JP3168388B2 - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JP3168388B2 JP3168388B2 JP33674094A JP33674094A JP3168388B2 JP 3168388 B2 JP3168388 B2 JP 3168388B2 JP 33674094 A JP33674094 A JP 33674094A JP 33674094 A JP33674094 A JP 33674094A JP 3168388 B2 JP3168388 B2 JP 3168388B2
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- Japan
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- support
- coating
- web
- distance
- thickness
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
- B05D1/265—Extrusion coatings
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は塗布方法に関し、特に、
プラスチックフイルム、紙、金属箔等を形成してなる可
撓性支持体（以下、ウェブという）表面に、連続的に塗
布液をエクストルージョン型塗布装置により均一に高速
塗布する塗布方法に関するものである。
プラスチックフイルム、紙、金属箔等を形成してなる可
撓性支持体（以下、ウェブという）表面に、連続的に塗
布液をエクストルージョン型塗布装置により均一に高速
塗布する塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来、ウェブ表面に磁性塗布液や写真感光
性塗布液等の塗布液を塗布する塗布方法としては、エク
ストルージョン型塗布装置、カーテンフロー型塗布装
置、ブレードドクター型塗布装置、スライドコート型塗
布装置等を用いた塗布方法が一般的である。この中で
も、エクストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法
は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で用いられてい
る（特公平５−８０６５号、同１−４６１８６号、同６
３−８８０８０号、特開平２−１７４９６５号、同２−
２６５６７２号公報等）。
性塗布液等の塗布液を塗布する塗布方法としては、エク
ストルージョン型塗布装置、カーテンフロー型塗布装
置、ブレードドクター型塗布装置、スライドコート型塗
布装置等を用いた塗布方法が一般的である。この中で
も、エクストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法
は、均一な薄層塗布が可能であり各分野で用いられてい
る（特公平５−８０６５号、同１−４６１８６号、同６
３−８８０８０号、特開平２−１７４９６５号、同２−
２６５６７２号公報等）。
【０００３】前記エクストルージョン型塗布装置は、図
５及び図６に示すように、塗布ヘッド２１の上下流に位
置するサポートロール２，３によって張設されてバック
エッジ面２２及びドクターエッジ面２３に沿って連続的
に走行するウェブ７表面に、バックエッジとドクターエ
ッジとの間のスロット２４から塗布液を連続的に吐出し
て塗布する塗布装置であり、少なくとも一つのスロット
を有している。
５及び図６に示すように、塗布ヘッド２１の上下流に位
置するサポートロール２，３によって張設されてバック
エッジ面２２及びドクターエッジ面２３に沿って連続的
に走行するウェブ７表面に、バックエッジとドクターエ
ッジとの間のスロット２４から塗布液を連続的に吐出し
て塗布する塗布装置であり、少なくとも一つのスロット
を有している。
【０００４】ところで、近年、磁気記録媒体の分野等で
は、磁気記録層の高密度化や多層化が進み、それに伴っ
て磁気記録媒体の製造工程においてもウェブ上に塗布す
る磁性層の塗布厚みの薄層化が必要となってきている。
また、一方では生産性向上のため、ウェブ上へ塗布液を
塗布する塗布スピードのアップも望まれており、更に、
ウェブの改良が進み、ポリエチレンナフタレートやアラ
ミド等を用いた厚み１０μｍ以下の薄いウェブが用いら
れるようになってきた。
は、磁気記録層の高密度化や多層化が進み、それに伴っ
て磁気記録媒体の製造工程においてもウェブ上に塗布す
る磁性層の塗布厚みの薄層化が必要となってきている。
また、一方では生産性向上のため、ウェブ上へ塗布液を
塗布する塗布スピードのアップも望まれており、更に、
ウェブの改良が進み、ポリエチレンナフタレートやアラ
ミド等を用いた厚み１０μｍ以下の薄いウェブが用いら
れるようになってきた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
如きエクストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法に
よって、前述のような厚み１０μｍ以下の薄いウェブに
塗布液を塗布すると、ウェブ幅方向に亘って数ミリから
十数ミリのピッチで０．５μｍ程度の塗布層のスジムラ
が発生したり、ウェブ長手方向に亘って周期的に塗布層
の幅方向の厚みムラが発生したりするという問題があっ
た。特に、このようなスジムラや厚みムラは、ウェブの
厚みが１０μｍ以下の場合に発生し易く、例えば出力、
Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性に悪影響を与えることにな
る。従って、従来は試行錯誤で塗布条件を定めていた
が、これでは歩留りが悪いため生産効率が良くなく、品
質も安定しなかった。
如きエクストルージョン型塗布装置を用いた塗布方法に
よって、前述のような厚み１０μｍ以下の薄いウェブに
塗布液を塗布すると、ウェブ幅方向に亘って数ミリから
十数ミリのピッチで０．５μｍ程度の塗布層のスジムラ
が発生したり、ウェブ長手方向に亘って周期的に塗布層
の幅方向の厚みムラが発生したりするという問題があっ
た。特に、このようなスジムラや厚みムラは、ウェブの
厚みが１０μｍ以下の場合に発生し易く、例えば出力、
Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性に悪影響を与えることにな
る。従って、従来は試行錯誤で塗布条件を定めていた
が、これでは歩留りが悪いため生産効率が良くなく、品
質も安定しなかった。
【０００６】そこで本発明者らは、前記スジムラの発生
原因について鋭意検討の結果、塗布時に塗布ヘッド２１
の上下流に位置するサポートロール２，３によって前記
ウェブ７が塗布ヘッド１に押しつけられることにより、
図５に示すように厚みの薄いウェブ７がこれらサポート
ロール２，３と塗布ヘッド２１の間でウェブ幅方向に座
屈をおこし、塗布ヘッド２１とウェブ７の接触力が不均
一になって前記スジムラの発生を引き起こしていること
が判明した。この為、このようなウェブ７の座屈は、ウ
ェブの厚みが１０μｍ以下という極めて薄い場合に発生
し易い。
原因について鋭意検討の結果、塗布時に塗布ヘッド２１
の上下流に位置するサポートロール２，３によって前記
ウェブ７が塗布ヘッド１に押しつけられることにより、
図５に示すように厚みの薄いウェブ７がこれらサポート
ロール２，３と塗布ヘッド２１の間でウェブ幅方向に座
屈をおこし、塗布ヘッド２１とウェブ７の接触力が不均
一になって前記スジムラの発生を引き起こしていること
が判明した。この為、このようなウェブ７の座屈は、ウ
ェブの厚みが１０μｍ以下という極めて薄い場合に発生
し易い。
【０００７】また、ウェブ７の座屈を抑止するためにサ
ポートロール２，３と塗布ヘッド２１の距離を小さくす
ると、図６に示すようにサポートロール２，３の偏心に
よる回転の振れδ（図中、サポートロール３の振れδの
みを図示）によって走行する前記ウェブ７が上下動し、
この上下変動により塗布ヘッド２１へのウェブ接触力が
変化するので、塗布層の塗布厚みが変動してウェブ長手
方向に亘って周期的な前記厚みムラが発生していること
が判明した。従って、本発明の目的は上記課題を解消す
ることにあり、スジムラや厚みムラの発生をともなうこ
となく厚みが薄いウェブ上に塗布液を塗布することがで
きる塗布条件を明らかにし、均一な塗布層を得ることが
できる良好な塗布方法を提供することにある。
ポートロール２，３と塗布ヘッド２１の距離を小さくす
ると、図６に示すようにサポートロール２，３の偏心に
よる回転の振れδ（図中、サポートロール３の振れδの
みを図示）によって走行する前記ウェブ７が上下動し、
この上下変動により塗布ヘッド２１へのウェブ接触力が
変化するので、塗布層の塗布厚みが変動してウェブ長手
方向に亘って周期的な前記厚みムラが発生していること
が判明した。従って、本発明の目的は上記課題を解消す
ることにあり、スジムラや厚みムラの発生をともなうこ
となく厚みが薄いウェブ上に塗布液を塗布することがで
きる塗布条件を明らかにし、均一な塗布層を得ることが
できる良好な塗布方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、バ
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行するべく一対のサポートロールに支持された可撓性支
持体の表面にスロット先端部から塗布液を連続的に押し
出すエクストルージョン型塗布装置によって前記支持体
表面に前記一対のサポートロールの間の領域で塗布液を
塗布する塗布方法において、前記支持体厚みをｔ（ｍ
ｍ）、前記支持体ヤング率をＥ（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）、前
記支持体のポアソン比をν、前記支持体の単位幅当たり
の搬送張力をＴ（ｋｇｆ／ｍｍ）、前記スロット先端部
から前記支持体の各サポートロールとの接触線までの距
離をｂ（ｍｍ）とするとき、
ックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続的に走
行するべく一対のサポートロールに支持された可撓性支
持体の表面にスロット先端部から塗布液を連続的に押し
出すエクストルージョン型塗布装置によって前記支持体
表面に前記一対のサポートロールの間の領域で塗布液を
塗布する塗布方法において、前記支持体厚みをｔ（ｍ
ｍ）、前記支持体ヤング率をＥ（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）、前
記支持体のポアソン比をν、前記支持体の単位幅当たり
の搬送張力をＴ（ｋｇｆ／ｍｍ）、前記スロット先端部
から前記支持体の各サポートロールとの接触線までの距
離をｂ（ｍｍ）とするとき、
【０００９】
【数４】
【００１０】となるように距離ｂを調整して塗布するこ
とを特徴とする塗布方法により達成される。
とを特徴とする塗布方法により達成される。
【００１１】又、バックエッジ面及びドクターエッジ面
に沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに
支持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗
布液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置
によって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの
間の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、前記支
持体厚みをｔ（ｍｍ）、前記支持体ヤング率をＥ（ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 ）、前記支持体のポアソン比をν、前記各サ
ポートロールの回転による振れをδ（ｍｍ）、前記スロ
ット先端部から前記支持体の各サポートロールとの接触
線までの距離をｂ（ｍｍ）とするとき、
に沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに
支持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗
布液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置
によって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの
間の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、前記支
持体厚みをｔ（ｍｍ）、前記支持体ヤング率をＥ（ｋｇ
ｆ／ｍｍ2 ）、前記支持体のポアソン比をν、前記各サ
ポートロールの回転による振れをδ（ｍｍ）、前記スロ
ット先端部から前記支持体の各サポートロールとの接触
線までの距離をｂ（ｍｍ）とするとき、
【００１２】
【数５】
【００１３】となるように距離ｂを調整して塗布するこ
とを特徴とする塗布方法により達成される。
とを特徴とする塗布方法により達成される。
【００１４】更に、バックエッジ面及びドクターエッジ
面に沿って連続的に走行するべく一対のサポートロール
に支持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から
塗布液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装
置によって前記支持体表面に前記一対のサポートロール
の間の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、前記
支持体厚みをｔ（ｍｍ）、前記支持体ヤング率をＥ（ｋ
ｇｆ／ｍｍ2 ）、前記支持体のポアソン比をν、前記支
持体の単位幅当たりの搬送張力をＴ（ｋｇｆ／ｍｍ）、
前記サポートロールの回転による振れをδ（ｍｍ）、前
記スロット先端部から前記支持体の各サポートロールと
の接触線までの距離をｂ（ｍｍ）とするとき、
面に沿って連続的に走行するべく一対のサポートロール
に支持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から
塗布液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装
置によって前記支持体表面に前記一対のサポートロール
の間の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、前記
支持体厚みをｔ（ｍｍ）、前記支持体ヤング率をＥ（ｋ
ｇｆ／ｍｍ2 ）、前記支持体のポアソン比をν、前記支
持体の単位幅当たりの搬送張力をＴ（ｋｇｆ／ｍｍ）、
前記サポートロールの回転による振れをδ（ｍｍ）、前
記スロット先端部から前記支持体の各サポートロールと
の接触線までの距離をｂ（ｍｍ）とするとき、
【００１５】
【数６】
【００１６】となるように距離ｂを調整して塗布するこ
とを特徴とする塗布方法により達成される。尚、本発明
における塗布液とは、磁性塗布液や写真感光性塗布液等
のように剪断速度が速くなるのに伴って粘度が低下する
チキソトロピックな粘度特性を示す塗布液である。ま
た、本発明における可撓性支持体は、厚みが３μｍ〜１
０μｍという極めて薄い可撓性支持体である。特に、本
発明は４μｍ〜１０μｍの厚さの支持体で有効である。
とを特徴とする塗布方法により達成される。尚、本発明
における塗布液とは、磁性塗布液や写真感光性塗布液等
のように剪断速度が速くなるのに伴って粘度が低下する
チキソトロピックな粘度特性を示す塗布液である。ま
た、本発明における可撓性支持体は、厚みが３μｍ〜１
０μｍという極めて薄い可撓性支持体である。特に、本
発明は４μｍ〜１０μｍの厚さの支持体で有効である。
【００１７】
【実施例】以下、添付した図面に基づいて本発明の実施
例を詳細に説明する。図１は本発明の塗布方法を実施す
るためのエクストルージョン型塗布装置の概略を示すも
のであり、塗布ヘッド１の上下流に位置するサポートロ
ール２，３によって張設されてバックエッジ面４及びド
クターエッジ面５に沿って連続的に走行するウェブ７表
面に、バックエッジとドクターエッジとの間のスロット
６から塗布液を連続的に吐出して塗布する。
例を詳細に説明する。図１は本発明の塗布方法を実施す
るためのエクストルージョン型塗布装置の概略を示すも
のであり、塗布ヘッド１の上下流に位置するサポートロ
ール２，３によって張設されてバックエッジ面４及びド
クターエッジ面５に沿って連続的に走行するウェブ７表
面に、バックエッジとドクターエッジとの間のスロット
６から塗布液を連続的に吐出して塗布する。
【００１８】そして、前記塗布ヘッド１のスロット先端
部１０からウェブ７の各上下流サポートロール２，３と
の接触線８，９までの距離ｂ（ｍｍ）は、下記式(1) を
満足するように調整されている。
部１０からウェブ７の各上下流サポートロール２，３と
の接触線８，９までの距離ｂ（ｍｍ）は、下記式(1) を
満足するように調整されている。
【００１９】
【数７】
【００２０】尚、上記式におけるｔは前記ウェブ７の厚
み（ｍｍ）、Ｅは前記ウェブ７のヤング率（ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 ）、νは前記ウェブ７のポアソン比、Ｔは前記ウェ
ブ７の単位幅当たりの搬送張力（ｋｇｆ／ｍｍ）であ
る。前記式は、幅ａ，長さｂ，厚みｔの矩形状の薄板に
単位幅当たりの張力Ｔが長手方向に作用した場合をモデ
ルとして各上下流サポートロール２，３と塗布ヘッド１
の間でのウェブ７の座屈を理論的に検討し得られたもの
であり、図２に示すように、ウェブの幅をａ、スロット
先端部１０からウェブ７のサポートロール２との接触線
８までの距離をｂ、ウェブの厚みをｔとし、薄板の幅方
向に圧縮力Ｎを受けると仮定する。そして、ウェブ長手
方向の座標をｙ、ウェブ幅方向の座標をｘとし、ｘ−ｙ
平面に垂直な方向の撓みをｗとすると次式(4) が成り立
つ。
み（ｍｍ）、Ｅは前記ウェブ７のヤング率（ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 ）、νは前記ウェブ７のポアソン比、Ｔは前記ウェ
ブ７の単位幅当たりの搬送張力（ｋｇｆ／ｍｍ）であ
る。前記式は、幅ａ，長さｂ，厚みｔの矩形状の薄板に
単位幅当たりの張力Ｔが長手方向に作用した場合をモデ
ルとして各上下流サポートロール２，３と塗布ヘッド１
の間でのウェブ７の座屈を理論的に検討し得られたもの
であり、図２に示すように、ウェブの幅をａ、スロット
先端部１０からウェブ７のサポートロール２との接触線
８までの距離をｂ、ウェブの厚みをｔとし、薄板の幅方
向に圧縮力Ｎを受けると仮定する。そして、ウェブ長手
方向の座標をｙ、ウェブ幅方向の座標をｘとし、ｘ−ｙ
平面に垂直な方向の撓みをｗとすると次式(4) が成り立
つ。
【００２１】
【数８】
【００２２】ここで、Ｄはウェブの曲げ剛性を表し、次
式(5) により求まる。
式(5) により求まる。
【００２３】
【数９】
【００２４】境界条件として４辺での撓み、モーメント
は０とした。従って、座屈を起こした場合、撓みｗは次
式(6) のような形に仮定できる。
は０とした。従って、座屈を起こした場合、撓みｗは次
式(6) のような形に仮定できる。
【００２５】
【数１０】
【００２６】式(6) を式(4) に代入し、臨界座屈応力σ
ｘcr（Ｎ／ｔの最小値）を求めると次式(7) を得る。ま
た、座屈波長λは次式(8) のようになる。
ｘcr（Ｎ／ｔの最小値）を求めると次式(7) を得る。ま
た、座屈波長λは次式(8) のようになる。
【００２７】
【数１１】
【００２８】この解析結果からわかるように幅方向にσ
ｘcrを越える圧縮応力が働くと座屈が発生し、その波長
はλとなる。この圧縮応力が発生する原因としては次の
ことが考えられる。ウェブには、通常、厚み分布やヤン
グ率の分布が存在する。この為、ウェブ搬送のために張
力を加えると幅方向に内部応力の分布が発生する。仮に
ウェブの一部に図３のような中凸の応力分布が発生した
場合、中心部では次式(9) に示すような幅方向圧縮応力
σｘが発生することになる。この応力が座屈を引き起こ
す。
ｘcrを越える圧縮応力が働くと座屈が発生し、その波長
はλとなる。この圧縮応力が発生する原因としては次の
ことが考えられる。ウェブには、通常、厚み分布やヤン
グ率の分布が存在する。この為、ウェブ搬送のために張
力を加えると幅方向に内部応力の分布が発生する。仮に
ウェブの一部に図３のような中凸の応力分布が発生した
場合、中心部では次式(9) に示すような幅方向圧縮応力
σｘが発生することになる。この応力が座屈を引き起こ
す。
【００２９】
【数１２】
【００３０】ここで、この幅方向圧縮応力σｘの大きさ
は、実験的に求めることができる。ウェブの厚みｔ、ス
ロット先端部からウェブのサポートロールとの接触線ま
での距離ｂ、ウェブの単位幅当たりの搬送張力Ｔ及びウ
ェブのヤング率Ｅを変えることにより、前記臨界座屈応
力σｘcrを変え、座屈発生の有無を調べれば良い。下記
組成の各成分をボールミルに入れて十分に混合分散させ
た後、エポキシ樹脂（エポキシ当量５００）を３０重量
部加えて均一に混合分散させて磁性塗布液（磁性分散
液）とした。また、支持体上に予め塗布するプレコート
液としてはメチルエチルケトンを使用し、バーコータ塗
布方式でウェット厚みが４．０ｇ／ｍ2 となるように塗
布した。
は、実験的に求めることができる。ウェブの厚みｔ、ス
ロット先端部からウェブのサポートロールとの接触線ま
での距離ｂ、ウェブの単位幅当たりの搬送張力Ｔ及びウ
ェブのヤング率Ｅを変えることにより、前記臨界座屈応
力σｘcrを変え、座屈発生の有無を調べれば良い。下記
組成の各成分をボールミルに入れて十分に混合分散させ
た後、エポキシ樹脂（エポキシ当量５００）を３０重量
部加えて均一に混合分散させて磁性塗布液（磁性分散
液）とした。また、支持体上に予め塗布するプレコート
液としてはメチルエチルケトンを使用し、バーコータ塗
布方式でウェット厚みが４．０ｇ／ｍ2 となるように塗
布した。
【００３１】 （磁性塗布液組成） ・γ−Ｆｅ2 Ｏ3 粉末 ３００重量部 （長径方向の平均粒径０．５μｍの針状粒子、 抗磁力３２０エルステッド） ・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ３０重量部 （共重合比８７：１３、重合度４００） ・メチルエチルケトン ３００重量部 ・ｎ−ブタノール １００重量部
【００３２】こうして得られた磁性塗布液の平衡粘度を
参考のために島津製作所の島津レオメータＲＭ−１によ
り測定したところ、剪断速度が１０ sec-1において６０
poise を示した。また、塗布装置としては基本構成が特
公平５−８０６５号公報記載の塗布ヘッドと同様のもの
を用い、前記磁性塗布液を下記塗布条件でウェブ上に塗
布した。
参考のために島津製作所の島津レオメータＲＭ−１によ
り測定したところ、剪断速度が１０ sec-1において６０
poise を示した。また、塗布装置としては基本構成が特
公平５−８０６５号公報記載の塗布ヘッドと同様のもの
を用い、前記磁性塗布液を下記塗布条件でウェブ上に塗
布した。
【００３３】（塗布条件） ・ウェブ 材質……………ポリエチレンテレフタレートフィルム ポアソン比……０．２ 幅………………１０００（ｍｍ） ・塗布速度…………………３００（ｍ／ｍｉｎ） ・ウェット塗布厚み………３０（μｍ）
【００３４】そして、ウェブの厚みｔ、スロット先端部
からウェブのサポートロールとの接触線までの距離ｂ、
ウェブの単位幅当たりの搬送張力Ｔ及びウェブのヤング
率Ｅを適宜変え、前記式(5) に基づいて各塗布条件にお
ける臨界座屈応力σｘcrを算出すると共に、塗布層表面
を観察してスジムラの有無を調べた。その結果を表１に
示す。併せてスジムラが発生した場合のスジムラのピッ
チも調べた。
からウェブのサポートロールとの接触線までの距離ｂ、
ウェブの単位幅当たりの搬送張力Ｔ及びウェブのヤング
率Ｅを適宜変え、前記式(5) に基づいて各塗布条件にお
ける臨界座屈応力σｘcrを算出すると共に、塗布層表面
を観察してスジムラの有無を調べた。その結果を表１に
示す。併せてスジムラが発生した場合のスジムラのピッ
チも調べた。
【００３５】
【表１】
【００３６】表１から明らかなように、上記実験例によ
り発生したスジムラのピッチは、上記解析の式(5) によ
り求まる座屈波長λと非常によく一致している。また、
臨界座屈応力σｘcrが１．５×１０-3（ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 ）未満の場合にスジムラが発生していることから、
ウェブには常に１．５×１０-3（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）の幅
方向圧縮応力が作用していることがわかる。従って、少
なくとも前記臨界座屈応力σｘcrが常に１．５×１０-3
（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）より大きくなるようにスロット先端
部からウェブのサポートロールとの接触線までの距離ｂ
を調整することで、厚さ１０μｍ以下の薄いウェブ上に
も塗布液をスジムラなく塗布でき、均一な塗布層を得る
ことができる。即ち、前記距離ｂが、前記式(1) を満足
するように調整されれば良い。
り発生したスジムラのピッチは、上記解析の式(5) によ
り求まる座屈波長λと非常によく一致している。また、
臨界座屈応力σｘcrが１．５×１０-3（ｋｇｆ／ｍ
ｍ2 ）未満の場合にスジムラが発生していることから、
ウェブには常に１．５×１０-3（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）の幅
方向圧縮応力が作用していることがわかる。従って、少
なくとも前記臨界座屈応力σｘcrが常に１．５×１０-3
（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）より大きくなるようにスロット先端
部からウェブのサポートロールとの接触線までの距離ｂ
を調整することで、厚さ１０μｍ以下の薄いウェブ上に
も塗布液をスジムラなく塗布でき、均一な塗布層を得る
ことができる。即ち、前記距離ｂが、前記式(1) を満足
するように調整されれば良い。
【００３７】次に、サポートロールの偏心により生じる
前記厚みムラを防止するための塗布条件について検討を
行った結果、前記塗布ヘッド１のスロット先端部１０か
らウェブ７の各上下流サポートロール２，３との接触線
８，９までの距離ｂ（ｍｍ）が、下記式(2) を満足する
ように調整されれば良いことを見いだした。
前記厚みムラを防止するための塗布条件について検討を
行った結果、前記塗布ヘッド１のスロット先端部１０か
らウェブ７の各上下流サポートロール２，３との接触線
８，９までの距離ｂ（ｍｍ）が、下記式(2) を満足する
ように調整されれば良いことを見いだした。
【００３８】
【数１３】
【００３９】尚、上記式(2) におけるｔは前記ウェブ７
の厚み（ｍｍ）、Ｅは前記ウェブ７のヤング率（ｋｇｆ
／ｍｍ2 ）、νは前記ウェブ７のポアソン比、δはサポ
ートロール２，３の偏心による回転の振れ（ｍｍ）であ
る。前記式(2) は、図４に示すような長さｂ、厚みｔの
片持ち梁をモデルとして自由端に振れδが作用した際の
塗布ヘッド１のスロット先端部１０でのウェブ接触圧力
Ｐを理論的に検討し得られたものである。ここで、前記
ウェブ接触圧力Ｐは次式(10)のように計算される。
の厚み（ｍｍ）、Ｅは前記ウェブ７のヤング率（ｋｇｆ
／ｍｍ2 ）、νは前記ウェブ７のポアソン比、δはサポ
ートロール２，３の偏心による回転の振れ（ｍｍ）であ
る。前記式(2) は、図４に示すような長さｂ、厚みｔの
片持ち梁をモデルとして自由端に振れδが作用した際の
塗布ヘッド１のスロット先端部１０でのウェブ接触圧力
Ｐを理論的に検討し得られたものである。ここで、前記
ウェブ接触圧力Ｐは次式(10)のように計算される。
【００４０】
【数１４】
【００４１】そこで、ウェブ７の厚みｔ、スロット先端
部１０からウェブ７のサポートロール３との接触線まで
の距離ｂ、サポートロール３の偏心による回転の振れδ
を変えることによりウェブ接触圧力Ｐを変え、実際に磁
性塗布液を塗布して前記厚みムラの発生する状況をウェ
ブ接触圧力Ｐについて整理したところ下記表２のように
なることがわかった。尚、塗布条件は前述の塗布条件と
同様とした。
部１０からウェブ７のサポートロール３との接触線まで
の距離ｂ、サポートロール３の偏心による回転の振れδ
を変えることによりウェブ接触圧力Ｐを変え、実際に磁
性塗布液を塗布して前記厚みムラの発生する状況をウェ
ブ接触圧力Ｐについて整理したところ下記表２のように
なることがわかった。尚、塗布条件は前述の塗布条件と
同様とした。
【００４２】
【表２】
【００４３】表２から明らかなように、ウェブ接触圧力
Ｐを１．９×１０-10 （ｋｇｆ／ｍｍ ）未満にすれ
ば、前記厚みムラが発生しないことがわかる。従って、
少なくとも前記ウェブ接触圧力Ｐが常に１．９×１０
-10 （ｋｇｆ／ｍｍ ）より小さくなるようにスロット
先端部からウェブのサポートロールとの接触線までの距
離ｂを調整することで、厚さ４μｍ〜１０μｍの薄いウ
ェブ上にも塗布液を厚みムラなく塗布でき、均一な塗布
層を得ることができる。即ち、前記ウェブ接触圧力Ｐの
臨界値である１．９×１０-10 （ｋｇｆ／ｍｍ ）から
サポートロールの偏心による回転の振れδの影響が現れ
ない前記距離ｂの最小値がもとまるので、前記距離ｂが
前記式(2) を満足するように調整されれば良い。
Ｐを１．９×１０-10 （ｋｇｆ／ｍｍ ）未満にすれ
ば、前記厚みムラが発生しないことがわかる。従って、
少なくとも前記ウェブ接触圧力Ｐが常に１．９×１０
-10 （ｋｇｆ／ｍｍ ）より小さくなるようにスロット
先端部からウェブのサポートロールとの接触線までの距
離ｂを調整することで、厚さ４μｍ〜１０μｍの薄いウ
ェブ上にも塗布液を厚みムラなく塗布でき、均一な塗布
層を得ることができる。即ち、前記ウェブ接触圧力Ｐの
臨界値である１．９×１０-10 （ｋｇｆ／ｍｍ ）から
サポートロールの偏心による回転の振れδの影響が現れ
ない前記距離ｂの最小値がもとまるので、前記距離ｂが
前記式(2) を満足するように調整されれば良い。
【００４４】そして、更に好ましくは、上述の式(1) 及
び式(2) により導かれる下記式(3)を満足するように前
記距離ｂが調整されることにより、厚さ１０μｍ以下の
薄いウェブ上にも塗布液をスジムラ及び厚みムラなく塗
布でき、均一な塗布層を得ることができる。
び式(2) により導かれる下記式(3)を満足するように前
記距離ｂが調整されることにより、厚さ１０μｍ以下の
薄いウェブ上にも塗布液をスジムラ及び厚みムラなく塗
布でき、均一な塗布層を得ることができる。
【００４５】
【数１５】
【００４６】従って、厚さ１０μｍ以下の薄いウェブ上
にも、例えば出力、Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性に悪影響
を与えるスジムラや厚みムラのない良好な磁性層をもっ
た磁気記録媒体を効率良く生産することができる。尚、
上記実施例においては、塗布ヘッドの上下流に位置する
サポートロールによって張設されてバックエッジ面及び
ドクターエッジ面に沿って連続的に走行するウェブ表面
に、バックエッジとドクターエッジとの間のスロットか
ら塗布液を連続的に吐出して塗布する塗布装置を用いた
が、本発明はこれに限定されるものではなく、種々の塗
布装置に応用できることは言うまでもない。
にも、例えば出力、Ｃ／Ｎ比等の電磁変換特性に悪影響
を与えるスジムラや厚みムラのない良好な磁性層をもっ
た磁気記録媒体を効率良く生産することができる。尚、
上記実施例においては、塗布ヘッドの上下流に位置する
サポートロールによって張設されてバックエッジ面及び
ドクターエッジ面に沿って連続的に走行するウェブ表面
に、バックエッジとドクターエッジとの間のスロットか
ら塗布液を連続的に吐出して塗布する塗布装置を用いた
が、本発明はこれに限定されるものではなく、種々の塗
布装置に応用できることは言うまでもない。
【００４７】例えば、一対のサポートロールの間にプレ
コート用の塗布ヘッドと塗布液用の塗布ヘッドとが設置
される場合があるが、この場合は、上流のサポートロー
ルとプレコート用の塗布ヘッドとの距離、及び塗布液用
の塗布ヘッドと下流のサポートロールとの距離につい
て、それぞれ本発明の距離ｂの条件を満たすように設定
する。又、プレコートを塗布ロールやグアビア等で塗布
する場合は、プレコート用の塗布ロールと塗布ヘッドと
の距離について本発明の距離ｂの条件を適用し、本発明
の振れδは前記塗布ロールの振れとする。更に、プレコ
ートをエクストルージョンヘッドで塗布する場合、プレ
コート用のエクストルージョンヘッドと塗布液用の塗布
ヘッドとは、距離が近いほど良い。
コート用の塗布ヘッドと塗布液用の塗布ヘッドとが設置
される場合があるが、この場合は、上流のサポートロー
ルとプレコート用の塗布ヘッドとの距離、及び塗布液用
の塗布ヘッドと下流のサポートロールとの距離につい
て、それぞれ本発明の距離ｂの条件を満たすように設定
する。又、プレコートを塗布ロールやグアビア等で塗布
する場合は、プレコート用の塗布ロールと塗布ヘッドと
の距離について本発明の距離ｂの条件を適用し、本発明
の振れδは前記塗布ロールの振れとする。更に、プレコ
ートをエクストルージョンヘッドで塗布する場合、プレ
コート用のエクストルージョンヘッドと塗布液用の塗布
ヘッドとは、距離が近いほど良い。
【００４８】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の塗布方法
は、バックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続
的に走行するべく一対のサポートロールに支持された可
撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布液を連続的
に押し出すエクストルージョン型塗布装置によって前記
支持体表面に前記一対のサポートロールの間の領域で塗
布液を塗布する塗布方法において、前記スロット先端部
から前記支持体の各サポートロールとの接触線までの距
離ｂを、前記支持体厚みｔ、前記支持体ヤング率Ｅ、前
記支持体のポアソン比ν、サポートロールの偏心による
回転の振れδ、及び前記支持体の単位幅当たりの搬送張
力Ｔ等を考慮した関係式に基づいて調整することにより
塗布条件を設定可能としたので、最適な塗布条件に速や
かに調整でき、生産効率を向上させることができる。従
って、スジムラや厚みムラの発生をともなうことなく厚
みが薄いウェブ上に塗布液を塗布することができる塗布
条件を明らかにし、均一な塗布層を得ることができる良
好な塗布方法を提供することができた。
は、バックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連続
的に走行するべく一対のサポートロールに支持された可
撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布液を連続的
に押し出すエクストルージョン型塗布装置によって前記
支持体表面に前記一対のサポートロールの間の領域で塗
布液を塗布する塗布方法において、前記スロット先端部
から前記支持体の各サポートロールとの接触線までの距
離ｂを、前記支持体厚みｔ、前記支持体ヤング率Ｅ、前
記支持体のポアソン比ν、サポートロールの偏心による
回転の振れδ、及び前記支持体の単位幅当たりの搬送張
力Ｔ等を考慮した関係式に基づいて調整することにより
塗布条件を設定可能としたので、最適な塗布条件に速や
かに調整でき、生産効率を向上させることができる。従
って、スジムラや厚みムラの発生をともなうことなく厚
みが薄いウェブ上に塗布液を塗布することができる塗布
条件を明らかにし、均一な塗布層を得ることができる良
好な塗布方法を提供することができた。
【図１】本発明の塗布方法を実施するためのエクストル
ージョン型塗布装置の概略図である。
ージョン型塗布装置の概略図である。
【図２】図１に示した上流サポートロールと塗布ヘッド
の間でのウェブの座屈を説明する為のモデルを示した模
式図である。
の間でのウェブの座屈を説明する為のモデルを示した模
式図である。
【図３】図２に示したウェブのモデルにおける応力分布
を表す説明図である。
を表す説明図である。
【図４】図１に示した下流サポートロールの偏心による
回転の振れと塗布ヘッドにおけるウェブ接触圧力との関
連とを説明する為のモデルを示した模式図である。
回転の振れと塗布ヘッドにおけるウェブ接触圧力との関
連とを説明する為のモデルを示した模式図である。
【図５】エクストルージョン型塗布装置による従来の塗
布状態を示す概略斜視図である。
布状態を示す概略斜視図である。
【図６】図５に示した従来の塗布方法による下流サポー
トロールの偏心による回転の振れを説明する為の概略図
である。
トロールの偏心による回転の振れを説明する為の概略図
である。
１ 塗布ヘッド ２ サポートロール ３ サポートロール ４ バックエッジ面 ５ ドクターエッジ面 ６ スロット ７ ウェブ ８ 接触線 ９ 接触線 １０ スロット先端部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−163（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−227159（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B05D 1/00 - 7/26 B05C 5/02
Claims (3)
- 【請求項１】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに支
持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布
液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置に
よって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの間
の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、 前記支持体厚みをｔ（ｍｍ）、前記支持体ヤング率をＥ
（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）、前記支持体のポアソン比をν、前
記支持体の単位幅当たりの搬送張力をＴ（ｋｇｆ／ｍ
ｍ）、前記スロット先端部から前記支持体の各サポート
ロールとの接触線までの距離をｂ（ｍｍ）とするとき、 【数１】 となるように距離ｂを調整して塗布することを特徴とす
る塗布方法。 - 【請求項２】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに支
持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布
液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置に
よって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの間
の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、 前記支持体厚みをｔ（ｍｍ）、前記支持体ヤング率をＥ
（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）、前記支持体のポアソン比をν、前
記各サポートロールの回転による振れをδ（ｍｍ）、前
記スロット先端部から前記支持体の各サポートロールと
の接触線までの距離をｂ（ｍｍ）とするとき、 【数２】 となるように距離ｂを調整して塗布することを特徴とす
る塗布方法。 - 【請求項３】 バックエッジ面及びドクターエッジ面に
沿って連続的に走行するべく一対のサポートロールに支
持された可撓性支持体の表面にスロット先端部から塗布
液を連続的に押し出すエクストルージョン型塗布装置に
よって前記支持体表面に前記一対のサポートロールの間
の領域で塗布液を塗布する塗布方法において、 前記支持体厚みをｔ（ｍｍ）、前記支持体ヤング率をＥ
（ｋｇｆ／ｍｍ2 ）、前記支持体のポアソン比をν、前
記支持体の単位幅当たりの搬送張力をＴ（ｋｇｆ／ｍ
ｍ）、前記サポートロールの回転による振れをδ（ｍ
ｍ）、前記スロット先端部から前記支持体の各サポート
ロールとの接触線までの距離をｂ（ｍｍ）とするとき、 【数３】 となるように距離ｂを調整して塗布することを特徴とす
る塗布方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33674094A JP3168388B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 塗布方法 |
| GB9525874A GB2296456B (en) | 1994-12-26 | 1995-12-18 | Extrusion coating method for continuosly coating a flexible support |
| US08/575,521 US5603989A (en) | 1994-12-26 | 1995-12-20 | Extrusion coating method including adjusting the distance between coating head slot and the points of tangency where a flexible support contacts respective support rolls |
| DE19548358A DE19548358C2 (de) | 1994-12-26 | 1995-12-22 | Extrusionsbeschichtungsverfahren für die kontinuierliche Beschichtung eines flexiblen Trägers |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33674094A JP3168388B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08173892A JPH08173892A (ja) | 1996-07-09 |
| JP3168388B2 true JP3168388B2 (ja) | 2001-05-21 |
Family
ID=18302291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33674094A Expired - Lifetime JP3168388B2 (ja) | 1994-12-26 | 1994-12-26 | 塗布方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5603989A (ja) |
| JP (1) | JP3168388B2 (ja) |
| DE (1) | DE19548358C2 (ja) |
| GB (1) | GB2296456B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4161378B2 (ja) * | 1998-09-30 | 2008-10-08 | 東レ株式会社 | 高寸法安定性高分子フィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 |
| CN113083616B (zh) * | 2021-04-07 | 2022-07-26 | 深圳市曼恩斯特科技股份有限公司 | 一种涂布挤压模头面密度外部调节装置 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4388349A (en) * | 1980-11-21 | 1983-06-14 | Permacel | Extrusion coating process |
| JPS60238179A (ja) * | 1984-05-14 | 1985-11-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布装置 |
| JPH0640990B2 (ja) * | 1985-11-15 | 1994-06-01 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JP2601365B2 (ja) * | 1990-04-13 | 1997-04-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JP2942938B2 (ja) * | 1992-10-20 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法 |
| JP2902238B2 (ja) * | 1992-11-25 | 1999-06-07 | 花王株式会社 | 塗布装置及び方法 |
-
1994
- 1994-12-26 JP JP33674094A patent/JP3168388B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-12-18 GB GB9525874A patent/GB2296456B/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-20 US US08/575,521 patent/US5603989A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-22 DE DE19548358A patent/DE19548358C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08173892A (ja) | 1996-07-09 |
| GB2296456B (en) | 1997-11-12 |
| GB9525874D0 (en) | 1996-02-21 |
| DE19548358C2 (de) | 2003-04-24 |
| GB2296456A (en) | 1996-07-03 |
| DE19548358A1 (de) | 1996-06-27 |
| US5603989A (en) | 1997-02-18 |
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