JP3175336B2 - ハイブリッドicのリード形成方法 - Google Patents
ハイブリッドicのリード形成方法Info
- Publication number
- JP3175336B2 JP3175336B2 JP25718792A JP25718792A JP3175336B2 JP 3175336 B2 JP3175336 B2 JP 3175336B2 JP 25718792 A JP25718792 A JP 25718792A JP 25718792 A JP25718792 A JP 25718792A JP 3175336 B2 JP3175336 B2 JP 3175336B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- substrate
- forming
- individual substrate
- lead
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0097—Processing two or more printed circuits simultaneously, e.g. made from a common substrate, or temporarily stacked circuit boards
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/40—Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
- H05K3/403—Edge contacts; Windows or holes in the substrate having plural connections on the walls thereof
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハイブリッドICのリ
ード形成方法に関するものである。
ード形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のハイブリッドICの製造工程では
以下のようにしてリード形成が行われていた。まず、図
9に示すような集合基板50の状態で、長孔51によっ
て区画形成された各個片基板52上に半導体素子やその
他の個別部品を搭載する。部品搭載が終了したら基板の
吊り部分53を金型によって打ち落とし、一枚の集合基
板50を複数枚の個片基板52に分割する。
以下のようにしてリード形成が行われていた。まず、図
9に示すような集合基板50の状態で、長孔51によっ
て区画形成された各個片基板52上に半導体素子やその
他の個別部品を搭載する。部品搭載が終了したら基板の
吊り部分53を金型によって打ち落とし、一枚の集合基
板50を複数枚の個片基板52に分割する。
【0003】こうして分割された個片基板52に対し、
別工程で製造されたリードフレーム(F型リード)54
を図10に示すように個片基板52の両側から対向させ
て配置する。続いて、図11に示すように個片基板52
の両側からリードフレーム54を組み込んで、さらに個
片基板52とリードフレーム54とをハンダ付けによっ
て接続させる。その後、図中破線で示すように所定の長
さを残してリードフレーム54を切断し、あとは必要に
応じて所定形状にフォーミングする。
別工程で製造されたリードフレーム(F型リード)54
を図10に示すように個片基板52の両側から対向させ
て配置する。続いて、図11に示すように個片基板52
の両側からリードフレーム54を組み込んで、さらに個
片基板52とリードフレーム54とをハンダ付けによっ
て接続させる。その後、図中破線で示すように所定の長
さを残してリードフレーム54を切断し、あとは必要に
応じて所定形状にフォーミングする。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のリード形成方法においては、個片基板52とリードフ
レーム54とがそれぞれ別々の工程で製造され、さらに
この両者を後工程で組み合わせるようになっているた
め、製造工程が非常に煩雑になるといった問題があっ
た。また、個片基板52とリードフレーム54とをハン
ダ付けにより接続し、これによって両者の電気的接続が
得られるようになっているため、作業に人手がかかるう
えに多大な工数を必要し、大幅な製品コストの増加を招
いていた。
のリード形成方法においては、個片基板52とリードフ
レーム54とがそれぞれ別々の工程で製造され、さらに
この両者を後工程で組み合わせるようになっているた
め、製造工程が非常に煩雑になるといった問題があっ
た。また、個片基板52とリードフレーム54とをハン
ダ付けにより接続し、これによって両者の電気的接続が
得られるようになっているため、作業に人手がかかるう
えに多大な工数を必要し、大幅な製品コストの増加を招
いていた。
【0005】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、一連の製造工程の中でリードを形成するこ
とができ、しかも大幅な工数削減を可能としたハイブリ
ッドICのリード形成方法を提供することを目的とす
る。
れたもので、一連の製造工程の中でリードを形成するこ
とができ、しかも大幅な工数削減を可能としたハイブリ
ッドICのリード形成方法を提供することを目的とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、基材を長孔にて区画し、
その基材内に個片基板を形成する工程と、基材の表面に
銅箔を積層する工程と、銅箔の所定部分にレジストを塗
布する工程と、レジストが塗布された部分を除いて銅箔
を除去し、基材に設けた長孔を跨ぐ状態で銅箔を残す工
程と、基材から個片基板を切り離すと同時に、残された
銅箔を切断、曲げ加工して個片基板の周囲にリードを形
成する工程とからなるハイブリッドICのリード形成方
法である。
成するためになされたもので、基材を長孔にて区画し、
その基材内に個片基板を形成する工程と、基材の表面に
銅箔を積層する工程と、銅箔の所定部分にレジストを塗
布する工程と、レジストが塗布された部分を除いて銅箔
を除去し、基材に設けた長孔を跨ぐ状態で銅箔を残す工
程と、基材から個片基板を切り離すと同時に、残された
銅箔を切断、曲げ加工して個片基板の周囲にリードを形
成する工程とからなるハイブリッドICのリード形成方
法である。
【0007】また、基材を長孔にて区画し、その基材内
に個片基板を形成する工程と、基材に設けた長孔を跨ぐ
状態で該基板面に沿って平板状の銅板を実装する工程
と、基材から個片基板を切り離すと同時に、銅板を切
断、曲げ加工して個片基板の周囲にリードを形成する工
程とからなるハイブリッドICのリード形成方法であ
る。
に個片基板を形成する工程と、基材に設けた長孔を跨ぐ
状態で該基板面に沿って平板状の銅板を実装する工程
と、基材から個片基板を切り離すと同時に、銅板を切
断、曲げ加工して個片基板の周囲にリードを形成する工
程とからなるハイブリッドICのリード形成方法であ
る。
【0008】さらに、基材を長孔にて区画し、その基材
内に個片基板を形成する工程と、基材に設けた長孔を跨
ぐ状態で、所定形状にフォーミングされた銅板を実装す
る工程と、基材から個片基板を切り離すと同時に、銅板
を切断して個片基板の周囲にリードを形成する工程とか
らなるハイブリッドICのリード形成方法である。
内に個片基板を形成する工程と、基材に設けた長孔を跨
ぐ状態で、所定形状にフォーミングされた銅板を実装す
る工程と、基材から個片基板を切り離すと同時に、銅板
を切断して個片基板の周囲にリードを形成する工程とか
らなるハイブリッドICのリード形成方法である。
【0009】
【作用】本発明のハイブリッドICのリード形成方法に
おいては、基材を長孔にて区画してからこの基材を幾枚
かの個片基板に分割するまでの一連の工程の中で、リー
ドとなる銅箔又は銅板が上記基材に設けた長孔を跨ぐ状
態で形成され、さらにそれらの銅箔又は銅板が基板分割
と同時に切断、曲げ加工されて、個片基板の周囲にリー
ドとして形成される。ここで、銅板が予め所定形状にフ
ォーミングされている場合は、基板分割時における銅板
の曲げ加工が不要となる。
おいては、基材を長孔にて区画してからこの基材を幾枚
かの個片基板に分割するまでの一連の工程の中で、リー
ドとなる銅箔又は銅板が上記基材に設けた長孔を跨ぐ状
態で形成され、さらにそれらの銅箔又は銅板が基板分割
と同時に切断、曲げ加工されて、個片基板の周囲にリー
ドとして形成される。ここで、銅板が予め所定形状にフ
ォーミングされている場合は、基板分割時における銅板
の曲げ加工が不要となる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。はじめに、本発明に係わるハイブリッドI
Cのリード形成方法の第1実施例について図1〜図5を
基に説明する。まず、図2に示すように集合基板となる
基材10の所定箇所に長孔11を設けて区画し、その基
材10内に例えば図例のように4枚の個片基板12を形
成する。各個片基板12は長孔11の端部近傍に形成さ
れる吊り部分13によって基材10と一体に保持され
る。次に、上述のように外形加工された基材10の表面
に銅箔14を積層する(図3参照)。これにより、基材
10に設けられた長孔11や個片基板12が銅箔14に
よって完全に覆われる。
に説明する。はじめに、本発明に係わるハイブリッドI
Cのリード形成方法の第1実施例について図1〜図5を
基に説明する。まず、図2に示すように集合基板となる
基材10の所定箇所に長孔11を設けて区画し、その基
材10内に例えば図例のように4枚の個片基板12を形
成する。各個片基板12は長孔11の端部近傍に形成さ
れる吊り部分13によって基材10と一体に保持され
る。次に、上述のように外形加工された基材10の表面
に銅箔14を積層する(図3参照)。これにより、基材
10に設けられた長孔11や個片基板12が銅箔14に
よって完全に覆われる。
【0011】続いて、基材10の表面に積層された銅箔
14の所定部分にレジストを塗布する。ここでは、基材
10表面に銅箔14として残したい部分にのみレジスト
を塗布する。例えば、個片基板12上に形成される配線
パターンや、この配線パターンに接続して形成されるリ
ード(後述)がその部分に該当する。
14の所定部分にレジストを塗布する。ここでは、基材
10表面に銅箔14として残したい部分にのみレジスト
を塗布する。例えば、個片基板12上に形成される配線
パターンや、この配線パターンに接続して形成されるリ
ード(後述)がその部分に該当する。
【0012】次いで、レジストが塗布された部分を除い
て銅箔14をエッチングによって除去し、図示せぬ個片
基板12の配線パターンとともに、図1に示す如く基材
10の長孔11を跨ぐ状態で銅箔14を残す。
て銅箔14をエッチングによって除去し、図示せぬ個片
基板12の配線パターンとともに、図1に示す如く基材
10の長孔11を跨ぐ状態で銅箔14を残す。
【0013】最後は、図示せぬ金型を用いて、基材10
から個片基板12を切り離すと同時に、基材10上に残
された銅箔14を図4の破線の位置(銅箔14の中央)
で切断し、さらに図5に示すように銅箔14を曲げ加工
して個片基板12の周囲にリード(14)を形成する。
因みに、基材10からの個片基板12の切り離しは、吊
り部分13を金型で打ち落とすことによって行われる。
から個片基板12を切り離すと同時に、基材10上に残
された銅箔14を図4の破線の位置(銅箔14の中央)
で切断し、さらに図5に示すように銅箔14を曲げ加工
して個片基板12の周囲にリード(14)を形成する。
因みに、基材10からの個片基板12の切り離しは、吊
り部分13を金型で打ち落とすことによって行われる。
【0014】このように上述した第1実施例のリード形
成方法においては、ハイブリッドICのリードとなる部
分が基材10上のパターンニングと同時に形成されるよ
うになるため、従来のようなリード付けのための別工程
を設ける必要がなく、一連の基板製造工程の中でリード
形成を行うことが可能となる。また、個片基板12上に
配線パターンを形成する作業と同時進行で、リードとな
る銅箔14部分を形成することにより、基板製造にかか
る工数をほとんど増やすことなくリード形成を行うこと
が可能となる。これにより、従来方法におけるリードフ
レーム製造のための工数やこれを個片基板に組み込むた
めの工数が一切不要となり、もって大幅な作業工数の削
減が可能となる。
成方法においては、ハイブリッドICのリードとなる部
分が基材10上のパターンニングと同時に形成されるよ
うになるため、従来のようなリード付けのための別工程
を設ける必要がなく、一連の基板製造工程の中でリード
形成を行うことが可能となる。また、個片基板12上に
配線パターンを形成する作業と同時進行で、リードとな
る銅箔14部分を形成することにより、基板製造にかか
る工数をほとんど増やすことなくリード形成を行うこと
が可能となる。これにより、従来方法におけるリードフ
レーム製造のための工数やこれを個片基板に組み込むた
めの工数が一切不要となり、もって大幅な作業工数の削
減が可能となる。
【0015】次に、本発明に係わるハイブリッドICの
リード形成方法の第2実施例について図6〜図8に基に
説明する。まず、上記第1実施例の場合と同様に基材2
0の所定箇所に長孔21を設けて区画し、その基材20
内に幾枚かの個片基板22を形成する。ここで、各個片
基板22は長孔21の端部に形成される吊り部分23に
よって基材20と一体に保持される。
リード形成方法の第2実施例について図6〜図8に基に
説明する。まず、上記第1実施例の場合と同様に基材2
0の所定箇所に長孔21を設けて区画し、その基材20
内に幾枚かの個片基板22を形成する。ここで、各個片
基板22は長孔21の端部に形成される吊り部分23に
よって基材20と一体に保持される。
【0016】続いて、図6に示すように基材20に設け
た長孔21を跨ぐ状態で薄板状の銅板24を実装する。
この銅板24は、図7にも示すように予め所定の形状に
フォーミングされており、しかも夫々の銅板24は細長
い樹脂材25によって連結されている。さらに詳述する
と、銅板24の連結部はくさび状に切り欠かれており、
その切り欠き部分に溶かした樹脂材25を流し込んで硬
化させることにより各銅板24が連結されている。
た長孔21を跨ぐ状態で薄板状の銅板24を実装する。
この銅板24は、図7にも示すように予め所定の形状に
フォーミングされており、しかも夫々の銅板24は細長
い樹脂材25によって連結されている。さらに詳述する
と、銅板24の連結部はくさび状に切り欠かれており、
その切り欠き部分に溶かした樹脂材25を流し込んで硬
化させることにより各銅板24が連結されている。
【0017】樹脂材25によって連結された銅板24
は、個片基板22に搭載される半導体素子やその他の個
別部品と同様に、図示せぬ搭載機によって基材20上に
搭載される。ここで、長孔21によって区画された個片
基板22の周縁には図示せぬランドが形成されており、
このランドに銅板24の両端が丁度位置するように、基
材20に対して銅板24の搭載がなされる。さらに、個
片基板22のランドには他の部品実装用のランドと同様
に予め所定量のハンダが供給され、これによりマウント
された銅板24が基材20上に仮付けされる。こうした
状態から基材20を例えばリフロー炉に通して所定温度
まで加熱することにより、個片基板22のランドと銅板
24の両端とがハンダによって接合される。
は、個片基板22に搭載される半導体素子やその他の個
別部品と同様に、図示せぬ搭載機によって基材20上に
搭載される。ここで、長孔21によって区画された個片
基板22の周縁には図示せぬランドが形成されており、
このランドに銅板24の両端が丁度位置するように、基
材20に対して銅板24の搭載がなされる。さらに、個
片基板22のランドには他の部品実装用のランドと同様
に予め所定量のハンダが供給され、これによりマウント
された銅板24が基材20上に仮付けされる。こうした
状態から基材20を例えばリフロー炉に通して所定温度
まで加熱することにより、個片基板22のランドと銅板
24の両端とがハンダによって接合される。
【0018】最後は、図示せぬ金型を用いて、基材20
から個片基板22を切り離すと同時に、基材20上に実
装された銅板24を樹脂材25の連結部分で切り離し、
図8に示すように個片基板22の周囲にリード(24)
を形成する。因みに、基材20からの個片基板22の切
り離しは、先の実施例と同様に吊り部分23を金型で打
ち落とすことによって行われる。また、銅板24相互の
切り離しは、樹脂材25との連結部分を金型で切断する
ことにより行われる。
から個片基板22を切り離すと同時に、基材20上に実
装された銅板24を樹脂材25の連結部分で切り離し、
図8に示すように個片基板22の周囲にリード(24)
を形成する。因みに、基材20からの個片基板22の切
り離しは、先の実施例と同様に吊り部分23を金型で打
ち落とすことによって行われる。また、銅板24相互の
切り離しは、樹脂材25との連結部分を金型で切断する
ことにより行われる。
【0019】このように上述した第2実施例のリード形
成方法においては、ハイブリッドICのリードとなる銅
板24が、他の部品と同じように基材20上に表面実装
されるとともに、基板分割時に切断、曲げ加工されて個
片基板22の周囲にリードとして形成されるため、上記
第1実施例と同様にリード付けのための別工程を設ける
必要がなく、一連の基板製造工程の中でハイブリッドI
Cのリード形成を行うことが可能となる。また、リード
となる銅板24と個片基板22のランドとをリフロー方
式で接合させることでリード形成に伴う作業を全て自動
機で行わせることが可能となるため、人手がかからない
うえに大幅な作業工数の削減が可能となる。
成方法においては、ハイブリッドICのリードとなる銅
板24が、他の部品と同じように基材20上に表面実装
されるとともに、基板分割時に切断、曲げ加工されて個
片基板22の周囲にリードとして形成されるため、上記
第1実施例と同様にリード付けのための別工程を設ける
必要がなく、一連の基板製造工程の中でハイブリッドI
Cのリード形成を行うことが可能となる。また、リード
となる銅板24と個片基板22のランドとをリフロー方
式で接合させることでリード形成に伴う作業を全て自動
機で行わせることが可能となるため、人手がかからない
うえに大幅な作業工数の削減が可能となる。
【0020】なお、上記第2実施例においては、予め銅
板24を所定形状にフォーミングしてから基材20上に
実装するようにしたが、本発明はこれに限らず、フォー
ミングしていない、所謂平板状の銅板を基材上に実装
し、これを基板分割と同時に切断、曲げ加工してリード
として形成するようにしてもよい。
板24を所定形状にフォーミングしてから基材20上に
実装するようにしたが、本発明はこれに限らず、フォー
ミングしていない、所謂平板状の銅板を基材上に実装
し、これを基板分割と同時に切断、曲げ加工してリード
として形成するようにしてもよい。
【0021】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
一連の基板製造工程の中でリード形成を行うことができ
るため、従来のように別工程でリードフレームを製造
し、これを個片基板に組み込むといった工程の煩雑さが
解消される。また、上述した一連の基板製造工程の中で
個片基板とリードとの電気的接続を得ることができるた
め、従来方法のように別々の工程で製造された個片基板
とリードフレームとをハンダ付けにより接続させるとい
った面倒な作業を行う必要がなくなり、これをもって大
幅な作業工数の削減が可能になると同時に、製品コスト
の低減が期待できる。
一連の基板製造工程の中でリード形成を行うことができ
るため、従来のように別工程でリードフレームを製造
し、これを個片基板に組み込むといった工程の煩雑さが
解消される。また、上述した一連の基板製造工程の中で
個片基板とリードとの電気的接続を得ることができるた
め、従来方法のように別々の工程で製造された個片基板
とリードフレームとをハンダ付けにより接続させるとい
った面倒な作業を行う必要がなくなり、これをもって大
幅な作業工数の削減が可能になると同時に、製品コスト
の低減が期待できる。
【図1】本発明の第1実施例のリード形成方法を説明す
る図(その1)である。
る図(その1)である。
【図2】本発明の第1実施例のリード形成方法を説明す
る図(その2)である。
る図(その2)である。
【図3】本発明の第1実施例のリード形成方法を説明す
る図(その3)である。
る図(その3)である。
【図4】本発明の第1実施例のリード形成方法を説明す
る図(その4)である。
る図(その4)である。
【図5】本発明の第1実施例のリード形成方法を説明す
る図(その5)である。
る図(その5)である。
【図6】本発明の第2実施例のリード形成方法を説明す
る図(その1)である。
る図(その1)である。
【図7】第2実施例における銅板の説明図である。
【図8】本発明の第2実施例のリード形成方法を説明す
る図(その2)である。
る図(その2)である。
【図9】従来のリード形成方法を説明する図(その1)
である。
である。
【図10】従来のリード形成方法を説明する図(その
2)である。
2)である。
【図11】従来のリード形成方法を説明する図(その
3)である。
3)である。
10、20 基材 11、21 長孔 12、22 個片基板 14 銅箔 24 銅板
フロントページの続き (72)発明者 小菅 克也 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソ ニー株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−242631(JP,A) 実開 平1−16657(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/50 H05K 1/02
Claims (3)
- 【請求項1】 基材を長孔にて区画し、その基材内に個
片基板を形成する工程と、 前記基材の表面に銅箔を積層する工程と、 前記銅箔の所定部分にレジストを塗布する工程と、 前記レジストが塗布された部分を除いて前記銅箔を除去
し、前記基材に設けた長孔を跨ぐ状態で前記銅箔を残す
工程と、 前記基材から前記個片基板を切り離すと同時に、前記残
された銅箔を切断、曲げ加工して前記個片基板の周囲に
リードを形成する工程とからなることを特徴とするハイ
ブリッドICのリード形成方法。 - 【請求項2】 基材を長孔にて区画し、その基材内に個
片基板を形成する工程と、 前記基材に設けた長孔を跨ぐ状態で該基板面に沿って平
板状の銅板を実装する工程と、 前記基材から前記個片基板を切り離すと同時に、前記銅
板を切断、曲げ加工して前記個片基板の周囲にリードを
形成する工程とからなることを特徴とするハイブリッド
ICのリード形成方法。 - 【請求項3】 基材を長孔にて区画し、その基材内に個
片基板を形成する工程と、 前記基材に設けた長孔を跨ぐ状態で、所定形状にフォー
ミングされた銅板を実装する工程と、 前記基材から前記個片基板を切り離すと同時に、前記銅
板を切断して前記個片基板の周囲にリードを形成する工
程とからなることを特徴とするハイブリッドICのリー
ド形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25718792A JP3175336B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | ハイブリッドicのリード形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25718792A JP3175336B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | ハイブリッドicのリード形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0685128A JPH0685128A (ja) | 1994-03-25 |
JP3175336B2 true JP3175336B2 (ja) | 2001-06-11 |
Family
ID=17302892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25718792A Expired - Fee Related JP3175336B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | ハイブリッドicのリード形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3175336B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4753749B2 (ja) * | 2006-03-03 | 2011-08-24 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板集合体シートおよびその製造方法 |
-
1992
- 1992-08-31 JP JP25718792A patent/JP3175336B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0685128A (ja) | 1994-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3093960B2 (ja) | 半導体回路素子搭載基板フレームの製造方法 | |
JPH0513504A (ja) | 垂直半導体相互接続方法及び構成体 | |
US4557411A (en) | Interconnected solder pads and the method of soldering | |
JP2631665B2 (ja) | 積層半導体装置の製造方法 | |
JP3175336B2 (ja) | ハイブリッドicのリード形成方法 | |
JPH10256417A (ja) | 半導体パッケージの製造方法 | |
US5118556A (en) | Film material for film carrier manufacture and a method for manufacturing film carrier | |
JP3263863B2 (ja) | ハイブリッドic用基板とこれを用いたハイブリッドicの製造方法 | |
JP2627576B2 (ja) | 混成集積回路装置用端子リードの作製方法 | |
JPH07112107B2 (ja) | プリント配線板及びその製造方法 | |
JPS589360A (ja) | 混成集積回路の製造方法 | |
JPS6143857B2 (ja) | ||
JPS6130745B2 (ja) | ||
EP0526147A2 (en) | Film-carrier type semiconductor device and process for fabricating the same | |
JPH01120856A (ja) | リードフレーム | |
JPH0476981A (ja) | 混成集積回路用集合基板及び混成集積回路装置の製造方法 | |
JP2819321B2 (ja) | 電子部品搭載用基板及びこの電子部品搭載用基板の製造方法 | |
JP2773707B2 (ja) | 混成集積回路装置の製造方法 | |
JPS6386462A (ja) | ソリツド・ステ−ト・リレ−の製造方法 | |
JP3348596B2 (ja) | 集積回路装置の製造方法 | |
JPS62222644A (ja) | テ−プキヤリヤ | |
JPS58216493A (ja) | プリント回路用積層基板およびこの積層基板を使用したフレキシブル電気回路板の製造方法 | |
JPH0548239A (ja) | 回路基板の形成方法 | |
JPH1022315A (ja) | 電子回路の形成方法 | |
JP2000012772A (ja) | 集積化半導体装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |