JP3218090B2 - 高分子電解質複合体の製造法 - Google Patents

高分子電解質複合体の製造法

Info

Publication number
JP3218090B2
JP3218090B2 JP20804392A JP20804392A JP3218090B2 JP 3218090 B2 JP3218090 B2 JP 3218090B2 JP 20804392 A JP20804392 A JP 20804392A JP 20804392 A JP20804392 A JP 20804392A JP 3218090 B2 JP3218090 B2 JP 3218090B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
monomer
polymer electrolyte
electrolyte composite
graft
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP20804392A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0649252A (ja
Inventor
高信 須郷
聰 田中
▲つよし▼ 筒井
Original Assignee
日本原子力研究所
日揮化学株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本原子力研究所, 日揮化学株式会社 filed Critical 日本原子力研究所
Priority to JP20804392A priority Critical patent/JP3218090B2/ja
Publication of JPH0649252A publication Critical patent/JPH0649252A/ja
Priority to US08/491,307 priority patent/US5648400A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3218090B2 publication Critical patent/JP3218090B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、放射線グラフト共重合
による産業上有用な高分子電解質複合体の製造法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】高分子電解質複合体は、ポリイオンコン
プレックスとも呼ばれ、ポリカチオンとポリアニオンと
をイオン架橋によって会合せしめゲル化を図ったもので
ある。
【０００３】実際的な面から応用が広く試みられている
ものに、ポリスチレンスルホン酸塩とポリビニルベンジ
ルトリメチルアンモニウム塩から形成されるポリイオン
コンプレックスがある。これは両成分の希薄溶液を混合
することによって得られ、水／極性溶媒／低分子塩の３
成分溶媒系を用いたキャスト法によりフィルムに、そし
て浸漬キャスト法により他の材料にコーティングされ
る。また、粒状ポリビニルベンジルトリメチルアンモニ
ウムクロリド樹脂へスチレンスルホン酸ナトリウムを浸
漬させた後、重合させることによっても得られ、スネー
クケージ樹脂として用いられる。
【０００４】しかし、これらポリイオンコンプレックス
は、耐熱性が悪い、乾燥した状態では柔軟性に乏しく堅
く脆いなど物理的性質に問題がある。また、織布、不織
布等へのコーティングでは、その空隙部が埋められてし
まい、その基材の特性を十分に生かせない場合も考えら
れる。
【０００５】以上のような物理的性質や加工性の問題を
解決するために、織布、不織布、ネット等へ成型加工し
た基材へスチレン、クロロメチルスチレン、ビニルベン
ジルジアルキルアミン等を放射線グラフト重合した後、
四級アンモニウム基、スルホン基を導入することが考え
られるが、官能基導入にともなう副反応の発生や官能基
量の制御など困難である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】物理的性質に優れ、用
途に適した形状へ成型加工の容易な、高分子電解質複合
体の製造法。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、前項に記した
要件を満たす高分子電解質複合体の製造法として、成型
加工した有機重合体に電離性放射線を照射した後、カチ
オン基を持つモノマーそしてアニオン基を持つモノマー
のグラフト共重合を用いて、カチオン基とアニオン基を
導入したことを特徴とする高分子電解質複合体の製造法
を解決手段として提供するものである。
【０００８】本発明に用いる基材の材質としては、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィンや、ハ
ロゲン化ポリオレフィン系のものが好適であるが、これ
らに限定されるものではない。放射線グラフト重合は、
基材の形状を比較的自由に選択できるので、用途に適し
た形状の基材を選ぶことができる。
【０００９】ここで放射線グラフト重合に用いられる電
離性放射線は、α、β、γ線、電子線、紫外線などがあ
り、いずれも使用可能であるが、γ線や電子線などが本
発明に適している。照射線量は基材によって異なるが、
５０ｋＧｙ〜３００ｋＧｙ、好ましくは１００ｋＧｙ〜
２００ｋＧｙである。過少な照射では、必要なグラフト
重合に十分なラジカルの生成量が得られず、過剰な照射
は、不経済であるばかりか、基材の不必要な架橋や、部
分的な分解によってグラフト重合を妨げることがある。
【００１０】基材に放射線を照射する方法としては、基
材とモノマーの共存下に放射線を照射する同時照射法
と、予め基材を照射した後、モノマーと接触させる前照
射法があるが、モノマーの単独重合物の生成の少ない前
照射法の方が有利である。
【００１１】本発明で使用するモノマーは、カチオン基
を持つモノマーとしてビニルベンジルトリメチルアンモ
ニウム塩が、アニオン基を持つモノマーとしてスチレン
スルホン酸塩が用いられるが、これらに限定されるもの
ではない。
【００１２】あらかじめ照射を受けた基材へのグラフト
重合は、基材とモノマー溶液とを無酸素下、液相で接触
させるだけでよい。
【００１３】モノマー溶液との接触時間は、基材や照射
線量により異なるが、３時間〜５時間で十分なグラフト
重合体が得られる。また、照射した基材に、ＳＳＳとＱ
Ｂｍ以外のモノマーを気相あるいは、含浸グラフト重合
した後でも、そのグラフト体に十分なラジカルが残って
いれば、続けてＳＳＳとＱＢｍモノマーと反応させるこ
とができる。
【００１４】反応温度は、３０℃〜８０℃、好ましくは
５０℃〜７０℃である。
【００１５】本発明の利点は、種々の形状に成型加工し
た有機重合体へ放射線前照射グラフト重合するだけでカ
チオン基とアニオン基を導入でき物理的性質に優れた高
分子電解質複合体が得られる点である。
【００１６】
【実施例】以下に本発明による製造法の実施例を説明す
る。
【００１７】
【実施例１】繊維径４０μｍのポリプロピレン製繊維よ
りなる不織布（倉敷繊維加工社製：ＣＦ−ＩＩＩ）に電
子線加速器を用いて、２００ｋＧｙを照射した後、予め
脱酸素したスチレンスルホン酸ナトリウム、トリメチル
ビニルベンジルアンモニウム塩及びアクリル酸の三成分
混合３６％水溶液中、５０℃で２時間３０分反応させ、
６１％のグラフト率で高分子電解質複合体グラフト不織
布を得た。
【００１８】
【実施例２】ポリビニルアルコールをグラフト重合させ
たポリプロピレン製繊維よりなる不織布（倉敷繊維加工
社製：ＣＦ−ＩＩＩ）に電子線加速器を用いて、１００
ｋＧｙを照射した後、予め脱酸素したスチレンスルホン
酸ナトリウムとトリメチルビニルベンジルアンモニウム
の混合１０％水溶液中、７０℃で３時間反応させ、１３
３％のグラフト率で高分子電解質複合体グラフト不織布
を得た。
【００１９】
【実施例３】エチレンとビニルアルコールの共重合体よ
りなる膜厚１５μｍのフィルム（昭和電工社製）に電子
線加速器を用いて１００ｋＧｙを照射した後、予め脱酸
素したスチレンスルホン酸ナトリウムとトリメチルビニ
ルベンジルアンモニウム塩の混合１０％水溶液中、７０
℃で２時間３０分反応させ、６０％のグラフト率で高分
子電解質複合体グラフトフィルムを得た。
【００２０】
【発明の効果】本発明により、形状自由で、物理的強度
に優れた高分子電解質複合体の製造が可能となった。
フロントページの続き (72)発明者 筒井 ▲つよし▼ 新潟県新津市滝谷本町１番26号 日揮化 学株式会社 新津事業所内 (56)参考文献 特開 昭58−10367（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08J 7/18

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 単繊維、単繊維の集合体である織布若し
    くは不織布、又は膜状材料へ成型加工した高分子基材
    に、カチオン基を持つモノマー及びアニオン基を持つモ
    ノマーを放射線照射処理によりグラフト重合させること
    からなる高分子電解質複合体の製造方法において、 カチオン基を持つモノマーが四級アンモニウム基を有す
    るビニルベンジルトリメチルアンンモニウム塩であり、
    アニオン基を持つモノマーがスチレンスルホン酸塩であ
    ることを特徴とする、前記方法。
JP20804392A 1992-08-04 1992-08-04 高分子電解質複合体の製造法 Expired - Fee Related JP3218090B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20804392A JP3218090B2 (ja) 1992-08-04 1992-08-04 高分子電解質複合体の製造法
US08/491,307 US5648400A (en) 1992-08-04 1995-06-16 Process for producing polymeric electrolyte complex and ion-exchange resin

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20804392A JP3218090B2 (ja) 1992-08-04 1992-08-04 高分子電解質複合体の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0649252A JPH0649252A (ja) 1994-02-22
JP3218090B2 true JP3218090B2 (ja) 2001-10-15

Family

ID=16549702

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20804392A Expired - Fee Related JP3218090B2 (ja) 1992-08-04 1992-08-04 高分子電解質複合体の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3218090B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5416222B2 (ja) * 2008-12-23 2014-02-12 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 官能化不織布物品
JP2019058843A (ja) * 2017-09-25 2019-04-18 株式会社Ihi 多機能膜及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0649252A (ja) 1994-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5648400A (en) Process for producing polymeric electrolyte complex and ion-exchange resin
Mizutani Structure of ion exchange membranes
CA1104008A (en) Hydrophilic porous structures and process for production thereof
US3375208A (en) Method for preparing a microporous thermoplastic resin material
CA1094982A (en) Single film, high performance bipolar membrane
US3546142A (en) Polyelectrolyte structures
Gupta et al. Crosslinked ion exchange membranes by radiation grafting of styrene/divinylbenzene into FEP films
CA2499515A1 (en) Process for preparing graft copolymers useful in membranes
JPH0724314A (ja) キレート型イオン吸着膜および製造方法
KR101188267B1 (ko) 올레핀계 첨가제를 함유한 음이온교환 복합막 및 이의 제조방법
Mizutani et al. Studies on ion‐exchange membranes. XXXII. Heterogeneity in ion‐exchange membranes
JP3245454B2 (ja) イオン交換樹脂の製造法
JP3218090B2 (ja) 高分子電解質複合体の製造法
US3271292A (en) Ion exchange membranes and spacers and process of making them
US3759738A (en) Graft polymeric substrate
US2884387A (en) Porous membrane materials and process for producing the same
US4608393A (en) Process for producing an ion exchange membrane using irradiation by ionizing radiation followed by thermal polymerization
US20060079594A1 (en) Process for preparing graft copolymer membranes
US4083768A (en) Preparation of high performance polyelectrolyte membrane
WO2003018655A1 (en) Process for preparing graft copolymer membranes
US5543045A (en) Charge mosaic membrane and production process thereof
JP2504885B2 (ja) イオン交換体の製造方法
KR101681637B1 (ko) 니트릴 고무를 함유한 스티렌계-tert-부틸스티렌계 양이온교환 복합막 및 이의 제조방법
ES366576A1 (es) Procedimiento para la preparacion de membranas intercambia-doras de cationes.
KR101190732B1 (ko) 올레핀계 첨가제를 함유한 양이온교환 복합막 및 이의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070803

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080803

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080803

Year of fee payment: 7

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080803

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080803

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090803

Year of fee payment: 8

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090803

Year of fee payment: 8

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090803

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100803

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110803

Year of fee payment: 10

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees