JP3191889B2 - 液晶基板の帯電防止方法 - Google Patents
液晶基板の帯電防止方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶基板、特に内部にア
クティブ素子を有するTFT型液晶基板などの帯電防止
方法に関するものである。
クティブ素子を有するTFT型液晶基板などの帯電防止
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】液晶基板に搭載されるアクティブ素子は
静電気破壊を起こしやすい。特に端面切断工程時や輸送
時はアースされていないため、静電気の発生はアクティ
ブ素子にとって致命的である。かかる基板の帯電防止方
法として一般的には、自己放電式または交流電源式によ
る除電器が、また両面を除電するためには、除電気で生
成するイオンを風で送るブロアー式除電器などを用いる
のが有効である。しかし例えば、自己放電式除電器の場
合、帯電体が作り出す電荷によって放電を起こし、電荷
を中和する原理であるから、帯電体の帯電レベルが低す
ぎると効果を発揮しない。また交流式は交流コロナ放電
を利用するため、能力は比較的高く、正負どちらの帯電
極性にも対応できるが、放電特性は、正負で同じではな
いから、半周期ごとに生成される正負イオンの数が等し
くなく、帯電していないフィルムに作用させると、レベ
ルは低いがどちらかの極性に帯電してしまう。またブロ
アー式除電器の場合、送風途中でイオンが減少するため
除電能力に問題がある。その他にも環境湿度を高めるこ
とによって静電気を空気中に放電する方法、静電気が発
生する表面を薬品処理によってイオン化または酸化する
方法、帯電防止剤の添加により導電化を図る方法などが
あるが、コスト面での優位性と効果の確実性から、帯電
防止剤の添加が最も一般的であった。
静電気破壊を起こしやすい。特に端面切断工程時や輸送
時はアースされていないため、静電気の発生はアクティ
ブ素子にとって致命的である。かかる基板の帯電防止方
法として一般的には、自己放電式または交流電源式によ
る除電器が、また両面を除電するためには、除電気で生
成するイオンを風で送るブロアー式除電器などを用いる
のが有効である。しかし例えば、自己放電式除電器の場
合、帯電体が作り出す電荷によって放電を起こし、電荷
を中和する原理であるから、帯電体の帯電レベルが低す
ぎると効果を発揮しない。また交流式は交流コロナ放電
を利用するため、能力は比較的高く、正負どちらの帯電
極性にも対応できるが、放電特性は、正負で同じではな
いから、半周期ごとに生成される正負イオンの数が等し
くなく、帯電していないフィルムに作用させると、レベ
ルは低いがどちらかの極性に帯電してしまう。またブロ
アー式除電器の場合、送風途中でイオンが減少するため
除電能力に問題がある。その他にも環境湿度を高めるこ
とによって静電気を空気中に放電する方法、静電気が発
生する表面を薬品処理によってイオン化または酸化する
方法、帯電防止剤の添加により導電化を図る方法などが
あるが、コスト面での優位性と効果の確実性から、帯電
防止剤の添加が最も一般的であった。
【0003】このような帯電防止剤を使った導電化の材
料として、(1)金属、(2)金属酸化物、(3)カー
ボン、(4)界面活性剤などがある。金属やカーボンを
使う場合は、帯電防止というより、電磁波シールドを目
的とする場合が多い。また界面活性剤を添加する方法で
は、帯電防止剤としての役割を果たすために、概して多
量に添加され、ベース樹脂の基本特性(機械的、透明
性)を損なう場合がある。かりに基本特性を損なわない
ような構造物とした場合でも、帯電防止の役目を達成し
た後に、架橋部分の帯電防止成分の除去が困難であっ
た。また帯電防止皮膜を形成し目的達成後、フィルム状
で剥離を行なう形式では、新たに静電気が発生しやすい
などの問題があった。
料として、(1)金属、(2)金属酸化物、(3)カー
ボン、(4)界面活性剤などがある。金属やカーボンを
使う場合は、帯電防止というより、電磁波シールドを目
的とする場合が多い。また界面活性剤を添加する方法で
は、帯電防止剤としての役割を果たすために、概して多
量に添加され、ベース樹脂の基本特性(機械的、透明
性)を損なう場合がある。かりに基本特性を損なわない
ような構造物とした場合でも、帯電防止の役目を達成し
た後に、架橋部分の帯電防止成分の除去が困難であっ
た。また帯電防止皮膜を形成し目的達成後、フィルム状
で剥離を行なう形式では、新たに静電気が発生しやすい
などの問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる点に鑑
みなされたものであって、液晶基板の表面に帯電防止機
能を有する樹脂組成物からなる皮膜を形成しその後はア
ース回路部の端面切断時に発生する静電気から基板を一
時保護し、アース回路部の端面切断や輸送などの工程終
了後は速やかに水、温水、酸性水溶液、またはアルカリ
性水溶液で剥離する液晶基板の一時的帯電防止方法を提
供せんとするものである。
みなされたものであって、液晶基板の表面に帯電防止機
能を有する樹脂組成物からなる皮膜を形成しその後はア
ース回路部の端面切断時に発生する静電気から基板を一
時保護し、アース回路部の端面切断や輸送などの工程終
了後は速やかに水、温水、酸性水溶液、またはアルカリ
性水溶液で剥離する液晶基板の一時的帯電防止方法を提
供せんとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶基板の
帯電防止方法は、液晶基板の表面に、 (a)分子内に不飽和2重結合を有し、重量平均分子量
が100〜50,000の範囲で、アルキレン付加モル
数が5以上のポリオキシアルキレングリコール酸のグリ
シジル(メタ)アクリレート100重量部 及び (b)分子内に不飽和2重結合を1分子あたり2個以上
有する多官能オキシアルキレン(メタ)アクリレートモ
ノマー1〜300重量部 を必須成分とする樹脂組成物の硬化被膜 を形成し、帯電
防止の目的を達成した後は水、温水、酸性水溶液、また
はアルカリ性水溶液にて皮膜を剥離することを特徴とす
る。
帯電防止方法は、液晶基板の表面に、 (a)分子内に不飽和2重結合を有し、重量平均分子量
が100〜50,000の範囲で、アルキレン付加モル
数が5以上のポリオキシアルキレングリコール酸のグリ
シジル(メタ)アクリレート100重量部 及び (b)分子内に不飽和2重結合を1分子あたり2個以上
有する多官能オキシアルキレン(メタ)アクリレートモ
ノマー1〜300重量部 を必須成分とする樹脂組成物の硬化被膜 を形成し、帯電
防止の目的を達成した後は水、温水、酸性水溶液、また
はアルカリ性水溶液にて皮膜を剥離することを特徴とす
る。
【0006】以下本発明を詳細に説明する。本発明で用
いられるポリオキシアルキレン(メタ)アクリレートオ
リゴマーは通常、縮合重合法で得られる。これらのポリ
オキシアルキレン(メタ)アクリレートオリゴマーとし
ては、ポリオキシエチレンジグリコール、ポリオキシエ
チレンジグリコール酸、ポリオキシプロピレンジグリコ
ール、ポリオキシプロピレンジグリコール酸などのポリ
オール、ポリオール酸など分子内に極性基を有するポリ
マーが挙げられる。
いられるポリオキシアルキレン(メタ)アクリレートオ
リゴマーは通常、縮合重合法で得られる。これらのポリ
オキシアルキレン(メタ)アクリレートオリゴマーとし
ては、ポリオキシエチレンジグリコール、ポリオキシエ
チレンジグリコール酸、ポリオキシプロピレンジグリコ
ール、ポリオキシプロピレンジグリコール酸などのポリ
オール、ポリオール酸など分子内に極性基を有するポリ
マーが挙げられる。
【0007】本発明におけるポリオキシアルキレングリ
コール酸のグリシジル(メタ)アクリレートは、分子量
が100より小さいと、1分子当たりのオキシエチレン
基の濃度が低下するため、親水性が低下し、水などによ
る短時間剥離が困難になる。また、50,000より分
子量が大きいと、オキシアルキレンの繰り返し構造によ
る結晶性が発現し均一な塗工が困難になるため、重量平
均分子量としてはこの範囲のものが選択され、200〜
5,000の範囲にあるものがさらに好ましい。
コール酸のグリシジル(メタ)アクリレートは、分子量
が100より小さいと、1分子当たりのオキシエチレン
基の濃度が低下するため、親水性が低下し、水などによ
る短時間剥離が困難になる。また、50,000より分
子量が大きいと、オキシアルキレンの繰り返し構造によ
る結晶性が発現し均一な塗工が困難になるため、重量平
均分子量としてはこの範囲のものが選択され、200〜
5,000の範囲にあるものがさらに好ましい。
【0008】次に分子内に不飽和2重結合を1分子あた
り2個以上有する多官能オキシアルキレン(メタ)アク
リレートモノマーとしては1、6ーヘキサンジオールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、アリルアルコールジアクリレート、レゾルシノール
ジアクリレート、アジピン酸ジアクリレート、フタル酸
ジアクリレート、付加モル数が5以下のポリエチレング
リコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、グリセリントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ソルビトールテトラ
アクリレート等の(メタ)アクリル酸付加物が挙げられ
る。分子内に導入する不飽和2重結合を有する基はオリ
ゴマーの場合と同様、ビニル基、ビニルオキシ基、アク
リロイル基、メタクリロイル基が有効でその内でも特に
アクリロイル基とメタクリロイル基の反応性が速く、良
好な結果が得られる。分子内にシリル基と不飽和2重結
合を1個以上合わせ持つ単官能または多官能シリコーン
(メタ)アクリレートとしては、ジメチロールシラン、
トリメチロールシラン及びテトラメチロールシランの2
ーヒドロキシエチル(メタ)アクリレート付加物などを
使うことができる。この場合もオリゴマーやモノマーの
場合と同様に、分子内に導入する不飽和2重結合を有す
る基として、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル
基、メタクリロイル基が有効で、アクリロイル基とメタ
クリロイル基は特に良好な結果が得られる。不飽和2重
結合は、硬化性を上げ、架橋度を高めるため1分子あた
あり2個以上必要である。
り2個以上有する多官能オキシアルキレン(メタ)アク
リレートモノマーとしては1、6ーヘキサンジオールジ
アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、アリルアルコールジアクリレート、レゾルシノール
ジアクリレート、アジピン酸ジアクリレート、フタル酸
ジアクリレート、付加モル数が5以下のポリエチレング
リコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、グリセリントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ソルビトールテトラ
アクリレート等の(メタ)アクリル酸付加物が挙げられ
る。分子内に導入する不飽和2重結合を有する基はオリ
ゴマーの場合と同様、ビニル基、ビニルオキシ基、アク
リロイル基、メタクリロイル基が有効でその内でも特に
アクリロイル基とメタクリロイル基の反応性が速く、良
好な結果が得られる。分子内にシリル基と不飽和2重結
合を1個以上合わせ持つ単官能または多官能シリコーン
(メタ)アクリレートとしては、ジメチロールシラン、
トリメチロールシラン及びテトラメチロールシランの2
ーヒドロキシエチル(メタ)アクリレート付加物などを
使うことができる。この場合もオリゴマーやモノマーの
場合と同様に、分子内に導入する不飽和2重結合を有す
る基として、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル
基、メタクリロイル基が有効で、アクリロイル基とメタ
クリロイル基は特に良好な結果が得られる。不飽和2重
結合は、硬化性を上げ、架橋度を高めるため1分子あた
あり2個以上必要である。
【0009】上記した多官能オキシアルキレン(メタ)
アクリレートモノマーは必須成分として使用されるが、
単官能または多官能シリコーン(メタ)アクリレートは
必要に応じて使用される。なお、樹脂は比較的低分子量
のオリゴマーを主成分とする無溶剤樹脂であるが、塗工
作業性の点から、少量の溶剤を使用してもかまわない。
アクリレートモノマーは必須成分として使用されるが、
単官能または多官能シリコーン(メタ)アクリレートは
必要に応じて使用される。なお、樹脂は比較的低分子量
のオリゴマーを主成分とする無溶剤樹脂であるが、塗工
作業性の点から、少量の溶剤を使用してもかまわない。
【0010】前記のオリゴマー、すなわち、ポリオキシ
アルキレングリコール酸のグリシジル(メタ)アクリレ
ー100重量部に対して、単官能又は多官能モノマーの
配合量は、それぞれ5〜300重量部が好ましい。本発
明の樹脂組成物を紫外線によって硬化させる場合、光開
始剤又は増感剤の少なくとも一方が必須であるが、その
ほかに希釈剤、増粘剤、可塑剤、酸化防止剤、充填材、
着色剤、導電性付与材、膨潤剤などの添加剤を配合して
もよい。樹脂組成物の塗布厚さは、0.1μm〜1mm
の範囲で、好ましくは1μm〜100μmの範囲で選択
される。
アルキレングリコール酸のグリシジル(メタ)アクリレ
ー100重量部に対して、単官能又は多官能モノマーの
配合量は、それぞれ5〜300重量部が好ましい。本発
明の樹脂組成物を紫外線によって硬化させる場合、光開
始剤又は増感剤の少なくとも一方が必須であるが、その
ほかに希釈剤、増粘剤、可塑剤、酸化防止剤、充填材、
着色剤、導電性付与材、膨潤剤などの添加剤を配合して
もよい。樹脂組成物の塗布厚さは、0.1μm〜1mm
の範囲で、好ましくは1μm〜100μmの範囲で選択
される。
【0011】本発明でいう放射線の線量は吸収線量で
0.1〜30Mrad、より好ましくは1〜10Mra
d、紫外線の場合0.01〜30J/cm2の範囲で使用
されるが、0.05〜3J/cm2より好ましい。照射の
際注意を要するのは活性ラジカルの酸素による失活であ
る。これらの影響を最小限に防ぐためには、窒素などの
不活性ガスを用いて適当な酸素濃度にしたり、プラスチ
ックフィルムを樹脂上にラミネートして、酸素を遮蔽す
る必要がある。この際の必須成分としてベンゾフェノン
やミヒラーケトンのごとき光開始剤、増感剤またはそれ
らの誘導体をオリゴマー100部に対して0.1〜30
部、好ましくは0.5〜10部添加することによって、
効率よく開始反応を行なわせることができる。
0.1〜30Mrad、より好ましくは1〜10Mra
d、紫外線の場合0.01〜30J/cm2の範囲で使用
されるが、0.05〜3J/cm2より好ましい。照射の
際注意を要するのは活性ラジカルの酸素による失活であ
る。これらの影響を最小限に防ぐためには、窒素などの
不活性ガスを用いて適当な酸素濃度にしたり、プラスチ
ックフィルムを樹脂上にラミネートして、酸素を遮蔽す
る必要がある。この際の必須成分としてベンゾフェノン
やミヒラーケトンのごとき光開始剤、増感剤またはそれ
らの誘導体をオリゴマー100部に対して0.1〜30
部、好ましくは0.5〜10部添加することによって、
効率よく開始反応を行なわせることができる。
【0012】本発明で使用する放射線照射した保護樹脂
の剥離液としては水温が0℃以上100℃以下の水、温
水(熱水)が使えるが、使いやすさ、安全性の点から、
水温は20℃〜60℃が望ましい。また水以外の剥離液
としては、酸・アルカリの水溶液を使うことができる。
それらの濃度は、0.1%〜90%で可能であるが、1
0%以下の水溶液が安全作業性の点からより好ましい。
の剥離液としては水温が0℃以上100℃以下の水、温
水(熱水)が使えるが、使いやすさ、安全性の点から、
水温は20℃〜60℃が望ましい。また水以外の剥離液
としては、酸・アルカリの水溶液を使うことができる。
それらの濃度は、0.1%〜90%で可能であるが、1
0%以下の水溶液が安全作業性の点からより好ましい。
【0013】このようにして得られた帯電防止用樹脂組
成物は表面硬度を有し、優れた帯電防止機能のため、T
FT型液晶基板などの一時的な帯電防止用途に適用さ
れ、アース部の端面切断・運搬などの目的を達成した後
は速やかに剥離可能な皮膜を提供する。
成物は表面硬度を有し、優れた帯電防止機能のため、T
FT型液晶基板などの一時的な帯電防止用途に適用さ
れ、アース部の端面切断・運搬などの目的を達成した後
は速やかに剥離可能な皮膜を提供する。
【0014】
【作用】本発明の効果が発現する理由は必ずしも明確で
はないが、以下のように推察される。即ち、オリゴマ
ー、モノマー及び単官能または多官能シリコーンの不飽
和2重結合が放射線照射によりラジカル重合を開始し、
さらにモノマー及び単官能または多官能シリコーンの反
応点が非常に多いことから高度に架橋された網目構造体
が形成され、これが強靭な皮膜となる。一方、この皮膜
を形成している樹脂組成物は非常に親水性が強いため、
体積固有抵抗率が小さく、通常の帯電防止剤の添加の場
合と違って、膜全体が帯電防止機能を有する。次に、剥
離の発現機構は次のように考えられる。すなわち、モノ
マー及び単官能または多官能シリコーンによる反応点過
多のため、重合収縮が生じるが、この時点では樹脂は液
晶基板上に拘束されており見かけ上の収縮は起こらず、
残留応力を持つことになる。ここに、水、酸性またはア
ルカリ性水溶液が浸入すると親水性の樹脂が膨潤し、ク
ラック発生の核が発生し、膨潤した帯電防止用皮膜は容
易に剥離を起こすものと考えられる。しかもこの剥離工
程では、水に浸漬した状態で皮膜が剥離するので静電気
の滞留が一切ないため、非常に優れた帯電防止機能を有
するものと考えられる。
はないが、以下のように推察される。即ち、オリゴマ
ー、モノマー及び単官能または多官能シリコーンの不飽
和2重結合が放射線照射によりラジカル重合を開始し、
さらにモノマー及び単官能または多官能シリコーンの反
応点が非常に多いことから高度に架橋された網目構造体
が形成され、これが強靭な皮膜となる。一方、この皮膜
を形成している樹脂組成物は非常に親水性が強いため、
体積固有抵抗率が小さく、通常の帯電防止剤の添加の場
合と違って、膜全体が帯電防止機能を有する。次に、剥
離の発現機構は次のように考えられる。すなわち、モノ
マー及び単官能または多官能シリコーンによる反応点過
多のため、重合収縮が生じるが、この時点では樹脂は液
晶基板上に拘束されており見かけ上の収縮は起こらず、
残留応力を持つことになる。ここに、水、酸性またはア
ルカリ性水溶液が浸入すると親水性の樹脂が膨潤し、ク
ラック発生の核が発生し、膨潤した帯電防止用皮膜は容
易に剥離を起こすものと考えられる。しかもこの剥離工
程では、水に浸漬した状態で皮膜が剥離するので静電気
の滞留が一切ないため、非常に優れた帯電防止機能を有
するものと考えられる。
【0015】[実施例]次に実施例に於いて本発明を詳
述するが、本発明はこれに限定されるものではない。 (オリゴマー1の製造法)2ーヒドロキシエチルメタク
リレート15部、メチルアクリレート9.5部、アクリ
ル酸0.5部、ポリオキシエチレンジグリコール酸(エ
チレン付加モル数9)70部、βーメルカプトプロピオ
ン酸2.5部、4、4′ーアゾビス−4−シアノバレリン
酸3部をN2下70℃で5時間反応させグリシジルメタ
クリレート10部、ハイドロキノン0.01部、N、N′
ージメチルドデシルアミン0.05部を加え、昇温85
℃で5時間反応させ、末端又は側鎖に不飽和2重結合を
有する重合ポリエチレングリコール酸のグリシジルメタ
クリレート付加物を得た。この時ポリエチレングリコー
ル酸のグリシジルメタクリレート付加物とアクリルマク
ロマーの比率はほぼ7:3であった。
述するが、本発明はこれに限定されるものではない。 (オリゴマー1の製造法)2ーヒドロキシエチルメタク
リレート15部、メチルアクリレート9.5部、アクリ
ル酸0.5部、ポリオキシエチレンジグリコール酸(エ
チレン付加モル数9)70部、βーメルカプトプロピオ
ン酸2.5部、4、4′ーアゾビス−4−シアノバレリン
酸3部をN2下70℃で5時間反応させグリシジルメタ
クリレート10部、ハイドロキノン0.01部、N、N′
ージメチルドデシルアミン0.05部を加え、昇温85
℃で5時間反応させ、末端又は側鎖に不飽和2重結合を
有する重合ポリエチレングリコール酸のグリシジルメタ
クリレート付加物を得た。この時ポリエチレングリコー
ル酸のグリシジルメタクリレート付加物とアクリルマク
ロマーの比率はほぼ7:3であった。
【0016】(オリゴマー2の製造法)2ーヒドロキシ
エチルアクリレート15部、アクリルアマイド5部、エ
チルアクリレート13部、アクリル酸0.5部、ポリオ
キシジエチレンジグリコール酸(エチレン付加モル数1
3)60部、チオグリコール酸4部、4、4′ーアゾビ
スー4ーシアノバレリン酸3部をN2下70℃で5時間
反応させた後、グリシジルメタクリレート10部、ハイ
ドロキノン0.01部、N、N′ージメチルドデシルアミ
ン0.05部を加え、昇温90℃で5時間反応を行な
い、末端又は側鎖に不飽和2重結合を有する重合体を得
た。この時ポリエチレングリコール酸のグリシジルメタ
クリレート付加物とアクリルマクロマーの比率はほぼ
6:4であった。
エチルアクリレート15部、アクリルアマイド5部、エ
チルアクリレート13部、アクリル酸0.5部、ポリオ
キシジエチレンジグリコール酸(エチレン付加モル数1
3)60部、チオグリコール酸4部、4、4′ーアゾビ
スー4ーシアノバレリン酸3部をN2下70℃で5時間
反応させた後、グリシジルメタクリレート10部、ハイ
ドロキノン0.01部、N、N′ージメチルドデシルアミ
ン0.05部を加え、昇温90℃で5時間反応を行な
い、末端又は側鎖に不飽和2重結合を有する重合体を得
た。この時ポリエチレングリコール酸のグリシジルメタ
クリレート付加物とアクリルマクロマーの比率はほぼ
6:4であった。
【0017】オリゴマー3:ポリオキシエチレンジアク
リレート(分子量約300) オリゴマー4:ポリオキシエチレンジアクリレート(分
子量約500) オリゴマー5:ポリオキシエチレンジアクリレート(分
子量約700) オリゴマー6:ポリオキシプロピレンジアクリレート
(分子量約300) オリゴマー7:ポリオキシプロピレンジアクリレート
(分子量約500) オリゴマー8:ポリオキシプロピレンジアクリレート
(分子量約800) モノマー1:1、6ーヘキサンジオールジアクリレート モノマー2:トリメチロールプロパントリアクリレート モノマー3:トリエチレングリコールジメタクリレート
リレート(分子量約300) オリゴマー4:ポリオキシエチレンジアクリレート(分
子量約500) オリゴマー5:ポリオキシエチレンジアクリレート(分
子量約700) オリゴマー6:ポリオキシプロピレンジアクリレート
(分子量約300) オリゴマー7:ポリオキシプロピレンジアクリレート
(分子量約500) オリゴマー8:ポリオキシプロピレンジアクリレート
(分子量約800) モノマー1:1、6ーヘキサンジオールジアクリレート モノマー2:トリメチロールプロパントリアクリレート モノマー3:トリエチレングリコールジメタクリレート
【0018】以上のようにして得たオリゴマーとモノマ
ーを所定量混合、攪拌した樹脂を蒸着法とスパッタ法で
ITO膜を作製した液晶基板上に、厚さが10μmにな
るように塗布した。これらの樹脂を塗工した液晶基板上
に、窒素パージしながら酸素濃度が100ppm以下の
雰囲気になるようにして、紫外線照射装置で紫外線を1
J/cm2照射した。このようにして作製した帯電防止
皮膜付き液晶基盤のアース部を端面切断し、静電気発生
量を測定した。その後表面を肉眼観察し、その時の状態
を最初のものと比較した。また上記帯電防止皮膜付き液
晶基板を水中に浸漬し、皮膜の剥離時間の測定及び剥離
後の液晶基板の表面状態を電子顕微鏡で観察し、最初の
ものと比較した。皮膜の鉛筆硬度と体積固有抵抗率の測
定も同時に行なった。結果を表1に示す。
ーを所定量混合、攪拌した樹脂を蒸着法とスパッタ法で
ITO膜を作製した液晶基板上に、厚さが10μmにな
るように塗布した。これらの樹脂を塗工した液晶基板上
に、窒素パージしながら酸素濃度が100ppm以下の
雰囲気になるようにして、紫外線照射装置で紫外線を1
J/cm2照射した。このようにして作製した帯電防止
皮膜付き液晶基盤のアース部を端面切断し、静電気発生
量を測定した。その後表面を肉眼観察し、その時の状態
を最初のものと比較した。また上記帯電防止皮膜付き液
晶基板を水中に浸漬し、皮膜の剥離時間の測定及び剥離
後の液晶基板の表面状態を電子顕微鏡で観察し、最初の
ものと比較した。皮膜の鉛筆硬度と体積固有抵抗率の測
定も同時に行なった。結果を表1に示す。
【0019】
【表1】
【0020】
【発明の効果】本発明によるTFT型液晶基板などの帯
電防止方法は、表中の実施例からも明らかなように、ア
ース部の端面切断時に発生する静電圧が50〜100
V、体積固有抵抗率が108Ω・cmのオーダーと小さ
いため、帯電防止性に特に優れた強靭な透明皮膜とな
り、使用後は水により数10秒以内で完全剥離し、IT
O表面を汚染しないため、液晶基板の帯電防止方法に適
していることは明らかである。
電防止方法は、表中の実施例からも明らかなように、ア
ース部の端面切断時に発生する静電圧が50〜100
V、体積固有抵抗率が108Ω・cmのオーダーと小さ
いため、帯電防止性に特に優れた強靭な透明皮膜とな
り、使用後は水により数10秒以内で完全剥離し、IT
O表面を汚染しないため、液晶基板の帯電防止方法に適
していることは明らかである。
フロントページの続き (72)発明者 山口 豊 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化 成工業株式会社 下館研究所内 (72)発明者 川口 久雄 大阪府大阪市阿部野町22番22号 シャー プ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−202158(JP,A) 特開 昭60−42469(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09D 5/20
Claims (1)
- 【請求項1】 液晶基板の表面に、 (a)分子内に不飽和2重結合を有し、重量平均分子量
が100〜50,000の範囲で、アルキレン付加モル
数が5以上のポリオキシアルキレングリコール酸のグリ
シジル(メタ)アクリレート100重量部 及び (b)分子内に不飽和2重結合を1分子あたり2個以上
有する多官能オキシアルキレン(メタ)アクリレートモ
ノマー1〜300重量部 を必須成分とする樹脂組成物の硬化被膜 を形成し、帯電
防止の目的を達成した後は水、温水、酸性水溶液、また
はアルカリ性水溶液にて皮膜を剥離することを特徴とす
る液晶基板の帯電防止方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00444393A JP3191889B2 (ja) | 1993-01-14 | 1993-01-14 | 液晶基板の帯電防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00444393A JP3191889B2 (ja) | 1993-01-14 | 1993-01-14 | 液晶基板の帯電防止方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06212102A JPH06212102A (ja) | 1994-08-02 |
JP3191889B2 true JP3191889B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=11584349
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00444393A Expired - Fee Related JP3191889B2 (ja) | 1993-01-14 | 1993-01-14 | 液晶基板の帯電防止方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3191889B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004166959A (ja) | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Aruze Corp | 遊技機 |
EP1571622B8 (en) * | 2004-03-01 | 2006-07-12 | Aruze Corporation | Gaming machine |
US9919526B2 (en) * | 2013-11-29 | 2018-03-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing liquid discharge head |
-
1993
- 1993-01-14 JP JP00444393A patent/JP3191889B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06212102A (ja) | 1994-08-02 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |