JP3153387B2 - Photosensitive material - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀の感光性
を利用し、重合性化合物を重合させることにより画像を
形成する感光材料に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light-sensitive material which forms an image by polymerizing a polymerizable compound by utilizing the photosensitivity of silver halide.

【０００２】[0002]

【従来の技術】ハロゲン化銀、還元剤および重合性化合
物を含む感光材料を画像露光し、ハロゲン化銀を現像し
て、これにより画像状に重合性化合物を重合させてポリ
マー画像を形成する方法が、特公昭４５−１１１４９号
公報（米国特許３６９７２７５号、西ドイツ特許１７２
０６６５号および英国特許１１３１２００号各明細書）
に記載されている。この方法においては、ハロゲン化銀
を還元した還元剤の酸化体ラジカル（還元剤の酸化体の
分解によって生じるラジカルであってもよい。以下、単
に酸化体ラジカルと呼ぶ。）によって重合が開始され
る。2. Description of the Related Art A method for forming a polymer image by imagewise exposing a photosensitive material containing a silver halide, a reducing agent and a polymerizable compound to develop the silver halide and thereby polymerizing the polymerizable compound in an image-like manner. Japanese Patent Publication No. 45-11149 (US Pat. No. 3,697,275, West German Patent 172)
0665 and British Patent 1131200)
It is described in. In this method, polymerization is initiated by an oxidant radical of a reducing agent that has reduced silver halide (which may be a radical generated by decomposition of an oxidant of the reducing agent; hereinafter, simply referred to as an oxidant radical). .

【０００３】一方、ハロゲン化銀の現像を加熱によって
行い、乾式処理だけでポリマー画像を形成する方法が特
開昭６１−６９０６２号および特開昭６１−７３１４５
号各公報（米国特許４６２９６７６号および欧州特許公
開番号０１７４６３４Ａ号各明細書）に記載されてい
る。また、この乾式処理の画像形成方法を利用した印刷
版の製造に好適な感光材料が、特開昭６４−１７０４７
号公報（米国特許４９８５３３９号および欧州特許公開
番号０２９８５２２Ａ号各明細書）および特開平３−２
０７６５０号公報（米国特許５１２２４４３号および欧
州特許公開番号０４２６１９２Ａ号各明細書）に記載さ
れている。On the other hand, a method in which a silver halide is developed by heating and a polymer image is formed only by dry processing is disclosed in JP-A-61-69062 and JP-A-61-73145.
Nos. 4,028,028 and 5,028,676, and European Patent Publication No. 0174634A. Further, a photosensitive material suitable for producing a printing plate using this image processing method of dry processing is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No.
(U.S. Pat. No. 4,985,339 and European Patent Publication No. 0298522A) and Japanese Patent Laid-Open No. 3-2.
No. 07650 (U.S. Pat. No. 5,122,443 and European Patent Publication No. 0426192A).

【０００４】以上のような感光材料の添加剤の一種に含
窒素複素環化合物がある。含窒素複素環化合物は、カブ
リ防止あるいは現像促進の機能を有する。含窒素複素環
化合物を含む感光材料については、特開昭６２−１５１
８３８号公報（米国特許４９５６２６０号および欧州特
許公開番号０２２８０８５Ａ４号各明細書）に記載があ
る。含窒素複素環化合物の例には、３−メルカプト−
１，２，４−トリアゾール類が含まれる。上記欧州特許
公開番号０２２８０８５Ａ４号明細書に開示されている
３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール類を以下に
挙げる。[0004] One of the additives for the above-mentioned light-sensitive materials is a nitrogen-containing heterocyclic compound. The nitrogen-containing heterocyclic compound has a function of preventing fog or accelerating development. A photosensitive material containing a nitrogen-containing heterocyclic compound is disclosed in JP-A-62-151.
No. 838 (U.S. Pat. No. 4,956,260 and European Patent Publication No. 022885A4). Examples of the nitrogen-containing heterocyclic compound include 3-mercapto-
1,2,4-triazoles are included. The 3-mercapto-1,2,4-triazoles disclosed in the above-mentioned European Patent Publication No. 022885A4 are listed below.

【０００５】[0005]

【化３】 Embedded image

【０００６】[0006]

【化４】 Embedded image

【０００７】[0007]

【化５】 Embedded image

【０００８】以上のような３−メルカプト−１，２，４
−トリアゾール類は、画像部と非画像部とのディスクリ
ミネーションを向上させる機能が優れている。このた
め、含窒素複素環化合物のうちでは、３−メルカプト−
１，２，４−トリアゾール類が最も頻繁に使用されてい
る。３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール類は、
特開平２−１４６０４１号公報（米国特許５０４１３５
３号明細書）や特開平３−２０７６５０号公報（米国特
許５１２２４４３号および欧州特許公開番号０４２６１
９２Ａ号各明細書）の実施例においても開示がある。米
国特許５０４１３５３号および同５１２２４４３号各明
細書に開示されている３−メルカプト−１，２，４−ト
リアゾール類を以下に挙げる。The above-mentioned 3-mercapto-1,2,4
-Triazoles have an excellent function of improving discrimination between the image area and the non-image area. Therefore, among the nitrogen-containing heterocyclic compounds, 3-mercapto-
1,2,4-triazoles are most frequently used. 3-mercapto-1,2,4-triazoles are
JP-A-2-14641 (U.S. Pat.
No. 3) and JP-A-3-207650 (US Pat. No. 5,122,443 and European Patent Publication No. 04261).
No. 92A, each specification). The 3-mercapto-1,2,4-triazoles disclosed in U.S. Pat. Nos. 5,041,353 and 5,122,443 are listed below.

【０００９】[0009]

【化６】 Embedded image

【００１０】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、様々
な熱現像条件においても、充分な画像濃度を有し、かつ
かぶりが抑制されている画像を形成することができる感
光材料を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a light-sensitive material having a sufficient image density and capable of forming an image with suppressed fog even under various heat development conditions. That is.

【００１１】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記
（１）の感光材料により達成された。The above object has been attained by the following light-sensitive material (1).

【００１２】（１）支持体上に、ハロゲン化銀、還元剤
および重合性化合物を一緒にまたは別々に含む一または
二以上の層が設けられた感光材料であって、上記のいず
れかの層がさらに下記式（Ｉ）で表される化合物を含む
ことを特徴とする感光材料。(1) A light-sensitive material in which one or two or more layers containing a silver halide, a reducing agent and a polymerizable compound together or separately on a support are provided. Further comprises a compound represented by the following formula (I):

【００１３】[0013]

【化７】 Embedded image

【００１４】式（Ｉ）において、Ｒ¹ は炭素原子数が４
以上であるアルキル基、炭素原子数が７以上であるアラ
ルキル基、炭素原子数が６以上であるアリール基または
炭素原子数が４以上である複素環基である；Ｒ² はアル
キル基、アラルキル基、アリール基または複素環基であ
る；そして、Ｍは水素原子、銀原子またはアルカリ金属
原子である。In the formula (I), R ¹ has 4 carbon atoms.
R ² represents an alkyl group, an aralkyl group, an aralkyl group having 7 or more carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or a heterocyclic group having 4 or more carbon atoms. , An aryl group or a heterocyclic group; and M is a hydrogen atom, a silver atom or an alkali metal atom.

【００１５】本発明は、下記（２）の態様で実施しても
よい。 （２）上記のいずれかの層がさらに下記式（II）で表さ
れる化合物を含む（１）記載の感光材料。The present invention may be carried out in the following mode (2). (2) The light-sensitive material according to (1), wherein any one of the above layers further contains a compound represented by the following formula (II).

【００１６】[0016]

【化８】 Embedded image

【００１７】式（II）において、Ｒ³ およびＲ⁴ は、そ
れぞれアルキル基またはアラルキル基である；Ｘはヘテ
ロ原子を介してウラシル環の炭素原子に結合している２
価の連結基である；ｎは０または１である；そして、Ａ
はヘテロ原子を介してウラシル環またはＸの炭素原子に
結合している現像抑制剤残基である。In the formula (II), R ³ and R ⁴ are each an alkyl group or an aralkyl group; X is a heteroatom bonded to a carbon atom of the uracil ring.
And n is 0 or 1;
Is a development inhibitor residue attached to the uracil ring or to the carbon atom of X via a heteroatom.

【００１８】[0018]

【発明の効果】本発明者が３−メルカプト−１，２，４
−トリアゾール類について研究を進めたところ、式
（Ｉ）におけるＲ¹ （５位の置換基）に、炭素原子数が
４以上である比較的大きな基を導入すると、その機能が
著しく向上することが判明した。上記式（Ｉ）で表され
る化合物は、画像濃度の増加とかぶりの抑制と言う２つ
の機能を示す。このため、本発明の感光材料では得られ
る画像のディスクリミネーションが大幅に改善される。
従来の３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール類
（５位が無置換または炭素原子数３以下の小さな基によ
る置換）では、以上の２つの機能を同時に示す場合は、
ほとんどなかった。According to the present invention, 3-mercapto-1,2,4
Research on triazoles revealed that the introduction of a relatively large group having 4 or more carbon atoms into R ¹ (substituent at the 5-position) in formula (I) significantly improves the function. found. The compound represented by the above formula (I) has two functions of increasing image density and suppressing fog. Therefore, in the light-sensitive material of the present invention, the discrimination of the obtained image is greatly improved.
In conventional 3-mercapto-1,2,4-triazoles (unsubstituted at the 5-position or substituted with a small group having 3 or less carbon atoms), when the above two functions are simultaneously exhibited,
Almost never.

【００１９】また、従来の３−メルカプト−１，２，４
−トリアゾール類は、熱現像条件、特に加熱温度や加熱
時間が変動すると、充分な効果が得られない場合があっ
た。例えば、画像濃度を増加する作用が大きい化合物
を、高い現像温度または長い現像時間で用いると、かぶ
り濃度が上昇し、画像部と非画像部のディスクリミネー
ションが、かえって低下することが多かった。また、か
ぶりを抑制する作用が大きい化合物を、低い現像温度ま
たは短い現像時間で用いると、充分な画像濃度が得られ
ないことが多い。これに対して、式（Ｉ）で表される化
合物は、熱現像条件の変動に対して安定であり、様々な
熱現像条件においても、画像濃度の増加効果とかぶりの
抑制効果を得ることができる。The conventional 3-mercapto-1,2,4
The triazoles may not be able to obtain a sufficient effect when the heat development conditions, particularly the heating temperature and the heating time, fluctuate. For example, when a compound having a large effect of increasing the image density is used at a high developing temperature or a long developing time, the fog density is increased, and the discrimination between the image area and the non-image area is rather decreased. When a compound having a large effect of suppressing fog is used at a low developing temperature or a short developing time, a sufficient image density cannot be often obtained. On the other hand, the compound represented by the formula (I) is stable against fluctuations in the heat development conditions, and can obtain the effect of increasing the image density and the effect of suppressing fog under various heat development conditions. it can.

【００２０】[0020]

【発明の詳細な記述】本発明の感光材料は、いずれかの
層が下記式（Ｉ）で表される３−メルカプト−１，２，
４−トリアゾール類を含むことを特徴とする。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In the light-sensitive material of the present invention, any one of the layers is 3-mercapto-1,2,2 represented by the following formula (I).
It is characterized by containing 4-triazoles.

【００２１】[0021]

【化９】 Embedded image

【００２２】式（Ｉ）において、Ｒ¹ はアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基または複素環基である。アルキ
ル基、アラルキル基またはアリール基が好ましい。上記
アルキル基、アラルキル基、アリール基または複素環基
の炭素原子数は、本発明において４以上である。炭素原
子数は、５以上であることが好ましい。本発明では、こ
のようにＲ¹ （５位の置換基）に比較的大きな基を導入
した化合物を使用する。なお、上記炭素原子数は、４０
以下であることが好ましく、３０以下であることがさら
に好ましく、そして２０以下であることが最も好まし
い。In the formula (I), R ¹ is an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Alkyl, aralkyl or aryl groups are preferred. In the present invention, the alkyl group, the aralkyl group, the aryl group or the heterocyclic group has 4 or more carbon atoms. The number of carbon atoms is preferably 5 or more. In the present invention, a compound having a relatively large group introduced into R ¹ (substituent at the 5-position) is used. The number of carbon atoms is 40
It is preferably not more than 30, more preferably not more than 30, and most preferably not more than 20.

【００２３】上記アルキル基は、直鎖、分岐あるいは環
状のいずれの構造を有していてもよい。アルキル基の例
としては、ノルマルヘキシル、ノルマルヘプチル、ノル
マルオクチル、ノルマルノニル、ウンデシル、トリデシ
ル、ペンタデシル、ヘプタデシル、ネオペンチル、１−
エチルペンチル、tert−ブチルおよびシクロヘキシルを
挙げることができる。上記アラルキル基の例としては、
ベンジルおよびフェネチルを挙げることができる。上記
アリール基の例としては、フェニル、ナフチル、ビフェ
ニリルおよびアントリルを挙げることができる。上記複
素環基の複素環には、芳香族環、脂肪族環あるいは他の
複素環が縮合していてもよい。複素環のヘテロ原子とし
ては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましい。
複素環の例としては、ピリジン環、チオフェン環、オキ
サゾール環、チアゾール環、キノリン環、ベンゾオキサ
ゾール環およびベンゾチアゾール環を挙げることができ
る。The above alkyl group may have any of a straight-chain, branched or cyclic structure. Examples of the alkyl group include normal hexyl, normal heptyl, normal octyl, normal nonyl, undecyl, tridecyl, pentadecyl, heptadecyl, neopentyl, 1-pentyl,
Ethylpentyl, tert-butyl and cyclohexyl can be mentioned. Examples of the aralkyl group include:
Benzyl and phenethyl can be mentioned. Examples of the aryl group include phenyl, naphthyl, biphenylyl and anthryl. An aromatic ring, an aliphatic ring, or another heterocyclic ring may be condensed with the heterocyclic ring of the above heterocyclic group. As the hetero atom of the heterocyclic ring, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable.
Examples of the heterocycle include a pyridine ring, a thiophene ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a quinoline ring, a benzoxazole ring and a benzothiazole ring.

【００２４】以上の各基は置換基を有していてもよい。
なお、以上の各基の炭素原子数は、置換基を含む炭素原
子の総数を意味する。置換基の例としては、アルキル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アミノ、置換アミノ基、アミド基、カルバモイル、
Ｎ−置換カルバモイル基、ウレイド、Ｎ−置換ウレイド
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ア
ルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ
基、スルファモイル、シアノ、ニトロ、トリフルオロメ
チル、ハロゲン原子、ヒドロキシル、メルカプト、カル
ボキシルおよびスルホを挙げることができる。各基はさ
らに置換されていてもよい。カルボキシルおよびスルホ
は、塩を形成していてもよい。以上の置換基の置換位置
および置換個数について特に制限はない。Each of the above groups may have a substituent.
The number of carbon atoms in each of the above groups means the total number of carbon atoms including a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an amino, a substituted amino group, an amide group, carbamoyl,
N-substituted carbamoyl group, ureido, N-substituted ureido group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, sulfamoyl, cyano, nitro, trifluoromethyl, halogen atom, hydroxyl, mercapto, carboxyl And sulfo. Each group may be further substituted. Carboxyl and sulfo may form salts. There are no particular restrictions on the substitution positions and the number of substitutions of the above substituents.

【００２５】式（Ｉ）において、Ｒ² はアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基または複素環基である。アルキ
ル基、アラルキル基またはアリール基が好ましく、アラ
ルキル基またはアリール基がさらに好ましい。上記アル
キル基、アラルキル基、アリール基または複素環基の炭
素原子数は、２乃至４０であることが好ましく、４乃至
３０であることがさらに好ましく、６乃至２０であるこ
とが最も好ましい。In the formula (I), R ² is an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. An alkyl group, an aralkyl group or an aryl group is preferred, and an aralkyl group or an aryl group is more preferred. The alkyl group, aralkyl group, aryl group or heterocyclic group preferably has 2 to 40 carbon atoms, more preferably 4 to 30 carbon atoms, and most preferably 6 to 20 carbon atoms.

【００２６】上記アルキル基は、直鎖、分岐あるいは環
状のいずれの構造を有していてもよい。アルキル基の例
としては、エチル、プロピル、イソプロピル、ノルマル
ヘプチル、イソブチル、tert−ブチルおよびシクロヘキ
シルを挙げることができる。上記アラルキル基の例とし
ては、ベンジルおよびフェネチルを挙げることができ
る。上記アリール基の例としては、フェニル、ナフチ
ル、ビフェニリルおよびアントリルを挙げることができ
る。上記複素環基の複素環には、芳香族環、脂肪族環あ
るいは他の複素環が縮合していてもよい。複素環のヘテ
ロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が
好ましい。複素環の例としては、ピリジン環、チオフェ
ン環、オキサゾール環、チアゾール環、キノリン環、ベ
ンゾオキサゾール環およびベンゾチアゾール環を挙げる
ことができる。Ｒ² の置換基の例は、前述したＲ¹ の置
換基の例と同様である。The above alkyl group may have any of a straight-chain, branched or cyclic structure. Examples of alkyl groups include ethyl, propyl, isopropyl, normal heptyl, isobutyl, tert-butyl and cyclohexyl. Examples of the aralkyl group include benzyl and phenethyl. Examples of the aryl group include phenyl, naphthyl, biphenylyl and anthryl. An aromatic ring, an aliphatic ring, or another heterocyclic ring may be condensed with the heterocyclic ring of the above heterocyclic group. As the hetero atom of the heterocyclic ring, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable. Examples of the heterocycle include a pyridine ring, a thiophene ring, an oxazole ring, a thiazole ring, a quinoline ring, a benzoxazole ring and a benzothiazole ring. Examples of the substituent of R ² are the same as the examples of the substituent of R ¹ described above.

【００２７】式（Ｉ）において、Ｍは水素原子、銀原子
またはアルカリ金属原子である。水素原子または銀原子
が特に好ましい。In the formula (I), M is a hydrogen atom, a silver atom or an alkali metal atom. A hydrogen atom or a silver atom is particularly preferred.

【００２８】なお、複素環化合物は通常、互変異性を有
している。式（Ｉ）で表される３−メルカプト−１，
２，４−トリアゾール類（Ｍが水素原子の場合）は、以
下のようにエノール型とケト型がある。本明細書では、
エノール型について定義および例を示した。もちろん、
ケト型も本発明の範囲に含まれる。The heterocyclic compound usually has tautomerism. 3-mercapto-1, represented by the formula (I),
2,4-Triazoles (when M is a hydrogen atom) include an enol type and a keto type as described below. In this specification,
Definitions and examples are given for the enol type. of course,
Keto forms are also included in the scope of the present invention.

