JP3193032U - Liquid crystal display panel and liquid crystal display device including the liquid crystal display panel - Google Patents

Abstract

【課題】表示効果を向上させることができる液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示パネルは、上方に画素電極１５、データ線及び走査線が配置される第１基板１１と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板、データ線、走査線及び画素電極の上に配置された第１配向層１６と、第１基板と第２基板との間に設けられた液晶層とを含み、画素電極上の第１配向層が第１厚さＴ１を有し、データ線又は走査線の上の第１配向層が第２厚さＴ２を有し、且つ、第１厚さは第２厚さよりも大きい。【選択図】図４ＡPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display panel capable of improving a display effect and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel. A liquid crystal display panel includes a first substrate 11 in which a pixel electrode 15, a data line, and a scanning line are arranged above, a second substrate arranged to face the first substrate, a first substrate, and data. The first alignment layer 16 on the pixel electrode includes the first alignment layer 16 arranged on the line, the scanning line, and the pixel electrode, and the liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate. It has one thickness T1, the first alignment layer on the data line or scanning line has a second thickness T2, and the first thickness is larger than the second thickness. [Selection diagram] FIG. 4A

Description

本考案は、液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置に関し、特に、新たな構成の配向層を有する液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display panel and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel, and more particularly to a liquid crystal display panel having an alignment layer having a new structure and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel.

ディスプレイ技術が進むに伴い、全ての装置は小型化・薄型化・軽量化が進展しているため、現在主流となっているディスプレイ装置は、従来の陰極線管から液晶表示装置が発展してきた。特に、液晶表示装置は、例えば日常生活で使用されている携帯電話、ノートパソコン、ビデオカメラ、カメラ、音楽プレーヤ、モバイルナビゲーション装置、及びテレビ等の表示装置が挙げられ、幅広い分野に適用することができる。上記装置の表示パネルとして、液晶表示パネルが多く使用されている。   As display technology advances, all devices are becoming smaller, thinner, and lighter, and the current mainstream display devices have been developed from conventional cathode ray tubes to liquid crystal display devices. In particular, liquid crystal display devices include display devices such as mobile phones, notebook computers, video cameras, cameras, music players, mobile navigation devices, and televisions used in daily life, and can be applied to a wide range of fields. it can. A liquid crystal display panel is often used as the display panel of the above apparatus.

液晶表示パネルの輝度、コントラスト、色、視野角は、液晶表示装置の表示効果を決める大きいな要素である。液晶表示装置の発展に伴い、現在主流又は開発中のパネルは、ねじれネマティック型（ＴＮ）、垂直配向型（ＶＡ）、平面配向型（ＩＰＳ）がある。   The luminance, contrast, color, and viewing angle of the liquid crystal display panel are the major factors that determine the display effect of the liquid crystal display device. With the development of liquid crystal display devices, currently mainstream or under development panels are twisted nematic type (TN), vertical alignment type (VA), and planar alignment type (IPS).

垂直配向型液晶表示パネルは、明るさを調整する効果を達成するために、注入された液晶分子を配列させるための配向層が必要である。しかし、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）及びカラーフィルタ（ＣＦ）基板上にパターンがあるとともに、一般の配向層が均一な厚さで塗布されたため、配向層の表面に段差が発生することで、ラビング異常又は単量体が集まる問題が生じ、液晶の配向に影響を与える。   The vertical alignment type liquid crystal display panel needs an alignment layer for aligning the injected liquid crystal molecules in order to achieve the effect of adjusting the brightness. However, there is a pattern on the thin film transistor (TFT) and color filter (CF) substrates, and a general alignment layer is applied with a uniform thickness. There arises a problem that the polymer collects, which affects the alignment of the liquid crystal.

このため、現在、ラビング異常又は単量体が集まる問題を改善できる液晶表示パネルが要求される。液晶の配向異常を改善でき、液晶表示パネルの表示効果を向上させることが期待される。   Therefore, there is a demand for a liquid crystal display panel that can improve the rubbing abnormality or the problem of monomer collection. It is expected that the liquid crystal alignment abnormality can be improved and the display effect of the liquid crystal display panel is improved.

本考案の主な目的は、液晶配向異常の問題を改善することができ、さらに液晶表示パネル及び装置の表示効果を向上させることのできる液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置を提供することである。   The main object of the present invention is to provide a liquid crystal display panel capable of improving the problem of liquid crystal alignment anomaly and further improving the display effect of the liquid crystal display panel and device, and a liquid crystal display device including the liquid crystal display panel It is to be.

上記目的を達成するために、本考案の一実施態様に係る液晶表示パネルは、上方に画素電極、データ線及び走査線が配置される第１基板と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板、データ線、走査線及び画素電極の上に配置された第１配向層と、第１基板と第２基板との間に設けられた液晶層と、を含み、画素電極上の第１配向層が第１厚さを有し、データ線又は走査線の上の第１配向層が第２厚さを有し、且つ、第１厚さは第２厚さよりも大きい。   In order to achieve the above object, a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention includes a first substrate on which a pixel electrode, a data line, and a scanning line are disposed, and a first substrate facing the first substrate. A second substrate; a first alignment layer disposed on the first substrate, the data line, the scanning line, and the pixel electrode; and a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, The first alignment layer on the pixel electrode has a first thickness, the first alignment layer on the data line or the scan line has a second thickness, and the first thickness is greater than the second thickness. large.

本考案の一実施態様において、第１基板は、表示領域及び非表示領域を含み、第１基板に対応する非表示領域上の第１配向層上には、少なくとも１つの突起構造、少なくとも１つの***部又はその組み合わせがさらに設けられる。   In one embodiment of the present invention, the first substrate includes a display region and a non-display region, and the first alignment layer on the non-display region corresponding to the first substrate has at least one protrusion structure, at least one protrusion structure. A ridge or a combination thereof is further provided.

本考案の一実施態様において、第１配向層の材料が突起構造又は***部の材料と同一である。   In one embodiment of the present invention, the material of the first alignment layer is the same as the material of the protruding structure or the raised portion.

本考案の一実施態様において、突起構造又は***部と第１配向層とが一体成形されている。   In one embodiment of the present invention, the protruding structure or raised portion and the first alignment layer are integrally formed.

本考案の一実施態様において、突起構造の高さと突起構造に隣接する第１配向層の厚さとの比が２〜１０である。   In one embodiment of the present invention, the ratio between the height of the protrusion structure and the thickness of the first alignment layer adjacent to the protrusion structure is 2-10.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第１基板と第２基板との間に位置して第１配向層を部分的に覆うシール剤をさらに含む。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes a sealant that is located between the first substrate and the second substrate and partially covers the first alignment layer.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、少なくとも１つの突起構造、少なくとも１つの***部又はその組み合わせを部分的に覆う、第１基板と第２基板との間に位置するシール剤をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes a sealant positioned between the first substrate and the second substrate that partially covers at least one protruding structure, at least one raised portion, or a combination thereof. The liquid crystal display panel according to claim 2, further comprising:

本考案の一実施態様において、第１厚さと第２厚さとの比が１〜１０である。   In one embodiment of the present invention, the ratio of the first thickness to the second thickness is 1-10.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第１基板と第２基板との間に設けられた少なくとも１つのスペーサをさらに含み、第１配向層は、スペーサ上に設けられ、第３厚さを有し、且つ、第３厚さは第１厚さ及び第２厚さよりも小さい。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes at least one spacer provided between the first substrate and the second substrate, and the first alignment layer is provided on the spacer and has a third thickness. And the third thickness is smaller than the first thickness and the second thickness.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、カラーフィルタユニットと、ブラックマトリックスと、第２配向層とをさらに含み、カラーフィルタユニット及びブラックマトリックスは、第２基板上に設けられ、第２配向層は、カラーフィルタユニット及びブラックマトリックスの上に設けられ、カラーフィルタユニット上の第２配向層が第４厚さを有し、ブラックマトリックス上の第２配向層が第５厚さを有し、且つ、第４厚さは第５厚さよりも小さい。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes a color filter unit, a black matrix, and a second alignment layer, and the color filter unit and the black matrix are provided on the second substrate and have a second alignment. The layer is provided on the color filter unit and the black matrix, the second alignment layer on the color filter unit has a fourth thickness, the second alignment layer on the black matrix has a fifth thickness, The fourth thickness is smaller than the fifth thickness.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第１基板と第２基板との間に設けられた少なくとも１つのスペーサをさらに含み、第２配向層は、スペーサ上に設けられ、第３厚さを有し、且つ、第３厚さは第４厚さ及び第５厚さよりも小さい。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes at least one spacer provided between the first substrate and the second substrate, and the second alignment layer is provided on the spacer and has a third thickness. And the third thickness is smaller than the fourth thickness and the fifth thickness.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、カラーフィルタユニットと、ブラックマトリックスと、第２配向層と、少なくとも１つのスペーサとをさらに含み、カラーフィルタユニット、ブラックマトリックス、第２配向層及びスペーサは、第１基板と第２基板との間に設けられ、スペーサ上に設けられた第２配向層が第３厚さを有し、且つ、第３厚さは第１厚さ及び第２厚さよりも小さい。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes a color filter unit, a black matrix, a second alignment layer, and at least one spacer, and the color filter unit, the black matrix, the second alignment layer, and the spacer. Is provided between the first substrate and the second substrate, the second alignment layer provided on the spacer has a third thickness, and the third thickness is the first thickness and the second thickness. Smaller than that.

本考案の一実施態様において、第１基板上には、薄膜トランジスタ素子がさらに設けられ、薄膜トランジスタ素子は、ゲートと、絶縁層と、半導体層と、ソースと、ドレンと、を含み、絶縁層はゲートを覆い、半導体層は絶縁層上に設けられ、ソース及びドレンは半導体層上に設けられ、ソースとドレンとは、チャンネル領域が形成されるように所定距離を置いて配置され、第１配向層は、薄膜トランジスタ素子上に設けられ、ソース及びドレンの上の第１配向層が第６厚さを有し、チャンネル領域における第１配向層が第７厚さを有し、且つ、第６厚さは第７厚さよりも小さい。   In one embodiment of the present invention, a thin film transistor element is further provided on the first substrate, and the thin film transistor element includes a gate, an insulating layer, a semiconductor layer, a source, and a drain, and the insulating layer is a gate. The semiconductor layer is provided on the insulating layer, the source and the drain are provided on the semiconductor layer, and the source and the drain are arranged at a predetermined distance so as to form a channel region, and the first alignment layer Is provided on the thin film transistor element, the first alignment layer on the source and drain has a sixth thickness, the first alignment layer in the channel region has a seventh thickness, and the sixth thickness Is smaller than the seventh thickness.

本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、データ線、走査線及び薄膜トランジスタ素子を覆う保護層をさらに含み、保護層は、ドレンを露出させるための開口を有し、画素電極は、保護層上に設けられ、ドレンに電気的に接続するように開口に向けて延在し、開口における第１配向層が第８厚さを有し、且つ、ドレン上の第１配向層の第６厚さは第８厚さよりも小さい。   In one embodiment of the present invention, the liquid crystal display panel further includes a protective layer covering the data lines, the scanning lines, and the thin film transistor elements, the protective layer has an opening for exposing the drain, and the pixel electrode is the protective layer. And extending toward the opening to electrically connect to the drain, the first alignment layer in the opening has an eighth thickness, and the sixth thickness of the first alignment layer on the drain The thickness is smaller than the eighth thickness.

上記液晶表示パネルのほか、本考案は、バックライトモジュールと、バックライトモジュール上に設けられた上記液晶表示パネルとを含む液晶表示装置をさらに提供する。   In addition to the liquid crystal display panel, the present invention further provides a liquid crystal display device including a backlight module and the liquid crystal display panel provided on the backlight module.

本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略図である。1 is a schematic view showing a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す部分概略図である。1 is a partial schematic view showing a thin film transistor substrate of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す断面概略図。1 is a schematic cross-sectional view showing a thin film transistor substrate of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す部分拡大概略図である。1 is a partially enlarged schematic view showing a thin film transistor substrate of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す部分拡大概略図である。1 is a partially enlarged schematic view showing a thin film transistor substrate of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を示す断面概略図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a color filter substrate of a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が薄膜トランジスタ基板に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided in a thin-film transistor substrate. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided in a non-display area | region. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided in a non-display area | region. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided in a non-display area | region. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided in a non-display area | region. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided in a non-display area | region. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided in a non-display area | region. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。It is the schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention is provided in a non-display area | region. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層とシール剤との間を示す概略図である。It is the schematic which shows between the 1st orientation layer and the sealing compound of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention. 本考案の他の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層とシール剤との間を示す概略図である。It is the schematic which shows between the 1st orientation layer and the sealing compound of the liquid crystal display panel which concerns on other preferable embodiment of this invention. 本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層を示す概略図である。It is the schematic which shows the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on preferable embodiment of this invention. 本考案の他の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が薄膜トランジスタ基板上に設けられる場合を示す部分概略図である。It is the partial schematic which shows the case where the 1st orientation layer of the liquid crystal display panel which concerns on other preferable embodiment of this invention is provided on a thin-film transistor substrate. 本考案に係る液晶表示装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the liquid crystal display device which concerns on this invention.

以下、本考案の利点及び効果を理解しやすくするために、具体的な実施例を例示し、本考案の実施形態について説明する。本考案は、その他の具体的な実施例によって実行や応用することができる。当業者は、本考案に基づいて行ったあらゆる変動および修正は全て、本考案の特許請求の範囲に含まれるものとする。   Hereinafter, in order to make it easier to understand the advantages and effects of the present invention, specific examples will be illustrated and embodiments of the present invention will be described. The present invention can be implemented and applied by other specific embodiments. All variations and modifications made by those skilled in the art based on the present invention shall be included in the claims of the present invention.

図１は、本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略図である。本実施形態の液晶表示パネルは、薄膜トランジスタ基板１と、カラーフィルタ基板２と、複数のスペーサ３と、液晶層４と、シール剤５とを含む。薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２とは対向して配置され、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２との間にスペーサ３及び液晶層４が設けられ、且つ、シール剤５によって、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２とを対向して組み合わせる。薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２とを対向して組み合わせる際、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２との間に設けられたスペーサ３によって、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２との間に所定の空間が形成され、次の液晶分子が注入しやすくなる。以下、本考案の液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板１及びカラーフィルタ基板２の構成及びその製造方法について詳しく説明する。   FIG. 1 is a schematic view showing a liquid crystal display panel according to a preferred embodiment of the present invention. The liquid crystal display panel of this embodiment includes a thin film transistor substrate 1, a color filter substrate 2, a plurality of spacers 3, a liquid crystal layer 4, and a sealant 5. The thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2 are arranged to face each other, the spacer 3 and the liquid crystal layer 4 are provided between the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2, and the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2 are colored by the sealant 5. The filter substrate 2 is combined in opposition. When the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2 are combined to face each other, a predetermined space is provided between the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2 by the spacer 3 provided between the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2. Is formed, and it becomes easy to inject the next liquid crystal molecule. Hereinafter, the configuration of the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2 of the liquid crystal display panel of the present invention and the manufacturing method thereof will be described in detail.

図２及び図３に示すように、図２は、本実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す概略平面図である。図３は、本実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を、図２のＡ−Ａ’線に沿って切断した断面概略図である。本実施形態の薄膜トランジスタ基板は、第１基板（図示せず）と、その上方に配置された走査線１２、データ線１３と、薄膜トランジスタユニット１４と、画素電極１５と、蓄積電極１７とを含む。ここで、２つの隣接した走査線１２と２つの隣接したデータ線１３によって、画素ユニットが定義される。画素ユニットにおいて、薄膜トランジスタユニット１４と、画素電極１５と、蓄積電極１７とを含み、且つ、画素電極１５は、２つの隣接した走査線１２と２つの隣接したデータ線１３との間に設けられる。ここで、走査線１２、データ線１３及び蓄積電極１７の材料は、例えば、金属、合金、金属酸化物、金属酸窒化物などの本技術分野で一般的に用いられている導電材料、又はその他の本技術分野で一般的に用いられている電極材料であってもよい。金属材料が好ましい。   As shown in FIGS. 2 and 3, FIG. 2 is a schematic plan view showing a thin film transistor substrate of the liquid crystal display panel according to the present embodiment. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the thin film transistor substrate of the liquid crystal display panel according to the present embodiment taken along the line A-A ′ of FIG. 2. The thin film transistor substrate of the present embodiment includes a first substrate (not shown), a scanning line 12, a data line 13, a thin film transistor unit 14, a pixel electrode 15, and a storage electrode 17 disposed thereabove. Here, a pixel unit is defined by two adjacent scanning lines 12 and two adjacent data lines 13. The pixel unit includes a thin film transistor unit 14, a pixel electrode 15, and a storage electrode 17, and the pixel electrode 15 is provided between two adjacent scanning lines 12 and two adjacent data lines 13. Here, the material of the scanning line 12, the data line 13, and the storage electrode 17 is, for example, a conductive material generally used in this technical field such as metal, alloy, metal oxide, metal oxynitride, or the like. The electrode material generally used in this technical field may be used. Metal materials are preferred.

図３に示すように、本実施形態の薄膜トランジスタ基板は、第１基板１１と、データ線１３と、走査線（図示せず）と、薄膜トランジスタユニット１４とを含み、第１基板１１には、データ線１３と、走査線（図示せず）と、薄膜トランジスタユニット１４とが設けられる。薄膜トランジスタユニット１４は、第１基板１１上に設けられたゲート１４１と、ゲート１４１及び第１基板１１を覆う絶縁層１４２（ゲート絶縁層ともいう）と、絶縁層１４２上に設けられた半導体層１４３と、半導体層１４３上に設けられたソース１４４１とドレン１４４２とを含み、ソース１４４１とドレン１４４２とは、チャンネル領域１４４３が形成されるように所定距離を置いて配置される。ここで、絶縁層１４２も、データ線１３及び走査線（図示せず）を同時に覆う。本実施形態において、薄膜トランジスタユニット１４は、従来の薄膜トランジスタの製造方法を採用して製作もよいため、ここでの説明を省略する。また、第１基板１１は、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、シリコン基板やセラミック基板などの本技術分野で一般的に用いられている基板を使用する。なお、ゲート１４１の材料は、例えば、金属、合金、金属酸化物、金属酸窒化物などの本技術分野で一般的に用いられている導電材料、又はその他の本技術分野で一般的に用いられている電極材料が使用されてもよい。金属材料が好ましいが、それに限定されない。絶縁層１４２の材料は、例えば、窒化シリコン等の本技術分野で一般的に用いられているゲート絶縁層材料が採用されてもよい。半導体層１４３は、本技術分野で一般的に用いられている半導体層の材料が採用されてもよく、例えば、アモルファスシリコン、ポリシリコン、Ｐ１３、ＤＨ４Ｔ、ペンタセンの有機材料などが挙げられる。ただし、本考案はそれに限定されない。   As shown in FIG. 3, the thin film transistor substrate of the present embodiment includes a first substrate 11, a data line 13, a scanning line (not shown), and a thin film transistor unit 14. Lines 13, scanning lines (not shown), and thin film transistor units 14 are provided. The thin film transistor unit 14 includes a gate 141 provided on the first substrate 11, an insulating layer 142 (also referred to as a gate insulating layer) covering the gate 141 and the first substrate 11, and a semiconductor layer 143 provided on the insulating layer 142. A source 1441 and a drain 1442 provided over the semiconductor layer 143, and the source 1441 and the drain 1442 are arranged at a predetermined distance so that a channel region 1443 is formed. Here, the insulating layer 142 also covers the data line 13 and the scanning line (not shown) at the same time. In the present embodiment, the thin film transistor unit 14 may be manufactured by adopting a conventional method of manufacturing a thin film transistor, and thus description thereof is omitted here. Moreover, the board | substrate generally used in this technical field, such as a glass substrate, a plastic substrate, a silicon substrate, a ceramic substrate, is used for the 1st board | substrate 11, for example. Note that the material of the gate 141 is, for example, a conductive material generally used in this technical field, such as a metal, an alloy, a metal oxide, or a metal oxynitride, or is generally used in other technical fields. The electrode material may be used. A metal material is preferred, but not limited thereto. As the material of the insulating layer 142, for example, a gate insulating layer material generally used in this technical field such as silicon nitride may be adopted. For the semiconductor layer 143, a material of a semiconductor layer generally used in this technical field may be employed, and examples thereof include amorphous silicon, polysilicon, P13, DH4T, and pentacene organic materials. However, the present invention is not limited to this.

データ線１３、走査線（図示せず）及び薄膜トランジスタユニット１４を形成した後、図３のように、データ線１３、走査線（図示せず）及び薄膜トランジスタユニット１４を覆う保護層１４５をさらに形成する。保護層１４５は、ドレン１４４２を露出させるための開口１４５１を有する。そして、保護層１４５上に設けられ、ドレン１４４２に電気的に接続するように開口１４５１に向けて延在する画素電極１５を形成する。ここで、保護層１４５の材料は、本技術分野で一般的に用いられている、例えば、シリコン酸化物等のパッシベーション層の材料であってもよい。また、画素電極１５は、例えば、米字状の電極又は鋸歯状の電極等の本技術分野で一般的に用いられているパターン化電極層であってもよい。画素電極１５の材料は、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の金属酸化物の透明電極材料等、本考案の技術分野で一般的に用いられている透明導電材料であってもよい。   After the data line 13, the scanning line (not shown), and the thin film transistor unit 14 are formed, a protective layer 145 that covers the data line 13, the scanning line (not shown) and the thin film transistor unit 14 is further formed as shown in FIG. . The protective layer 145 has an opening 1451 for exposing the drain 1442. Then, the pixel electrode 15 provided on the protective layer 145 and extending toward the opening 1451 so as to be electrically connected to the drain 1442 is formed. Here, the material of the protective layer 145 may be a material of a passivation layer such as silicon oxide, which is generally used in this technical field. The pixel electrode 15 may be a patterned electrode layer generally used in this technical field, such as a US-shaped electrode or a sawtooth electrode. The material of the pixel electrode 15 may be a transparent conductive material generally used in the technical field of the present invention, such as a transparent electrode material of a metal oxide such as ITO or IZO.

最後、図３に示すように、保護層１４５及び画素電極１５上に配向用単量体をさらに塗布して固化した後、第１配向層１６を形成した。本実施形態において、第１配向層１６の下方の素子構造の高低に応じて第１配向層１６の厚さを調整することによって、第１配向層１６が均一な厚さを有しないため、第１配向層１６の表面の高低差（段差）を極力小さく抑えることができる。ここで、特殊な微細構造を有する凸版（ＡＰＲ版）を使用して、転写方式でパターン化した配向層を直接に製作してもよい。或いは、まず、均一な厚さを有する配向層を形成し、次いで、フォトリソグラフィ技術によりエッチングして、パターン化した配向層を製作してもよい。或いは、まず、均一な厚さを有する配向層を塗布し、配向層が異なる厚さを有するように、固化する前にインプリント法により配向層をパターン化にし、次いで、配向層を固化してから得る。ただし、本考案の配向層をパターン化する方法は、これらに限定されない。上記工程を経て、本実施形態の薄膜トランジスタ基板を完成した。以下、本実施形態の第１配向層１６の厚さの設計について詳しく説明する。   Finally, as shown in FIG. 3, an alignment monomer was further applied and solidified on the protective layer 145 and the pixel electrode 15, and then the first alignment layer 16 was formed. In the present embodiment, the first alignment layer 16 does not have a uniform thickness by adjusting the thickness of the first alignment layer 16 according to the height of the element structure below the first alignment layer 16. The height difference (step) on the surface of the first alignment layer 16 can be minimized. Here, an alignment layer patterned by a transfer method may be directly manufactured using a relief plate (APR plate) having a special fine structure. Alternatively, a patterned alignment layer may be manufactured by first forming an alignment layer having a uniform thickness and then etching by a photolithography technique. Alternatively, first, an alignment layer having a uniform thickness is applied, and the alignment layer is patterned by an imprint method before solidifying so that the alignment layer has a different thickness, and then the alignment layer is solidified. Get from. However, the method of patterning the alignment layer of the present invention is not limited to these. Through the above steps, the thin film transistor substrate of this embodiment was completed. Hereinafter, the design of the thickness of the first alignment layer 16 of this embodiment will be described in detail.

図４Ａは、本実施形態の薄膜トランジスタ基板のデータ線領域を示す部分拡大概略図である。画素電極１５上の第１配向層１６が第１厚さＴ１を有し、データ線１３の第１配向層１６が第２厚さＴ２を有し、且つ、第１厚さＴ１は第２厚さＴ２よりも大きい。第１厚さＴ１と第２厚さＴ２との比（Ｔ１／Ｔ２）は、１〜１０（１≦Ｔ１／Ｔ２≦１０）であることが好ましく、１〜５（１≦Ｔ１／Ｔ２≦５）であることがより好ましく、２〜４（２≦Ｔ１／Ｔ２≦４）であることが特に好ましい。本実施形態において、第１厚さＴ１は０．１μｍ〜０．２μｍであってもよく、第２厚さＴ２は０．０１μｍ〜０．０８μｍであってもよい。しかし、本考案は、上記厚さの範囲に限定されない。第１配向層１６の下方素子の構造が高ければ高くほど、第１配向層１６の厚さが薄くなれば、第１配向層１６の表面の高低差を小さくするという本考案の目的を達成することができる。ここでデータ線領域の部分のみを説明したが、当業者であれば、走査線領域もデータ線領域と同一な第１配向層の厚さの設計を使用してもよいことが了解される。   FIG. 4A is a partially enlarged schematic view showing a data line region of the thin film transistor substrate of the present embodiment. The first alignment layer 16 on the pixel electrode 15 has a first thickness T1, the first alignment layer 16 of the data line 13 has a second thickness T2, and the first thickness T1 is a second thickness. Greater than T2. The ratio (T1 / T2) between the first thickness T1 and the second thickness T2 is preferably 1 to 10 (1 ≦ T1 / T2 ≦ 10), and 1 to 5 (1 ≦ T1 / T2 ≦ 5). ) Is more preferable, and 2 to 4 (2 ≦ T1 / T2 ≦ 4) is particularly preferable. In the present embodiment, the first thickness T1 may be 0.1 μm to 0.2 μm, and the second thickness T2 may be 0.01 μm to 0.08 μm. However, the present invention is not limited to the above thickness range. The higher the structure of the lower element of the first alignment layer 16, the lower the thickness of the first alignment layer 16, so that the object of the present invention is achieved. be able to. Although only the data line region portion has been described here, those skilled in the art will appreciate that the scan line region may also use the same first alignment layer thickness design as the data line region.

また、図４Ｂは、本実施形態の薄膜トランジスタ基板の薄膜トランジスタ素子を示す部分拡大概略図である。ソース１４４１及びドレン１４４２の上の第１配向層１６が第６厚さＴ６を有し、チャンネル領域１４４３における第１配向層１６が第７厚さＴ７を有し、且つ、第６厚さＴ６は第７厚さＴ７よりも小さい。そして、開口１４５１における第１配向層１６が第８厚さＴ８を有し、且つ、ドレン１４４２上の第１配向層１６の第６厚さＴ６は、第８厚さＴ８よりも小さい。なお、薄膜トランジスタユニット１４外（具体的に、第１基板１１上に薄膜トランジスタユニット１４が設けられておらず、画素電極１５が設けられている領域）に設けられた第１配向層１６が第１厚さＴ１を有し、且つ、第１厚さＴ１はドレン１４４２上の第１配向層１６の第６厚さＴ６よりも大きい。   FIG. 4B is a partially enlarged schematic view showing the thin film transistor element of the thin film transistor substrate of the present embodiment. The first alignment layer 16 over the source 1441 and the drain 1442 has a sixth thickness T6, the first alignment layer 16 in the channel region 1443 has a seventh thickness T7, and the sixth thickness T6 is It is smaller than the seventh thickness T7. The first alignment layer 16 in the opening 1451 has the eighth thickness T8, and the sixth thickness T6 of the first alignment layer 16 on the drain 1442 is smaller than the eighth thickness T8. The first alignment layer 16 provided outside the thin film transistor unit 14 (specifically, the region where the thin film transistor unit 14 is not provided on the first substrate 11 and the pixel electrode 15 is provided) has the first thickness. And the first thickness T1 is larger than the sixth thickness T6 of the first alignment layer 16 on the drain 1442.

図４Ａ及び図４Ｂに示すように、本実施形態は、異なる領域の第１配向層１６の厚さを調整することによって、第１配向層１６の下方の素子構造の増加につれ、第１配向層１６の厚さを減少させるため、第１配向層１６の表面の高低差（段差）を小さくするという本考案の目的を達成することができる。これによって、第１配向層１６の段差に起因するラビング異常又は単量体が集まることで液晶配向に影響を与える問題を抑えることができ、液晶表示パネルの表示効果を向上させる。   As shown in FIG. 4A and FIG. 4B, the present embodiment adjusts the thickness of the first alignment layer 16 in different regions, thereby increasing the element structure below the first alignment layer 16. In order to reduce the thickness of 16, the object of the present invention of reducing the height difference (step) of the surface of the first alignment layer 16 can be achieved. As a result, it is possible to suppress the problem of affecting the liquid crystal alignment due to the rubbing abnormality caused by the step of the first alignment layer 16 or the collection of monomers, and the display effect of the liquid crystal display panel is improved.

図５は、本実施形態に係る液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を示す断面概略図である。カラーフィルタ基板は、第２基板２１と、カラーフィルタユニット２２と、ブラックマトリックス２３とを含む。カラーフィルタユニット２２及びブラックマトリックス２３は、第２基板２１上に設けられ、ブラックマトリックス２３は、２つの隣接したカラーフィルタユニット２２との間に設けられる。カラーフィルタユニット２２及びブラックマトリックス２３上に、保護層２４、共通電極層２５及び第２配向層２６を順に形成し、本実施形態のカラーフィルタ基板を完成した。保護層２４の材料は、薄膜トランジスタ上の保護層１４５（図３参照）の材料と同一であるため、ここで説明を省略する。なお、本実施形態の共通電極層２５は、本技術分野で一般的に用いられているフラット電極層であってもよく、その材料は、本技術分野で一般的に用いられている透明導電材料であり、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の金属酸化物の透明導電材料であってもよい。また、本実施形態の第２配向層２６は、第１配向層の製造方法と同じ方法を採用するため、ここで説明を省略する。本実施形態において、第２配向層２６の下方の素子構造の高低に応じて第２配向層２６の厚さを調整することによって、第２配向層２６が均一な厚さを有しないため、第２配向層２６の表面の高低差（段差）を極力小さく抑えることができる。この点には特に注意されたい。以下、本実施形態の第２配向層２６の厚さの設計について詳しく説明する。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the color filter substrate of the liquid crystal display panel according to this embodiment. The color filter substrate includes a second substrate 21, a color filter unit 22, and a black matrix 23. The color filter unit 22 and the black matrix 23 are provided on the second substrate 21, and the black matrix 23 is provided between two adjacent color filter units 22. On the color filter unit 22 and the black matrix 23, the protective layer 24, the common electrode layer 25, and the second alignment layer 26 were formed in this order to complete the color filter substrate of this embodiment. Since the material of the protective layer 24 is the same as the material of the protective layer 145 (see FIG. 3) over the thin film transistor, the description thereof is omitted here. The common electrode layer 25 of this embodiment may be a flat electrode layer generally used in this technical field, and the material thereof is a transparent conductive material generally used in this technical field. For example, a transparent conductive material of a metal oxide such as ITO or IZO may be used. In addition, since the second alignment layer 26 of the present embodiment employs the same method as the method for manufacturing the first alignment layer, the description thereof is omitted here. In the present embodiment, the second alignment layer 26 does not have a uniform thickness by adjusting the thickness of the second alignment layer 26 according to the height of the element structure below the second alignment layer 26. The height difference (step) on the surface of the two alignment layer 26 can be minimized. Special attention should be paid to this point. Hereinafter, the design of the thickness of the second alignment layer 26 of the present embodiment will be described in detail.

図５に示すように、カラーフィルタユニット２２上の第２配向層２６が第４厚さＴ４を有し、ブラックマトリックス２３上の第２配向層２６が第５厚さＴ５を有し、且つ、第４厚さＴ４は第５厚さＴ５よりも小さい。ここで、第４厚さＴ４は０．０１μｍ〜０．０８μｍであってもよく、第５厚さＴ５は０．１μｍ〜０．２μｍであってもよい。しかし、本考案は、上記厚さの範囲に限定されない。第２配向層２６が覆う素子の構造が高ければ高くほど、第２配向層２６の厚さが薄くなれば、第２配向層２６の表面の高低差を小さくするという本考案の目的を達成することができる。なお、カラーフィルタユニット２２がブラックマトリックス２３を部分的に覆う場合、カラーフィルタユニット２２とブラックマトリックス２３と重なった部分の第２配向層２６の厚さＴ９は、カラーフィルタユニット２２とブラックマトリックス２３と重なっていない部分の第２配向層２６の厚さ（即ち、第４厚さＴ４で表した部分）よりも小さい。   As shown in FIG. 5, the second alignment layer 26 on the color filter unit 22 has a fourth thickness T4, the second alignment layer 26 on the black matrix 23 has a fifth thickness T5, and The fourth thickness T4 is smaller than the fifth thickness T5. Here, the fourth thickness T4 may be 0.01 μm to 0.08 μm, and the fifth thickness T5 may be 0.1 μm to 0.2 μm. However, the present invention is not limited to the above thickness range. The higher the structure of the element covered by the second alignment layer 26 is, the lower the thickness of the second alignment layer 26 is, so that the object of the present invention is achieved. be able to. When the color filter unit 22 partially covers the black matrix 23, the thickness T9 of the second alignment layer 26 where the color filter unit 22 and the black matrix 23 overlap with each other is such that the color filter unit 22 and the black matrix 23 The thickness of the non-overlapping portion of the second alignment layer 26 is smaller than the thickness (that is, the portion represented by the fourth thickness T4).

また、本実施形態の液晶表示パネルは、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２との間に設けられた少なくとも１つのスペーサ３をさらに含む（図１参照）。具体的に、スペーサ３は、第２基板２１上に設けられ、第２配向層２６に覆われる。スペーサ３上の第２配向層２６が第３厚さＴ３を有し、且つ、第３厚さＴ３は第４厚さＴ４及び第５厚さＴ５よりも小さい。スペーサ３と薄膜トランジスタ基板１上の第１配向層１６の厚さとを比較すると（図３参照）、第３厚さＴ３は画素電極１５上の第１配向層１６の第１厚さＴ１及びデータ線１３の第１配向層１６の第２厚さＴ２よりも小さい。一部の実施形態において、スペーサ３上の第２配向層２６の第３厚さＴ３は極めて薄く、０ｎｍに近い場合がある（即ち、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）でも測定不能である）。   In addition, the liquid crystal display panel of the present embodiment further includes at least one spacer 3 provided between the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2 (see FIG. 1). Specifically, the spacer 3 is provided on the second substrate 21 and is covered with the second alignment layer 26. The second alignment layer 26 on the spacer 3 has a third thickness T3, and the third thickness T3 is smaller than the fourth thickness T4 and the fifth thickness T5. Comparing the spacer 3 with the thickness of the first alignment layer 16 on the thin film transistor substrate 1 (see FIG. 3), the third thickness T3 is equal to the first thickness T1 of the first alignment layer 16 on the pixel electrode 15 and the data line. It is smaller than the second thickness T2 of the 13 first alignment layers 16. In some embodiments, the third thickness T3 of the second alignment layer 26 on the spacer 3 may be very thin and close to 0 nm (ie, not measurable with a scanning electron microscope (SEM)).

本実施形態において、配向層（第１配向層１６及び第２配向層２６を含む）の材料は、特に限定されず、例えば、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ，ＰＩ）、ポリビニルシンナメート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ，ＰＶＣＮ）、及びポリメタクリル酸メチル（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ，ＰＭＭＡ）などの本技術分野で一般的に用いられている配向層の材料であってもよいが、それに限定されない。本考案の配向層の材料は、高粘度を有するポリイミドであることが好ましい。   In the present embodiment, the material of the alignment layer (including the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26) is not particularly limited. For example, polyimide (polyimide), polyvinyl cinnamate (PVCN), and The material of the alignment layer generally used in this technical field, such as polymethylmethacrylate (PMMA), may be used, but is not limited thereto. The material of the alignment layer of the present invention is preferably a polyimide having a high viscosity.

上記薄膜トランジスタ基板１、カラーフィルタ基板２を完成した後、図１に示すように、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２とを対向して組み合わせるとともに、シール剤５により接合し、液晶分子を注入して液晶層４を形成すると、本実施形態の液晶表示パネルが完成した。第１配向層１６及び第２配向層２６とシール剤５（図１、図３及び図５を同時に参照）との付着力を向上させるために、本実施形態の第１配向層１６及び第２配向層２６のエッジ領域に微細構造をさらに設計した。以下、本実施形態の第１配向層１６及び第２配向層２６のエッジ領域における微細構造について詳しく説明する。なお、第１配向層１６及び第２配向層２６のエッジ領域は、各々同一又は異なる設計されてもよい。ここで、第１配向層１６のみについて説明するが、第２配向層２６についての説明を省略する。   After the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2 are completed, as shown in FIG. 1, the thin film transistor substrate 1 and the color filter substrate 2 are combined to face each other, bonded by a sealant 5, and liquid crystal molecules are injected. When the liquid crystal layer 4 was formed, the liquid crystal display panel of this embodiment was completed. In order to improve the adhesion between the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26 and the sealant 5 (refer to FIGS. 1, 3 and 5 at the same time), the first alignment layer 16 and the second alignment layer 16 of this embodiment are improved. A microstructure was further designed in the edge region of the alignment layer 26. Hereinafter, the fine structure in the edge region of the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26 of the present embodiment will be described in detail. Note that the edge regions of the first alignment layer 16 and the second alignment layer 26 may be designed to be the same or different. Here, only the first alignment layer 16 will be described, but the description of the second alignment layer 26 will be omitted.

図６は、本実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が薄膜トランジスタ基板上に設けられる場合を示す概略図である。図６に示すように、本実施形態の液晶表示パネルにおいて、第１配向層１６は薄膜トランジスタ基板１上に設けられ、且つ、第１配向層１６のエッジ領域Ｐには、突起構造１６１及び複数の***部１６２が設けられている。薄膜トランジスタ基板１を表示領域Ｄ及び非表示領域Ｎに定義した場合、第１配向層１６上の突起構造１６１及び***部１６２は薄膜トランジスタ基板１の非表示領域Ｎ上に設けられている。本実施形態において、第１配向層１６の材料は、突起構造１６１及び***部１６２の材料と同一であり、突起構造１６１及び***部１６２と当該第１配向層１６とが一体成形されている。ここで、第１配向層１６及びその上方の突起構造１６１のパターンに対応する凸版又はマスクを使用してもよく、第１配向層１６を形成すると同時に突起構造１６１を形成する。または、第１配向層１６及びその上方の突起構造１６１及び***部１６２のパターンに対応する凸版又はマスクを使用してもよく、第１配向層１６を形成すると同時に突起構造１６１及び***部１６２を形成する。ただし、その他の実施形態において、***部１６２は、***部１６２のパターンに対応する凸版又はマスクを使用せず、配向層の材料が重合する際に生成された粒子（結晶核、結晶体、結晶粒又は凝集体）によって形成されてもよい。   FIG. 6 is a schematic view showing a case where the first alignment layer of the liquid crystal display panel according to this embodiment is provided on a thin film transistor substrate. As shown in FIG. 6, in the liquid crystal display panel of the present embodiment, the first alignment layer 16 is provided on the thin film transistor substrate 1, and the protrusion region 161 and the plurality of protrusion regions 161 are provided in the edge region P of the first alignment layer 16. A raised portion 162 is provided. When the thin film transistor substrate 1 is defined as the display region D and the non-display region N, the protruding structure 161 and the raised portion 162 on the first alignment layer 16 are provided on the non-display region N of the thin film transistor substrate 1. In the present embodiment, the material of the first alignment layer 16 is the same as the material of the protruding structure 161 and the raised portion 162, and the protruding structure 161 and the raised portion 162 and the first alignment layer 16 are integrally formed. Here, a relief plate or a mask corresponding to the pattern of the first alignment layer 16 and the protrusion structure 161 thereabove may be used. The protrusion structure 161 is formed simultaneously with the formation of the first alignment layer 16. Alternatively, a relief plate or a mask corresponding to the pattern of the first alignment layer 16 and the protrusion structure 161 and the raised portion 162 above the first alignment layer 16 may be used. Form. However, in other embodiments, the ridge 162 does not use a relief plate or a mask corresponding to the pattern of the ridge 162, and particles (crystal nuclei, crystals, crystals) generated when the material of the alignment layer is polymerized. Grains or aggregates).

図７Ａ乃至図７Ｄは、本実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層を、図６の非表示領域ＮにおけるＢ−Ｂ’線に沿って切断した断面概略図である。図７Ａに示すように、第１配向層１６上の突起構造１６１と第１配向層１６の表面１６３との距離である高さＨ１と、突起構造１６１に隣接する第１配向層１６の厚さＴとの比は、２〜１０である。ここで、高さＨ１は１５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、厚さは１０ｎｍ〜１００ｎｍであってもよい。しかし、本考案は上記厚さの範囲内に限定されない。第１配向層１６の突起構造１６１が顕著な高さを有すれば、基板に対する配向層のエッジ領域の圧力及び付着力を強化し、配向層材料のブリードアウト及び固化する際での塗膜収縮の発生を減少することができ、配向層の変位を防ぐことができる。また、第１配向層１６上の突起構造１６１の隣に複数の***部１６２がさらに設けられている。ここで、***部１６２の高さＨ２は５ｎｍ〜３０ｎｍであってもよいが、本考案はそれに限定されない。なお、図７Ａに示す突起構造１６１は、第１配向層１６の表面１６３と垂直した側辺を有する。ただし、その他の実施形態において、突起構造１６１の両側辺は傾斜面であってもよい（図７Ｂ参照）。または、突起構造１６１は円弧状であってもよい（図７Ｃ参照）。または、突起構造１６１の１つの側辺は第１配向層１６の表面に垂直している（図７Ｃ参照）。ただし、本考案はこれらに限定されない。なお、図７Ａ乃至図７Ｄに示す突起構造１６１は全て滑らかな表面で表されたが、その他の実施形態において、突起構造１６１は、例えば畝状構造等の不均一な表面を有してもよい。   7A to 7D are schematic cross-sectional views of the first alignment layer of the liquid crystal display panel according to this embodiment, taken along the line B-B ′ in the non-display region N of FIG. 6. As shown in FIG. 7A, the height H1 which is the distance between the protrusion structure 161 on the first alignment layer 16 and the surface 163 of the first alignment layer 16, and the thickness of the first alignment layer 16 adjacent to the protrusion structure 161. The ratio with T is 2-10. Here, the height H1 may be 150 nm to 300 nm, and the thickness may be 10 nm to 100 nm. However, the present invention is not limited to the above thickness range. If the protruding structure 161 of the first alignment layer 16 has a remarkable height, the pressure and adhesion of the edge region of the alignment layer to the substrate are strengthened, and the coating film shrinks when the alignment layer material is bleed out and solidified. Can be reduced, and displacement of the alignment layer can be prevented. A plurality of raised portions 162 are further provided next to the protruding structure 161 on the first alignment layer 16. Here, the height H2 of the raised portion 162 may be 5 nm to 30 nm, but the present invention is not limited thereto. 7A has a side that is perpendicular to the surface 163 of the first alignment layer 16. However, in other embodiments, both sides of the protruding structure 161 may be inclined surfaces (see FIG. 7B). Alternatively, the protruding structure 161 may have an arc shape (see FIG. 7C). Alternatively, one side of the protruding structure 161 is perpendicular to the surface of the first alignment layer 16 (see FIG. 7C). However, the present invention is not limited to these. 7A to 7D are all represented by a smooth surface, but in other embodiments, the projection structure 161 may have a non-uniform surface such as a hook-like structure. .

図８Ａ乃至図８Ｃは、本実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層を、図６の非表示領域ＮにおけるＣ−Ｃ’線に沿って切断した断面概略図である。一般的に、液晶表示パネルの非表示領域Ｎに配線が設けられているが、本実施形態の突起構造１６１は、非表示領域Ｎの配線６上にさらに設けられている。   8A to 8C are schematic cross-sectional views of the first alignment layer of the liquid crystal display panel according to this embodiment taken along the line C-C 'in the non-display region N of FIG. In general, a wiring is provided in the non-display area N of the liquid crystal display panel, but the protruding structure 161 of the present embodiment is further provided on the wiring 6 in the non-display area N.

本実施形態の液晶表示パネルはシール剤５によってパッケージされる際、第１配向層１６の突起構造１６１とシール剤５との間の関係は、図９Ａのように示される。当該突起構造１６１が配置されることによって、シール剤５が当該突起構造１６１を覆うことによって、第１配向層１６との接触面積を増大させることができ、さらにシール剤５と第１配向層１６との剥離の発生を抑制することができる。同時に、図９Ａに示すように、第１基板１１の外縁がシール剤５の外に突出している。   When the liquid crystal display panel of the present embodiment is packaged with the sealant 5, the relationship between the protruding structure 161 of the first alignment layer 16 and the sealant 5 is shown in FIG. 9A. By disposing the protruding structure 161, the sealing agent 5 covers the protruding structure 161, so that the contact area with the first alignment layer 16 can be increased, and the sealing agent 5 and the first alignment layer 16 are further increased. The occurrence of peeling can be suppressed. At the same time, as shown in FIG. 9A, the outer edge of the first substrate 11 protrudes outside the sealing agent 5.

ただし、本考案の他の好ましく実施形態において、図９Ｂに示すように、第１基板１１の外縁はシール剤５に揃えてもよい。また、当該他の好ましく実施形態において、配向層の材料として、低粘度を有するポリイミドを使用する。そのため、図９Ａにような突起構造１６１を形成することはできなくても、図１１に示すように、第１配向層１６のエッジは、例えば、波状構造等の特殊な湾曲構造が形成されている。   However, in another preferred embodiment of the present invention, the outer edge of the first substrate 11 may be aligned with the sealant 5 as shown in FIG. 9B. In another preferred embodiment, polyimide having a low viscosity is used as the material for the alignment layer. Therefore, even if the protrusion structure 161 as shown in FIG. 9A cannot be formed, the edge of the first alignment layer 16 has a special curved structure such as a wave structure as shown in FIG. Yes.

図６に示す突起構造１６１及び***部１６２を有する第１配向層１６であろうと、図１１に示す***部１６２及び波状構造のエッジを有する第１配向層１６であろうと、第１配向層１６中に複数の粒子１６４が生成される可能性がある。図１０に示すように、これらの粒子は、第１配向層１６を固化する際に生成された結晶核、結晶体、結晶粒又は凝集体であってもよい。特に、非表示領域Ｎに設けられた粒子１６４の大きさは、表示領域Ｄに設けられた粒子１６４の大きさよりも大きい。また、その他の実施形態において、第１配向層１６は、上記粒子１６４を含まなくてもよく、または、非表示領域Ｎにのみ上記粒子１６４が形成されてもよい。   Whether the first alignment layer 16 has the protrusion structure 161 and the raised portion 162 shown in FIG. 6 or the first alignment layer 16 has the raised portion 162 and the edge of the wavy structure shown in FIG. A plurality of particles 164 may be generated therein. As shown in FIG. 10, these particles may be crystal nuclei, crystals, crystal grains, or aggregates generated when the first alignment layer 16 is solidified. In particular, the size of the particles 164 provided in the non-display area N is larger than the size of the particles 164 provided in the display area D. In other embodiments, the first alignment layer 16 may not include the particles 164, or the particles 164 may be formed only in the non-display region N.

ここで、特に説明したいのは、図６乃至図１０は第１基板１１上に第１配向層１６のみが配置されている場合を示すことである。ただし、当業者であれば、ここで第１基板１１と第１配向層１６との間のその他の素子（例えば、薄膜トランジスタ素子等）を省略することが了解される。   Here, it is particularly desirable to explain that FIGS. 6 to 10 show a case where only the first alignment layer 16 is disposed on the first substrate 11. However, those skilled in the art will understand that other elements (for example, thin film transistor elements) between the first substrate 11 and the first alignment layer 16 are omitted here.

また、図１２に示すように、本考案の上記実施形態による製造される液晶表示パネルは、液晶表示装置７に適用してもよい。液晶表示装置は、バックライトモジュール（図示せず）と、バックライトモジュール上に設けられた上記液晶表示パネル（図示せず）とを含む。ここで、液晶表示装置の一例としてディスプレイが挙げられるが、例えば、携帯電話、ノートパソコン、ビデオカメラ、カメラ、音楽プレーヤ、モバイルナビゲーション装置又はテレビ等の表示装置も、本考案の上記実施形態による製造される液晶表示パネルを用いてもよい。   Further, as shown in FIG. 12, the liquid crystal display panel manufactured according to the above embodiment of the present invention may be applied to the liquid crystal display device 7. The liquid crystal display device includes a backlight module (not shown) and the liquid crystal display panel (not shown) provided on the backlight module. Here, a display is an example of a liquid crystal display device. For example, a display device such as a mobile phone, a notebook computer, a video camera, a camera, a music player, a mobile navigation device, or a television is also manufactured according to the above embodiment of the present invention. A liquid crystal display panel may be used.

本考案の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本考案を限定するものではない。本考案の実用新案登録請求の範囲による各種の変動及び修正は、本考案の保護を求める範囲内に属するものである。   While the preferred embodiments of the present invention have been disclosed above, they are in no way intended to limit the invention. Various changes and modifications according to the scope of the utility model registration request of the present invention belong to the scope of seeking protection of the present invention.

１ 薄膜トランジスタ基板
１１ 第１基板
１２ 走査線
１３ データ線
１４ 薄膜トランジスタユニット
１４１ ゲート
１４２ 絶縁層
１４３ 半導体層
１４４１ ソース
１４４２ ドレン
１４４３ チャンネル領域
１４５ 保護層
１４５１ 開口
１５ 画素電極
１６ 第１配向層
１６１ 突起構造
１６２ ***部
１６３ 表面
１６４ 粒子
１７ 蓄積電極
２ カラーフィルタ基板
２１ 第２基板
２２ カラーフィルタユニット
２３ ブラックマトリックス
２４ 保護層
２５ 共通電極層
２６ 第２配向層
３ スペーサ
４ 液晶層
５ シール剤
６ 配線
７ 液晶表示装置
Ｄ 表示領域
Ｈ１ 高さ
Ｈ２ 高さ
Ｎ 非表示領域
Ｐ エッジ領域
Ｔ 厚さ
Ｔ１ 第１厚さ
Ｔ２ 第２厚さ
Ｔ３ 第３厚さ
Ｔ４ 第４厚さ
Ｔ５ 第５厚さ
Ｔ６ 第６厚さ
Ｔ７ 第７厚さ
Ｔ９ 厚さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Thin-film transistor substrate 11 1st board | substrate 12 Scan line 13 Data line 14 Thin-film transistor unit 141 Gate 142 Insulating layer 143 Semiconductor layer 1441 Source 1442 Drain 1443 Channel area | region 145 Protection layer 1451 Opening 15 Pixel electrode 16 1st orientation layer 161 Protrusion structure 162 Raised part 163 Surface 164 Particles 17 Storage electrode 2 Color filter substrate 21 Second substrate 22 Color filter unit 23 Black matrix 24 Protective layer 25 Common electrode layer 26 Second alignment layer 3 Spacer 4 Liquid crystal layer 5 Sealant 6 Wiring 7 Liquid crystal display device D Display Region H1 Height H2 Height N Non-display region P Edge region T Thickness T1 First thickness T2 Second thickness T3 Third thickness T4 Fourth thickness T5 Fifth thickness T6 Sixth thickness T7 Seventh Thickness T9 Thickness

Claims (15)

上方に画素電極、データ線及び走査線が配置される第１基板と、
前記第１基板に対向して配置された第２基板と、
前記第１基板、前記データ線、前記走査線及び前記画素電極の上に配置された第１配向層と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、を含み、
前記画素電極上の前記第１配向層が第１厚さを有し、前記データ線又は前記走査線の上の前記第１配向層が第２厚さを有し、且つ、前記第１厚さは前記第２厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示パネル。 A first substrate on which a pixel electrode, a data line, and a scanning line are disposed;
A second substrate disposed opposite the first substrate;
A first alignment layer disposed on the first substrate, the data line, the scan line, and the pixel electrode;
A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate,
The first alignment layer on the pixel electrode has a first thickness, the first alignment layer on the data line or the scan line has a second thickness, and the first thickness. Is larger than the second thickness. 前記第１基板は、表示領域及び非表示領域を含み、前記第１基板に対応する前記非表示領域上の前記第１配向層上には、少なくとも１つの突起構造、少なくとも１つの***部又はその組み合わせがさらに設けられることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。   The first substrate includes a display region and a non-display region, and the first alignment layer on the non-display region corresponding to the first substrate has at least one protrusion structure, at least one raised portion, or the The liquid crystal display panel according to claim 1, further comprising a combination. 前記第１配向層の材料が前記突起構造又は前記***部の材料と同一であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein a material of the first alignment layer is the same as a material of the protruding structure or the raised portion. 前記突起構造又は前記***部と前記第１配向層とが一体成形されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the protruding structure or the raised portion and the first alignment layer are integrally formed. 前記突起構造の高さと前記突起構造に隣接する前記第１配向層の厚さとの比が２〜１０であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 2, wherein a ratio between a height of the protruding structure and a thickness of the first alignment layer adjacent to the protruding structure is 2 to 10. 前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、前記第１配向層を部分的に覆うシール剤をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。   2. The liquid crystal display panel according to claim 1, further comprising a sealant positioned between the first substrate and the second substrate and partially covering the first alignment layer. 前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、少なくとも１つの前記突起構造、少なくとも１つの前記***部又はその組み合わせを部分的に覆うシール剤をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。   3. The method according to claim 2, further comprising a sealant positioned between the first substrate and the second substrate and partially covering at least one of the protruding structures, at least one of the raised portions, or a combination thereof. A liquid crystal display panel as described in 1. 前記第１厚さと前記第２厚さとの比が１〜１０であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。   The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein a ratio of the first thickness to the second thickness is 1 to 10. 前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた少なくとも１つのスペーサをさらに含み、
前記第１配向層は、前記スペーサ上に設けられ、第３厚さを有し、且つ、前記第３厚さは前記第１厚さ及び前記第２厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。 Further comprising at least one spacer provided between the first substrate and the second substrate;
The first alignment layer is provided on the spacer, has a third thickness, and the third thickness is smaller than the first thickness and the second thickness. 2. A liquid crystal display panel according to 1. カラーフィルタユニットと、ブラックマトリックスと、第２配向層とをさらに含み、
前記カラーフィルタユニット及び前記ブラックマトリックスは、前記第２基板上に設けられ、
前記第２配向層は、前記カラーフィルタユニット及び前記ブラックマトリックスの上に設けられ、
前記カラーフィルタユニット上の前記第２配向層が第４厚さを有し、前記ブラックマトリックス上の前記第２配向層が第５厚さを有し、且つ、前記第４厚さは前記第５厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。 A color filter unit, a black matrix, and a second alignment layer;
The color filter unit and the black matrix are provided on the second substrate,
The second alignment layer is provided on the color filter unit and the black matrix,
The second alignment layer on the color filter unit has a fourth thickness, the second alignment layer on the black matrix has a fifth thickness, and the fourth thickness is the fifth thickness. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the liquid crystal display panel is smaller than the thickness. 前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた少なくとも１つのスペーサをさらに含み、
前記第２配向層は、前記スペーサ上に設けられ、第３厚さを有し、且つ、前記第３厚さは前記第４厚さ及び前記第５厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示パネル。 Further comprising at least one spacer provided between the first substrate and the second substrate;
The second alignment layer is provided on the spacer, has a third thickness, and the third thickness is smaller than the fourth thickness and the fifth thickness. 10. A liquid crystal display panel according to 10. カラーフィルタユニットと、ブラックマトリックスと、第２配向層と、少なくとも１つのスペーサとをさらに含み、
前記カラーフィルタユニット、前記ブラックマトリックス、前記第２配向層及び前記スペーサは、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、
前記スペーサ上に設けられた前記第２配向層が第３厚さを有し、且つ、前記第３厚さは前記第１厚さ及び前記第２厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。 A color filter unit; a black matrix; a second alignment layer; and at least one spacer.
The color filter unit, the black matrix, the second alignment layer, and the spacer are provided between the first substrate and the second substrate,
2. The second alignment layer provided on the spacer has a third thickness, and the third thickness is smaller than the first thickness and the second thickness. A liquid crystal display panel as described in 1. 前記第１基板上には、薄膜トランジスタ素子がさらに設けられ、
前記薄膜トランジスタ素子は、ゲートと、絶縁層と、半導体層と、ソースと、ドレンと、を含み、
前記絶縁層は、前記ゲートを覆い、
前記半導体層は、前記絶縁層上に設けられ、
前記ソース及び前記ドレンは、前記半導体層上に設けられ、
前記ソースと前記ドレンとは、チャンネル領域が形成されるように所定距離を置いて配置され、
前記第１配向層は、前記薄膜トランジスタ素子上に設けられ、
前記ソース及び前記ドレンの上の前記第１配向層が第６厚さを有し、前記チャンネル領域における前記第１配向層が第７厚さを有し、且つ、前記第６厚さは前記第７厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。 A thin film transistor element is further provided on the first substrate.
The thin film transistor element includes a gate, an insulating layer, a semiconductor layer, a source, and a drain,
The insulating layer covers the gate;
The semiconductor layer is provided on the insulating layer,
The source and the drain are provided on the semiconductor layer;
The source and the drain are arranged at a predetermined distance so that a channel region is formed,
The first alignment layer is provided on the thin film transistor element,
The first alignment layer over the source and the drain has a sixth thickness, the first alignment layer in the channel region has a seventh thickness, and the sixth thickness is the first thickness. The liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the thickness is less than 7. 前記データ線、前記走査線及び前記薄膜トランジスタ素子を覆う保護層をさらに含み、
前記保護層は、前記ドレンを露出させるための開口を有し、
前記画素電極は、前記保護層上に設けられ、前記ドレンに電気的に接続するように前記開口に向けて延在し、
前記開口における前記第１配向層が第８厚さを有し、且つ、前記ドレン上の前記第１配向層の前記第６厚さは前記第８厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示パネル。 A protective layer covering the data line, the scanning line, and the thin film transistor;
The protective layer has an opening for exposing the drain,
The pixel electrode is provided on the protective layer and extends toward the opening so as to be electrically connected to the drain.
14. The first alignment layer in the opening has an eighth thickness, and the sixth thickness of the first alignment layer on the drain is smaller than the eighth thickness. A liquid crystal display panel as described in 1. バックライトモジュールと、
前記バックライトモジュール上に設けられた請求項１〜１４のいずれか１項に記載の液晶表示パネルと、
を含むことを特徴とする液晶表示装置。
A backlight module;
The liquid crystal display panel according to claim 1, which is provided on the backlight module,
A liquid crystal display device comprising:

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