JP3168388B2 - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
- B05D1/265—Extrusion coatings
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
プラスチックフイルム、紙、金属箔等を形成してなる可
撓性支持体(以下、ウェブという)表面に、連続的に塗
布液をエクストルージョン型塗布装置により均一に高速
塗布する塗布方法に関するものである。
性塗布液等の塗布液を塗布する塗布方法としては、エク
ストルージョン型塗布装置、カーテンフロー型塗布装
置、ブレードドクター型塗布装置、スライドコート型塗
布装置等を用いた塗布方法が一般的である。この中で
も、エクストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法
は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で用いられてい
る(特公平5−8065号、同1−46186号、同6
3−88080号、特開平2−174965号、同2−
265672号公報等)。
5及び図6に示すように、塗布ヘッド21の上下流に位
置するサポートロール2,3によって張設されてバック
エッジ面22及びドクターエッジ面23に沿って連続的
に走行するウェブ7表面に、バックエッジとドクターエ
ッジとの間のスロット24から塗布液を連続的に吐出し
て塗布する塗布装置であり、少なくとも一つのスロット
を有している。
は、磁気記録層の高密度化や多層化が進み、それに伴っ
て磁気記録媒体の製造工程においてもウェブ上に塗布す
る磁性層の塗布厚みの薄層化が必要となってきている。
また、一方では生産性向上のため、ウェブ上へ塗布液を
塗布する塗布スピードのアップも望まれており、更に、
ウェブの改良が進み、ポリエチレンナフタレートやアラ
ミド等を用いた厚み10μm以下の薄いウェブが用いら
れるようになってきた。
如きエクストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法に
よって、前述のような厚み10μm以下の薄いウェブに
塗布液を塗布すると、ウェブ幅方向に亘って数ミリから
十数ミリのピッチで0.5μm程度の塗布層のスジムラ
が発生したり、ウェブ長手方向に亘って周期的に塗布層
の幅方向の厚みムラが発生したりするという問題があっ
た。特に、このようなスジムラや厚みムラは、ウェブの
厚みが10μm以下の場合に発生し易く、例えば出力、
C/N比等の電磁変換特性に悪影響を与えることにな
る。従って、従来は試行錯誤で塗布条件を定めていた
が、これでは歩留りが悪いため生産効率が良くなく、品
質も安定しなかった。
原因について鋭意検討の結果、塗布時に塗布ヘッド21
の上下流に位置するサポートロール2,3によって前記
ウェブ7が塗布ヘッド1に押しつけられることにより、
図5に示すように厚みの薄いウェブ7がこれらサポート
ロール2,3と塗布ヘッド21の間でウェブ幅方向に座
屈をおこし、塗布ヘッド21とウェブ7の接触力が不均
一になって前記スジムラの発生を引き起こしていること
が判明した。この為、このようなウェブ7の座屈は、ウ
ェブの厚みが10μm以下という極めて薄い場合に発生
し易い。
ポートロール2,3と塗布ヘッド21の距離を小さくす
ると、図6に示すようにサポートロール2,3の偏心に
よる回転の振れδ(図中、サポートロール3の振れδの
みを図示)によって走行する前記ウェブ7が上下動し、
この上下変動により塗布ヘッド21へのウェブ接触力が
変化するので、塗布層の塗布厚みが変動してウェブ長手
方向に亘って周期的な前記厚みムラが発生していること
が判明した。従って、本発明の目的は上記課題を解消す
ることにあり、スジムラや厚みムラの発生をともなうこ
となく厚みが薄いウェブ上に塗布液を塗布することがで
きる塗布条件を明らかにし、均一な塗布層を得ることが
できる良好な塗布方法を提供することにある。
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行するべく一対のサポートロールに支持された可撓性支
持体の表面にスロット先端部から塗布液を連続的に押し
出すエクストルージョン型塗布装置によって前記支持体
表面に前記一対のサポートロールの間の領域で塗布液を
塗布する塗布方法において、前記支持体厚みをt(m
m)、前記支持体ヤング率をE(kgf/mm2 )、前
記支持体のポアソン比をν、前記支持体の単位幅当たり
の搬送張力をT(kgf/mm)、前記スロット先端部
から前記支持体の各サポートロールとの接触線までの距
離をb(mm)とするとき、
とを特徴とする塗布方法により達成される。
に沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに
支持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗
布液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置
によって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの
間の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、前記支
持体厚みをt(mm)、前記支持体ヤング率をE(kg
f/mm2 )、前記支持体のポアソン比をν、前記各サ
ポートロールの回転による振れをδ(mm)、前記スロ
ット先端部から前記支持体の各サポートロールとの接触
線までの距離をb(mm)とするとき、
とを特徴とする塗布方法により達成される。
面に沿って連続的に走行するべく一対のサポートロール
に支持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から
塗布液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装
置によって前記支持体表面に前記一対のサポートロール
の間の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、前記
支持体厚みをt(mm)、前記支持体ヤング率をE(k
gf/mm2 )、前記支持体のポアソン比をν、前記支
持体の単位幅当たりの搬送張力をT(kgf/mm)、
前記サポートロールの回転による振れをδ(mm)、前
記スロット先端部から前記支持体の各サポートロールと
の接触線までの距離をb(mm)とするとき、
とを特徴とする塗布方法により達成される。尚、本発明
における塗布液とは、磁性塗布液や写真感光性塗布液等
のように剪断速度が速くなるのに伴って粘度が低下する
チキソトロピックな粘度特性を示す塗布液である。ま
た、本発明における可撓性支持体は、厚みが3μm〜1
0μmという極めて薄い可撓性支持体である。特に、本
発明は4μm〜10μmの厚さの支持体で有効である。
例を詳細に説明する。図1は本発明の塗布方法を実施す
るためのエクストルージョン型塗布装置の概略を示すも
のであり、塗布ヘッド1の上下流に位置するサポートロ
ール2,3によって張設されてバックエッジ面4及びド
クターエッジ面5に沿って連続的に走行するウェブ7表
面に、バックエッジとドクターエッジとの間のスロット
6から塗布液を連続的に吐出して塗布する。
部10からウェブ7の各上下流サポートロール2,3と
の接触線8,9までの距離b(mm)は、下記式(1) を
満足するように調整されている。
み(mm)、Eは前記ウェブ7のヤング率(kgf/m
m2 )、νは前記ウェブ7のポアソン比、Tは前記ウェ
ブ7の単位幅当たりの搬送張力(kgf/mm)であ
る。前記式は、幅a,長さb,厚みtの矩形状の薄板に
単位幅当たりの張力Tが長手方向に作用した場合をモデ
ルとして各上下流サポートロール2,3と塗布ヘッド1
の間でのウェブ7の座屈を理論的に検討し得られたもの
であり、図2に示すように、ウェブの幅をa、スロット
先端部10からウェブ7のサポートロール2との接触線
8までの距離をb、ウェブの厚みをtとし、薄板の幅方
向に圧縮力Nを受けると仮定する。そして、ウェブ長手
方向の座標をy、ウェブ幅方向の座標をxとし、x−y
平面に垂直な方向の撓みをwとすると次式(4) が成り立
つ。
式(5) により求まる。
は0とした。従って、座屈を起こした場合、撓みwは次
式(6) のような形に仮定できる。
xcr(N/tの最小値)を求めると次式(7) を得る。ま
た、座屈波長λは次式(8) のようになる。
xcrを越える圧縮応力が働くと座屈が発生し、その波長
はλとなる。この圧縮応力が発生する原因としては次の
ことが考えられる。ウェブには、通常、厚み分布やヤン
グ率の分布が存在する。この為、ウェブ搬送のために張
力を加えると幅方向に内部応力の分布が発生する。仮に
ウェブの一部に図3のような中凸の応力分布が発生した
場合、中心部では次式(9) に示すような幅方向圧縮応力
σxが発生することになる。この応力が座屈を引き起こ
す。
は、実験的に求めることができる。ウェブの厚みt、ス
ロット先端部からウェブのサポートロールとの接触線ま
での距離b、ウェブの単位幅当たりの搬送張力T及びウ
ェブのヤング率Eを変えることにより、前記臨界座屈応
力σxcrを変え、座屈発生の有無を調べれば良い。下記
組成の各成分をボールミルに入れて十分に混合分散させ
た後、エポキシ樹脂(エポキシ当量500)を30重量
部加えて均一に混合分散させて磁性塗布液(磁性分散
液)とした。また、支持体上に予め塗布するプレコート
液としてはメチルエチルケトンを使用し、バーコータ塗
布方式でウェット厚みが4.0g/m2 となるように塗
布した。
参考のために島津製作所の島津レオメータRM−1によ
り測定したところ、剪断速度が10 sec-1において60
poise を示した。また、塗布装置としては基本構成が特
公平5−8065号公報記載の塗布ヘッドと同様のもの
を用い、前記磁性塗布液を下記塗布条件でウェブ上に塗
布した。
からウェブのサポートロールとの接触線までの距離b、
ウェブの単位幅当たりの搬送張力T及びウェブのヤング
率Eを適宜変え、前記式(5) に基づいて各塗布条件にお
ける臨界座屈応力σxcrを算出すると共に、塗布層表面
を観察してスジムラの有無を調べた。その結果を表1に
示す。併せてスジムラが発生した場合のスジムラのピッ
チも調べた。
り発生したスジムラのピッチは、上記解析の式(5) によ
り求まる座屈波長λと非常によく一致している。また、
臨界座屈応力σxcrが1.5×10-3(kgf/m
m2 )未満の場合にスジムラが発生していることから、
ウェブには常に1.5×10-3(kgf/mm2 )の幅
方向圧縮応力が作用していることがわかる。従って、少
なくとも前記臨界座屈応力σxcrが常に1.5×10-3
(kgf/mm2 )より大きくなるようにスロット先端
部からウェブのサポートロールとの接触線までの距離b
を調整することで、厚さ10μm以下の薄いウェブ上に
も塗布液をスジムラなく塗布でき、均一な塗布層を得る
ことができる。即ち、前記距離bが、前記式(1) を満足
するように調整されれば良い。
前記厚みムラを防止するための塗布条件について検討を
行った結果、前記塗布ヘッド1のスロット先端部10か
らウェブ7の各上下流サポートロール2,3との接触線
8,9までの距離b(mm)が、下記式(2) を満足する
ように調整されれば良いことを見いだした。
の厚み(mm)、Eは前記ウェブ7のヤング率(kgf
/mm2 )、νは前記ウェブ7のポアソン比、δはサポ
ートロール2,3の偏心による回転の振れ(mm)であ
る。前記式(2) は、図4に示すような長さb、厚みtの
片持ち梁をモデルとして自由端に振れδが作用した際の
塗布ヘッド1のスロット先端部10でのウェブ接触圧力
Pを理論的に検討し得られたものである。ここで、前記
ウェブ接触圧力Pは次式(10)のように計算される。
部10からウェブ7のサポートロール3との接触線まで
の距離b、サポートロール3の偏心による回転の振れδ
を変えることによりウェブ接触圧力Pを変え、実際に磁
性塗布液を塗布して前記厚みムラの発生する状況をウェ
ブ接触圧力Pについて整理したところ下記表2のように
なることがわかった。尚、塗布条件は前述の塗布条件と
同様とした。
Pを1.9×10-10 (kgf/mm )未満にすれ
ば、前記厚みムラが発生しないことがわかる。従って、
少なくとも前記ウェブ接触圧力Pが常に1.9×10
-10 (kgf/mm )より小さくなるようにスロット
先端部からウェブのサポートロールとの接触線までの距
離bを調整することで、厚さ4μm〜10μmの薄いウ
ェブ上にも塗布液を厚みムラなく塗布でき、均一な塗布
層を得ることができる。即ち、前記ウェブ接触圧力Pの
臨界値である1.9×10-10 (kgf/mm )から
サポートロールの偏心による回転の振れδの影響が現れ
ない前記距離bの最小値がもとまるので、前記距離bが
前記式(2) を満足するように調整されれば良い。
び式(2) により導かれる下記式(3)を満足するように前
記距離bが調整されることにより、厚さ10μm以下の
薄いウェブ上にも塗布液をスジムラ及び厚みムラなく塗
布でき、均一な塗布層を得ることができる。
にも、例えば出力、C/N比等の電磁変換特性に悪影響
を与えるスジムラや厚みムラのない良好な磁性層をもっ
た磁気記録媒体を効率良く生産することができる。尚、
上記実施例においては、塗布ヘッドの上下流に位置する
サポートロールによって張設されてバックエッジ面及び
ドクターエッジ面に沿って連続的に走行するウェブ表面
に、バックエッジとドクターエッジとの間のスロットか
ら塗布液を連続的に吐出して塗布する塗布装置を用いた
が、本発明はこれに限定されるものではなく、種々の塗
布装置に応用できることは言うまでもない。
コート用の塗布ヘッドと塗布液用の塗布ヘッドとが設置
される場合があるが、この場合は、上流のサポートロー
ルとプレコート用の塗布ヘッドとの距離、及び塗布液用
の塗布ヘッドと下流のサポートロールとの距離につい
て、それぞれ本発明の距離bの条件を満たすように設定
する。又、プレコートを塗布ロールやグアビア等で塗布
する場合は、プレコート用の塗布ロールと塗布ヘッドと
の距離について本発明の距離bの条件を適用し、本発明
の振れδは前記塗布ロールの振れとする。更に、プレコ
ートをエクストルージョンヘッドで塗布する場合、プレ
コート用のエクストルージョンヘッドと塗布液用の塗布
ヘッドとは、距離が近いほど良い。
は、バックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続
的に走行するべく一対のサポートロールに支持された可
撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布液を連続的
に押し出すエクストルージョン型塗布装置によって前記
支持体表面に前記一対のサポートロールの間の領域で塗
布液を塗布する塗布方法において、前記スロット先端部
から前記支持体の各サポートロールとの接触線までの距
離bを、前記支持体厚みt、前記支持体ヤング率E、前
記支持体のポアソン比ν、サポートロールの偏心による
回転の振れδ、及び前記支持体の単位幅当たりの搬送張
力T等を考慮した関係式に基づいて調整することにより
塗布条件を設定可能としたので、最適な塗布条件に速や
かに調整でき、生産効率を向上させることができる。従
って、スジムラや厚みムラの発生をともなうことなく厚
みが薄いウェブ上に塗布液を塗布することができる塗布
条件を明らかにし、均一な塗布層を得ることができる良
好な塗布方法を提供することができた。
ージョン型塗布装置の概略図である。
の間でのウェブの座屈を説明する為のモデルを示した模
式図である。
を表す説明図である。
回転の振れと塗布ヘッドにおけるウェブ接触圧力との関
連とを説明する為のモデルを示した模式図である。
布状態を示す概略斜視図である。
トロールの偏心による回転の振れを説明する為の概略図
である。
Claims (3)
- 【請求項1】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに支
持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布
液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置に
よって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの間
の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、 前記支持体厚みをt(mm)、前記支持体ヤング率をE
(kgf/mm2 )、前記支持体のポアソン比をν、前
記支持体の単位幅当たりの搬送張力をT(kgf/m
m)、前記スロット先端部から前記支持体の各サポート
ロールとの接触線までの距離をb(mm)とするとき、 【数1】 となるように距離bを調整して塗布することを特徴とす
る塗布方法。 - 【請求項2】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに支
持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布
液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置に
よって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの間
の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、 前記支持体厚みをt(mm)、前記支持体ヤング率をE
(kgf/mm2 )、前記支持体のポアソン比をν、前
記各サポートロールの回転による振れをδ(mm)、前
記スロット先端部から前記支持体の各サポートロールと
の接触線までの距離をb(mm)とするとき、 【数2】 となるように距離bを調整して塗布することを特徴とす
る塗布方法。 - 【請求項3】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに支
持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布
液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置に
よって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの間
の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、 前記支持体厚みをt(mm)、前記支持体ヤング率をE
(kgf/mm2 )、前記支持体のポアソン比をν、前
記支持体の単位幅当たりの搬送張力をT(kgf/m
m)、前記サポートロールの回転による振れをδ(m
m)、前記スロット先端部から前記支持体の各サポート
ロールとの接触線までの距離をb(mm)とするとき、 【数3】 となるように距離bを調整して塗布することを特徴とす
る塗布方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP33674094A JP3168388B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 塗布方法 |
GB9525874A GB2296456B (en) | 1994-12-26 | 1995-12-18 | Extrusion coating method for continuosly coating a flexible support |
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DE19548358A DE19548358C2 (de) | 1994-12-26 | 1995-12-22 | Extrusionsbeschichtungsverfahren für die kontinuierliche Beschichtung eines flexiblen Trägers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family Applications (1)
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JP33674094A Expired - Lifetime JP3168388B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 塗布方法 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP3168388B2 (ja) |
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GB (1) | GB2296456B (ja) |
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CN113083616B (zh) * | 2021-04-07 | 2022-07-26 | 深圳市曼恩斯特科技股份有限公司 | 一种涂布挤压模头面密度外部调节装置 |
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JP2601365B2 (ja) * | 1990-04-13 | 1997-04-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
JP2942938B2 (ja) * | 1992-10-20 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
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- 1994-12-26 JP JP33674094A patent/JP3168388B2/ja not_active Expired - Lifetime
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1995
- 1995-12-18 GB GB9525874A patent/GB2296456B/en not_active Expired - Fee Related
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