JP3168135B2 - 浄化保温機能を有する炭酸泉製造装置 - Google Patents
浄化保温機能を有する炭酸泉製造装置Info
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- JP3168135B2 JP3168135B2 JP02377495A JP2377495A JP3168135B2 JP 3168135 B2 JP3168135 B2 JP 3168135B2 JP 02377495 A JP02377495 A JP 02377495A JP 2377495 A JP2377495 A JP 2377495A JP 3168135 B2 JP3168135 B2 JP 3168135B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、生理的に効果のある炭
酸泉が容易に得られ、かつ浄化保温機能を有する炭酸泉
の製造装置に関する。
酸泉が容易に得られ、かつ浄化保温機能を有する炭酸泉
の製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、浴槽内の湯を適温に保ちながら、
体から出て湯に混じった老廃物や水垢等を濾過器を通じ
て浄化し、湯をリサイクル利用できるようにした家庭用
循環温浴器（２４時間風呂）が２４時間いつでも入浴で
きることから人気を呼び利用されている。また、お風呂
の湯に溶かすだけで温泉気分になれる入浴剤等も広く使
われている。
体から出て湯に混じった老廃物や水垢等を濾過器を通じ
て浄化し、湯をリサイクル利用できるようにした家庭用
循環温浴器（２４時間風呂）が２４時間いつでも入浴で
きることから人気を呼び利用されている。また、お風呂
の湯に溶かすだけで温泉気分になれる入浴剤等も広く使
われている。
【０００３】しかし、家庭用循環温浴器は、浄化機能を
有しているだけであり、一方入浴剤は家庭用循環温浴器
には使用できず、温泉化機能と２４時間風呂機能とを兼
ね備えたものはなかった。
有しているだけであり、一方入浴剤は家庭用循環温浴器
には使用できず、温泉化機能と２４時間風呂機能とを兼
ね備えたものはなかった。
【０００４】炭酸泉は優れた保温作用があることから、
古くから温泉を利用する浴場等で用いられている。炭酸
泉の保温作用は、基本的に、含有炭酸ガスの末梢血管拡
張作用により身体環境が改善されるためと考えられる。
また、炭酸ガスの経皮進入によって、毛細血管床の増加
及び拡張が起こり、皮膚の血行を改善する。
古くから温泉を利用する浴場等で用いられている。炭酸
泉の保温作用は、基本的に、含有炭酸ガスの末梢血管拡
張作用により身体環境が改善されるためと考えられる。
また、炭酸ガスの経皮進入によって、毛細血管床の増加
及び拡張が起こり、皮膚の血行を改善する。
【０００５】このため退行性病変及び末梢循環障害の治
療に効果があるとされている。このように炭酸泉が優れ
た効能を持つことから、これを人工的に調合する試みが
行われてきた。例えば浴槽内に炭酸ガスを気泡の形で送
り込む方法、炭酸塩と酸とを作用させる化学的方法、タ
ンクに温水と炭酸ガスとを一定期間加圧封入する方法等
により炭酸温水を得ていた。
療に効果があるとされている。このように炭酸泉が優れ
た効能を持つことから、これを人工的に調合する試みが
行われてきた。例えば浴槽内に炭酸ガスを気泡の形で送
り込む方法、炭酸塩と酸とを作用させる化学的方法、タ
ンクに温水と炭酸ガスとを一定期間加圧封入する方法等
により炭酸温水を得ていた。
【０００６】しかし、従来の炭酸温水の生成方法では、
簡単に家庭の浴槽で利用できる装置がなく、化学的方法
では、炭酸ガス濃度を３００ｐｐｍにするには、多量の
薬品を投入しなければならず、高濃度の炭酸泉を家庭の
浴内で製造できる装置が望まれていた。
簡単に家庭の浴槽で利用できる装置がなく、化学的方法
では、炭酸ガス濃度を３００ｐｐｍにするには、多量の
薬品を投入しなければならず、高濃度の炭酸泉を家庭の
浴内で製造できる装置が望まれていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高濃
度の炭酸泉を家庭の浴槽内で簡単に製造でき、かつ浄化
保温機能をも併せ持つ、２４時間風呂機能を有する炭酸
泉製造装置を提供することにある。
度の炭酸泉を家庭の浴槽内で簡単に製造でき、かつ浄化
保温機能をも併せ持つ、２４時間風呂機能を有する炭酸
泉製造装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、浴槽
内の湯を浴槽外で強制的に循環する循環ポンプとそのた
めの循環流路とを有してなる炭酸泉製造装置であって、
該循環流路中にフィルター、濾過器、殺菌装置、ヒータ
ーおよび炭酸ガス溶解器が配設されてなり、該炭酸ガス
溶解器はドレイン抜きと中空糸膜を内蔵し、該炭酸ガス
溶解器への炭酸ガスの供給量が、炭酸泉中の炭酸ガスの
濃度により調節されることを特徴とする炭酸泉製造装置
である。
内の湯を浴槽外で強制的に循環する循環ポンプとそのた
めの循環流路とを有してなる炭酸泉製造装置であって、
該循環流路中にフィルター、濾過器、殺菌装置、ヒータ
ーおよび炭酸ガス溶解器が配設されてなり、該炭酸ガス
溶解器はドレイン抜きと中空糸膜を内蔵し、該炭酸ガス
溶解器への炭酸ガスの供給量が、炭酸泉中の炭酸ガスの
濃度により調節されることを特徴とする炭酸泉製造装置
である。
【０００９】この炭酸泉製造装置に用いられる炭酸ガス
溶解器としては、炭酸ガス溶解器が、温水の流入口、炭
酸泉の導出口および炭酸ガス導入口を有する管体内に、
先端が遮断された多孔管が配設されてなり、該多孔管の
周りには中空糸膜が多孔管と同軸方向に配列され、中空
糸膜の少なくとも一端は開口状態を保って炭酸ガス導入
口に連通して固定され、温水の流入口は多孔管の内部に
連通し、炭酸泉の導出口は中空糸膜の外表面および多孔
管の外表面に連通するものであることが好ましい。
溶解器としては、炭酸ガス溶解器が、温水の流入口、炭
酸泉の導出口および炭酸ガス導入口を有する管体内に、
先端が遮断された多孔管が配設されてなり、該多孔管の
周りには中空糸膜が多孔管と同軸方向に配列され、中空
糸膜の少なくとも一端は開口状態を保って炭酸ガス導入
口に連通して固定され、温水の流入口は多孔管の内部に
連通し、炭酸泉の導出口は中空糸膜の外表面および多孔
管の外表面に連通するものであることが好ましい。
【００１０】以下、図面にしたがって、本発明をより詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１１】図１は、本発明の炭酸泉の製造装置の一例
である。浴槽内の温水は、循環ポンプ１によって、浴槽
外の循環流路２中を強制的に循環させられる。すなわ
ち、浴槽３より出た温水は、フィルター４を経て濾過器
５へ供給されここで浄化され、殺菌装置６で温水中の細
菌等が殺菌される。温度センサー７により循環流路を流
れる温水温度が測定された後、ヒーター８で加熱され、
その後に炭酸ガス溶解器９へ導かれ、炭酸ガスが溶解さ
れて高濃度の炭酸泉となり、浴槽３へ戻される。なお、
循環流路における循環ポンプや炭酸ガス溶解器等の設置
位置は、この例により限定されるものではない。
である。浴槽内の温水は、循環ポンプ１によって、浴槽
外の循環流路２中を強制的に循環させられる。すなわ
ち、浴槽３より出た温水は、フィルター４を経て濾過器
５へ供給されここで浄化され、殺菌装置６で温水中の細
菌等が殺菌される。温度センサー７により循環流路を流
れる温水温度が測定された後、ヒーター８で加熱され、
その後に炭酸ガス溶解器９へ導かれ、炭酸ガスが溶解さ
れて高濃度の炭酸泉となり、浴槽３へ戻される。なお、
循環流路における循環ポンプや炭酸ガス溶解器等の設置
位置は、この例により限定されるものではない。
【００１２】フィルター４は、温水中に混入している大
きなゴミなどをトラップし濾過器５がすぐに閉塞した
り、炭酸ガス溶解器内の中空糸膜が汚染されたりするの
を防ぐものであり、循環流路２の最も上流に配設するの
が好ましい。フィルターには、金属製の金網、焼結材
や、プラスチック製の不織布、多孔質体が使用でき、孔
径は細かい方が良いが、あまり細か過ぎると抵抗が増大
するため、数十μｍから数百μｍの間が望ましい。
きなゴミなどをトラップし濾過器５がすぐに閉塞した
り、炭酸ガス溶解器内の中空糸膜が汚染されたりするの
を防ぐものであり、循環流路２の最も上流に配設するの
が好ましい。フィルターには、金属製の金網、焼結材
や、プラスチック製の不織布、多孔質体が使用でき、孔
径は細かい方が良いが、あまり細か過ぎると抵抗が増大
するため、数十μｍから数百μｍの間が望ましい。
【００１３】濾過器５は、体から出て湯に混じった老廃
物や水垢などを除去する機能を有するもので、例えばセ
ラミックス、活性炭、麦飯石等の濾過手段を用いたもの
が使用できる。濾過器５は、フィルター４とともに、炭
酸ガス溶解器内の中空糸膜が汚染され炭酸ガスの溶解能
が低下するのを防止する役割をも果している。したがっ
て、濾過器は循環流路中ではフィルターの下流で殺菌装
置、炭酸ガス溶解器の上流に配置するのが好ましい。
物や水垢などを除去する機能を有するもので、例えばセ
ラミックス、活性炭、麦飯石等の濾過手段を用いたもの
が使用できる。濾過器５は、フィルター４とともに、炭
酸ガス溶解器内の中空糸膜が汚染され炭酸ガスの溶解能
が低下するのを防止する役割をも果している。したがっ
て、濾過器は循環流路中ではフィルターの下流で殺菌装
置、炭酸ガス溶解器の上流に配置するのが好ましい。
【００１４】殺菌装置６は、浴槽中に混入し、水を腐食
させる細菌等を殺菌して、炭酸泉の水質を保つ機能を発
揮するもので、例えばオゾンを発生したり、あるいは紫
外線照射手段を有するものが使用できる。
させる細菌等を殺菌して、炭酸泉の水質を保つ機能を発
揮するもので、例えばオゾンを発生したり、あるいは紫
外線照射手段を有するものが使用できる。
【００１５】ヒーター８は、温水を加熱する加熱源であ
り、その熱源はガス、石油、電気等その種類を問わな
い。通常は、浴槽内あるいはその上流に設置した温度セ
ンサーにより温水温度を検知し、浴槽内の温度が所定の
温度を保つようにその発熱量が制御される。ヒーター
は、炭酸ガス溶解器の上流に配置されるのが好ましい。
炭酸ガス溶解器の下流にヒーターが配置されると、溶け
た炭酸ガスが加温によりガス状に析出する可能性があ
り、安全の面からも好ましくない。
り、その熱源はガス、石油、電気等その種類を問わな
い。通常は、浴槽内あるいはその上流に設置した温度セ
ンサーにより温水温度を検知し、浴槽内の温度が所定の
温度を保つようにその発熱量が制御される。ヒーター
は、炭酸ガス溶解器の上流に配置されるのが好ましい。
炭酸ガス溶解器の下流にヒーターが配置されると、溶け
た炭酸ガスが加温によりガス状に析出する可能性があ
り、安全の面からも好ましくない。
【００１６】炭酸ガス溶解器９は、中空糸膜を内蔵し、
中空糸膜の膜面を介して炭酸ガスボンベ１０からの炭酸
ガスを温水に溶解させる機能を有するもので、図２は、
本発明の炭酸泉製造装置に用いられる炭酸ガス溶解器の
一例を示す断面図である。
中空糸膜の膜面を介して炭酸ガスボンベ１０からの炭酸
ガスを温水に溶解させる機能を有するもので、図２は、
本発明の炭酸泉製造装置に用いられる炭酸ガス溶解器の
一例を示す断面図である。
【００１７】温水導入口２１から供給された温水は、ま
ず最初に炭酸ガス溶解器本体を構成する管体２２内の、
先端が遮断された内部多孔管２３内へ導かれる。多孔管
の周りには、中空糸膜２４が多孔管と同軸方向に配列さ
れ、その両端が開口状態を保ってポッティング剤２５で
固定されており、その外周を外部多孔管２９が覆ってい
る。中空糸膜の中空部は、炭酸ガス導入口２６およびド
レイン抜き２７に連通し、温水の流路とは液密に遮断さ
れている。内部多孔管の孔から流れ出した温水は、その
中空部に炭酸ガス導入口２６より供給された炭酸ガスが
流れる中空糸膜の表面を横切って放射状に流れ、中空糸
膜表面と接触する際に、炭酸ガスが温水に溶解され、外
部多孔管の孔を通過し、炭酸泉導出口２８より取り出さ
れる。
ず最初に炭酸ガス溶解器本体を構成する管体２２内の、
先端が遮断された内部多孔管２３内へ導かれる。多孔管
の周りには、中空糸膜２４が多孔管と同軸方向に配列さ
れ、その両端が開口状態を保ってポッティング剤２５で
固定されており、その外周を外部多孔管２９が覆ってい
る。中空糸膜の中空部は、炭酸ガス導入口２６およびド
レイン抜き２７に連通し、温水の流路とは液密に遮断さ
れている。内部多孔管の孔から流れ出した温水は、その
中空部に炭酸ガス導入口２６より供給された炭酸ガスが
流れる中空糸膜の表面を横切って放射状に流れ、中空糸
膜表面と接触する際に、炭酸ガスが温水に溶解され、外
部多孔管の孔を通過し、炭酸泉導出口２８より取り出さ
れる。
【００１８】本発明の炭酸泉製造装置では、浴槽３内の
炭酸泉の炭酸ガス濃度を一定に保つために、例えば浴槽
内にｐＨセンサー１１を配設し、炭酸ガス濃度の測定信
号により炭酸ガスボンベ１０の開閉弁１２の開度を制御
して炭酸ガス溶解器９への炭酸ガスの供給量が調節され
る。
炭酸泉の炭酸ガス濃度を一定に保つために、例えば浴槽
内にｐＨセンサー１１を配設し、炭酸ガス濃度の測定信
号により炭酸ガスボンベ１０の開閉弁１２の開度を制御
して炭酸ガス溶解器９への炭酸ガスの供給量が調節され
る。
【００１９】炭酸ガス溶解器９に用いられる中空糸膜と
しては、ガス透過性に優れるものであれば各種のものが
用いられる。特に好ましい中空糸膜は、薄膜状の非多孔
質層の両側を多孔質層で挟み込んだ三層構造の複合中空
糸膜であり、例えば三菱レイヨン（株）製三層複合中空
糸膜（ＭＨＦ）が挙げられる。図３はこのような複合中
空糸膜の一例を示す模式図であり、３１は非多孔質層、
３２は多孔質層である。
しては、ガス透過性に優れるものであれば各種のものが
用いられる。特に好ましい中空糸膜は、薄膜状の非多孔
質層の両側を多孔質層で挟み込んだ三層構造の複合中空
糸膜であり、例えば三菱レイヨン（株）製三層複合中空
糸膜（ＭＨＦ）が挙げられる。図３はこのような複合中
空糸膜の一例を示す模式図であり、３１は非多孔質層、
３２は多孔質層である。
【００２０】ここで、薄膜状の非多孔質層（膜）とは、
気体が膜基質への溶解・拡散機構により透過する膜であ
り、分子がクヌッセン流れのように気体がガス状で透過
できる孔を実質的に含まないものであればいかなるもの
でもよい。ガス透過性に優れる非多孔質膜を用いること
により、任意の圧力でガスが気泡として放出されること
なくガスを供給、溶解でき、効率よい溶解ができると共
に任意の濃度に制御性良く、簡便に溶解できる。また、
膜を介して温水がガス供給側に逆流するようなこともな
い。
気体が膜基質への溶解・拡散機構により透過する膜であ
り、分子がクヌッセン流れのように気体がガス状で透過
できる孔を実質的に含まないものであればいかなるもの
でもよい。ガス透過性に優れる非多孔質膜を用いること
により、任意の圧力でガスが気泡として放出されること
なくガスを供給、溶解でき、効率よい溶解ができると共
に任意の濃度に制御性良く、簡便に溶解できる。また、
膜を介して温水がガス供給側に逆流するようなこともな
い。
【００２１】中空糸膜の膜素材としては、シリコーン
系、ポリオレフィン系、ポリエステル系、ポリアミド
系、ポリイミド系、ポリスルフォン系、セルロース系、
ポリウレタン系等が好ましいものとして挙げられる。
系、ポリオレフィン系、ポリエステル系、ポリアミド
系、ポリイミド系、ポリスルフォン系、セルロース系、
ポリウレタン系等が好ましいものとして挙げられる。
【００２２】中空糸膜の内径は５０μｍ以上１０００μ
ｍ以下が望ましい。５０μｍ未満では中空糸膜内を流れ
る炭酸ガスの流路抵抗が大きくなり十分な炭酸ガスの供
給が行えない。また１０００μｍを超えると、溶解器の
サイズが大きくなり、コンパクトにならない。
ｍ以下が望ましい。５０μｍ未満では中空糸膜内を流れ
る炭酸ガスの流路抵抗が大きくなり十分な炭酸ガスの供
給が行えない。また１０００μｍを超えると、溶解器の
サイズが大きくなり、コンパクトにならない。
【００２３】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００２４】実施例１ 図１に示した炭酸泉製造装置を用いて炭酸泉を製造し
た。炭酸ガス溶解器３には図２の構造を有するものを用
いた。内蔵される中空糸膜は三層構造の複合中空糸膜
で、内径が２００μｍ、内層と外層は厚みがそれぞれ２
０μｍのポリエチレン多孔質膜、中間層は厚みが０．５
μｍのセグメント化ポリウレタン非多孔質膜からなるも
のであり、有効総膜面積は１．８ｍ2 であった。フィル
ター４には１００メッシュの不織布を、濾過器５には、
麦飯石５ｋｇと粒状活性炭１ｋｇを充填したものを、殺
菌装置６には紫外線照射ランプを配設したものをそれぞ
れ使用した。
た。炭酸ガス溶解器３には図２の構造を有するものを用
いた。内蔵される中空糸膜は三層構造の複合中空糸膜
で、内径が２００μｍ、内層と外層は厚みがそれぞれ２
０μｍのポリエチレン多孔質膜、中間層は厚みが０．５
μｍのセグメント化ポリウレタン非多孔質膜からなるも
のであり、有効総膜面積は１．８ｍ2 であった。フィル
ター４には１００メッシュの不織布を、濾過器５には、
麦飯石５ｋｇと粒状活性炭１ｋｇを充填したものを、殺
菌装置６には紫外線照射ランプを配設したものをそれぞ
れ使用した。
【００２５】浴槽の湯温を４０℃に設定し、浴槽（湯量
約２００リットル）から循環ポンプ１で温水を吸引し、
２０リットル／ｍｉｎの流量で循環させた。この時、炭
酸泉の濃度が５００ｐｐｍになるように設定し、炭酸ガ
ス溶解器に炭酸ガスボンベ１０より炭酸ガスを供給し
た。以上の条件下で温水を循環流通させて浴槽内の炭酸
濃度を測定したところ、１０分で５００ｐｐｍの濃度の
炭酸泉となっていた。その後、この浴槽に１日に４人が
入浴し、これを２０日間継続するとともに、炭酸泉の製
造装置を連続運転したが、水質や炭酸ガス濃度等に問題
はなかった。なお、炭酸ガス濃度は、東亜電波工業製
イオンメーターＩＭ４０Ｓ炭酸ガス電極ＣＥ−２３５で
測定した。
約２００リットル）から循環ポンプ１で温水を吸引し、
２０リットル／ｍｉｎの流量で循環させた。この時、炭
酸泉の濃度が５００ｐｐｍになるように設定し、炭酸ガ
ス溶解器に炭酸ガスボンベ１０より炭酸ガスを供給し
た。以上の条件下で温水を循環流通させて浴槽内の炭酸
濃度を測定したところ、１０分で５００ｐｐｍの濃度の
炭酸泉となっていた。その後、この浴槽に１日に４人が
入浴し、これを２０日間継続するとともに、炭酸泉の製
造装置を連続運転したが、水質や炭酸ガス濃度等に問題
はなかった。なお、炭酸ガス濃度は、東亜電波工業製
イオンメーターＩＭ４０Ｓ炭酸ガス電極ＣＥ−２３５で
測定した。
【００２６】
【発明の効果】本発明の炭酸泉の製造装置によれば、家
庭で高濃度の炭酸泉を得ることができるとともに、浄化
保温機能を有しているので２４時間何時でもきれいな温
泉に入浴することができる。
庭で高濃度の炭酸泉を得ることができるとともに、浄化
保温機能を有しているので２４時間何時でもきれいな温
泉に入浴することができる。
【図１】本発明の炭酸泉の製造装置の概略的な全体構成
図である。
図である。
【図２】本発明に使用するのが好適な炭酸ガス溶解器の
模式断面図である。
模式断面図である。
【図３】本発明に使用するのが好適な三層複合中空糸膜
の構造を示す模式斜視断面図である。
の構造を示す模式斜視断面図である。
１ 循環ポンプ ２ 循環流路 ３ 浴槽 ４ フィルター ５ 濾過器 ６ 殺菌装置 ７ 温度センサー ８ ヒーター ９ 炭酸ガス溶解器 １０ 炭酸ガスボンベ １１ ＰＨセンサー １２ 開閉弁 ２１ 温水導入口 ２２ 管体 ２３ 内部多孔管 ２４ 中空糸膜 ２５ ポッティング剤 ２６ 炭酸ガス導入口 ２７ ドレイン抜き ２８ 炭酸泉導出口 ２９ 外部多孔管 ３１ 非多孔質層 ３２ 多孔質層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−279158（ＪＰ，Ａ) 実開 平３−46329（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭60−102020（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61H 33/00 - 33/02 B01F 1/00 A47K 3/00
Claims (5)
- 【請求項１】 浴槽内の湯を浴槽外で強制的に循環する
循環ポンプとそのための循環流路とを有してなる炭酸泉
製造装置であって、該循環流路中にフィルター、濾過
器、殺菌装置、ヒーターおよび炭酸ガス溶解器が配設さ
れてなり、該炭酸ガス溶解器はドレイン抜きと中空糸膜
を内蔵し、該炭酸ガス溶解器への炭酸ガスの供給量が、
炭酸泉中の炭酸ガスの濃度により調節されることを特徴
とする炭酸泉製造装置。 - 【請求項２】 ヒーターが、炭酸ガス溶解器の上流に配
置されてなる請求項１記載の製造装置。 - 【請求項３】 浴槽内にｐＨセンサーが配置され、炭酸
ガス濃度の測定信号により炭酸ガスの供給量が調節され
る請求項１または２に記載の製造装置。 - 【請求項４】 炭酸ガス溶解器が、温水の流入口、炭酸
泉の導出口および炭酸ガス導入口を有する管体内に、先
端が遮断された多孔管が配設されてなり、該多孔管の周
りには中空糸膜が多孔管と同軸方向に配設され、中空糸
膜の少なくとも一端は開口状態を保って炭酸ガス導入口
に連通して固定され、温水の流入口は多孔管の内部に連
通し、炭酸泉の導出口は中空糸膜の外表面及び多孔管の
外表面に連通していることを特徴とする請求項１〜３い
ずれかに記載の炭酸泉製造装置。 - 【請求項５】 中空糸膜が、薄膜状の非多孔質層の両側
を多孔質層で挟み込んだ三層構造の複合中空糸膜である
請求項１〜４いずれかに記載の炭酸泉製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02377495A JP3168135B2 (ja) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | 浄化保温機能を有する炭酸泉製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02377495A JP3168135B2 (ja) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | 浄化保温機能を有する炭酸泉製造装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000249585A Division JP2001104439A (ja) | 1995-02-13 | 2000-08-21 | 浄化保温機能を有する炭酸泉製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08215270A JPH08215270A (ja) | 1996-08-27 |
| JP3168135B2 true JP3168135B2 (ja) | 2001-05-21 |
Family
ID=12119697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02377495A Expired - Lifetime JP3168135B2 (ja) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | 浄化保温機能を有する炭酸泉製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3168135B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003020405A1 (fr) * | 2001-08-28 | 2003-03-13 | Mitsubishi Rayon Co.,Ltd. | Dispositif et procede pour la fabrication d'une source gazeifiee et d'eau gazeuse, procede de commande de la densite de gaz appliquee a cette eau et module a membrane |
| WO2005067862A1 (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | 炭酸泉製造装置 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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