JP3172886B2 - ヘリウムガス精製装置及びその運転方法 - Google Patents
ヘリウムガス精製装置及びその運転方法Info
- Publication number
- JP3172886B2 JP3172886B2 JP07412392A JP7412392A JP3172886B2 JP 3172886 B2 JP3172886 B2 JP 3172886B2 JP 07412392 A JP07412392 A JP 07412392A JP 7412392 A JP7412392 A JP 7412392A JP 3172886 B2 JP3172886 B2 JP 3172886B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- low
- temperature
- helium gas
- adsorber
- liquid nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B23/00—Noble gases; Compounds thereof
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/08—Separating gaseous impurities from gases or gaseous mixtures or from liquefied gases or liquefied gaseous mixtures
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2205/00—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means
- F25J2205/02—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means using simple phase separation in a vessel or drum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2205/00—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means
- F25J2205/40—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means using hybrid system, i.e. combining cryogenic and non-cryogenic separation techniques
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2205/00—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means
- F25J2205/60—Processes or apparatus using other separation and/or other processing means using adsorption on solid adsorbents, e.g. by temperature-swing adsorption [TSA] at the hot or cold end
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2210/00—Processes characterised by the type or other details of the feed stream
- F25J2210/42—Nitrogen
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2215/00—Processes characterised by the type or other details of the product stream
- F25J2215/30—Helium
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2270/00—Refrigeration techniques used
- F25J2270/90—External refrigeration, e.g. conventional closed-loop mechanical refrigeration unit using Freon or NH3, unspecified external refrigeration
- F25J2270/904—External refrigeration, e.g. conventional closed-loop mechanical refrigeration unit using Freon or NH3, unspecified external refrigeration by liquid or gaseous cryogen in an open loop
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J2290/00—Other details not covered by groups F25J2200/00 - F25J2280/00
- F25J2290/50—Arrangement of multiple equipments fulfilling the same process step in parallel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
Description
及びその運転方法に関し、詳しくは、各種冷凍装置に用
いられるヘリウムガス中に不純物として含まれる窒素,
酸素等の空気成分を低温吸着器を用いて除去するヘリウ
ムガス精製装置及びその運転方法に関する。
蔵用超電導マグネット等の大型の超電導マグネットを冷
却する冷凍システムは、ヘリウムのホールドアップ量が
多いこと、高温ガス炉用ヘリウムガス冷却ループは、炉
材との反応によるガスの発生や放出ガス量が多いこと、
ヘリウム液化機は、処理するヘリウムガス量が多いこと
から、これらに使用するヘリウムガスを精製する装置が
使用されている。
常、水や炭酸ガスを吸着除去する常温吸着器と、空気成
分を吸着除去するための低温精製器とが使用されてい
る。
熱交換器1,低温吸着器2,浸漬熱交換器3,液体窒素
溜4,液空ボトル5等から構成され、精製すべきヘリウ
ムガスを浸漬熱交換器3で液体窒素温度付近に冷却し
て、空気成分を液空ボトル5及び低温吸着器2で吸着除
去するものである。
去する吸着工程と、吸着した不純物成分を脱着させる再
生工程とに交互に切換えられて使用される。
は、低温吸着器2の切換え時間を短くし、1サイクルあ
たりの処理量を減少させ、必要吸着剤の量を低減して低
温吸着器2を小さくすることにより、低温精製器のコス
トを下げることが可能になる。
内の液体窒素を管6から排出する工程,管7から加熱器
8で加熱した窒素ガスを導入して低温吸着器2を加温す
る工程,図示しない真空ポンプで真空排気する工程,低
温吸着器2内を吸着圧力にする均圧工程,低温吸着器2
を吸着温度まで冷却する予冷工程の各工程からなるもの
であり、1サイクルの時間を短くするためには、特に液
体窒素の排出,低温吸着器2の加温及び予冷に必要な時
間を改善する必要がある。
低温精製器は、低温吸着器2や浸漬熱交換器3を収容す
るため、熱容量と液体窒素のホールドアップ量が大きい
液体窒素溜4を使用しているので、液体窒素の排出や注
入に要する時間が長くかかり、時間短縮には限界があっ
た。
器2が液体窒素溜4内に収容されているため、低温吸着
器2を加温するためには、熱容量の大きな液体窒素溜4
も同時に加温する必要があり、加温に長時間を要するだ
けでなくユーティリティの消費量も多いという問題があ
った。同様の理由から、液体窒素注入による予冷時間も
長くなり、大量の液体窒素を必要としていた。
程の時間短縮を図り、設備コストの低減とともに、再生
に要するユーティリティ消費量の低減を図れるヘリウム
ガス精製装置及びその運転方法を提供することを目的と
している。
ため、本発明のヘリウムガス精製装置は、ヘリウムガス
中の不純物を低温吸着器で吸着除去するヘリウムガス精
製装置において、不純物を含む不純ヘリウムガスの流路
及び前記低温吸着器を導出した精製ヘリウムガスの流路
及び不純ヘリウムガス冷却用の液体窒素の流路を有して
前記不純ヘリウムガスを冷却する熱交換器と、該不純ヘ
リウムガスを更に冷却し部分液化するための浸漬熱交換
器と、該浸漬熱交換器で部分液化した成分を気液分離す
る液空ボトルと、前記低温吸着器と、該低温吸着器を外
部から冷却する液体窒素冷却管と、該液体窒素冷却管を
導出した気液混相の窒素を導入する前記浸漬熱交換器を
浸漬した液体窒素容器とをそれぞれ断熱容器に収納した
低温精製器を、精製と再生とに切換えて連続使用するた
めに少なくとも2基備え、前記低温精製器への不純ヘリ
ウムガス導入経路を、各低温精製器に対応させて分岐し
て、該分岐後の管路に流量調節弁及び入口弁を設け、各
低温精製器から精製ヘリウムガス導出する管路を出口弁
を介して精製ヘリウム導出経路に合流し、前記出口弁の
上流と他の低温精製器の入口弁の下流とを回収弁を有す
る管路にて接続したことを特徴としている。
に、該流量調節弁あるいは前記入口弁の開度を調節する
ための差圧計を設けたことを特徴としている。
製装置の運転方法において、不純ヘリウムガスの精製を
行っている低温精製器では、熱交換器及び浸漬熱交換器
で冷却して部分液化した不純ヘリウムガスを液空ボトル
で気液分離し、液空ボトルの気相部の不純ヘリウムガス
中の不純物を低温吸着器で吸着除去し、不純物を吸着除
去した精製ヘリウムガスを前記熱交換器で前記不純ヘリ
ウムガスと熱交換して昇温させて当該低温精製器から導
出し、前記低温吸着器の再生を行っている低温精製器で
は、低温吸着器の吸着剤の加温再生後の予冷時に、再生
を行っている低温精製器の流量調節弁及び入口弁を開い
て不純ヘリウムガス導入経路から導入される不純ヘリウ
ムガスの一部を分岐し、熱交換器及び浸漬熱交換器で冷
却して前記吸着剤の冷却に用いた後、前記熱交換器で前
記不純ヘリウムガスと熱交換して昇温させて当該低温精
製器から導出し、閉じられている出口弁の上流から回収
弁を介して精製を行っている低温精製器に導入される不
純ヘリウムガスに合流させることを特徴としている。
ウムガスは、流量調節弁あるいは前記入口弁の開度を、
前記流量調節弁に設けた差圧計の検出値に基づいて調節
することにより流量調節されることを特徴としている。
液体窒素溜を使用しないので、低温吸着器の再生工程に
おいて、液体窒素の排出や注入、低温吸着器の加温及び
予冷に要する時間を大幅に短縮でき、低温吸着器の切換
え時間の短縮が図れる。
いて、さらに詳細に説明する。
い、連続運転が可能なように、2系統の低温精製器を配
設した実施例を示すものである。
a,10b内に、不純物吸着用の吸着剤を充填した低温
吸着器11a,11bと、該低温吸着器11a,11b
に導入する不純ヘリウムガスを冷却するための熱交換器
12a,12b及び液体窒素容器13a,13b内の液
体窒素中に浸漬させた浸漬熱交換器14a,14bと、
該浸漬熱交換器14a,14bで冷却されて液化した成
分を分離する液空ボトル15a,15bとを配設したも
のである。なお、低温吸着器11a,11b内には、活
性炭,モレキュラシーブス等が充填されている。
温吸着器冷却用の液体窒素を流すための液体窒素コイル
16a,16bが巻回されており、前記浸漬熱交換器1
4a,14bを収容する液体窒素容器13a,13b内
には、該液体窒素コイル16a,16bを導出した気液
二相の液体窒素が管17a,17bを介して導入され
る。この浸漬熱交換器14a,14bを収容する液体窒
素容器13a,13bの容量及び浸漬熱交換器14a,
14bの大きさは、該浸漬熱交換器14a,14bで低
温吸着に必要な温度に不純ヘリウムガスを冷却できるこ
と、即ち、予冷時に不純ヘリウムガスの温度を液体窒素
温度付近に冷却することを考慮して設定されるもので、
液体窒素容器13a,13bの容量は、従来の浸漬熱交
換器と低温吸着器を収容する液体窒素溜に比べて大幅に
小さくなっている。
不純ヘリウムガスの流路18a,18bと、低温吸着器
11a,11bを導出した精製ヘリウムガスの流路19
a,19bと、前記浸漬熱交換器14a,14bの液体
窒素容器13a,13bから導出した窒素ガスの流路2
0a,20bとが設けられている。
及び精製ヘリウムガスの導出経路22には、上記低温精
製器A,Bの切換えに対応するための各種管路及び弁が
設けられるとともに、低温吸着器11a,11bを加温
するための加温窒素ガス導入経路23が設けられてい
る。
純ヘリウムガスを精製する手順に従って説明する。
り、他方の低温精製器Bの低温吸着器11bの再生が行
われる場合、不純ヘリウムガスは、導入経路21から流
量調節弁51a,入口弁52aから熱交換器12aの流
路18aを通って浸漬熱交換器14aに導入され、ここ
で液体窒素温度付近まで冷却される。
ムガスは、液空ボトル15aで冷却により生じた液化ガ
スを分離した後、低温吸着器11aに導入される。低温
吸着器11a内に充填されている吸着剤で不純物成分
(空気成分)を吸着除去した精製ヘリウムガスは、熱交
換器12aの流路19aで昇温した後、出口弁53aを
通って導出経路22から導出される。
入口弁52b及び出口弁53bを閉じ、さらに液体窒素
導入弁54bを閉じて液体窒素排出弁55bを開き、液
体窒素容器13b内から液体窒素を排出する。また、液
空ボトル15b内の液化ガスも、ドレン弁56bを開閉
して排出する。
温窒素ガス導入弁57bを開き、加温窒素ガス導入経路
23から供給され、加熱器24で100℃以上に加熱さ
れた窒素ガスを低温吸着器11b内に導入して吸着剤を
加温し、該吸着剤に吸着している不純物成分を脱着して
排出弁58bから排出する。
温吸着器11bの出口温度が所定温度(常温付近)に到
達した時点で、加温窒素ガス導入弁57bを閉じて排出
弁58b又は該排出弁58bに設けられた図示しない排
気用配管に接続されている真空ポンプで低温吸着器11
b内を真空排気する。
着剤の加温再生及び真空再生を終えた後、排出弁58b
を閉じ、出口弁53bを閉じたまま入口弁52bを微開
とするか、徐々に開き、低温吸着器11b内に不純ヘリ
ウムガスを導入して該吸着器11b内を吸着運転圧力に
するとともに、液体窒素導入弁54bを開いて液体窒素
コイル16b及び液体窒素容器13b内への液体窒素の
供給を開始し、低温吸着器11b及び浸漬熱交換器14
bを冷却する。
ら、回収弁59bを開いて低温吸着器11bから導出し
たヘリウムガスを低温精製器A側の経路に合流させる。
このヘリウムガスは、導入経路21の流量調節弁51a
上流で分岐し、流量調節弁51b,入口弁52b,熱交
換器12bの流路18b及び浸漬熱交換器14bを通っ
て低温吸着器11b内に導入され、内部の吸着剤を運転
温度まで冷却するために用いられたもので、低温吸着器
11b導出後も不純物成分を含むものである。
器予冷用のヘリウムガスは、前述のようにして低温精製
器Aで精製されて精製ヘリウムガスの導出経路22から
導出される。
スの量は、流量調節弁51a,51bに設けられた差圧
計60aでの検出値に基づいて両弁あるいは入口弁52
a,52bの開度を調節することにより制御することが
できるが、特に再生温度を常温以上の100℃程度に設
定する場合は、その予冷初期は、熱交換器12bの流路
19bを通るガスの温度が高く、流路18bを流れる予
冷用の不純ヘリウムガスを冷却できないので、浸漬熱交
換器14bにおける液体窒素との熱交換負荷が大きくな
るため、該浸漬熱交換器14bの能力に応じて適宜設定
するようにする。
ガスを冷却するために、前記液体窒素コイル16b及び
液体窒素容器13b内へ供給される液体窒素量は、液体
窒素容器13b内の液量を液面計61bで検出して液体
窒素導入弁54bの開度を調節することにより行われ、
冷却時の液体窒素容器13b内には常に一定レベルの液
体窒素が溜められている。
った後、低温精製器A側が再生工程に入り、低温精製器
B側が精製工程にはいる。なお、両工程は、低温精製器
A,B共、同様の操作で行われるものであり、低温精製
器B側の符号「b」を付したものに対応するものに符号
「a」を付して低温精製器A側の再生操作の説明は省略
する。
以上のようにして両低温精製器A,Bを切換えながら連
続的にヘリウムガスの精製を行うものである。そして、
低温精製器A,B内の低温吸着器11a,11bの再生
にあたって、まず、加温工程では、液体窒素容器13
a,13bの容量が従来の液体窒素溜に比べて小さいた
め、該液体窒素容器13a,13b内からの液体窒素の
排出時間を大幅に短縮でき、熱容量も小さくなるので加
温時間も短縮することができる。
低温吸着器11a,11bに巻回した液体窒素コイル1
6a,16bに液体窒素を供給して低温吸着器11a,
11bを外部から冷却するとともに、該液体窒素が供給
される浸漬熱交換器14a,14bで冷却した不純ヘリ
ウムガスを低温吸着器11a,11b内に導入して内部
からも冷却するので、低温吸着器11a,11bを所定
温度まで冷却する時間も大幅に短縮することができる。
また、予冷時間を適当に設定することが可能である。
は、精製工程を行っている低温精製器で精製するので、
ヘリウムガスが無駄になることはない。
の低温窒素ガスを熱交換器12a,12bに流すように
しているので、該熱交換器12a,12bの予冷も同時
に行うことができ、再生工程から精製工程に移る際に、
熱交換器12a,12bが十分に冷却されていないため
に比較的温度が高いガスが浸漬熱交換器14a,14b
内に流入することも防止できる。
て、浸漬熱交換器14a,14bにおける液体窒素量に
基づいて液体窒素コイル16a,16bに供給する液体
窒素量を調節することにより、常に必要十分な冷却を行
うことができる。即ち、この液体窒素量の調節は、定常
時と予冷時とに関わりなく、液体窒素容器13a,13
bの液面計61a,61bにより制御するので容易に行
える。
交換器12a,12bの流路20a,20bから導出さ
れる窒素ガスの温度を、流路20a,20bの出口部分
で測定して行うこともできる。
体窒素コイル16a,16bは、吸着器内部に配設する
こともでき、低温吸着器11a,11bにヒーターを設
け、加熱器24を省略することもできる。
少ない場合には、液空ボトル15a,15bを省略する
ことができる。
含有量の条件等により、低温吸着器を複数本設けた場合
には、液体窒素導入弁をバイパスして浸漬熱交換器の容
器に直接液体窒素を供給する経路を設けることが好まし
い。
けたが、低温吸着器部分のみを2系統に形成することも
可能であり、この場合は、熱交換器や浸漬熱交換器、液
空ボトル等は1系統になる。
低温吸着器を再生する際の加温工程及び予冷工程の時間
短縮を図ることができるので、低温吸着器の再生に要す
る時間を短縮でき、低温吸着器の切換え時間を短くする
ことができる。これにより、1サイクルあたりの処理量
を減少させることができ、必要吸着剤の量を低減して低
温吸着器や断熱容器、ヒーター等の付帯設備を小さくす
ることができるので、精製装置のコストを下げることが
可能になる。
生時の加温のためのユーティリティの消費量も低減でき
るので、運転に要するコストも低減することができる。
示す系統図である。
る。
温吸着器 12a,12b…熱交換器 13a,13b…液
体窒素容器 14a,14b…浸漬熱交換器 15a,15b
…液空ボトル 16a,16b…液体窒素コイル 21…不純ヘ
リウムガスの導入経路 22…精製ヘリウムガスの導出経路 23…加温
窒素ガス導入経路 52a,52b…入口弁 53a,53b…出口
弁 54a,54b…液体窒素導入弁 55a,55
b…液体窒素排出弁 57a,57b…加温窒素ガス導入弁
Claims (4)
- 【請求項1】 ヘリウムガス中の不純物を低温吸着器で
吸着除去するヘリウムガス精製装置において、不純物を
含む不純ヘリウムガスの流路及び前記低温吸着器を導出
した精製ヘリウムガスの流路及び不純ヘリウムガス冷却
用の液体窒素の流路を有して前記不純ヘリウムガスを冷
却する熱交換器と、該不純ヘリウムガスを更に冷却し部
分液化するための浸漬熱交換器と、該浸漬熱交換器で部
分液化した成分を気液分離する液空ボトルと、前記低温
吸着器と、該低温吸着器を外部から冷却する液体窒素冷
却管と、該液体窒素冷却管を導出した気液混相の窒素を
導入する前記浸漬熱交換器を浸漬した液体窒素容器とを
それぞれ断熱容器に収納した低温精製器を、精製と再生
とに切換えて連続使用するために少なくとも2基備え、
前記低温精製器への不純ヘリウムガス導入経路を、各低
温精製器に対応させて分岐して、該分岐後の管路に流量
調節弁及び入口弁を設け、各低温精製器から精製ヘリウ
ムガス導出する管路を出口弁を介して精製ヘリウム導出
経路に合流し、前記出口弁の上流と他の低温精製器の入
口弁の下流とを回収弁を有する管路にて接続したことを
特徴とするヘリウムガス精製装置。 - 【請求項2】 前記流量調節弁に、該流量調節弁あるい
は前記入口弁の開度を調節するための差圧計を設けたこ
とを特徴とする請求項1記載のヘリウムガス精製装置。 - 【請求項3】 請求項1記載のヘリウムガス精製装置の
運転方法において、不純ヘリウムガスの精製を行ってい
る低温精製器では、熱交換器及び浸漬熱交換器で冷却し
て部分液化した不純ヘリウムガスを液空ボトルで気液分
離し、液空ボトルの気相部の不純ヘリウムガス中の不純
物を低温吸着器で吸着除去し、不純物を吸着除去した精
製ヘリウムガスを前記熱交換器で前記不純ヘリウムガス
と熱交換して昇温させて当該低温精製器から導出し、前
記低温吸着器の再生を行っている低温精製器では、低温
吸着器の吸着剤の加温再生後の予冷時に、再生を行って
いる低温精製器の流量調節弁及び入口弁を開いて不純ヘ
リウムガス導入経路から導入される不純ヘリウムガスの
一部を分岐し、熱交換器及び浸漬熱交換器で冷却して前
記吸着剤の冷却に用いた後、前記熱交換器で前記不純ヘ
リウムガスと熱交換して昇温させて当該低温精製器から
導出し、閉じられている出口弁の上流から回収 弁を介し
て精製を行っている低温精製器に導入される不純ヘリウ
ムガスに合流させることを特徴とするヘリウムガス精製
装置の運転方法。 - 【請求項4】 前記予冷時に使用される不純ヘリウムガ
スは、流量調節弁あるいは前記入口弁の開度を、前記流
量調節弁に設けた差圧計の検出値に基づいて調節するこ
とにより流量調節されることを特徴とする請求項3記載
のヘリウムガス精製装置の運転方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07412392A JP3172886B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | ヘリウムガス精製装置及びその運転方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP07412392A JP3172886B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | ヘリウムガス精製装置及びその運転方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05277325A JPH05277325A (ja) | 1993-10-26 |
JP3172886B2 true JP3172886B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=13538116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07412392A Expired - Lifetime JP3172886B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | ヘリウムガス精製装置及びその運転方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3172886B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102937369B (zh) * | 2012-12-05 | 2015-03-11 | 中国石油集团工程设计有限责任公司 | 天然气低温提氦***及方法 |
CN107473192B (zh) * | 2017-09-26 | 2020-07-14 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种节能高效的氦气纯化装置 |
CN108692183B (zh) * | 2018-04-25 | 2023-06-30 | 邯郸钢铁集团有限责任公司 | 氖氦分离***的液氮回收*** |
GB201818896D0 (en) * | 2018-11-20 | 2019-01-02 | Gas Recovery And Recycle Ltd | Gas recovery method |
CN111773878B (zh) * | 2020-06-29 | 2022-02-15 | 开封迪尔空分实业有限公司 | 一种空分节能控制装置及方法 |
-
1992
- 1992-03-30 JP JP07412392A patent/JP3172886B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05277325A (ja) | 1993-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4030896A (en) | Regeneration of adsorbents | |
CA1137426A (en) | Process and apparatus for recovering hydrocarbons from air-hydrocarbon vapor mixtures | |
EP1101732A1 (en) | Method and apparatus for continuously generating highly concentrated ozone gas | |
WO2019139712A1 (en) | Adsorptive xenon recovery process from a gas or liquid stream at cryogenic temperature | |
JPH0565206B2 (ja) | ||
KR100873375B1 (ko) | 폐헬륨가스의 정제 방법과 장치 | |
KR20010067088A (ko) | 가스성분의 분리제거 또는 회수하는 방법 및 장치 | |
KR100845316B1 (ko) | 폐헬륨가스의 회수 및 재생 방법과 장치 | |
JP3172886B2 (ja) | ヘリウムガス精製装置及びその運転方法 | |
KR20090005702A (ko) | 폐헬륨가스 농축정제장치 | |
US3377812A (en) | Rearrangement of flow-thru serial adsorbers to remove gaseous constituents | |
JPS5861816A (ja) | 高純度ガス精製装置の再生方法 | |
JPH01266831A (ja) | 軽質ガス精製装置 | |
JP6894456B2 (ja) | 低温精製装置及び低温精製装置の運転方法 | |
JP2644823B2 (ja) | ヘリウムガス精製用吸着器の再生方法 | |
JPH01126203A (ja) | 高純度水素ガスの製造方法 | |
JP3195986B2 (ja) | ヘリウムガス供給方法及び装置 | |
JPS6329724Y2 (ja) | ||
JP2781135B2 (ja) | ガス分離回収装置 | |
JPH08337402A (ja) | 水素ガスからの不純物除去装置及びその運転方法 | |
JP3676464B2 (ja) | 精製装置 | |
CN116553496A (zh) | 一种氦气精制方法及其装置 | |
US11571652B2 (en) | Method of purifying hydrogen supplied from a storage cavern | |
CN118320447A (zh) | 闪蒸气分路冷热吹净化塔再生装置及其二氧化碳生产方法 | |
JP3213851B2 (ja) | 不活性ガス中の一酸化炭素の除去方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090330 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100330 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100330 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100330 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110330 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120330 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |