害となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、有機
材料の光酸化劣化に対して高い安定化効果を示し、その
化合物自体が白色ないし無色であって、安定化されるべ
き有機材料に添加したときにその有機材料を着色させる
ことがない化合物を提供することである。
材料の光酸化劣化に対して高い安定化効果を示し、その
化合物自体が白色ないし無色であって、安定化されるべ
き有機材料に添加したときにその有機材料を着色させる
ことがない化合物を提供することである。
【０００５】本発明の別の目的は、かかる化合物を用い
て、有機材料を安定化することである。
て、有機材料を安定化することである。
【０００６】さらに本発明の別の目的は、かかる化合物
のなかでも有用な化合物を収率よく製造することであ
る。
のなかでも有用な化合物を収率よく製造することであ
る。
【０００７】本発明者らは、有機材料の光酸化劣化に対
して優れた安定化効果を示す安定剤を開発すべく研究を
続けてきた結果、特定のヒンダードピペリジン化合物が
優れた効果を有することを見出し、本発明に至った。
して優れた安定化効果を示す安定剤を開発すべく研究を
続けてきた結果、特定のヒンダードピペリジン化合物が
優れた効果を有することを見出し、本発明に至った。
【０００８】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、下式
（Ｉ）で示されるヒンダードピペリジン化合物を有効成
分とする有機材料用安定剤を提供するものである。
（Ｉ）で示されるヒンダードピペリジン化合物を有効成
分とする有機材料用安定剤を提供するものである。
【０００９】
【化６】
【００１０】式中、Ｒ1はＮ−位が無置換のもしくは置
換された２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル、または環状部分を含んでもよい炭素数１から１２の
アルキルを表し、Ｒ2は水素、環状部分を含んでもよい
炭素数１から１０のアルキル、環状部分を含んでもよい
炭素数１から１８のアルキルオキシ、または水酸基を表
し、ｎは２から８の整数を表す。
換された２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル、または環状部分を含んでもよい炭素数１から１２の
アルキルを表し、Ｒ2は水素、環状部分を含んでもよい
炭素数１から１０のアルキル、環状部分を含んでもよい
炭素数１から１８のアルキルオキシ、または水酸基を表
し、ｎは２から８の整数を表す。
【００１１】本発明はまた、有機材料にこのヒンダード
ピペリジン化合物を安定化有効量配合することにより、
その有機材料を安定化する方法および、有機材料にこの
ヒンダードピペリジン化合物を含有させてなる有機材料
組成物を提供する。
ピペリジン化合物を安定化有効量配合することにより、
その有機材料を安定化する方法および、有機材料にこの
ヒンダードピペリジン化合物を含有させてなる有機材料
組成物を提供する。
【００１２】式（Ｉ）において、Ｒ1 が４−ピペリジ
ル、炭素数５から１８のアルキルまたは炭素数７から１
８のアリールアルキルである化合物は新規である。した
がって本発明はさらに、式（Ｉ）で示され、かつ式中、
Ｒ1 がＮ−無置換のもしくはＮ−置換の２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル、環状部分を含んでも
よい炭素数５から１８のアルキル、または炭素数７から
１８のアリールアルキルであり、Ｒ2 およびｎが先に定
義したとおりであるヒンダードピペリジン化合物を提供
する。
ル、炭素数５から１８のアルキルまたは炭素数７から１
８のアリールアルキルである化合物は新規である。した
がって本発明はさらに、式（Ｉ）で示され、かつ式中、
Ｒ1 がＮ−無置換のもしくはＮ−置換の２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル、環状部分を含んでも
よい炭素数５から１８のアルキル、または炭素数７から
１８のアリールアルキルであり、Ｒ2 およびｎが先に定
義したとおりであるヒンダードピペリジン化合物を提供
する。
【００１３】また本発明は、式（Ｉ）で示されるヒンダ
ードピペリジン化合物のうち、Ｒ1がＮ−無置換のもし
くはＮ−置換の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル、環状部分を含んでもよい炭素数３から１８の
アルキル、または炭素数７から１８のアリールアルキル
である化合物を、エステル交換により製造する方法にも
向けられている。
ードピペリジン化合物のうち、Ｒ1がＮ−無置換のもし
くはＮ−置換の２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル、環状部分を含んでもよい炭素数３から１８の
アルキル、または炭素数７から１８のアリールアルキル
である化合物を、エステル交換により製造する方法にも
向けられている。
【００１４】本発明の安定剤成分となるヒンダードピペ
リジン化合物を表す前記式（Ｉ）において、Ｒ1 は、Ｎ
−位が無置換のもしくは置換された２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル、水素、環状部分を含んで
もよい炭素数１から１８のアルキルまたは炭素数７から
１８のアリールアルキルである。Ｒ1 が２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルである場合、そのＮ−
位に置換しうる基は、環状部分を含んでもよい炭素数１
から１０のアルキル、環状部分を含んでもよい炭素数１
から１８のアルキルオキシ、および水酸基を包含する。
したがって、かかる２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルは、一般に次の式（II）で示される。
リジン化合物を表す前記式（Ｉ）において、Ｒ1 は、Ｎ
−位が無置換のもしくは置換された２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル、水素、環状部分を含んで
もよい炭素数１から１８のアルキルまたは炭素数７から
１８のアリールアルキルである。Ｒ1 が２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジルである場合、そのＮ−
位に置換しうる基は、環状部分を含んでもよい炭素数１
から１０のアルキル、環状部分を含んでもよい炭素数１
から１８のアルキルオキシ、および水酸基を包含する。
したがって、かかる２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルは、一般に次の式（II）で示される。
【００１５】
【化７】
【００１６】式中、 Ｒ3 は水素、環状部分を含んでも
よい炭素数１から１０のアルキル、環状部分を含んでも
よい炭素数１から１８のアルキルオキシ、または水酸基
を表す。
よい炭素数１から１０のアルキル、環状部分を含んでも
よい炭素数１から１８のアルキルオキシ、または水酸基
を表す。
【００１７】式（II）中のＲ3 がアルキルであって、そ
の炭素数が３以上である場合は、直鎖状や分枝状のほ
か、環状部分を含んでいてもよい。Ｒ3 で示される環状
部分を含むアルキルとしては、特にシクロヘキシルメチ
ルやシクロヘキシルエチルのような、中間または末端に
環状アルキルを含み、窒素原子へは -CH2-で結合するも
のが適している。また、式（II）中のＲ3 がアルキルオ
キシであって、その炭素数が３以上である場合も、その
アルキル部分は直鎖状や分枝状のほか、環状部分を含ん
でいてもよい。Ｒ3 で示される環状部分を含むアルキル
オキシは、シクロヘキシルオキシのような環状アルキル
オキシであることができる。式（II）中のＲ3 としては
特に、水素、炭素数１から３のアルキル、オクチルオキ
シ、シクロヘキシルオキシなどが適当である。
の炭素数が３以上である場合は、直鎖状や分枝状のほ
か、環状部分を含んでいてもよい。Ｒ3 で示される環状
部分を含むアルキルとしては、特にシクロヘキシルメチ
ルやシクロヘキシルエチルのような、中間または末端に
環状アルキルを含み、窒素原子へは -CH2-で結合するも
のが適している。また、式（II）中のＲ3 がアルキルオ
キシであって、その炭素数が３以上である場合も、その
アルキル部分は直鎖状や分枝状のほか、環状部分を含ん
でいてもよい。Ｒ3 で示される環状部分を含むアルキル
オキシは、シクロヘキシルオキシのような環状アルキル
オキシであることができる。式（II）中のＲ3 としては
特に、水素、炭素数１から３のアルキル、オクチルオキ
シ、シクロヘキシルオキシなどが適当である。
【００１８】式（Ｉ）におけるＲ1 がアルキルである場
合、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、 sec−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ
−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−ド
デシル、ｎ−オクタデシルなどを包含し、炭素数３以上
のアルキルは、直鎖状、分枝状または環状であることが
できる。またＲ1 がアリールアルキルである場合は、例
えばベンジル、フェネチルなどを包含する。
合、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、 sec−ブチル、ｔ−ブチ
ル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ
−オクチル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−ド
デシル、ｎ−オクタデシルなどを包含し、炭素数３以上
のアルキルは、直鎖状、分枝状または環状であることが
できる。またＲ1 がアリールアルキルである場合は、例
えばベンジル、フェネチルなどを包含する。
【００１９】これらのなかでも好ましいＲ1 は、２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル、２，２，
６，６−テトラメチル−１−オクチルオキシ−４−ピペ
リジル、１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル、１−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、水素、メ
チル、エチル、２−エチルヘキシルなどである。
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル、２，２，
６，６−テトラメチル−１−オクチルオキシ−４−ピペ
リジル、１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル、１−ヒドロキシ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、水素、メ
チル、エチル、２−エチルヘキシルなどである。
【００２０】式（Ｉ）におけるＲ2 は、水素、環状部分
を含んでもよい炭素数１から１０のアルキル、環状部分
を含んでもよい炭素数１から１８のアルキルオキシまた
は水酸基である。Ｒ2 がアルキルである場合、例えばメ
チル、エチル、プロピルなどであることができ、またそ
の炭素数が３以上である場合は、直鎖状や分枝状のほ
か、環状部分を含んでいてもよい。Ｒ2 で示される環状
部分を含むアルキルとしては、特にシクロヘキシルメチ
ルやシクロヘキシルエチルのような、中間または末端に
環状アルキルを含み、窒素原子へは -CH2-で結合するも
のが適している。Ｒ2 がアルキルオキシである場合、例
えば、メトキシ、エトキシ、ヘキシルオキシ、オクチル
オキシなどであることができ、またその炭素数が３以上
である場合も、そのアルキル部分は直鎖状や分枝状のほ
か、環状部分を含んでいてもよい。Ｒ2 で示される環状
部分を含むアルキルオキシは、シクロヘキシルオキシの
ような環状アルキルオキシであることができる。これら
のなかでも好ましいＲ2 は、水素、炭素数１から３のア
ルキル、オクチルオキシ、シクロヘキシルオキシおよび
水酸基である。
を含んでもよい炭素数１から１０のアルキル、環状部分
を含んでもよい炭素数１から１８のアルキルオキシまた
は水酸基である。Ｒ2 がアルキルである場合、例えばメ
チル、エチル、プロピルなどであることができ、またそ
の炭素数が３以上である場合は、直鎖状や分枝状のほ
か、環状部分を含んでいてもよい。Ｒ2 で示される環状
部分を含むアルキルとしては、特にシクロヘキシルメチ
ルやシクロヘキシルエチルのような、中間または末端に
環状アルキルを含み、窒素原子へは -CH2-で結合するも
のが適している。Ｒ2 がアルキルオキシである場合、例
えば、メトキシ、エトキシ、ヘキシルオキシ、オクチル
オキシなどであることができ、またその炭素数が３以上
である場合も、そのアルキル部分は直鎖状や分枝状のほ
か、環状部分を含んでいてもよい。Ｒ2 で示される環状
部分を含むアルキルオキシは、シクロヘキシルオキシの
ような環状アルキルオキシであることができる。これら
のなかでも好ましいＲ2 は、水素、炭素数１から３のア
ルキル、オクチルオキシ、シクロヘキシルオキシおよび
水酸基である。
【００２１】式（Ｉ）におけるｎは２から８の整数であ
り、−ＣnＨ2n− で示されるアルキレンは、直鎖状であ
っても分枝状であってもよい。−ＣnＨ2n− で示される
アルキレンの具体例としては、エチレン、１，２−また
は１，３−プロピレン、１，２−、１，３−または１，
４−ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オク
タメチレンなどが挙げられる。ｎは特に６である場合、
すなわち −ＣnＨ2n−がヘキサメチレンである場合が好
ましい。
り、−ＣnＨ2n− で示されるアルキレンは、直鎖状であ
っても分枝状であってもよい。−ＣnＨ2n− で示される
アルキレンの具体例としては、エチレン、１，２−また
は１，３−プロピレン、１，２−、１，３−または１，
４−ブチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オク
タメチレンなどが挙げられる。ｎは特に６である場合、
すなわち −ＣnＨ2n−がヘキサメチレンである場合が好
ましい。
【００２２】式（Ｉ）で示されるヒンダードピペリジン
化合物のなかでも、安定剤として特に有用なものは、Ｒ
1 が２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、
１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル、
２，２，６，６−テトラメチル−１−オクチルオキシ−
４−ピペリジル、メチル、２−エチルヘキシルまたは水
素、Ｒ2 が水素、メチル、メトキシまたはオクチルオキ
シ、およびｎが６である化合物であり、とりわけこれら
のなかでも、Ｒ1 が４−ピペリジルまたはメチルであ
り、かつＲ2 が水素である化合物が好ましい。
化合物のなかでも、安定剤として特に有用なものは、Ｒ
1 が２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、
１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル、
２，２，６，６−テトラメチル−１−オクチルオキシ−
４−ピペリジル、メチル、２−エチルヘキシルまたは水
素、Ｒ2 が水素、メチル、メトキシまたはオクチルオキ
シ、およびｎが６である化合物であり、とりわけこれら
のなかでも、Ｒ1 が４−ピペリジルまたはメチルであ
り、かつＲ2 が水素である化合物が好ましい。
【００２３】先に挙げたヨーロッパ公開特許第 34 829
号明細書の特に実施例３には、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミンにアクリル酸メチルをマイケル付加
反応させることにより、前記式（Ｉ）で示される化合物
のうち、Ｒ1 がメチルで、Ｒ2 が水素である化合物を製
造する方法が記載されている。ここに記載の方法に準じ
て、式（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物、特にＲ1
が低級アルキルである化合物を製造することができる。
すなわち、次式(III)
号明細書の特に実施例３には、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミンにアクリル酸メチルをマイケル付加
反応させることにより、前記式（Ｉ）で示される化合物
のうち、Ｒ1 がメチルで、Ｒ2 が水素である化合物を製
造する方法が記載されている。ここに記載の方法に準じ
て、式（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物、特にＲ1
が低級アルキルである化合物を製造することができる。
すなわち、次式(III)
【００２４】
【化８】
【００２５】（式中、Ｒ2 およびｎは前記の意味を有す
る）で示されるアルキレンジアミン化合物および、次式
（IV）
る）で示されるアルキレンジアミン化合物および、次式
（IV）
【００２６】
【化９】
【００２７】（式中、Ｒ1 は前記の意味を有する）で示
されるアクリル酸エステルを用いたマイケル付加反応に
よって、式（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物が得ら
れる。
されるアクリル酸エステルを用いたマイケル付加反応に
よって、式（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物が得ら
れる。
【００２８】式(III) で示されるアルキレンジアミン化
合物の具体例としては、次のようなものを挙げることが
できる。
合物の具体例としては、次のようなものを挙げることが
できる。
【００２９】Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，４−ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，８−オ
クタンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス(１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル)−１，６−ヘキサン
ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−ヒドロキシ−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メトキシ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−１−オクチルオキシ−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン。
メチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，４−ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，８−オ
クタンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス(１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル)−１，６−ヘキサン
ジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−ヒドロキシ−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−メトキシ−２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−１−オクチルオキシ−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン。
【００３０】また、式（IV）で示されるアクリル酸エス
テルの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチルなどが挙げられるが、なかでも特にアクリル酸メ
チルが好ましく用いられる。
テルの具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチルなどが挙げられるが、なかでも特にアクリル酸メ
チルが好ましく用いられる。
【００３１】式(III) で示されるアルキレンジアミン化
合物と式（IV）で示されるアクリル酸エステルとの反応
は通常、溶媒中で行うのが好ましい。使用しうる溶媒と
しては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、
ブタノールのようなアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、メシチレンのような芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、四塩化炭素のような塩素化炭化水素類、テトラヒド
ロフラン、１，４−ジオキサンのようなエーテル類など
を挙げることができる。これらのなかでも、特に式（I
V）の化合物がアクリル酸メチルである場合には、メタ
ノールが好ましく用いられる。
合物と式（IV）で示されるアクリル酸エステルとの反応
は通常、溶媒中で行うのが好ましい。使用しうる溶媒と
しては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、
ブタノールのようなアルコール類、ベンゼン、トルエ
ン、メシチレンのような芳香族炭化水素類、クロロホル
ム、四塩化炭素のような塩素化炭化水素類、テトラヒド
ロフラン、１，４−ジオキサンのようなエーテル類など
を挙げることができる。これらのなかでも、特に式（I
V）の化合物がアクリル酸メチルである場合には、メタ
ノールが好ましく用いられる。
【００３２】この反応では、アルキレンジアミン化合物
(III) に対して、アクリル酸エステル（IV）を約２倍モ
ルないしは若干過剰に用いるのが好ましい。より一般化
した数字でいえば、アルキレンジアミン化合物(III) １
モルあたり、アクリル酸エステル（IV）を約２から約４
モルの範囲で用いるのが好ましく、さらには、アクリル
酸エステル（IV）を約２.0から約２.5モルの範囲で用い
るのがより好ましい。反応は通常、約２０℃から還流温
度の範囲で進行するが、好ましくは還流下で行われる。
またこの反応は通常、大気圧下で進行するが、加圧下で
行ってもよい。
(III) に対して、アクリル酸エステル（IV）を約２倍モ
ルないしは若干過剰に用いるのが好ましい。より一般化
した数字でいえば、アルキレンジアミン化合物(III) １
モルあたり、アクリル酸エステル（IV）を約２から約４
モルの範囲で用いるのが好ましく、さらには、アクリル
酸エステル（IV）を約２.0から約２.5モルの範囲で用い
るのがより好ましい。反応は通常、約２０℃から還流温
度の範囲で進行するが、好ましくは還流下で行われる。
またこの反応は通常、大気圧下で進行するが、加圧下で
行ってもよい。
【００３３】このマイケル付加による方法では、アクリ
ル酸エステル（IV）のＲ1 が低級アルキル、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル程度までであれば、アル
キレンジアミン化合物(III) に比較的効率よく付加し
て、式（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物を与えるも
のの、アクリル酸エステル（IV）のＲ1 が立体的に大き
な置換基になるにつれて、式（Ｉ）のヒンダードピペリ
ジン化合物の収率が低下することが判明した。そこで本
発明者らは、式（Ｉ）におけるＲ1 が、先に定義したな
かでも、Ｎ−無置換のもしくはＮ−置換の２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル、炭素数３以上のア
ルキルまたはアリールアルキルであるヒンダードピペリ
ジン化合物の製法について、鋭意研究した結果、収率の
向上した方法を見出すに至った。
ル酸エステル（IV）のＲ1 が低級アルキル、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル程度までであれば、アル
キレンジアミン化合物(III) に比較的効率よく付加し
て、式（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物を与えるも
のの、アクリル酸エステル（IV）のＲ1 が立体的に大き
な置換基になるにつれて、式（Ｉ）のヒンダードピペリ
ジン化合物の収率が低下することが判明した。そこで本
発明者らは、式（Ｉ）におけるＲ1 が、先に定義したな
かでも、Ｎ−無置換のもしくはＮ−置換の２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル、炭素数３以上のア
ルキルまたはアリールアルキルであるヒンダードピペリ
ジン化合物の製法について、鋭意研究した結果、収率の
向上した方法を見出すに至った。
【００３４】すなわち、上記のようなマイケル付加反応
により、式（Ｉ）におけるＲ1 がメチルまたはエチルで
ある化合物、つまり次式（Ia）
により、式（Ｉ）におけるＲ1 がメチルまたはエチルで
ある化合物、つまり次式（Ia）
【００３５】
【化１０】
【００３６】（式中、Ｒ11はメチルまたはエチルを表
し、Ｒ2 およびｎは前記の意味を有する）で示される低
級アルキルエステルを合成したあと、必要に応じて公知
の方法でこれを単離、精製したもの、あるいは反応混合
物を、式（Ｖ）
し、Ｒ2 およびｎは前記の意味を有する）で示される低
級アルキルエステルを合成したあと、必要に応じて公知
の方法でこれを単離、精製したもの、あるいは反応混合
物を、式（Ｖ）
【００３７】
【化１１】Ｒ1ＯＨ （Ｖ）
【００３８】（式中、Ｒ1 はＮ−位が無置換のもしくは
置換された２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル、環状部分を含んでもよい炭素数３から１８のアル
キルまたは炭素数７から１８のアリールアルキルを表
す）で表されるアルコールとの間でエステル交換反応さ
せることにより、式（Ｉ）で示されかつ、Ｒ1 がＮ−無
置換のもしくはＮ−置換の２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル、環状部分を含んでもよい炭素数３
から１８のアルキル、または炭素数７から１８のアリー
ルアルキルであるヒンダードピペリジン化合物を製造す
ることができる。このエステル交換反応は、エステル交
換触媒の存在下で行われる。式（Ｉ）におけるＲ1 がプ
ロピルやブチルである化合物は、マイケル付加によって
もそこそこの収率で製造できるものもあるが、エステル
交換のほうが有利である。
置換された２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル、環状部分を含んでもよい炭素数３から１８のアル
キルまたは炭素数７から１８のアリールアルキルを表
す）で表されるアルコールとの間でエステル交換反応さ
せることにより、式（Ｉ）で示されかつ、Ｒ1 がＮ−無
置換のもしくはＮ−置換の２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル、環状部分を含んでもよい炭素数３
から１８のアルキル、または炭素数７から１８のアリー
ルアルキルであるヒンダードピペリジン化合物を製造す
ることができる。このエステル交換反応は、エステル交
換触媒の存在下で行われる。式（Ｉ）におけるＲ1 がプ
ロピルやブチルである化合物は、マイケル付加によって
もそこそこの収率で製造できるものもあるが、エステル
交換のほうが有利である。
【００３９】エステル交換反応の原料となる式（Ia）の
低級アルキルエステルにおいて、特に好ましいＲ11はメ
チルである。したがってエステル交換反応に用いる式
（Ia）で示されるヒンダードピペリジン化合物の具体例
としては、次のようなものが挙げられる。
低級アルキルエステルにおいて、特に好ましいＲ11はメ
チルである。したがってエステル交換反応に用いる式
（Ia）で示されるヒンダードピペリジン化合物の具体例
としては、次のようなものが挙げられる。
【００４０】Ｎ,Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニル
エチル）−Ｎ,Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、
Ｎ,Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニルエチル）−Ｎ,
Ｎ′−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、Ｎ,Ｎ′−
ビス（２−メトキシカルボニルエチル）−Ｎ,Ｎ′−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−１−オクチルオキ
シ−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン。
エチル）−Ｎ,Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、
Ｎ,Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニルエチル）−Ｎ,
Ｎ′−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、Ｎ,Ｎ′−
ビス（２−メトキシカルボニルエチル）−Ｎ,Ｎ′−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−１−オクチルオキ
シ−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン。
【００４１】また、式（Ｖ）で示されるアルコールの具
体例としては、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジノール、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジノール、２，２，６，６−テトラメチル−１
−オクチルオキシ−４−ピペリジノール、１−メトキシ
−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、２−エチル−１−ヘ
キサノール、オクタデカノール、ベンジルアルコールな
どが挙げられる。さらに、エステル交換触媒の具体例と
しては、リチウムアミド、ナトリウムメトキシド、カリ
ウムメトキシド、リチウムメトキシド、酸化すずなどが
挙げられる。
体例としては、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジノール、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４
−ピペリジノール、２，２，６，６−テトラメチル−１
−オクチルオキシ−４−ピペリジノール、１−メトキシ
−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノー
ル、ヘキサノール、オクタノール、２−エチル−１−ヘ
キサノール、オクタデカノール、ベンジルアルコールな
どが挙げられる。さらに、エステル交換触媒の具体例と
しては、リチウムアミド、ナトリウムメトキシド、カリ
ウムメトキシド、リチウムメトキシド、酸化すずなどが
挙げられる。
【００４２】式（Ia）で示される低級アルキルエステル
と式（Ｖ）で示されるアルコールとのエステル交換反応
は通常、溶媒中で行うのが好ましい。使用しうる溶媒と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、モノ
クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンのような芳香族
炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン
のようなエーテル類などを挙げることができる。
と式（Ｖ）で示されるアルコールとのエステル交換反応
は通常、溶媒中で行うのが好ましい。使用しうる溶媒と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、シメン、モノ
クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンのような芳香族
炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン
のようなエーテル類などを挙げることができる。
【００４３】この反応では、低級アルキルエステル（I
a）に対し、アルコール（Ｖ）を約２倍モルないしは若
干過剰に用いるのが好ましい。より一般化した数字でい
えば、低級アルキルエステル（Ia）１モルあたり、アル
コール（Ｖ）を約２モルから約４モルの範囲で用いるの
が好ましく、さらには、アルコール（Ｖ）を約２.0から
約２.5モルの範囲で用いるのがより好ましい。またこの
反応では、低級アルキルエステル（Ia）１モルに対し
て、エステル交換触媒を約０.0２から約０.2モルの範囲
で用いるのが好ましい。エステル交換反応は通常、約２
０℃から還流温度の範囲で進行するが、好ましくは還流
下で行われる。またこの反応は通常、大気圧下で進行す
るが、減圧下あるいは加圧下で行ってもよい。さらに、
反応の進行とともに生成してくる低沸点アルコールを、
反応系外に除去しながら行うのが好ましい。
a）に対し、アルコール（Ｖ）を約２倍モルないしは若
干過剰に用いるのが好ましい。より一般化した数字でい
えば、低級アルキルエステル（Ia）１モルあたり、アル
コール（Ｖ）を約２モルから約４モルの範囲で用いるの
が好ましく、さらには、アルコール（Ｖ）を約２.0から
約２.5モルの範囲で用いるのがより好ましい。またこの
反応では、低級アルキルエステル（Ia）１モルに対し
て、エステル交換触媒を約０.0２から約０.2モルの範囲
で用いるのが好ましい。エステル交換反応は通常、約２
０℃から還流温度の範囲で進行するが、好ましくは還流
下で行われる。またこの反応は通常、大気圧下で進行す
るが、減圧下あるいは加圧下で行ってもよい。さらに、
反応の進行とともに生成してくる低沸点アルコールを、
反応系外に除去しながら行うのが好ましい。
【００４４】式（Ｉ）においてＲ1 が水酸基である化合
物は、式（Ｉ）におけるＲ1 が低級アルキルである化合
物、例えば式（Ia）で示される低級アルキルエステル
を、加水分解することによって製造できる。
物は、式（Ｉ）におけるＲ1 が低級アルキルである化合
物、例えば式（Ia）で示される低級アルキルエステル
を、加水分解することによって製造できる。
【００４５】式(III) で示されるアルキレンジアミン化
合物と式（IV）で示されるアクリル酸エステルとのマイ
ケル付加反応終了後は、用いた溶媒を除去して、また必
要に応じてエステル交換反応または加水分解反応を行っ
た場合には、用いた溶媒および触媒を除去して、式
（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物を単離することが
できる。また必要に応じて、公知の方法で精製操作を施
してもよい。
合物と式（IV）で示されるアクリル酸エステルとのマイ
ケル付加反応終了後は、用いた溶媒を除去して、また必
要に応じてエステル交換反応または加水分解反応を行っ
た場合には、用いた溶媒および触媒を除去して、式
（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物を単離することが
できる。また必要に応じて、公知の方法で精製操作を施
してもよい。
【００４６】原料を選択して以上の操作を施すことによ
り、式（Ｉ）の範囲内にある任意のヒンダードピペリジ
ン化合物を製造することができる。
り、式（Ｉ）の範囲内にある任意のヒンダードピペリジ
ン化合物を製造することができる。
【００４７】さらには必要により、式（Ｉ）においてＲ
1 がアルキルまたはアリールアルキルで、Ｒ2 が水素で
ある化合物、Ｒ1 がＮ−無置換の２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルで、Ｒ2 が水素である化合
物、あるいはＲ1 が式（II）の４−ピペリジルで、Ｒ2
またはＲ3 のいずれか一方が水素である化合物を得たあ
と、公知の方法、例えば特開平 1-190678 号公報、特開
昭 60-237065号公報、特開平 1-113368 号公報の特に実
施例１４、２３、３８、４８、６０〜６５などに記載さ
れる方法に準じて、Ｒ2 および／またはＲ3 を修飾する
ことができる。
1 がアルキルまたはアリールアルキルで、Ｒ2 が水素で
ある化合物、Ｒ1 がＮ−無置換の２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルで、Ｒ2 が水素である化合
物、あるいはＲ1 が式（II）の４−ピペリジルで、Ｒ2
またはＲ3 のいずれか一方が水素である化合物を得たあ
と、公知の方法、例えば特開平 1-190678 号公報、特開
昭 60-237065号公報、特開平 1-113368 号公報の特に実
施例１４、２３、３８、４８、６０〜６５などに記載さ
れる方法に準じて、Ｒ2 および／またはＲ3 を修飾する
ことができる。
【００４８】例えば、式（Ｉ）においてＲ1 がアルキル
またはアリールアルキルで、Ｒ2 が水素である化合物
を、ホルムアルデヒドおよび蟻酸の混合物で処理するこ
とにより、Ｒ2 をメチル化することができる。また、式
（Ｉ）においてＲ1 がＮ−無置換の２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジルで、Ｒ2 が水素である化合
物を、ホルムアルデヒドおよび蟻酸の混合物で処理すれ
ば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルの
Ｎ−位およびＲ2 を同時にメチル化することができる。
さらには、式（Ｉ）においてＲ2 が水素である化合物、
あるいはＲ1 が式（II）の４−ピペリジルで、Ｒ3 が水
素である化合物を、ヒドロペルオキシドのような酸化剤
と反応させ、さらに還元することにより、Ｒ2 および／
またはＲ3を水酸基とすることができる。また一方で、
式（Ｉ）においてＲ2 が水素である化合物、あるいはＲ
1 が式（II）の４−ピペリジルで、Ｒ3 が水素である化
合物を、酸化剤の存在下でアルカンまたはシクロアルカ
ンと反応させることにより、Ｒ2 および／またはＲ3 に
アルキルオキシまたはシクロアルキルオキシを導入する
こともできる。
またはアリールアルキルで、Ｒ2 が水素である化合物
を、ホルムアルデヒドおよび蟻酸の混合物で処理するこ
とにより、Ｒ2 をメチル化することができる。また、式
（Ｉ）においてＲ1 がＮ−無置換の２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジルで、Ｒ2 が水素である化合
物を、ホルムアルデヒドおよび蟻酸の混合物で処理すれ
ば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルの
Ｎ−位およびＲ2 を同時にメチル化することができる。
さらには、式（Ｉ）においてＲ2 が水素である化合物、
あるいはＲ1 が式（II）の４−ピペリジルで、Ｒ3 が水
素である化合物を、ヒドロペルオキシドのような酸化剤
と反応させ、さらに還元することにより、Ｒ2 および／
またはＲ3を水酸基とすることができる。また一方で、
式（Ｉ）においてＲ2 が水素である化合物、あるいはＲ
1 が式（II）の４−ピペリジルで、Ｒ3 が水素である化
合物を、酸化剤の存在下でアルカンまたはシクロアルカ
ンと反応させることにより、Ｒ2 および／またはＲ3 に
アルキルオキシまたはシクロアルキルオキシを導入する
こともできる。
【００４９】かくして得られる式（Ｉ）で示されるヒン
ダードピペリジン化合物の具体例としては、次のような
ものが挙げられる。
ダードピペリジン化合物の具体例としては、次のような
ものが挙げられる。
【００５０】化合物Ａ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキ
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサ
ンジアミン、 化合物Ｂ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）エチ
ル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｃ： Ｎ，Ｎ′−ビス(２−カルボキシエチル)−
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｄ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−エトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｅ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−プロポキシカルボニ
ルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン、 化合物Ｆ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−イソプロポキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、 化合物Ｇ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ブトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｈ： Ｎ，Ｎ′−ビス(２−イソブトキシカルボ
ニルエチル)−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン、
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサ
ンジアミン、 化合物Ｂ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）エチ
ル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｃ： Ｎ，Ｎ′−ビス(２−カルボキシエチル)−
Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｄ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−エトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｅ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−プロポキシカルボニ
ルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン、 化合物Ｆ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−イソプロポキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、 化合物Ｇ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ブトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｈ： Ｎ，Ｎ′−ビス(２−イソブトキシカルボ
ニルエチル)−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン、
【００５１】化合物Ｉ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ペンチ
ルオキシカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン、 化合物Ｊ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ヘキシルオキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、 化合物Ｋ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−シクロヘキシルオキ
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサ
ンジアミン、 化合物Ｌ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−オクチルオキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、 化合物Ｍ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（２−エチルヘキシ
ルオキシカルボニル）エチル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン、 化合物Ｎ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ドデシルオキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、 化合物Ｏ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−オクタデシルオキシ
カルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサン
ジアミン、 化合物Ｐ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ベンジルオキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、
ルオキシカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン、 化合物Ｊ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ヘキシルオキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、 化合物Ｋ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−シクロヘキシルオキ
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサ
ンジアミン、 化合物Ｌ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−オクチルオキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、 化合物Ｍ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（２−エチルヘキシ
ルオキシカルボニル）エチル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン、 化合物Ｎ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ドデシルオキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、 化合物Ｏ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−オクタデシルオキシ
カルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサン
ジアミン、 化合物Ｐ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ベンジルオキシカル
ボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジア
ミン、
【００５２】化合物Ｑ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキ
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミン、 化合物Ｒ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−１−オクチルオキシ−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン、 化合物Ｓ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス(１−ヒドロキシ−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル)−１，６−ヘ
キサンジアミン、 化合物Ｔ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）
エチル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｕ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）
エチル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン、 化合物Ｖ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）エチ
ル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｗ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−(２,２,６,６−テト
ラメチル−１−オクチルオキシ−４−ピペリジルオキシ
カルボニル）エチル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−１−オクチルオキシ−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｘ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）エチ
ル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）エチレンジアミン、 化合物Ｙ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）エチレンジアミン。
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミン、 化合物Ｒ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−１−オクチルオキシ−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン、 化合物Ｓ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス(１−ヒドロキシ−２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル)−１，６−ヘ
キサンジアミン、 化合物Ｔ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）
エチル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｕ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）
エチル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（１，２，２，６，６−ペン
タメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン、 化合物Ｖ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）エチ
ル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｗ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−(２,２,６,６−テト
ラメチル−１−オクチルオキシ−４−ピペリジルオキシ
カルボニル）エチル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−１−オクチルオキシ−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン、 化合物Ｘ： Ｎ，Ｎ′−ビス〔２−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）エチ
ル〕−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）エチレンジアミン、 化合物Ｙ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカルボニル
エチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）エチレンジアミン。
【００５３】式（Ｉ）で示されるヒンダードピペリジン
化合物は、それ自身白色固体または無色の液体であっ
て、各種の有機材料、特に光によって劣化する性質を有
する有機材料を安定化するのに有効であり、またこの化
合物を有機材料に添加したときその有機材料を着色する
ことがない。本発明により安定化することができる有機
材料は、光によって劣化する性質を有するものであれば
いかなるものでもよく、対象とする有機材料に特別な制
限はない。具体例としては、以下に示すような合成樹
脂、ゴム類、塗料、油類などが挙げられ、それぞれ単独
のもの、あるいは二種以上の混合物を安定化することが
できる。
化合物は、それ自身白色固体または無色の液体であっ
て、各種の有機材料、特に光によって劣化する性質を有
する有機材料を安定化するのに有効であり、またこの化
合物を有機材料に添加したときその有機材料を着色する
ことがない。本発明により安定化することができる有機
材料は、光によって劣化する性質を有するものであれば
いかなるものでもよく、対象とする有機材料に特別な制
限はない。具体例としては、以下に示すような合成樹
脂、ゴム類、塗料、油類などが挙げられ、それぞれ単独
のもの、あるいは二種以上の混合物を安定化することが
できる。
【００５４】(1) ポリエチレン、例えば低密度ポリエチ
レン（ＬＤ−ＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤ−Ｐ
Ｅ），リニアー低密度ポリエチレン（ＬＬＤ−ＰＥ）； (2) ポリプロピレン； (3) メチルペンテンポリマー； (4) ＥＥＡ（エチレン／アクリル酸エチル共重合）樹
脂； (5) ＥＶＡ（エチレン／酢酸ビニル共重合）樹脂； (6) ポリスチレン類、 例えばポリスチレン、ポリ（ｐ
−メチルスチレン）、 ポリ（α−メチルスチレン）； (7) ＡＳ（アクリロニトリル／スチレン共重合）樹脂； (8) ＡＢＳ（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン
共重合）樹脂； (9) ＡＡＳ（特殊アクリルゴム/アクリロニトリル/スチ
レン共重合）樹脂； (10) ＡＣＳ（アクリロニトリル/塩素化ポリエチレン/
スチレン共重合）樹脂；
レン（ＬＤ−ＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤ−Ｐ
Ｅ），リニアー低密度ポリエチレン（ＬＬＤ−ＰＥ）； (2) ポリプロピレン； (3) メチルペンテンポリマー； (4) ＥＥＡ（エチレン／アクリル酸エチル共重合）樹
脂； (5) ＥＶＡ（エチレン／酢酸ビニル共重合）樹脂； (6) ポリスチレン類、 例えばポリスチレン、ポリ（ｐ
−メチルスチレン）、 ポリ（α−メチルスチレン）； (7) ＡＳ（アクリロニトリル／スチレン共重合）樹脂； (8) ＡＢＳ（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン
共重合）樹脂； (9) ＡＡＳ（特殊アクリルゴム/アクリロニトリル/スチ
レン共重合）樹脂； (10) ＡＣＳ（アクリロニトリル/塩素化ポリエチレン/
スチレン共重合）樹脂；
【００５５】(11) 塩素含有ポリマー、例えば塩素化ポ
リエチレン、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン； (12) メタクリル樹脂； (13) エチレン／ビニルアルコール共重合樹脂； (14) フッ素樹脂； (15) ポリアセタール； (16) グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂およびポ
リフェニレンサルファイド樹脂； (17) ポリウレタン； (18) ポリアミド； (19) ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート；
リエチレン、ポリクロロプレン、塩素化ゴム、ポリ塩化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン； (12) メタクリル樹脂； (13) エチレン／ビニルアルコール共重合樹脂； (14) フッ素樹脂； (15) ポリアセタール； (16) グラフト化ポリフェニレンエーテル樹脂およびポ
リフェニレンサルファイド樹脂； (17) ポリウレタン； (18) ポリアミド； (19) ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート；
【００５６】(20) ポリカーボネート； (21) ポリアクリレート； (22) ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポ
リエーテルスルホン； (23) 芳香族ポリエステル樹脂； (24) エポキシ樹脂； (25) ジアリルフタレートプリポリマー； (26) シリコーン樹脂； (27) 不飽和ポリエステル樹脂； (28) アクリル変性ベンゾグアナミン樹脂； (29) ベンゾグアナミン／メラミン樹脂； (30) ユリア樹脂；
リエーテルスルホン； (23) 芳香族ポリエステル樹脂； (24) エポキシ樹脂； (25) ジアリルフタレートプリポリマー； (26) シリコーン樹脂； (27) 不飽和ポリエステル樹脂； (28) アクリル変性ベンゾグアナミン樹脂； (29) ベンゾグアナミン／メラミン樹脂； (30) ユリア樹脂；
【００５７】(31) ポリブタジエン； (32) １，２−ポリブタジエン； (33) ポリイソプレン； (34) スチレン／ブタジエン共重合体； (35) ブタジエン／アクリロニトリル共重合体； (36) エチレン／プロピレン共重合体； (37) シリコーンゴム； (38) エピクロロヒドリンゴム； (39) アクリルゴム； (40) 天然ゴム；
【００５８】(41) 塩素ゴム系塗料； (42) ポリエステル樹脂塗料； (43) ウレタン樹脂塗料； (44) エポキシ樹脂塗料； (45) アクリル樹脂塗料； (46) ビニル樹脂塗料； (47) アミノアルキル樹脂塗料； (48) アルキド樹脂塗料； (49) ニトロセルロース樹脂塗料； (50) 油性塗料； (51) ワックス； (52) 潤滑油。
【００５９】式（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物
は、有機材料に対して安定化有効量配合され、対象とす
る有機材料の種類によってもその好ましい添加量は当然
変動するが、通常は有機材料１００重量部に対して０.0
１から５重量部程度の範囲で使用するのが好ましい。さ
らに好ましくは、有機材料１００重量部に対し式（Ｉ）
のヒンダードピペリジン化合物は０.0２から２重量部程
度の範囲で使用される。
は、有機材料に対して安定化有効量配合され、対象とす
る有機材料の種類によってもその好ましい添加量は当然
変動するが、通常は有機材料１００重量部に対して０.0
１から５重量部程度の範囲で使用するのが好ましい。さ
らに好ましくは、有機材料１００重量部に対し式（Ｉ）
のヒンダードピペリジン化合物は０.0２から２重量部程
度の範囲で使用される。
【００６０】本発明により、式（Ｉ）のヒンダードピペ
リジン化合物を配合した有機材料組成物は、必要に応じ
てさらに他の添加剤、例えばフェノール系酸化防止剤、
イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収
剤、式（Ｉ）以外のヒンダードアミン系光安定剤、滑
剤、可塑剤、難燃剤、造核剤、金属不活性化剤、帯電防
止剤、顔料、無機充填剤などを含有することもできる。
これらの添加剤は、もちろん式（Ｉ）のヒンダードピペ
リジン化合物と同時に配合することもできるし、またこ
のヒンダードピペリジン化合物とは別の段階で配合する
こともできる。
リジン化合物を配合した有機材料組成物は、必要に応じ
てさらに他の添加剤、例えばフェノール系酸化防止剤、
イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、紫外線吸収
剤、式（Ｉ）以外のヒンダードアミン系光安定剤、滑
剤、可塑剤、難燃剤、造核剤、金属不活性化剤、帯電防
止剤、顔料、無機充填剤などを含有することもできる。
これらの添加剤は、もちろん式（Ｉ）のヒンダードピペ
リジン化合物と同時に配合することもできるし、またこ
のヒンダードピペリジン化合物とは別の段階で配合する
こともできる。
【００６１】式（Ｉ）のヒンダードピペリジン化合物、
あるいはそれに加えて任意に使用されるその他の添加剤
を有機材料に配合するにあたっては、均質な混合物を得
るための公知のあらゆる方法および装置を用いることが
できる。例えば有機材料が固体ポリマーである場合は、
これら化合物および／または添加剤を、その固体ポリマ
ーに直接ブレンドすることもできるし、またマスターバ
ッチの形で固体ポリマーに配合することもできる。有機
材料が合成ポリマーである場合はその他、重合途中ある
いは重合直後のポリマー溶液に、これら化合物および／
または添加剤の溶液または分散液の形で配合することも
できる。一方、有機材料が油などの液体である場合は、
これら化合物および／または添加剤を直接添加して溶解
させることもできるし、またこれら化合物および／また
は添加剤を液状媒体に溶解または懸濁させた状態で添加
することもできる。
あるいはそれに加えて任意に使用されるその他の添加剤
を有機材料に配合するにあたっては、均質な混合物を得
るための公知のあらゆる方法および装置を用いることが
できる。例えば有機材料が固体ポリマーである場合は、
これら化合物および／または添加剤を、その固体ポリマ
ーに直接ブレンドすることもできるし、またマスターバ
ッチの形で固体ポリマーに配合することもできる。有機
材料が合成ポリマーである場合はその他、重合途中ある
いは重合直後のポリマー溶液に、これら化合物および／
または添加剤の溶液または分散液の形で配合することも
できる。一方、有機材料が油などの液体である場合は、
これら化合物および／または添加剤を直接添加して溶解
させることもできるし、またこれら化合物および／また
は添加剤を液状媒体に溶解または懸濁させた状態で添加
することもできる。
【００６２】
【実施例】以下、実施例を示して本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。なお、例中にある％および部は、特にことわ
らないかぎり重量基準である。
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。なお、例中にある％および部は、特にことわ
らないかぎり重量基準である。
【００６３】例１ ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキシ
カルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサン
ジアミン（化合物Ａ）の製造
カルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサン
ジアミン（化合物Ａ）の製造
【００６４】１リットルの四つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ′
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン８０ｇ（０.2０モル）
およびメタノール２００ｇを仕込んで完溶させた。これ
に、アクリル酸メチル３５ｇ（０.4１モル）をメタノー
ル１００ｇに溶かした溶液を室温で滴下した。 この
後、還流下で１２時間反応させた。反応終了後、溶媒を
留去し、ヘキサンで再結晶したところ、白色固体として
標記化合物Ａを９８ｇ（０.1７モル）、収率８５％で得
た。
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン８０ｇ（０.2０モル）
およびメタノール２００ｇを仕込んで完溶させた。これ
に、アクリル酸メチル３５ｇ（０.4１モル）をメタノー
ル１００ｇに溶かした溶液を室温で滴下した。 この
後、還流下で１２時間反応させた。反応終了後、溶媒を
留去し、ヘキサンで再結晶したところ、白色固体として
標記化合物Ａを９８ｇ（０.1７モル）、収率８５％で得
た。
【００６５】 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ５６６（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ32Ｈ62Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 68.1％、Ｈ 10.9％、Ｎ 10.0％ 計算値 Ｃ 67.8％、Ｈ 11.0％、Ｎ 9.9％ 融点： ５０〜５２℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 1.04 (d
d, J = 12.5および12.2 Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19
(s, 12H); 1.2-1.4 (m, 4H); 1.4-1.5 (m, 4H);1.63 (d
d, J = 12.5および2.9 Hz, 4H); 2.44 (t, J = 7.1 Hz,
4H);2.44 (t, J = 7.2 Hz, 4H); 2.78 (t, J = 7.2 H
z, 4H);2.97 (tt, J = 12.2および2.9 Hz, 2H); 3.67
(s, 6H) ppm.
d, J = 12.5および12.2 Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19
(s, 12H); 1.2-1.4 (m, 4H); 1.4-1.5 (m, 4H);1.63 (d
d, J = 12.5および2.9 Hz, 4H); 2.44 (t, J = 7.1 Hz,
4H);2.44 (t, J = 7.2 Hz, 4H); 2.78 (t, J = 7.2 H
z, 4H);2.97 (tt, J = 12.2および2.9 Hz, 2H); 3.67
(s, 6H) ppm.
【００６６】例２ ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−エトキシ
カルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサン
ジアミン（化合物Ｄ）の製造
カルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６
−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサン
ジアミン（化合物Ｄ）の製造
【００６７】例１におけるアクリル酸メチルに代えて等
モルのアクリル酸エチルを用いる以外は、例１に準じた
操作を施して、標記化合物Ｄを収率９１％で得た。
モルのアクリル酸エチルを用いる以外は、例１に準じた
操作を施して、標記化合物Ｄを収率９１％で得た。
【００６８】 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ５９４（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ34Ｈ66Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 68.7％、Ｈ 10.9％、Ｎ 9.6％ 計算値 Ｃ 68.6％、Ｈ 11.1％、Ｎ 9.4％ 融点： ５８〜６０℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 1.04 (d
d, J = 12.5および12.2 Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19
(s, 12H); 1.2-1.4 (m, 4H); 1.26 (t, J = 7.3 Hz, 6
H);1.4-1.5 (m, 4H); 1.62 (dd, J = 12.5および2.9 H
z, 4H);2.42 (t, J = 7.1 Hz, 4H); 2.43 (t, J = 7.1
Hz, 4H);2.78 (t, J = 7.1 Hz, 4H); 2.98 (tt, J = 1
2.2および2.9 Hz, 2H);4.13 (q, J = 7.3 Hz, 4H) ppm.
d, J = 12.5および12.2 Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19
(s, 12H); 1.2-1.4 (m, 4H); 1.26 (t, J = 7.3 Hz, 6
H);1.4-1.5 (m, 4H); 1.62 (dd, J = 12.5および2.9 H
z, 4H);2.42 (t, J = 7.1 Hz, 4H); 2.43 (t, J = 7.1
Hz, 4H);2.78 (t, J = 7.1 Hz, 4H); 2.98 (tt, J = 1
2.2および2.9 Hz, 2H);4.13 (q, J = 7.3 Hz, 4H) ppm.
【００６９】例３ ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−オクタデ
シルオキシカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン（化合物Ｏ）の製造
シルオキシカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６
−ヘキサンジアミン（化合物Ｏ）の製造
【００７０】撹拌機および還流冷却機を備えた四つ口フ
ラスコに、例１で得たＮ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカ
ルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジ
アミン（化合物Ａ）２０.0ｇ（３５ミリモル）、ステア
リルアルコール２１.0ｇ（７７ミリモル）およびトルエ
ン２００mlを仕込み、還流下で撹拌した。そこへ、リチ
ウムアミド０.1ｇ（４ミリモル）とメタノール３ｇとの
溶液を滴下した。その後、トルエンを追加しながら溶媒
を留去させ、反応を完結させた。４時間反応させたあ
と、トルエンを追加し、室温まで冷却した。有機層を水
で３回洗浄したあと濃縮し、標記化合物Ｏを２３ｇ（２
２ミリモル）、収率６３％で得た。Ｎ，Ｎ′−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，６−ヘキサンジアミン基準の収率は５４％と計算さ
れた。
ラスコに、例１で得たＮ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカ
ルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジ
アミン（化合物Ａ）２０.0ｇ（３５ミリモル）、ステア
リルアルコール２１.0ｇ（７７ミリモル）およびトルエ
ン２００mlを仕込み、還流下で撹拌した。そこへ、リチ
ウムアミド０.1ｇ（４ミリモル）とメタノール３ｇとの
溶液を滴下した。その後、トルエンを追加しながら溶媒
を留去させ、反応を完結させた。４時間反応させたあ
と、トルエンを追加し、室温まで冷却した。有機層を水
で３回洗浄したあと濃縮し、標記化合物Ｏを２３ｇ（２
２ミリモル）、収率６３％で得た。Ｎ，Ｎ′−ビス
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，６−ヘキサンジアミン基準の収率は５４％と計算さ
れた。
【００７１】 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ １０４３（Ｍ＋
１)+ 元素分析値（Ｃ66Ｈ130Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 75.9％ Ｈ 13.0％ Ｎ 5.0％ 計算値 Ｃ 76.0％ Ｈ 12.6％ Ｎ 5.4％ 融点： ４５〜４６℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.88
(t, J = 6.6 Hz, 6H); 1.0-1.5 (m, 68H);1.04 (dd, J
= 12.3および12.2 Hz, 4H);1.12 (s, 12H); 1.19 (s, 1
2H); 1.6-1.7 (m, 4H);1.63 (dd, J = 12.2および2.6 H
z, 4H); 2.42 (t, J = 7.1 Hz, 8H);2.78 (t, J = 7.1
Hz, 4H); 2.97 (tt, J = 12.3および2.6 Hz, 2H);4.05
(t, J = 6.7 Hz, 4H) ppm.
１)+ 元素分析値（Ｃ66Ｈ130Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 75.9％ Ｈ 13.0％ Ｎ 5.0％ 計算値 Ｃ 76.0％ Ｈ 12.6％ Ｎ 5.4％ 融点： ４５〜４６℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.88
(t, J = 6.6 Hz, 6H); 1.0-1.5 (m, 68H);1.04 (dd, J
= 12.3および12.2 Hz, 4H);1.12 (s, 12H); 1.19 (s, 1
2H); 1.6-1.7 (m, 4H);1.63 (dd, J = 12.2および2.6 H
z, 4H); 2.42 (t, J = 7.1 Hz, 8H);2.78 (t, J = 7.1
Hz, 4H); 2.97 (tt, J = 12.3および2.6 Hz, 2H);4.05
(t, J = 6.7 Hz, 4H) ppm.
【００７２】例４（比較）： マイケル付加によるＮ，
Ｎ′−ビス（２−オクタデシルオキシカルボニルエチ
ル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン（化合
物Ｏ）の製造
Ｎ′−ビス（２−オクタデシルオキシカルボニルエチ
ル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン（化合
物Ｏ）の製造
【００７３】１リットルの四つ口フラスコに、Ｎ，Ｎ′
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン２０ｇ（５０ミリモ
ル）およびメタノール２００ｇを仕込んで完溶させた。
これに、アクリル酸オクタデシル３２.4ｇ（０.1モル）
をメタノール１００ｇに溶かした溶液を室温で滴下し、
その後還流下で１２時間反応させた。溶媒を留去し、Ｆ
Ｄ−ＭＳ測定を行った結果、Ｎ−（２−オクタデシルオ
キシカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミンが少量生成していたが、標記化合物Ｏは
確認されなかった。
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン２０ｇ（５０ミリモ
ル）およびメタノール２００ｇを仕込んで完溶させた。
これに、アクリル酸オクタデシル３２.4ｇ（０.1モル）
をメタノール１００ｇに溶かした溶液を室温で滴下し、
その後還流下で１２時間反応させた。溶媒を留去し、Ｆ
Ｄ−ＭＳ測定を行った結果、Ｎ−（２−オクタデシルオ
キシカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミンが少量生成していたが、標記化合物Ｏは
確認されなかった。
【００７４】例５〜１６ ： エステル交換による他の
化合物の製造
化合物の製造
【００７５】原料のアルコールを代える以外は例３に準
じた操作を施すことにより、表１に示す化合物をそれぞ
れの収率で得た。ここでの収率は、化合物Ａ基準であ
る。
じた操作を施すことにより、表１に示す化合物をそれぞ
れの収率で得た。ここでの収率は、化合物Ａ基準であ
る。
【００７６】
【化１２】
【００７７】
【表１】
【００７８】化合物Ｂ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ８１６（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ48Ｈ92Ｎ6Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 70.3％、Ｈ 11.4％、Ｎ 10.0％ 計算値 Ｃ 70.5％、Ｈ 11.3％、Ｎ 10.3％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 1.05 (d
d, J = 12.3および12.2 Hz, 4H); 1.13 (s, 12H);1.16
(s, 12H); 1.19 (s, 12H); 1.23 (s, 12H);1.1-1.5 (m,
12H); 1.63 (dd, J = 12.3および2.7 Hz, 4H);1.93 (d
d, J = 12.5および4.2 Hz, 4H); 2.40 (t, J = 7.4 Hz,
4H);2.43 (t, J = 7.6 Hz, 4H); 2.78 (t, J = 7.4 H
z, 4H);2.98 (tt, J = 12.2および2.7 Hz, 2H);5.20 (t
t, J = 11.4および4.2 Hz, 2H) ppm.
d, J = 12.3および12.2 Hz, 4H); 1.13 (s, 12H);1.16
(s, 12H); 1.19 (s, 12H); 1.23 (s, 12H);1.1-1.5 (m,
12H); 1.63 (dd, J = 12.3および2.7 Hz, 4H);1.93 (d
d, J = 12.5および4.2 Hz, 4H); 2.40 (t, J = 7.4 Hz,
4H);2.43 (t, J = 7.6 Hz, 4H); 2.78 (t, J = 7.4 H
z, 4H);2.98 (tt, J = 12.2および2.7 Hz, 2H);5.20 (t
t, J = 11.4および4.2 Hz, 2H) ppm.
【００７９】化合物Ｅ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ６２２（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ36Ｈ70Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 69.5％、Ｈ 11.1％、Ｎ 9.0％ 計算値 Ｃ 69.4％、Ｈ 11.3％、Ｎ 9.0％ 融点： ４３〜４４℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.95
(t, J = 7.0 Hz, 6H);1.04 (dd, J = 12.5および12.2 H
z, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.3 (m, 4
H); 1.4-1.5 (m, 4H);1.63 (dd, J = 12.5および3.0 H
z, 4H); 1.6-1.7 (m, 4H);2.43 (t, J = 7.3 Hz, 8H);
2.78 (t, J = 7.3 Hz, 4H);2.98 (tt, J = 12.2および
3.0 Hz, 2H);4.03 (t, J = 7.0 Hz, 4H) ppm.
(t, J = 7.0 Hz, 6H);1.04 (dd, J = 12.5および12.2 H
z, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.3 (m, 4
H); 1.4-1.5 (m, 4H);1.63 (dd, J = 12.5および3.0 H
z, 4H); 1.6-1.7 (m, 4H);2.43 (t, J = 7.3 Hz, 8H);
2.78 (t, J = 7.3 Hz, 4H);2.98 (tt, J = 12.2および
3.0 Hz, 2H);4.03 (t, J = 7.0 Hz, 4H) ppm.
【００８０】化合物Ｆ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ６２２（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ36Ｈ70Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 69.2％、Ｈ 11.1％、Ｎ 9.4％ 計算値 Ｃ 69.4％、Ｈ 11.3％、Ｎ 9.0％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 1.04 (d
d, J = 12.5および12.2 Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19
(s, 12H); 1.2-1.3 (m, 4H); 1.24 (d, J = 6.3 Hz, 12
H);1.4-1.5 (m, 4H); 1.63 (dd, J = 12.5および3.0 H
z, 4H);2.39 (t, J = 7.0 Hz, 4H); 2.42 (t, J = 7.3
Hz, 4H);2.77 (t, J = 7.3 Hz, 4H); 2.98 (tt, J = 1
2.2および3.0 Hz, 2H);5.00 (hept, J = 6.3 Hz, 2H) p
pm.
d, J = 12.5および12.2 Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19
(s, 12H); 1.2-1.3 (m, 4H); 1.24 (d, J = 6.3 Hz, 12
H);1.4-1.5 (m, 4H); 1.63 (dd, J = 12.5および3.0 H
z, 4H);2.39 (t, J = 7.0 Hz, 4H); 2.42 (t, J = 7.3
Hz, 4H);2.77 (t, J = 7.3 Hz, 4H); 2.98 (tt, J = 1
2.2および3.0 Hz, 2H);5.00 (hept, J = 6.3 Hz, 2H) p
pm.
【００８１】化合物Ｇ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ６５０（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ38Ｈ74Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 70.2％、Ｈ 11.2％、Ｎ 8.7％ 計算値 Ｃ 70.1％、Ｈ 11.5％、Ｎ 8.6％ 融点： ６６〜６７℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.94
(t, J = 7.3 Hz, 6H); 0.9-1.1 (m, 4H); 1.12 (s, 12
H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.3 (m, 4H); 1.3-1.5 (m, 8
H); 1.6-1.7 (m, 8H);2.42 (t, J =7.3 Hz, 8H); 2.78
(t, J = 7.3 Hz, 4H);2.97 (tt, J = 12.2および3.1 H
z, 2H);4.07 (t, J = 6.6 Hz, 4H) ppm.
(t, J = 7.3 Hz, 6H); 0.9-1.1 (m, 4H); 1.12 (s, 12
H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.3 (m, 4H); 1.3-1.5 (m, 8
H); 1.6-1.7 (m, 8H);2.42 (t, J =7.3 Hz, 8H); 2.78
(t, J = 7.3 Hz, 4H);2.97 (tt, J = 12.2および3.1 H
z, 2H);4.07 (t, J = 6.6 Hz, 4H) ppm.
【００８２】化合物Ｈ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ６５０（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ38Ｈ74Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 70.2％、Ｈ 12.0％、Ｎ 8.6％ 計算値 Ｃ 70.1％、Ｈ 11.5％、Ｎ 8.6％ 融点： ７２〜７３℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.94
(d, J = 6.6 Hz, 12H);1.04 (dd, J = 12.5および12.2
Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.3 (m,
4H); 1.4-1.5 (m, 4H);1.63 (dd, J = 12.5および3.0 H
z, 4H); 1.8-2.0 (m, 2H);2.44 (t, J = 7.3 Hz, 8H);
2.79 (t, J = 7.3 Hz, 4H);2.98 (tt, J = 12.2および
3.0 Hz, 2H);3.86 (d, J = 6.6 Hz, 4H) ppm.
(d, J = 6.6 Hz, 12H);1.04 (dd, J = 12.5および12.2
Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.3 (m,
4H); 1.4-1.5 (m, 4H);1.63 (dd, J = 12.5および3.0 H
z, 4H); 1.8-2.0 (m, 2H);2.44 (t, J = 7.3 Hz, 8H);
2.79 (t, J = 7.3 Hz, 4H);2.98 (tt, J = 12.2および
3.0 Hz, 2H);3.86 (d, J = 6.6 Hz, 4H) ppm.
【００８３】化合物Ｉ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ６７８（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ40Ｈ78Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 70.7％、Ｈ 11.8％、Ｎ 8.3％ 計算値 Ｃ 70.8％、Ｈ 11.6％、Ｎ 8.3％ 融点： ３６〜３７℃1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.91
(t, J = 7.1 Hz, 6H); 0.9-1.1 (m, 4H); 1.12 (s, 12
H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m, 16H); 1.6-1.7 (m, 8
H);2.42 (t, J = 7.2 Hz, 8H); 2.78 (t, J = 7.2 Hz,
4H);2.97 (tt, J = 12.4および3.1 Hz, 2H);4.06 (t, J
= 6.9 Hz, 4H) ppm.
(t, J = 7.1 Hz, 6H); 0.9-1.1 (m, 4H); 1.12 (s, 12
H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m, 16H); 1.6-1.7 (m, 8
H);2.42 (t, J = 7.2 Hz, 8H); 2.78 (t, J = 7.2 Hz,
4H);2.97 (tt, J = 12.4および3.1 Hz, 2H);4.06 (t, J
= 6.9 Hz, 4H) ppm.
【００８４】化合物Ｊ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ７０６（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ42Ｈ82Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 71.4％、Ｈ 12.0％、Ｎ 8.1％ 計算値 Ｃ 71.3％、Ｈ 11.7％、Ｎ 8.0％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.89
(t, J = 6.8Hz, 6H); 0.9-1.1 (m, 4H); 1.12 (s, 12
H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m, 20H); 1.6-1.7 (m, 8
H);2.42 (t, J = 7.2 Hz, 8H); 2.78 (t, J = 7.2 Hz,
4H);2.97 (tt, J = 12.2および3.0 Hz, 2H);4.06 (t, J
= 6.8 Hz, 4H) ppm.
(t, J = 6.8Hz, 6H); 0.9-1.1 (m, 4H); 1.12 (s, 12
H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m, 20H); 1.6-1.7 (m, 8
H);2.42 (t, J = 7.2 Hz, 8H); 2.78 (t, J = 7.2 Hz,
4H);2.97 (tt, J = 12.2および3.0 Hz, 2H);4.06 (t, J
= 6.8 Hz, 4H) ppm.
【００８５】化合物Ｋ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ７０４（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ42Ｈ78Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 71.6％、Ｈ 11.4％、Ｎ 8.4％ 計算値 Ｃ 71.8％、Ｈ 11.2％、Ｎ 8.0％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 1.04 (d
d, J = 12.5および12.2 Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19
(s, 12H); 1.2-2.0 (m, 28H);1.63 (dd, J = 12.5およ
び3.0 Hz, 4H); 2.40 (t, J = 7.3 Hz, 4H);2.43 (t, J
= 6.3 Hz, 4H); 2.78 (t, J = 7.3Hz, 4H);2.98 (tt,
J = 12.2および3.0 Hz, 2H); 4.7-4.8 (m, 2H) ppm.
d, J = 12.5および12.2 Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19
(s, 12H); 1.2-2.0 (m, 28H);1.63 (dd, J = 12.5およ
び3.0 Hz, 4H); 2.40 (t, J = 7.3 Hz, 4H);2.43 (t, J
= 6.3 Hz, 4H); 2.78 (t, J = 7.3Hz, 4H);2.98 (tt,
J = 12.2および3.0 Hz, 2H); 4.7-4.8 (m, 2H) ppm.
【００８６】化合物Ｌ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ７６２（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ46Ｈ90Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 72.1％、Ｈ 12.4％、Ｎ 7.5％ 計算値 Ｃ 72.4％、Ｈ 11.9％、Ｎ 7.4％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.88
(t, J = 6.8 Hz, 6H);1.04 (dd, J = 12.5および12.2 H
z, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m, 2
8H); 1.6-1.7 (m, 4H);1.63 (dd, J = 12.5および2.6 H
z, 4H); 2.42 (t, J = 7.2Hz, 8H);2.78 (t, J = 7.2 H
z, 4H); 2.97 (tt, J = 12.2および2.6 Hz, 2H);4.06
(t, J = 6.8Hz, 4H) ppm.
(t, J = 6.8 Hz, 6H);1.04 (dd, J = 12.5および12.2 H
z, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m, 2
8H); 1.6-1.7 (m, 4H);1.63 (dd, J = 12.5および2.6 H
z, 4H); 2.42 (t, J = 7.2Hz, 8H);2.78 (t, J = 7.2 H
z, 4H); 2.97 (tt, J = 12.2および2.6 Hz, 2H);4.06
(t, J = 6.8Hz, 4H) ppm.
【００８７】化合物Ｍ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ７６３（Ｍ＋
１)+ 元素分析値（Ｃ46Ｈ90Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 72.4％、Ｈ 11.5％、Ｎ 7.8％ 計算値 Ｃ 72.4％、Ｈ 11.9％、Ｎ 7.4％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.89
(t, J = 7.4 Hz, 12H);1.04 (dd, J = 12.9および12.1
Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m,
24H); 1.5-1.7 (m, 2H);1.63 (dd, J = 12.9および3.0
Hz, 4H); 2.43 (t, J = 7.3 Hz, 8H);2.79 (t, J = 7.3
Hz, 4H); 2.97 (tt, J = 12.1および3.0 Hz, 2H);3.98
(dd, J = 5.8および1.2 Hz, 4H) ppm.
１)+ 元素分析値（Ｃ46Ｈ90Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 72.4％、Ｈ 11.5％、Ｎ 7.8％ 計算値 Ｃ 72.4％、Ｈ 11.9％、Ｎ 7.4％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.89
(t, J = 7.4 Hz, 12H);1.04 (dd, J = 12.9および12.1
Hz, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m,
24H); 1.5-1.7 (m, 2H);1.63 (dd, J = 12.9および3.0
Hz, 4H); 2.43 (t, J = 7.3 Hz, 8H);2.79 (t, J = 7.3
Hz, 4H); 2.97 (tt, J = 12.1および3.0 Hz, 2H);3.98
(dd, J = 5.8および1.2 Hz, 4H) ppm.
【００８８】化合物Ｎ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ８７４（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ54Ｈ106Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 74.0％、Ｈ 12.7％、Ｎ 6.0％ 計算値 Ｃ 74.1％、Ｈ 12.2％、Ｎ 6.4％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 0.88
(t, J = 6.8 Hz, 6H);1.04 (dd, J = 12.3および12.2 H
z, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m, 4
0H); 1.6-1.7 (m, 8H);1.63 (dd, J = 12.2および2.5 H
z, 4H); 2.42 (t, J = 7.2 Hz, 8H);2.78 (t, J = 7.2
Hz, 4H); 2.97 (tt, J = 12.3および2.5 Hz, 2H);4.05
(t, J = 6.8 Hz, 4H) ppm.
(t, J = 6.8 Hz, 6H);1.04 (dd, J = 12.3および12.2 H
z, 4H); 1.12 (s, 12H);1.19 (s, 12H); 1.2-1.5 (m, 4
0H); 1.6-1.7 (m, 8H);1.63 (dd, J = 12.2および2.5 H
z, 4H); 2.42 (t, J = 7.2 Hz, 8H);2.78 (t, J = 7.2
Hz, 4H); 2.97 (tt, J = 12.3および2.5 Hz, 2H);4.05
(t, J = 6.8 Hz, 4H) ppm.
【００８９】化合物Ｐ： 質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ７１８（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ44Ｈ70Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 73.3％、Ｈ 10.3％、Ｎ 7.7％ 計算値 Ｃ 73.5％、Ｈ 9.8％、Ｎ 7.8％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 1.02 (d
d, J = 12.5および12.0 Hz, 4H); 1.10 (s, 12H);1.16
(s, 12H); 1.3-1.4 (m, 4H); 1.4-1.6 (m, 4H);1.60 (d
d, J = 12.5および3.0 Hz, 4H); 2.42 (t, J = 7.3 Hz,
4H);2.48 (t, J = 7.3 Hz, 4H); 2.80 (t, J = 7.3 H
z, 4H);2.96 (tt, J = 12.0および3.0 Hz, 2H); 5.11
(s, 4H);7.3-7.5 (m, 10H) ppm.
d, J = 12.5および12.0 Hz, 4H); 1.10 (s, 12H);1.16
(s, 12H); 1.3-1.4 (m, 4H); 1.4-1.6 (m, 4H);1.60 (d
d, J = 12.5および3.0 Hz, 4H); 2.42 (t, J = 7.3 Hz,
4H);2.48 (t, J = 7.3 Hz, 4H); 2.80 (t, J = 7.3 H
z, 4H);2.96 (tt, J = 12.0および3.0 Hz, 2H); 5.11
(s, 4H);7.3-7.5 (m, 10H) ppm.
【００９０】例１７（比較）： マイケル付加による
Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル）
−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン（化合物
Ｇ）の製造
Ｎ，Ｎ′−ビス（２−ｎ−ブトキシカルボニルエチル）
−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミン（化合物
Ｇ）の製造
【００９１】例４で用いたアクリル酸オクタデシルの代
わりに等モルのアクリル酸ｎ−ブチルを用いた以外は、
例４に準じた操作を施すことにより、 標記化合物Ｇを
収率５３％で得た。
わりに等モルのアクリル酸ｎ−ブチルを用いた以外は、
例４に準じた操作を施すことにより、 標記化合物Ｇを
収率５３％で得た。
【００９２】例１８ ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキ
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミン（化合物Ｑ）の製造
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘ
キサンジアミン（化合物Ｑ）の製造
【００９３】撹拌機および還流冷却機を備えた四つ口フ
ラスコに、ホルムアルデヒドの３７％水溶液３.7ｇ（４
１ミリモル）、トルエン１００mlおよび蟻酸１.9ｇ（４
１ミリモル）を仕込んだ。そこへ、例１で得たＮ，Ｎ′
−ビス（２−メトキシカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン（化合物Ａ）１０ｇ
（１７ミリモル）をトルエン５０mlに溶かした溶液を滴
下したあと、３時間還流させた。反応終了後、５％水酸
化ナトリウム水溶液を投入して分液し、さらに有機層を
水で３回洗浄した。溶媒を留去し、粘性液体として標記
化合物Ｑを９ｇ（１５ミリモル）、収率８８％で得た。
ラスコに、ホルムアルデヒドの３７％水溶液３.7ｇ（４
１ミリモル）、トルエン１００mlおよび蟻酸１.9ｇ（４
１ミリモル）を仕込んだ。そこへ、例１で得たＮ，Ｎ′
−ビス（２−メトキシカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−１，６−ヘキサンジアミン（化合物Ａ）１０ｇ
（１７ミリモル）をトルエン５０mlに溶かした溶液を滴
下したあと、３時間還流させた。反応終了後、５％水酸
化ナトリウム水溶液を投入して分液し、さらに有機層を
水で３回洗浄した。溶媒を留去し、粘性液体として標記
化合物Ｑを９ｇ（１５ミリモル）、収率８８％で得た。
【００９４】質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ５
９４（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ34Ｈ66Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 69.7％、Ｈ 11.1％、Ｎ 10.2％ 計算値 Ｃ 68.6％、Ｈ 11.2％、Ｎ 9.4％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 1.00
(s, 12H); 1.14 (s, 12H); 1.1-1.6 (m, 16H); 2.22
(s, 6H);2.42 (t, J = 7.0 Hz, 4H); 2.43 (t, J = 7.0
Hz, 4H);2.78 (t, J = 7.0 Hz, 4H); 2.8-2.9 (m, 2
H); 3.66 (s, 6H) ppm.
９４（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ34Ｈ66Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 69.7％、Ｈ 11.1％、Ｎ 10.2％ 計算値 Ｃ 68.6％、Ｈ 11.2％、Ｎ 9.4％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、ＣＤＣｌ3 ）：δ 1.00
(s, 12H); 1.14 (s, 12H); 1.1-1.6 (m, 16H); 2.22
(s, 6H);2.42 (t, J = 7.0 Hz, 4H); 2.43 (t, J = 7.0
Hz, 4H);2.78 (t, J = 7.0 Hz, 4H); 2.8-2.9 (m, 2
H); 3.66 (s, 6H) ppm.
【００９５】例１９ ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−カルボ
キシエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン（化合物Ｃ）の製造
キシエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジアミ
ン（化合物Ｃ）の製造
【００９６】撹拌機および還流冷却機を備えた四つ口フ
ラスコに、例１で得たＮ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカ
ルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジ
アミン（化合物Ａ）２６.3ｇ（４６ミリモル）および水
１００ｇを仕込み、室温で撹拌した。化合物Ａの溶解を
確認したあと、ヘキサン１００mlを加え、分液した。水
層を濃縮して、標記化合物Ｃを２３ｇ（４３ミリモ
ル）、収率９２％で得た。
ラスコに、例１で得たＮ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカ
ルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジ
アミン（化合物Ａ）２６.3ｇ（４６ミリモル）および水
１００ｇを仕込み、室温で撹拌した。化合物Ａの溶解を
確認したあと、ヘキサン１００mlを加え、分液した。水
層を濃縮して、標記化合物Ｃを２３ｇ（４３ミリモ
ル）、収率９２％で得た。
【００９７】質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ５
３８（Ｍ)+ 融点： ＞２５０℃ 元素分析値（Ｃ30Ｈ58Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 66.4％、Ｈ 10.9％、Ｎ 10.2％ 計算値 Ｃ 66.9％、Ｈ 10.9％、Ｎ 10.4％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、Ｄ2Ｏ）：δ 1.3-1.5 (m,
4H); 1.37 (s, 12H); 1.43 (s, 12H);1.5-1.7 (m, 8H);
1.9-2.1 (m, 4H); 2.44 (t, J = 7.6 Hz, 4H);2.72
(t, J = 7.8 Hz, 4H); 2.97 (t, J = 7.6 Hz, 4H);3.3-
3.4 (m, 2H) ppm.
３８（Ｍ)+ 融点： ＞２５０℃ 元素分析値（Ｃ30Ｈ58Ｎ4Ｏ4 ）： 実測値 Ｃ 66.4％、Ｈ 10.9％、Ｎ 10.2％ 計算値 Ｃ 66.9％、Ｈ 10.9％、Ｎ 10.4％1 Ｈ−ＮＭＲ（２７０ MHz、Ｄ2Ｏ）：δ 1.3-1.5 (m,
4H); 1.37 (s, 12H); 1.43 (s, 12H);1.5-1.7 (m, 8H);
1.9-2.1 (m, 4H); 2.44 (t, J = 7.6 Hz, 4H);2.72
(t, J = 7.8 Hz, 4H); 2.97 (t, J = 7.6 Hz, 4H);3.3-
3.4 (m, 2H) ppm.
【００９８】例２０ ： Ｎ，Ｎ′−ビス（２−メトキ
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（１−ヒドロキ
シ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
−１，６−ヘキサンジアミン（化合物Ｓ）の製造
シカルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（１−ヒドロキ
シ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
−１，６−ヘキサンジアミン（化合物Ｓ）の製造
【００９９】撹拌機および還流冷却機を備えた四つ口フ
ラスコに、例１で得たＮ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカ
ルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジ
アミン（化合物Ａ）２０.0ｇ（３５ミリモル）、モリブ
デンヘキサカルボニル０.2ｇ（０.7５ミリモル）および
ジクロロエタン２００mlを仕込み、６０℃で撹拌した。
そこへ、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド２８ｇ（２４８
ミリモル）をゆっくり滴下した。その後還流下で８時間
反応させ、無機物を濾過したあと、５％亜硫酸ナトリウ
ム水溶液で洗浄した。溶媒を濃縮し、生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１）で精製した。さらに、ここで得られた生成物
を、乾燥テトラヒドロフラン１００ml、硫酸マグネシウ
ム５ｇおよび炭素上の５％パラジウム２ｇとともにオー
トクレーブに仕込み、水素圧を１０気圧かけて、室温で
１６時間撹拌した。その後固形物を濾過し、溶媒を濃縮
したあと、生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、標記化
合物Ｓを６ｇ（１０ミリモル）、収率２８％で得た。
ラスコに、例１で得たＮ，Ｎ′−ビス（２−メトキシカ
ルボニルエチル）−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサンジ
アミン（化合物Ａ）２０.0ｇ（３５ミリモル）、モリブ
デンヘキサカルボニル０.2ｇ（０.7５ミリモル）および
ジクロロエタン２００mlを仕込み、６０℃で撹拌した。
そこへ、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド２８ｇ（２４８
ミリモル）をゆっくり滴下した。その後還流下で８時間
反応させ、無機物を濾過したあと、５％亜硫酸ナトリウ
ム水溶液で洗浄した。溶媒を濃縮し、生成物をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１）で精製した。さらに、ここで得られた生成物
を、乾燥テトラヒドロフラン１００ml、硫酸マグネシウ
ム５ｇおよび炭素上の５％パラジウム２ｇとともにオー
トクレーブに仕込み、水素圧を１０気圧かけて、室温で
１６時間撹拌した。その後固形物を濾過し、溶媒を濃縮
したあと、生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、標記化
合物Ｓを６ｇ（１０ミリモル）、収率２８％で得た。
【０１００】質量分析値（ＦＤ−ＭＳ）： ｍ／ｚ ５
９８（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ32Ｈ62Ｎ4Ｏ6 ）： 実測値 Ｃ 64.5％、Ｈ 10.4％、Ｎ 9.6％ 計算値 Ｃ 64.2％、Ｈ 10.4％、Ｎ 9.4％
９８（Ｍ)+ 元素分析値（Ｃ32Ｈ62Ｎ4Ｏ6 ）： 実測値 Ｃ 64.5％、Ｈ 10.4％、Ｎ 9.6％ 計算値 Ｃ 64.2％、Ｈ 10.4％、Ｎ 9.4％
【０１０１】例２１ ： ポリプロピレンの耐候性試験
【０１０２】〔配 合〕 未安定化ポリプロピレン １００ 部 ステアリン酸カルシウム 0.0５部 供試化合物 0.1 部
【０１０３】上記の配合物を、３０mmφの単軸押出機に
より２３０℃で溶融混練してペレット化した。このペレ
ットを、射出成形機により２３０℃で成形して１mm厚の
シートとし、このシートを試験片とした。この試験片
を、サンシャインウェザーオーメーター（光源：カーボ
ンアーク）中に入れ、ブラックパネル温度８３℃、降雨
スプレーなしの条件で光照射し、試験片の光照射面上に
亀裂が発生するまでの時間で耐候性を評価した。その結
果を表２に示した。
より２３０℃で溶融混練してペレット化した。このペレ
ットを、射出成形機により２３０℃で成形して１mm厚の
シートとし、このシートを試験片とした。この試験片
を、サンシャインウェザーオーメーター（光源：カーボ
ンアーク）中に入れ、ブラックパネル温度８３℃、降雨
スプレーなしの条件で光照射し、試験片の光照射面上に
亀裂が発生するまでの時間で耐候性を評価した。その結
果を表２に示した。
【０１０４】
【表２】
【０１０５】例２２ ： ポリプロピレンの耐候性試験
【０１０６】 〔配 合〕 未安定化プロピレン／エチレンブロック共重合体*1 １００ 部 ステアリン酸カルシウム ０.0５部 フェノール系酸化防止剤*2 ０.1 部 リン系酸化防止剤*3 ０.0５部 供試化合物 ０.2 部*1 エチレン含量７.3％*2 ３，９−ビス〔２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキ
シ｝−１，１−ジメチルエチル〕−２，４，８，１０−
テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン*3 ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル） ペンタ
エリスリトール ジホスファイト
ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキ
シ｝−１，１−ジメチルエチル〕−２，４，８，１０−
テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン*3 ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル） ペンタ
エリスリトール ジホスファイト
【０１０７】上記配合物を、３０mmφの単軸押出機によ
り２３０℃で溶融混練してペレット化した。このペレッ
トを、射出成形機により２３０℃で成形して１mm厚のシ
ートにし、これを試験片とした。この試験片を、サンシ
ャインウェザーオーメーター（光源：カーボンアーク）
中に入れ、ブラックパネル温度８３℃、降雨スプレーサ
イクル１２分／６０分の条件で光照射し、試験片の光照
射面上に亀裂が発生するまでの時間で耐候性を評価し
た。その結果を表３に示した。
り２３０℃で溶融混練してペレット化した。このペレッ
トを、射出成形機により２３０℃で成形して１mm厚のシ
ートにし、これを試験片とした。この試験片を、サンシ
ャインウェザーオーメーター（光源：カーボンアーク）
中に入れ、ブラックパネル温度８３℃、降雨スプレーサ
イクル１２分／６０分の条件で光照射し、試験片の光照
射面上に亀裂が発生するまでの時間で耐候性を評価し
た。その結果を表３に示した。
【０１０８】
【化１３】
【０１０９】
【表３】
【０１１０】
【発明の効果】本発明によれば、特定のヒンダードピペ
リジン化合物が、ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂を
はじめとする各種有機材料に対して、安定剤、特に光安
定剤として優れた性能を付与する。例えばこの化合物を
配合した樹脂は、使用時の光酸化劣化に対して安定であ
り、またこの化合物の配合による樹脂の色相変化の心配
もないので、高品質な製品を得ることができる。
リジン化合物が、ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂を
はじめとする各種有機材料に対して、安定剤、特に光安
定剤として優れた性能を付与する。例えばこの化合物を
配合した樹脂は、使用時の光酸化劣化に対して安定であ
り、またこの化合物の配合による樹脂の色相変化の心配
もないので、高品質な製品を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本田 幸宏 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 佐々木 万治 大阪市此花区春日出中３丁目１番98号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 八児 真一 大阪市中央区北浜四丁目５番33号 住友 化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−233973（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−251660（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−152462（ＪＰ，Ａ) 欧州特許出願公開34829（ＥＰ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 211/58,211/94 C08K 5/3435 C08L 101/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (14)
- 【請求項１】式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｒ1はＮ−位が無置換のもしくは置換された
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、また
は環状部分を含んでもよい炭素数１から１２のアルキル
を表し、Ｒ2は水素、環状部分を含んでもよい炭素数１
から１０のアルキル、環状部分を含んでもよい炭素数１
から１８のアルキルオキシ、または水酸基を表し、ｎは
２から８の整数を表す）で示されるヒンダードピペリジ
ン化合物を有効成分とする有機材料用安定剤。 - 【請求項２】Ｒ1 が２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジルであり、そのＮ−位が無置換であるかまた
は、環状部分を含んでもよい炭素数１から１０のアルキ
ル、環状部分を含んでもよい炭素数１から１８のアルキ
ルオキシおよび水酸基から選ばれる置換基により置換さ
れている請求項１記載の安定剤。 - 【請求項３】２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルがＮ−無置換であるか、またはＮ−位に炭素数１
から３のアルキル、オクチルオキシおよびシクロヘキシ
ルオキシから選ばれる置換基を有する請求項２記載の安
定剤。 - 【請求項４】Ｒ1 がメチルである請求項１記載の安定
剤。 - 【請求項５】Ｒ2 が水素、炭素数１から３のアルキル、
オクチルオキシ、シクロヘキシルオキシまたは水酸基で
ある請求項１から４のいずれかに記載の安定剤。 - 【請求項６】ｎが６である請求項１から５のいずれかに
記載の安定剤。 - 【請求項７】有機材料に、請求項１から６のいずれかに
記載の安定剤を安定化有効量配合することを特徴とする
有機材料の安定化方法。 - 【請求項８】有機材料に、請求項１から６のいずれかに
記載の安定剤を含有させてなる安定化有機材料組成物。 - 【請求項９】式（Ｉ） 【化２】 （式中、Ｒ1はＮ−位が無置換のもしくは置換された
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、また
は環状部分を含んでもよい炭素数１から１２のアルキル
を表し、Ｒ2は水素、環状部分を含んでもよい炭素数１
から１０のアルキル、環状部分を含んでもよい炭素数１
から１８のアルキルオキシ、または水酸基を表し、ｎは
２から８の整数を表す）で示されるヒンダードピペリジ
ン化合物。 - 【請求項１０】Ｒ1 が２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジルであり、そのＮ−位が無置換であるかま
たは、環状部分を含んでもよい炭素数１から１０のアル
キル、環状部分を含んでもよい炭素数１から１８のアル
キルオキシおよび水酸基から選ばれる置換基により置換
されている請求項９記載の化合物。 - 【請求項１１】２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジルがＮ−無置換であるか、またはＮ−位に炭素数
１から３のアルキル、オクチルオキシおよびシクロヘキ
シルオキシから選ばれる置換基を有する請求項１０記載
の化合物。 - 【請求項１２】Ｒ2 が水素、炭素数１から３のアルキ
ル、オクチルオキシ、シクロヘキシルオキシまたは水酸
基である請求項９から１１のいずれかに記載の化合物。 - 【請求項１３】ｎが６である請求項９から１２のいずれ
かに記載の化合物。 - 【請求項１４】式（Ia） 【化３】 （式中、Ｒ11はメチルまたはエチルを表し、Ｒ2 は水
素、環状部分を含んでもよい炭素数１から１０のアルキ
ル、または環状部分を含んでもよい炭素数１から１８の
アルキルオキシを表し、ｎは２から８の整数を表す）で
示される低級アルキルエステルと、式（Ｖ） 【化４】Ｒ1ＯＨ （Ｖ） （式中、Ｒ1 はＮ−位が無置換のもしくは置換された
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル、 環
状部分を含んでもよい炭素数３から１８のアルキル、ま
たは炭素数７から１８のアリールアルキルを表す）で示
されるアルコールとを、エステル交換触媒の存在下で反
応させることを特徴とする、式（Ｉ） 【化５】 （式中、Ｒ1 およびＲ2 は前記の意味を有する）で示さ
れるヒンドードピペリジン化合物の製法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02541693A JP3218771B2 (ja) | 1992-05-13 | 1993-02-15 | ヒンダードピペリジン化合物による有機材料の安定化および該化合物の製造 |
| US08/056,880 US5384348A (en) | 1992-05-13 | 1993-05-05 | Hindered piperidine stabilizers and production thereof |
| US08/305,365 US5506286A (en) | 1992-05-13 | 1994-09-13 | Method for stabilizing an organic material using a hindered piperidine compound |
| US08/578,926 US5714612A (en) | 1992-05-13 | 1995-12-27 | Hindered piperidine stabilizers and production thereof |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12043092 | 1992-05-13 | ||
| JP4-120430 | 1992-05-13 | ||
| JP02541693A JP3218771B2 (ja) | 1992-05-13 | 1993-02-15 | ヒンダードピペリジン化合物による有機材料の安定化および該化合物の製造 |
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| JP02541693A Expired - Fee Related JP3218771B2 (ja) | 1992-05-13 | 1993-02-15 | ヒンダードピペリジン化合物による有機材料の安定化および該化合物の製造 |
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| AR018063A1 (es) * | 1998-02-13 | 2001-10-31 | Basf Se | Poliamida inherentemente estabilizada frente a la luz y al calor y metodo para su obtencion. |
| DE19812135A1 (de) * | 1998-03-20 | 1999-09-23 | Basf Ag | Inhärent licht- und hitzestabilisierte Polyamide mit verbesserter Naßechtheit |
| US6947802B2 (en) * | 2000-04-10 | 2005-09-20 | Hypertherm, Inc. | Centralized control architecture for a laser materials processing system |
| US7932218B2 (en) * | 2006-07-31 | 2011-04-26 | Ciba Corporation | Lubricant composition |
| JP6137733B2 (ja) * | 2013-07-18 | 2017-05-31 | 株式会社大阪ソーダ | ジアリルフタレート樹脂組成物 |
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| JP6780556B2 (ja) * | 2017-03-21 | 2020-11-04 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 活性エネルギー線重合性組成物 |
| KR20220169087A (ko) * | 2021-06-18 | 2022-12-27 | 현대자동차주식회사 | 벤딩 강관 내면 스케일 제거 장치 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| IT1141369B (it) * | 1980-02-22 | 1986-10-01 | Montedison Spa | Acidi e corrispondenti sali contenenti il gruppo della 4-amminopiperidina tetra-alchil sostituita e composizioni polimeriche da essi stabilizzate |
| JPS58194931A (ja) * | 1982-05-07 | 1983-11-14 | Adeka Argus Chem Co Ltd | 合成樹脂組成物 |
| US4665185A (en) * | 1984-03-22 | 1987-05-12 | Ciba-Geigy Corporation | Process for preparing nitroxyls of sterically hindered amines |
| JPH0618927B2 (ja) * | 1985-04-17 | 1994-03-16 | 住友化学工業株式会社 | 合成樹脂用安定剤 |
| EP0309402B2 (en) * | 1987-09-21 | 2002-06-12 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | N-substituted hindered amine stabilizers |
| IT1223405B (it) * | 1987-12-04 | 1990-09-19 | Ciba Geigy Spa | Procedimento per la metilazione di composti triazinici contenenti gruppi 2,2,6,6 tetrametilpiperidinici |
| IT1252193B (it) * | 1991-12-12 | 1995-06-05 | Ciba Geigy Spa | Processo di preparazione di n,n'-bis (idrocarbilossicarboni)- n,n'-bis (2,2,,6,6-tetrametil-4-piperidil)diammine. |
-
1993
- 1993-02-15 JP JP02541693A patent/JP3218771B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-05-05 US US08/056,880 patent/US5384348A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-09-13 US US08/305,365 patent/US5506286A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-12-27 US US08/578,926 patent/US5714612A/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
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| US5506286A (en) | 1996-04-09 |
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