【００２９】[0029]

【化１０】 Embedded image

【００３０】式（Ｉ）で表される化合物の例を以下に示
す。Examples of the compound represented by the formula (I) are shown below.

【００３１】[0031]

【化１１】 Embedded image

【００３２】[0032]

【化１２】 Embedded image

【００３３】[0033]

【化１３】 Embedded image

【００３４】[0034]

【化１４】 Embedded image

【００３５】[0035]

【化１５】 Embedded image

【００３６】[0036]

【化１６】 Embedded image

【００３７】[0037]

【化１７】 Embedded image

【００３８】[0038]

【化１８】 Embedded image

【００３９】[0039]

【化１９】 Embedded image

【００４０】[0040]

【化２０】 Embedded image

【００４１】[0041]

【化２１】 Embedded image

【００４２】[0042]

【化２２】 Embedded image

【００４３】[0043]

【化２３】 Embedded image

【００４４】[0044]

【化２４】 Embedded image

【００４５】[0045]

【化２５】 Embedded image

【００４６】[0046]

【化２６】 Embedded image

【００４７】[0047]

【化２７】 Embedded image

【００４８】[0048]

【化２８】 Embedded image

【００４９】[0049]

【化２９】 Embedded image

【００５０】[0050]

【化３０】 Embedded image

【００５１】[0051]

【化３１】 Embedded image

【００５２】[0052]

【化３２】 Embedded image

【００５３】[0053]

【化３３】 Embedded image

【００５４】[0054]

【化３４】 Embedded image

【００５５】[0055]

【化３５】 Embedded image

【００５６】式（Ｉ）で表される化合物は、以下に示す
経路で合成することができる。The compound represented by the formula (I) can be synthesized by the following route.

【００５７】[0057]

【化３６】 Embedded image

【００５８】すなわち、イソチオシアネート（１）とヒ
ドラジド（２）との反応によって、化合物（３）を合成
する。また、化合物（３）は、塩基の存在下においてチ
オセミカルバジド（４）とハロゲン化（例、塩化）アシ
ル（５）との反応によっても合成することができる。化
合物（３）を脱水反応により閉環して、式（Ｉ）で表さ
れる化合物（６）が合成できる。以下に合成例を示す。
合成例１では、イソチオシアネート（１）およびヒドラ
ジド（２）を出発物質とする。合成例２では、チオセミ
カルバジド（４）およびハロゲン化アシル（５）を出発
物質とする。式（Ｉ）で表される他の化合物も、合成例
１または２と同様な方法で合成することができる。That is, the compound (3) is synthesized by reacting the isothiocyanate (1) with the hydrazide (2). Compound (3) can also be synthesized by reacting thiosemicarbazide (4) with an acyl halide (eg, chloride) (5) in the presence of a base. The compound (3) is closed by a dehydration reaction to synthesize the compound (6) represented by the formula (I). The following shows a synthesis example.
In Synthesis Example 1, isothiocyanate (1) and hydrazide (2) are used as starting materials. In Synthesis Example 2, thiosemicarbazide (4) and acyl halide (5) are used as starting materials. Other compounds represented by the formula (I) can be synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 or 2.

【００５９】［合成例１］ 化合物（Ｉ−１７）の合成 ベンゾイルヒドラジン６．８ｇ（０．０５モル）をアセ
トニトリル１００ｍｌ中に分散した。この溶液にイソチ
オシアン酸ベンジルエステル７．４５ｇ（０．０５モ
ル）を室温下で滴下した。滴下終了後、ベンゾイルヒド
ラジンが完全に溶解し、しばらくして白色結晶が析出し
た。室温で６時間攪拌した後、結晶を濾取し、少量のア
セトニトリルで洗浄し、乾燥した。次に、得られた結晶
を１０％水酸化ナトリウム水溶液３５ミリリットル中に
溶解し、１００℃で１時間加熱、攪拌した。次いで、室
温まで冷却した後、反応生成物を０．６リットルの氷水
中に注ぎ、希塩酸で中和した。析出した白色結晶を、濾
取、水洗した後、乾燥し、粗結晶を得た。粗結晶をエタ
ノールから再結晶し、白色針状晶を得た。収量は８．８
ｇ、収率は６６％、融点は１９２〜１９４℃であった。
この化合物の質量分析スペクトルは＋２６７に分子イオ
ンピークを示した。図１にこの化合物の赤外吸収スペク
トルを示す。Synthesis Example 1 Synthesis of Compound (I-17) 6.8 g (0.05 mol) of benzoylhydrazine was dispersed in 100 ml of acetonitrile. To this solution, 7.45 g (0.05 mol) of benzyl isothiocyanate was added dropwise at room temperature. After completion of the dropwise addition, benzoylhydrazine was completely dissolved, and after a while, white crystals were precipitated. After stirring at room temperature for 6 hours, the crystals were collected by filtration, washed with a small amount of acetonitrile, and dried. Next, the obtained crystals were dissolved in 35 ml of a 10% aqueous sodium hydroxide solution, and heated and stirred at 100 ° C. for 1 hour. Then, after cooling to room temperature, the reaction product was poured into 0.6 liter of ice water and neutralized with dilute hydrochloric acid. The precipitated white crystals were collected by filtration, washed with water, and then dried to obtain crude crystals. The crude crystals were recrystallized from ethanol to obtain white needles. Yield 8.8
g, yield 66%, melting point 192-194 ° C.
The mass spectrum of this compound showed a molecular ion peak at +267. FIG. 1 shows the infrared absorption spectrum of this compound.

【００６０】 元素分析値（Ｃ₁₅Ｈ₁₃Ｎ₃ Ｓ） 計算値：Ｃ ６７．３９％ 実測値：Ｃ ６７．５３％ Ｈ ４．９０％ Ｈ ５．０２％ Ｎ １５．７２％ Ｎ １５．６９％ Ｓ １１．９９％ Ｓ １１．７６％Elemental analysis (C ₁₅ H ₁₃ N ₃ S) Calculated: C 67.39% Found: C 67.53% H 4.90% H 5.02% N 15.72% N 15.69 % S 11.99% S 11.76%

【００６１】［合成例２］ 化合物（Ｉ−３４）の合成 ４−フェニル−３−チオセミカルバジド８．３６ｇ
（０．０５モル）をテトラヒドロフラン１００ｍｌ中に
溶解し、この溶液にペラルゴン酸クロリド８．８３ｇ
（０．０５モル）を氷冷下、滴下した。滴下終了後、室
温で６時間攪拌した。その後、反応混合物を１リットル
の氷水中に注ぎ、析出した結晶を濾取し、水洗し、乾燥
した。次に、得られた結晶を１０％水酸化ナトリウム水
溶液３０ミリリットル中に溶解し、１００℃で１時間加
熱、攪拌した。次いで、室温まで冷却した後、反応生成
物を０．６リットルの氷水中に注ぎ、希塩酸で中和し
た。析出した白色結晶を、濾取、水洗した後、乾燥し、
粗結晶を得た。粗結晶をエタノール−水混合液から再結
晶し、白色針状晶を得た。収量は８．９ｇ、収率は６２
％、融点は１０１〜１０３℃であった。この化合物の質
量分析スペクトルは＋２８９に分子イオンピークを示し
た。図２にこの化合物の赤外吸収スペクトルを示す。Synthesis Example 2 Synthesis of Compound (I-34) 8.36 g of 4-phenyl-3-thiosemicarbazide
(0.05 mol) was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran, and 8.83 g of pelargonic acid chloride was added to this solution.
(0.05 mol) was added dropwise under ice cooling. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. Thereafter, the reaction mixture was poured into 1 liter of ice water, and the precipitated crystals were collected by filtration, washed with water, and dried. Next, the obtained crystals were dissolved in 30 ml of a 10% aqueous sodium hydroxide solution, and heated and stirred at 100 ° C. for 1 hour. Then, after cooling to room temperature, the reaction product was poured into 0.6 liter of ice water and neutralized with dilute hydrochloric acid. The precipitated white crystals were collected by filtration, washed with water, and then dried,
Crude crystals were obtained. The crude crystals were recrystallized from a mixed solution of ethanol and water to obtain white needles. The yield is 8.9 g and the yield is 62.
%, Melting point 101-103 ° C. The mass spectrometry spectrum of this compound showed a molecular ion peak at +289. FIG. 2 shows the infrared absorption spectrum of this compound.

【００６２】 元素分析値（Ｃ₁₆Ｈ₂₃Ｎ₃ Ｓ） 計算値：Ｃ ６６．３９％ 実測値：Ｃ ６６．５２％ Ｈ ８．０１％ Ｈ ７．８３％ Ｎ １４．５２％ Ｎ １４．４５％ Ｓ １１．０８％ Ｓ １１．２０％Elemental analysis value (C ₁₆ H ₂₃ N ₃ S) Calculated value: C 66.39% Actual value: C 66.52% H 8.01% H 7.83% N 14.52% N 14.45 % S 11.08% S 11.20%

【００６３】式（Ｉ）で表される化合物は、感光材料の
いずれの層に添加してもよい。ハロゲン化銀または重合
性化合物を含む層に添加することが好ましく、ハロゲン
化銀を含む層に添加することが特に好ましい。式（Ｉ）
で表される化合物を２以上併用してもよい。式（Ｉ）で
表される化合物の使用量は、感光材料に含まれる全銀量
に対して、１０^-6乃至１モル％の範囲であることが好ま
しい。The compound represented by the formula (I) may be added to any layer of the light-sensitive material. It is preferably added to a layer containing silver halide or a polymerizable compound, particularly preferably to a layer containing silver halide. Formula (I)
May be used in combination of two or more. The amount of the compound represented by the formula (I) is preferably in the range of 10 ^{-6 to} 1 mol% based on the total amount of silver contained in the light-sensitive material.

【００６４】本発明の感光材料は、上記式（Ｉ）で表さ
れる化合物に加えて、いずれかの層が下記式（II）で表
される化合物を含むことが好ましい。In the light-sensitive material of the present invention, it is preferable that any one of the layers contains a compound represented by the following formula (II) in addition to the compound represented by the above formula (I).

【００６５】[0065]

【化３７】 Embedded image

【００６６】式（II）において、Ｒ³ およびＲ⁴ は、そ
れぞれアルキル基またはアラルキル基である。アルキル
基が特に好ましい。In the formula (II), R ³ and R ⁴ are an alkyl group or an aralkyl group, respectively. Alkyl groups are particularly preferred.

【００６７】上記アルキル基は、直鎖、分岐あるいは環
状のいずれの構造を有していてもよい。アルキル基の炭
素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至
１２であることがさらに好ましく、１乃至６であること
が最も好ましい。アルキル基の例としては、メチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシルおよびシクロヘキシルを挙げる
ことができる。上記アラルキル基の炭素原子数は、７乃
至３０であることが好ましく、７乃至２０であることが
さらに好ましく、７乃至１２であることが最も好まし
い。アラルキル基の例としては、ベンジルおよびフェネ
チルを挙げることができる。The above alkyl group may have any of a straight-chain, branched or cyclic structure. The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 12, and most preferably 1 to 6. Examples of alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl and cyclohexyl. The aralkyl group preferably has 7 to 30 carbon atoms, more preferably 7 to 20 carbon atoms, and most preferably 7 to 12 carbon atoms. Examples of aralkyl groups include benzyl and phenethyl.

【００６８】以上の各基は置換基を有していてもよい。
置換基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アミノ、置換アミノ
基、アミド基、カルバモイル、Ｎ−置換カルバモイル
基、ウレイド、Ｎ−置換ウレイド基、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基、アルキルスルホニルアミ
ノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルファモイル、
シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、ハロゲン原子、
ヒドロキシル、メルカプト、カルボキシルおよびスルホ
を挙げることができる。各基はさらに置換されていても
よい。カルボキシルおよびスルホは、塩を形成していて
もよい。Each of the above groups may have a substituent.
Examples of the substituent include alkyl, alkoxy, aryloxy, alkylthio, arylthio, acyl, alkoxycarbonyl, amino, substituted amino, amide, carbamoyl, N-substituted carbamoyl, ureido, N A substituted ureido group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, an alkylsulfonylamino group, an arylsulfonylamino group, a sulfamoyl,
Cyano, nitro, trifluoromethyl, halogen atom,
Hydroxyl, mercapto, carboxyl and sulfo can be mentioned. Each group may be further substituted. Carboxyl and sulfo may form salts.

【００６９】式（II）において、Ｘはヘテロ原子を介し
てウラシル環の炭素原子に結合している２価の連結基で
ある。式（II）において、ｎは０または１である。ｎは
０、すなわちＸが存在しない方が好ましい。式（II）に
おいて、Ａはヘテロ原子を介してウラシル環またはＸの
炭素原子に結合している現像抑制剤残基である。以上の
ＸおよびＡについては、通常の銀塩写真においてＤＩＲ
（現像抑制剤放出）カプラーまたはＤＩＲ化合物として
良く知られている添加剤と同様である。従って、Ｘおよ
びＡについては、ＤＩＲカプラーまたはＤＩＲ化合物に
関する通常の銀塩写真の文献に詳細な記載がある。In the formula (II), X is a divalent linking group bonded to a carbon atom of the uracil ring via a hetero atom. In the formula (II), n is 0 or 1. n is preferably 0, that is, X is not present. In the formula (II), A is a development inhibitor residue bonded to the uracil ring or the carbon atom of X via a heteroatom. Regarding X and A described above, DIR in ordinary silver halide photography
(Development inhibitor release) Same as additives well known as couplers or DIR compounds. Accordingly, X and A are described in detail in the usual silver salt photographic literature concerning DIR couplers or DIR compounds.

【００７０】式（II）で表される化合物の例を以下に示
す。Examples of the compound represented by the formula (II) are shown below.

【００７１】[0071]

【化３８】 Embedded image

【００７２】[0072]

【化３９】 Embedded image

【００７３】[0073]

【化４０】 Embedded image

【００７４】[0074]

【化４１】 Embedded image

【００７５】[0075]

【化４２】 Embedded image

【００７６】[0076]

【化４３】 Embedded image

【００７７】[0077]

【化４４】 Embedded image

【００７８】[0078]

【化４５】 Embedded image

【００７９】[0079]

【化４６】 Embedded image

【００８０】[0080]

【化４７】 Embedded image

【００８１】[0081]

【化４８】 Embedded image

【００８２】式（II）で表される化合物は、感光材料の
いずれの層に添加してもよい。ハロゲン化銀または重合
性化合物を含む層に添加することが好ましい。式（II）
で表される化合物を２以上併用してもよい。式（II）で
表される化合物の使用量は、感光材料に含まれる全銀量
に対して、１０^-6乃至１モル％の範囲であることが好ま
しい。なお、式（II）で表される化合物の使用量は、前
述した式（Ｉ）で表される化合物の使用量よりもモル数
で多いことが好ましく、モル数で４倍以上多く使用する
ことが特に好ましい。The compound represented by the formula (II) may be added to any layer of the light-sensitive material. It is preferably added to a layer containing silver halide or a polymerizable compound. Formula (II)
May be used in combination of two or more. The amount of the compound represented by the formula (II) is preferably in the range of 10 ^{-6 to} 1 mol% based on the total amount of silver contained in the light-sensitive material. The amount of the compound represented by the formula (II) is preferably larger in moles than the amount of the compound represented by the formula (I), and is preferably used at least four times in moles. Is particularly preferred.

【００８３】［感光材料の層構成］本発明の感光材料の
層構成は、用途に応じて決定することができる。例えば
感光材料を印刷版やカラープルーフの作成に使用する場
合は、ハロゲン化銀、還元剤および重合性化合物（重合
性モノマーまたは架橋性ポリマー）を含む感光性重合性
層は、ハロゲン化銀を含む感光性層と重合性化合物を含
む重合性層との２層から構成されることが好ましい。さ
らに感光材料を、感光性層、重合性層および他の機能層
からなる３層以上の構成としてもよい。他の機能層に
は、画像形成促進層、粘着性層および剥離層が含まれ
る。また、カラーハードコピー等の用途の場合は、ハロ
ゲン化銀、還元剤および重合性化合物をマイクロカプセ
ルに収容し、この感光性マイクロカプセルを単一の感光
性重合性層中に分散する態様を採用することが好まし
い。[Layer Structure of Light-Sensitive Material] The layer structure of the light-sensitive material of the present invention can be determined according to the application. For example, when a photosensitive material is used for making a printing plate or a color proof, the photosensitive polymerizable layer containing silver halide, a reducing agent and a polymerizable compound (polymerizable monomer or crosslinkable polymer) contains silver halide. It is preferable to be composed of two layers of a photosensitive layer and a polymerizable layer containing a polymerizable compound. Further, the photosensitive material may have a constitution of three or more layers composed of a photosensitive layer, a polymerizable layer and another functional layer. Other functional layers include an image formation promoting layer, an adhesive layer, and a release layer. For applications such as color hard copy, a mode is adopted in which silver halide, a reducing agent, and a polymerizable compound are contained in microcapsules, and the photosensitive microcapsules are dispersed in a single photosensitive polymerizable layer. Is preferred.

【００８４】［感光性層］感光性層はハロゲン化銀を含
み、画像露光および熱現像によってラジカルを発生させ
る。発生したラジカルは拡散して重合性層へ侵入し、重
合性層を硬化させる。感光性層の厚さは、０．１乃至２
０μｍであることが好ましく、０．５乃至１０μｍであ
ることがさらに好ましい。[Photosensitive Layer] The photosensitive layer contains silver halide and generates radicals by image exposure and thermal development. The generated radicals diffuse and enter the polymerizable layer, and cure the polymerizable layer. The thickness of the photosensitive layer is 0.1 to 2
The thickness is preferably 0 μm, more preferably 0.5 to 10 μm.

【００８５】［重合性層］重合性層は重合性モノマーま
たは架橋性ポリマーを重合性化合物として含む。重合性
層は、重合性化合物の重合または架橋により硬化する。
重合性層の厚さは、０．１乃至２０μｍであることが好
ましく、０．３乃至７μｍであることがさらに好まし
い。[Polymerizable layer] The polymerizable layer contains a polymerizable monomer or a crosslinkable polymer as a polymerizable compound. The polymerizable layer is cured by polymerization or crosslinking of the polymerizable compound.
The thickness of the polymerizable layer is preferably from 0.1 to 20 μm, more preferably from 0.3 to 7 μm.

【００８６】［オーバーコート層または画像形成促進
層］オーバーコート層は、感光材料を保護するととも
に、空気中の酸素の侵入を防いで重合性層の硬化度を高
める機能を有する。また、画像形成促進層は、オーバー
コート層が画像形成を促進する成分（例、塩基または塩
基プレカーサー、還元剤、熱現像促進剤）を含んだもの
であり、画像形成を促進する機能を有すると同時に、上
記オーバーコート層としての保護機能も有する。これら
の層は、マット剤を含むことができる。マット剤は、感
光材料表面の粘着性を低下させ、感光材料を重ねた時の
接着を防止する。これらの層の厚さは、０．３乃至２０
μｍであることが好ましく、０．５乃至１０μｍである
ことがさらに好ましい。オーバーコート層および画像形
成促進層は、一般に親水性ポリマーを用いて形成する。
ただし、疎水性ポリマーを用いることもできる。例え
ば、疎水性ポリマーを溶剤に溶かし、塗布により形成す
ることができる。また、ポリマーのラテックスの塗布に
より形成することも可能である。エッチング処理を行う
場合は、疎水性ポリマーを用いると、熱現像後、エッチ
ングに先立って、これらの層を剥離により除去する必要
がある。[Overcoat layer or image formation accelerating layer] The overcoat layer has a function of protecting the photosensitive material and of preventing the intrusion of oxygen in the air to increase the degree of curing of the polymerizable layer. The image formation accelerating layer is a layer in which the overcoat layer contains components (eg, a base or a base precursor, a reducing agent, a thermal development accelerator) that promote image formation, and has a function of promoting image formation. At the same time, it also has a protective function as the overcoat layer. These layers can include a matting agent. The matting agent reduces the tackiness of the photosensitive material surface and prevents adhesion when the photosensitive materials are stacked. The thickness of these layers is between 0.3 and 20
μm, more preferably 0.5 to 10 μm. The overcoat layer and the image formation accelerating layer are generally formed using a hydrophilic polymer.
However, a hydrophobic polymer can also be used. For example, it can be formed by dissolving a hydrophobic polymer in a solvent and coating. It can also be formed by applying a polymer latex. In the case of performing an etching treatment, if a hydrophobic polymer is used, these layers must be removed by peeling after thermal development and prior to etching.

【００８７】［粘着性層］トナーを用いて画像を形成す
る場合、粘着性層を感光材料に設けることができる。粘
着性層は、トナーが付着できる粘着性を有するポリマー
で構成する。上記ポリマーとしては、天然または合成ゴ
ムが好ましい。合成ゴムの例としては、イソブチレンゴ
ム、ニトリルゴム、ブチルゴム、塩素化ゴム、ポリビニ
ルイソブチルエーテル、シリコンエラストマー、ネオプ
レンおよび共重合ゴム（例、スチレン−ブタジエンコポ
リマー、スチレン−イソブチレンコポリマー）を挙げる
ことができる。合成ゴムがコポリマーの場合、共重合方
法はランダム、ブロックおよびグラフト共重合のいずれ
でもよい。粘着性層の厚さは、０．０１乃至１０μｍで
あることが好ましく、０．０５乃至５μｍであることが
さらに好ましい。[Adhesive Layer] When an image is formed using a toner, an adhesive layer can be provided on the photosensitive material. The adhesive layer is composed of an adhesive polymer to which the toner can adhere. The polymer is preferably a natural or synthetic rubber. Examples of the synthetic rubber include isobutylene rubber, nitrile rubber, butyl rubber, chlorinated rubber, polyvinyl isobutyl ether, silicone elastomer, neoprene, and copolymer rubber (eg, styrene-butadiene copolymer, styrene-isobutylene copolymer). When the synthetic rubber is a copolymer, the copolymerization method may be any of random, block and graft copolymerization. The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.05 to 5 μm.

【００８８】［剥離層］転写により画像を形成する場
合、剥離層を感光材料に設けることができる。剥離層
は、支持体との剥離が容易で室温では非粘着性である
が、加熱により粘着性または融着性を示す。剥離層は、
有機ポリマー（例、ポリビニルアセタール樹脂、アミド
樹脂）をマトリックスとして含む。マトリックスとして
使用するポリマーのフロー軟化点は、還元剤の還元反応
に要する加熱温度以上であることが好ましい。剥離層
は、さらにフッ素含有化合物を１重量％以上含むことが
好ましい。フッ素含有化合物としては、フッ素含有界面
活性剤を好ましく用いることができる。剥離層の膜厚
は、１．０μｍ以上であることが好ましく、１．４μｍ
以上であることがさらに好ましい。[Release Layer] When an image is formed by transfer, a release layer can be provided on the photosensitive material. The release layer is easily peeled off from the support and is non-adhesive at room temperature, but shows adhesiveness or fusing property when heated. The release layer is
An organic polymer (eg, polyvinyl acetal resin, amide resin) is included as a matrix. The flow softening point of the polymer used as the matrix is preferably not lower than the heating temperature required for the reduction reaction of the reducing agent. The release layer preferably further contains 1% by weight or more of a fluorine-containing compound. As the fluorine-containing compound, a fluorine-containing surfactant can be preferably used. The thickness of the release layer is preferably 1.0 μm or more, preferably 1.4 μm.
More preferably, it is the above.

【００８９】［中間層］各層の間に、中間層を設けるこ
とができる。中間層は、ハレーション防止層あるいはバ
リアー層として機能させることもできる。バリアー層
は、感光材料の保存時に、成分が層間を移動して、拡散
したり混合したりするのを防止する機能を有する。中間
層の材料は用途に応じて決定する。感光性層やオーバー
コート層に用いる親水性ポリマーを使用してもよい。中
間層の厚さは、１０μｍ以下であることが好ましい。[Intermediate layer] An intermediate layer can be provided between the respective layers. The intermediate layer can also function as an antihalation layer or a barrier layer. The barrier layer has a function of preventing components from migrating between layers and diffusing or mixing during storage of the photosensitive material. The material of the intermediate layer is determined according to the application. You may use the hydrophilic polymer used for a photosensitive layer and an overcoat layer. The thickness of the intermediate layer is preferably 10 μm or less.

【００９０】［支持体］支持体の材料としては、紙、合
成紙、合成樹脂（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレン）をラミネートした紙、プラスチックフィ
ルム（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
ート、ポリイミド、ナイロン、セルローストリアセテー
ト）、金属板（例、アルミニウム、アルミニウム合金、
亜鉛、鉄、銅）、これらの金属がラミネートあるいは蒸
着された紙やプラスチックフイルムを用いることができ
る。感光材料を平版印刷版の製造に用いる場合、好まし
い支持体の材料は、アルミニウム板、ポリエチレンテレ
フタレートフイルム、ポリカーボネートフイルム、紙お
よび合成紙である。また、ポリエチレンテレフタレート
フイルム上にアルミニウムシートがラミネートされた複
合シートも好ましい。[Support] As the material of the support, paper, synthetic paper, synthetic resin (eg, polyethylene, polypropylene,
(Polystyrene) laminated paper, plastic film (eg, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate), metal plate (eg, aluminum, aluminum alloy,
Zinc, iron, copper), and paper or plastic film on which these metals are laminated or deposited can be used. When the light-sensitive material is used for producing a lithographic printing plate, preferable materials for the support are an aluminum plate, a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, paper and synthetic paper. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is laminated on a polyethylene terephthalate film is also preferable.

【００９１】アルミニウム板を支持体に用いる場合につ
いて、以下で説明する。アルミニウム支持体は、必要に
応じて表面粗面化処理（砂目たて処理）あるいは表面親
水化処理などの表面処理が施される。表面粗面化処理
は、電気化学的砂目たて法（例えば、アルミニウム板を
塩酸または硝酸電解液中で電流を流して砂目たてをする
方法）および／または機械的砂目たて法（例えば、アル
ミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシ
グレイン法、研磨球と研磨剤とでアルミニウム表面を砂
目たてするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤
とで表面を砂目たてするブラシグレイン法）によって実
施される。The case where an aluminum plate is used for the support will be described below. The aluminum support is subjected to a surface treatment such as a surface roughening treatment (graining treatment) or a surface hydrophilic treatment as necessary. The surface roughening treatment may be performed by an electrochemical sanding method (for example, a method of sanding an aluminum plate by passing an electric current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte) and / or a mechanical sanding method. (For example, a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, a ball grain method in which the aluminum surface is sanded with a polishing ball and an abrasive, a brush grain in which the surface is sanded with a nylon brush and an abrasive) Method).

【００９２】次に、砂目たて処理を施されたアルミニウ
ム板は、酸またはアルカリによって化学的にエッチング
される。工業的に有利な方法は、アルカリを用いるエッ
チングである。アルカリ剤の例としては、炭酸ナトリウ
ム、アルミン酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、リン
酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよ
び水酸化リチウムが挙げられる。アルカリ溶液の濃度は
１乃至５０重量％の範囲が好ましい。アルカリ処理の温
度は、２０乃至１００℃の範囲が好ましい。さらに、ア
ルミニウムの溶解量が５乃至２０ｇ／ｍ² となるよう
に、処理条件を調整することが好ましい。通常、アルカ
リエッチングの後、アルミニウム板は、表面に残る汚れ
（スマット）を除去するために酸によって洗浄される。
好ましい酸は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸
およびホウフッ酸である。電気化学的粗面化処理後のス
マット除去処理は、５０乃至９０℃で１５乃至６５重量
％の濃度の硫酸と接触させる方法等の公知の方法によっ
て実施することができる。Next, the aluminum plate subjected to the sanding treatment is chemically etched with an acid or an alkali. An industrially advantageous method is etching using an alkali. Examples of the alkaline agent include sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. The concentration of the alkaline solution is preferably in the range of 1 to 50% by weight. The temperature of the alkali treatment is preferably in the range of 20 to 100 ° C. Further, it is preferable to adjust the processing conditions so that the amount of aluminum dissolved is 5 to 20 g / m ² . Usually, after the alkali etching, the aluminum plate is washed with an acid to remove dirt (smut) remaining on the surface.
Preferred acids are nitric, sulfuric, phosphoric, chromic, hydrofluoric and borofluoric acids. The smut removal treatment after the electrochemical graining treatment can be carried out by a known method such as a method of contacting with sulfuric acid having a concentration of 15 to 65% by weight at 50 to 90 ° C.

【００９３】以上のように表面粗面化処理されたアルミ
ニウム板には、必要に応じて、陽極酸化処理あるいは化
成処理を施すことができる。陽極酸化処理は公知の方法
によって行うことができる。具体的には、酸溶液中で、
アルミニウム板に直流または交流電流を流すことによ
り、アルミニウム表面に陽極酸化皮膜を形成する。酸の
例としては、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スル
ファミン酸およびベンゼンスルボンホン酸を挙げること
ができる。陽極酸化の条件は、使用される電解液によっ
て変化する。一般的には、電解液の濃度が１乃至８０重
量％、電解液の温度が５乃至７０℃、電流密度が０．５
乃至６０アンペア／ｄｍ² 、電圧が１乃至１００ｖ、そ
して電解時間が１０乃至１００秒の範囲であることが好
ましい。特に好ましい陽極酸化法は、硫酸中で高電流密
度で陽極酸化する方法およびリン酸を電解浴として陽極
酸化する方法である。The aluminum plate subjected to the surface roughening treatment as described above can be subjected to an anodic oxidation treatment or a chemical conversion treatment, if necessary. The anodic oxidation treatment can be performed by a known method. Specifically, in an acid solution,
An anodic oxide film is formed on the aluminum surface by passing a direct current or an alternating current through the aluminum plate. Examples of acids include sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulphamic acid and benzenesulphonic acid. Anodizing conditions vary depending on the electrolyte used. Generally, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the temperature of the electrolyte is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5%.
To 60 amps / dm ^2, a voltage of ^from 1 to 100v, and electrolysis time is preferably in the range of 10 to 100 seconds. Particularly preferred anodic oxidation methods are a method of performing anodization at a high current density in sulfuric acid and a method of performing anodization using phosphoric acid as an electrolytic bath.

【００９４】陽極酸化処理後、アルミニウム板にアルカ
リ金属シリケート処理（例えば、アルミニウム板をケイ
酸ナトリウム水溶液に浸漬する処理）を実施してもよ
い。また、アルミニウム支持体と重合性層の接着や印刷
特性を改良するために、支持体表面に下塗り層を設けて
もよい。After the anodizing treatment, the aluminum plate may be subjected to an alkali metal silicate treatment (for example, a treatment in which the aluminum plate is immersed in an aqueous solution of sodium silicate). Further, in order to improve the adhesion between the aluminum support and the polymerizable layer and the printing characteristics, an undercoat layer may be provided on the surface of the support.

【００９５】［下塗り層］下塗り層を構成する成分とし
ては、ポリマー（例、カゼイン、ポリビニルアルコー
ル、エチルセルロース、フェノール樹脂、スチレン−無
水マレイン酸樹脂、ポリアクリル酸）；アミン（例、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、トリプロパノールアミン）およびそれらの
塩酸塩；モノアミノモノカルボン酸（例、シュウ酸塩、
リン酸塩、アミノ酢酸、アラニン）；オキシアミノ酸
（例、セリン、スレオニン、ジヒドロキシエチルグリシ
ン）；含硫アミノ酸（例、システイン、シスチン）；モ
ノアミノジカルボン酸（例、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸）；ジアミノモノカルボン酸（例、リシン）；芳香
族核を持つアミノ酸（例、ｐ−ヒドロキシフェニルグリ
シン、フェニルアラニン、アントラニル）；脂肪族アミ
ノスルホン酸（例、スルファミン酸、シクロヘキシルス
ルファミン酸）；および（ポリ）アミノポリ酢酸（例、
エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、イミノ二酢
酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、ヒドロキシエチル
エチレンジアミン酢酸、エチレンジアミン二酢酸、シク
ロエチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢
酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸）を挙げること
ができる。以上の化合物の酸基の一部または全部が、塩
（例、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩）と
なったものも用いることができる。以上の成分は、２種
以上組み合わせて用いることもできる。[Undercoat layer] As components constituting the undercoat layer, polymers (eg, casein, polyvinyl alcohol, ethyl cellulose, phenolic resin, styrene-maleic anhydride resin, polyacrylic acid); amines (eg, monoethanolamine, Diethanolamine, triethanolamine, tripropanolamine) and their hydrochlorides; monoaminomonocarboxylic acids (eg, oxalates,
Phosphate, aminoacetic acid, alanine); oxyamino acids (eg, serine, threonine, dihydroxyethylglycine); sulfur-containing amino acids (eg, cysteine, cystine); monoaminodicarboxylic acids (eg, aspartic acid, glutamic acid); diaminomono Carboxylic acids (eg, lysine); amino acids having an aromatic nucleus (eg, p-hydroxyphenylglycine, phenylalanine, anthranil); aliphatic aminosulfonic acids (eg, sulfamic acid, cyclohexylsulfamic acid); and (poly) aminopolyacetic acid (E.g.,
Ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, iminodiacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, hydroxyethylethylenediamineacetic acid, ethylenediaminediacetic acid, cycloethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, glycol etherdiaminetetraacetic acid). A compound in which some or all of the acid groups of the above compounds have become salts (eg, sodium salt, potassium salt, ammonium salt) can also be used. The above components can be used in combination of two or more.

【００９６】［マイクロカプセル］後述する感光材料の
各成分をマイクロカプセルに収容してもよい。マイクロ
カプセルの製造方法については、様々な公知技術を適用
することができる。例えば、コアセルベーション法（米
国特許２８００４５７号および同２８００４５８号各明
細書記載）、界面重合法（米国特許３２８７１５４号、
英国特許９９０４４３号各明細書、特公昭３８−１９５
７４号、同４２−４４６号および４２−７７１号各公報
記載）、ポリマー析出法（米国特許３４１８２５０号お
よび同３６６０３０４号各明細書記載）、モノマーの重
合によるin situ 法（特公昭３６−９１６８号および特
開昭５１−９０７９号各公報記載）、重合分散冷却法
（英国特許９２７８０７号および同９６５０７４号各明
細書記載）およびスプレードライング法（米国特許３１
１１４０７号および英国特許９３０４２２号各明細書記
載）のいずれも採用できる。マイクロカプセルの壁材に
ついても特に制限はない。例えば、イソシアネート−ポ
リオール（米国特許３７９６６６９号明細書記載）、イ
ソシアネート（米国特許３９１４５１１号明細書記
載）、尿素−ホルムアルデヒドまたは尿素−ホルムアル
デヒド−レゾルシノール（米国特許４００１１４０号、
同４０８７３７６号および同４０８９８０２号各明細書
記載）およびメラミン−ホルムアルデヒドまたはヒドロ
キシプロピルセルロース（米国特許４０２５４５５号明
細書記載）のいずれも用いることができる。なお、マイ
クロカプセルの壁材中にハロゲン化銀を収容することが
好ましい。[Microcapsule] Each component of the photosensitive material described later may be contained in a microcapsule. Various known techniques can be applied to the method for producing microcapsules. For example, a coacervation method (described in US Pat. Nos. 2,800,457 and 2,800,458), an interfacial polymerization method (US Pat. No. 3,287,154,
British Patent No. 990443 each specification, JP-B-38-195
Nos. 74, 42-446 and 42-771, a polymer precipitation method (described in U.S. Pat. Nos. 3,418,250 and 3,660,304), and an in situ method by polymerization of monomers (Japanese Patent Publication No. 36-9168). And JP-A-51-9079), a polymerization dispersion cooling method (described in British Patent Nos. 927807 and 965074) and a spray drying method (US Pat.
11407 and British Patent No. 930422). There is no particular limitation on the wall material of the microcapsules. For example, isocyanate-polyol (US Pat. No. 3,796,669), isocyanate (US Pat. No. 3,914,511), urea-formaldehyde or urea-formaldehyde-resorcinol (US Pat.
Either 408, 376 and 4,089,802) and melamine-formaldehyde or hydroxypropylcellulose (as described in U.S. Pat. No. 4,025,455) can be used. Preferably, silver halide is contained in the wall material of the microcapsule.

【００９７】次に、感光材料の各成分について説明す
る。 ［ハロゲン化銀］ハロゲン化銀としては、塩化銀、臭化
銀、ヨウ化銀、あるいは塩臭化銀、塩ヨウ化銀、ヨウ臭
化銀、塩ヨウ臭化銀のいずれの粒子も用いることができ
る。ハロゲン化銀粒子の形状は好ましくは立方体もしく
は１４面体であるが、規則的な結晶形を有するものに限
らず、変則的な結晶形を有するもの、あるいは、それら
の複合形でもよい。変則的な結晶形には、じゃがいも
状、球状、板状および平板状の結晶形が含まれる。平板
状粒子では、一般に粒子径が粒子厚の５倍以上の値にな
る。Next, each component of the photosensitive material will be described. [Silver halide] As silver halide, use is made of silver chloride, silver bromide, silver iodide, or any of silver chlorobromide, silver chloroiodide, silver bromoiodide, and silver chloroiodobromide. Can be. The shape of the silver halide grains is preferably cubic or tetradecahedral, but is not limited to those having a regular crystal form, and may be those having an irregular crystal form or a complex form thereof. Anomalous crystal forms include potato, spherical, plate and plate crystal forms. In the case of tabular grains, the grain size is generally at least five times the grain thickness.

【００９８】ハロゲン化銀の粒子サイズについて特に制
限はない。０．０１μｍ以下の微粒子も利用可能であ
る。一方、１０μｍ程度の大粒子も利用できる。粒子サ
イズ分布に関しては、単分散粒子の方が多分散乳剤より
も好ましい。単分散乳剤については、米国特許３５７４
６２８号、同３６５５３９４号および英国特許１４１３
７４８号各明細書に記載がある。There are no particular restrictions on the grain size of the silver halide. Fine particles of 0.01 μm or less can also be used. On the other hand, large particles of about 10 μm can be used. With respect to grain size distribution, monodisperse grains are preferred over polydisperse emulsions. For monodisperse emulsions, see US Pat.
Nos. 628 and 3655394 and British Patent 1413.
No. 748 is described in each specification.

【００９９】ハロゲン化銀粒子の結晶構造は、均一で
も、内部と外部とが異質なハロゲン組成からなるもので
もよい。層状構造を有していてもよい。また、エピタキ
シャル接合によって組成の異なるハロゲン化銀が接合さ
れていてもよい。さらに、ハロゲン化銀以外の化合物と
接合していてもよい。ハロゲン化銀以外の化合物の例に
は、ロダン銀および酸化鉛が含まれる。The crystal structure of the silver halide grains may be uniform or may have a different halogen composition between the inside and the outside. It may have a layered structure. Further, silver halides having different compositions may be joined by epitaxial joining. Further, it may be bonded to a compound other than silver halide. Examples of compounds other than silver halide include silver rhodan and lead oxide.

【０１００】ハロゲン化銀粒子には、他の元素の塩が含
まれていても良い。他の元素の例としては、銅、タリウ
ム、鉛、ビスマス、カドミウム、亜鉛、カルコゲン
（例、硫黄、セレニウム、テルリウム）、金および第VI
II族貴金属（例、ロジウム、イリジム、鉄、白金、パラ
ジウム）を挙げることができる。これらの元素の塩は、
ハロゲン化銀の粒子形成時または粒子形成後に添加し
て、粒子内に含ませることができる。具体的な方法は、
米国特許１１９５４３２号、同１９５１９３３号、同２
４４８０６０号、同２６２８１６７号、同２９５０９７
２号、同３４８８７０９号、同３７３７３１３号、同３
７７２０３１号、同４２６９９２７号各明細書およびリ
サーチ・ディスクロージャー（ＲＤ）誌、第１３４巻、
No．１３４５２（１９７５年６月）に記載がある。ハロ
ゲン化銀乳剤の調製時に、イリジウム化合物の水溶液を
乳剤に添加することで、イリジウムイオンをハロゲン化
銀粒子に導入することができる。水溶性イリジウム化合
物の例としては、ヘキサクロロイリジウム（III)酸塩お
よびヘキサクロロイリジウム（IV）酸塩を挙げることが
できる。同様に、ロジウム化合物の水溶液を乳剤に添加
することで、ロジウムイオンをハロゲン化銀粒子に導入
しても良い。水溶性ロジウム化合物の例としては、ロジ
ウムアンモニウムクロライド、ロジウムトリクロライド
およびロジウムクロライドを挙げることができる。イリ
ジウム化合物またはロジウム化合物を、ハロゲン化銀粒
子形成のためのハロゲン化物の水溶液に溶解して用いて
もよい。また、イリジウム化合物またはロジウム化合物
の水溶液を、粒子が形成される前に添加しても、粒子が
形成されている間に添加してもよい。さらに、粒子形成
から化学増感処理までの間に添加してもよい。粒子が形
成されている間に添加することが特に好ましい。イリジ
ウムイオンまたはロジウムイオンは、ハロゲン化銀１モ
ル当たり１０^-8乃至１０^-3モル用いることが好ましく、
１０^-7乃至１０^-5モル用いることがさらに好ましい。な
お、ロジウム化合物とイリジウム化合物を併用する場
合、前者の使用は、後者の使用より前段階であることが
好ましい。The silver halide grains may contain salts of other elements. Examples of other elements include copper, thallium, lead, bismuth, cadmium, zinc, chalcogens (eg, sulfur, selenium, tellurium), gold and VI.
Group II noble metals (eg, rhodium, iridium, iron, platinum, palladium) can be mentioned. Salts of these elements
The silver halide can be added during or after grain formation to be contained in the grains. The specific method is
U.S. Pat. Nos. 1195432, 1951933, 2
No. 448060, No. 2628167, No. 295097
No. 2, 3488709, 3737313, 3
Nos. 772031 and 4269927, and Research Disclosure (RD), Vol. 134,
No. 13452 (June 1975). By adding an aqueous solution of an iridium compound to the emulsion during the preparation of the silver halide emulsion, iridium ions can be introduced into the silver halide grains. Examples of the water-soluble iridium compound include hexachloroiridium (III) and hexachloroiridium (IV). Similarly, rhodium ions may be introduced into silver halide grains by adding an aqueous solution of a rhodium compound to the emulsion. Examples of the water-soluble rhodium compound include rhodium ammonium chloride, rhodium trichloride and rhodium chloride. An iridium compound or a rhodium compound may be used by dissolving it in an aqueous solution of a halide for forming silver halide grains. Further, the aqueous solution of the iridium compound or the rhodium compound may be added before the particles are formed, or may be added during the formation of the particles. Further, it may be added during the period from grain formation to chemical sensitization treatment. It is particularly preferred to add while the particles are being formed. The iridium ion or the rhodium ion is preferably used in an amount of 10 ^{-8 to} 10 ^-3 mol per mol of silver halide,
It is more preferable to use 10 ^{-7 to} 10 ^-5 mol. When the rhodium compound and the iridium compound are used in combination, the use of the former is preferably at a stage before the use of the latter.

【０１０１】ハロゲン組成、晶癖、粒子サイズが異なっ
た２種以上のハロゲン化銀粒子を組み合わせて用いるこ
ともできる。ハロゲン化銀は乳剤として用いることが好
ましい。ハロゲン化銀乳剤は、リサーチ・ディスクロー
ジャー（ＲＤ）誌、No．１７６４３（１９７８年１２
月）、２２〜２３頁、“Ｉ．乳剤製造（Emulsion prepa
ration and types) ”、および同No．１８７１６（１９
７９年１１月）、６４８頁に記載された方法を用いて調
製することができる。ハロゲン化銀乳剤は、通常、物理
熟成後に化学増感を行なうが、化学増感を行なわなくて
もよい。比較的低いカブリ値のハロゲン化銀粒子を用い
ることが好ましい。このような工程で使用される添加剤
はリサーチ・ディスクロージャー誌、No．１７６４３お
よび同No．１８７１６に記載されている。化学増感剤に
ついては、No．１７６４３（２３頁）およびNo．１８７
１６（６４８頁右欄）に、それぞれ記載されている。ま
た、上記以外の公知の添加剤も上記の２つのリサーチ・
ディスクロージャー誌に記載されている。例えば、感度
上昇剤については、No．１８７１６（６４８頁右欄）
に、かぶり防止剤および安定剤については、No．１７６
４３（２４〜２５頁）およびNo．１８７１６（６４９頁
右欄〜）にそれぞれ記載されている。Two or more kinds of silver halide grains having different halogen compositions, crystal habits and grain sizes can be used in combination. Silver halide is preferably used as an emulsion. Silver halide emulsions are described in Research Disclosure (RD) Magazine, No. 17643 (December 1978
Mon., pp. 22-23, "I. Emulsion Production (Emulsion prepa
ration and types) "and No. 18716 (19
Nov. 1979), p. 648. The silver halide emulsion is usually subjected to chemical sensitization after physical ripening, but may not be subjected to chemical sensitization. It is preferable to use silver halide grains having a relatively low fog value. Additives used in such a process are described in Research Disclosure Magazine, No. No. 17643 and the same No. 18716. Regarding chemical sensitizers, 17643 (p. 23) and No. 187
16 (right column, page 648). In addition, known additives other than the above are also used in the above two researches.
It is listed in Disclosure Magazine. For example, as for the sensitivity enhancer, 18716 (page 648, right column)
In addition, the antifoggant and the stabilizer are described in 176
43 (pages 24 to 25) and No. 43. 18716 (from page 649, right column).

【０１０２】ハロゲン化銀乳剤は、通常、分光増感を行
ってから使用する。感光材料に使用する増感色素は、写
真技術等において公知のハロゲン化銀の増感色素を用い
ることができる。増感色素の例としては、シアニン色
素、メロシアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポ
ーラーシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素
およびヘミオキソノール色素を挙げることができる。増
感色素とともに、それ自身、分光増感作用を持たない色
素あるいは可視光を実質的に吸収しない化合物であって
強色増感を示す化合物（強色増感剤）を乳剤に添加して
もよい。The silver halide emulsion is usually used after spectral sensitization. As the sensitizing dye used in the light-sensitive material, a silver halide sensitizing dye known in photographic technology or the like can be used. Examples of sensitizing dyes include cyanine dyes, merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, hemicyanine dyes, styryl dyes, and hemioxonol dyes. In addition to the sensitizing dye, a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a compound which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization (supersensitizer) can be added to the emulsion. Good.

【０１０３】［有機金属塩］本発明の感光材料の感光性
層には、ハロゲン化銀とともに有機金属塩を添加するこ
とができる。このような有機金属塩としては、有機銀塩
を用いることが特に好ましい。有機銀塩を形成するのに
使用される有機化合物としては、トリアゾール類、テト
ラゾール類、イミダゾール類、インダゾール類、チアゾ
ール類、チアジアゾール類、アザインデン類、メルカプ
ト基を置換基として有する脂肪族、芳香族または複素環
化合物を挙げることができる。また、カルボン酸の銀塩
やアセチレン銀も有機銀塩として用いることができる。
有機銀塩は２種以上を併用してもよい。有機銀塩は、ハ
ロゲン化銀１モルあたり、１０^-5乃至１０モル、好まし
くは１０^-4乃至１モル使用される。また、有機銀塩の代
わりに、それを構成する有機化合物を感光性層に加え、
感光性層中でハロゲン化銀と一部反応させて有機銀塩に
変換してもよい。[Organic Metal Salt] An organic metal salt can be added to the photosensitive layer of the photosensitive material of the present invention together with silver halide. It is particularly preferable to use an organic silver salt as such an organic metal salt. Examples of the organic compound used to form the organic silver salt include triazoles, tetrazoles, imidazoles, indazoles, thiazoles, thiadiazoles, azaindenes, and aliphatic, aromatic, or aromatic compounds having a mercapto group as a substituent. Heterocyclic compounds can be mentioned. Further, silver salts of carboxylic acids and silver acetylene can also be used as organic silver salts.
Two or more organic silver salts may be used in combination. The organic silver salt is used in an amount of 10 ^{-5 to} 10 mol, preferably 10 ^{-4 to} 1 mol, per 1 mol of silver halide. Further, instead of the organic silver salt, an organic compound constituting the organic silver salt is added to the photosensitive layer,
It may be converted to an organic silver salt by partially reacting with silver halide in the photosensitive layer.

【０１０４】［還元剤］還元剤は、ハロゲン化銀を還元
する機能または重合性化合物の重合を促進（または抑
制）する機能を有する。上記機能を有する還元剤として
は、様々な種類の物質がある。上記還元剤には、ハイド
ロキノン類、カテコール類、ｐ−アミノフェノール類、
ｐ−フェニレンジアミン類、３−ピラゾリドン類、３−
アミノピラゾール類、４−アミノ−５−ピラゾロン類、
５−アミノウラシル類、４，５−ジヒドロキシ−６−ア
ミノピリミジン類、レダクトン類、アミノレダクトン
類、ｏ−またはｐ−スルホンアミドフェノール類、ｏ−
またはｐ−スルホンアミドナフトール類、２，４−ジス
ルホンアミドフェノール類、２，４−ジスルホンアミド
ナフトール類、ｏ−またはｐ−アシルアミノフェノール
類、２−スルホンアミドインダノン類、４−スルホンア
ミド−５−ピラゾロン類、３−スルホンアミドインドー
ル類、スルホンアミドピラゾロベンズイミダゾール類、
スルホンアミドピラゾロトリアゾール類、α−スルホン
アミドケトン類およびヒドラジン類が含まれる。[Reducing Agent] The reducing agent has a function of reducing silver halide or a function of accelerating (or suppressing) polymerization of a polymerizable compound. There are various kinds of substances as the reducing agent having the above function. The reducing agent includes hydroquinones, catechols, p-aminophenols,
p-phenylenediamines, 3-pyrazolidones, 3-
Aminopyrazoles, 4-amino-5-pyrazolones,
5-aminouracils, 4,5-dihydroxy-6-aminopyrimidines, reductones, aminoreductones, o- or p-sulfonamidophenols, o-
Or p-sulfonamidonaphthols, 2,4-disulfonamidophenols, 2,4-disulfonamidonaphthols, o- or p-acylaminophenols, 2-sulfonamidoindanones, 4-sulfonamido-5 -Pyrazolones, 3-sulfonamidoindoles, sulfonamidopyrazolobenzimidazoles,
Includes sulfonamidopyrazolotriazoles, α-sulfonamidoketones and hydrazines.

【０１０５】上記の還元剤は、特開昭６１−１８３６４
０号、同６１−１８８５３５号、同６１−２２８４４１
号、同６２−７０８３６号、同６２−８６３５４号、同
６２−８６３５５号、同６２−２０６５４０号、同６２
−２６４０４１号、同６２−１０９４３７号、同６３−
２５４４４２号、特開平１−２６７５３６号、同２−１
４１７５６号、同２−１４１７５７号、同２−２０７２
５４号、同２−２６２６６２号、同２−２６９３５２号
各公報に記載されている（現像薬またはヒドラジン誘導
体として記載のものを含む）。また、還元剤について
は、T.James 著“The Theory of the Photographic Pro
cess”第４版、２９１〜３３４頁（１９７７年）、リサ
ーチ・ディスクロージャー誌、Vol.１７０、第１７０２
９号、９〜１５頁、（１９７８年６月）、および同誌、
Vol.１７６、第１７６４３号、２２〜３１頁、（１９７
８年１２月）にも記載がある。また特開昭６２−２１０
４４６号公報記載の感光材料のように、還元剤に代えて
加熱条件下あるいは塩基との接触状態等において還元剤
を放出する還元剤プレカーサーを用いてもよい。The above reducing agent is described in JP-A-61-18364.
No. 0, No. 61-188535, No. 61-228441
No. 62-70836, No. 62-86354, No. 62-86355, No. 62-206540, No. 62
-264404, 62-10937, 63-
254442, JP-A-1-267536 and 2-1
41756, 2-141775, 2-2072
No. 54, No. 2-262662 and No. 2-269352 (including those described as developing agents or hydrazine derivatives). For the reducing agent, see “The Theory of the Photographic Pro” by T. James.
cess "4th edition, pp. 291-334 (1977), Research Disclosure, Vol. 170, No. 1702
No. 9, pages 9 to 15 (June 1978), and the same magazine,
Vol.176, No.17643, pp.22-31, (197
(December 2008). Also, JP-A-62-210
As in the light-sensitive material described in Japanese Patent No. 446, a reducing agent precursor that releases the reducing agent under heating conditions or in contact with a base may be used instead of the reducing agent.

【０１０６】これらの還元剤のうち、酸と塩を形成する
塩基性を有するものは、適当な酸との塩の形で使用する
こともできる。これらの還元剤は、単独で用いてもよい
が、上記各公報にも記載されているように、二種以上の
還元剤を併用してもよい。二種以上の還元剤を併用する
場合における、還元剤の相互作用としては、第一に、い
わゆる超加生性によってハロゲン化銀（および／または
有機銀塩）の還元を促進すること、第二に、ハロゲン化
銀（および／または有機銀塩）の還元によって生成した
第一の還元剤の酸化体が共存する他の還元剤との酸化還
元反応を経由して重合性化合物の重合を引き起すこと
（または重合を抑制すること）が考えられる。ただし、
実際の使用時においては、上記のような反応は同時に起
り得るものであるため、いずれの作用であるかを特定す
ることは困難である。還元剤はハロゲン化銀１モル当た
り０．１乃至１０モルの範囲で使用することが好まし
く、０．２５乃至２．５モルの範囲で使用することがさ
らに好ましい。Among these reducing agents, those having a basic property of forming a salt with an acid can be used in the form of a salt with an appropriate acid. These reducing agents may be used alone, or as described in the above publications, two or more reducing agents may be used in combination. When two or more reducing agents are used in combination, the reducing agents interact firstly by promoting the reduction of silver halide (and / or organic silver salt) by so-called super-additivity. Causing polymerization of a polymerizable compound through an oxidation-reduction reaction with another reducing agent in which an oxidized form of a first reducing agent formed by reduction of silver halide (and / or an organic silver salt) coexists. (Or to inhibit polymerization). However,
In actual use, since the above-mentioned reactions can occur simultaneously, it is difficult to specify which action it is. The reducing agent is preferably used in the range of 0.1 to 10 mol, more preferably 0.25 to 2.5 mol, per 1 mol of silver halide.

【０１０７】上記還元剤の種類や量等を調整すること
で、ハロゲン化銀の潜像が形成された部分あるいは潜像
が形成されない部分のいずれかの部分の重合性化合物を
選択的に重合させることができる。還元剤はハロゲン化
銀を現像し、自身は酸化されて酸化体になる。この還元
剤の酸化体が層内で分解してラジカルを生成する場合、
ハロゲン化銀の潜像が形成された部分において重合が起
こる。このような還元剤の例としては、ヒドラジン類を
挙げることができる。一方、酸化体がラジカルを発生せ
ず（または発生させにくく）、還元剤自身または酸化体
が重合抑制機能を有する場合、重合開始剤（ラジカル発
生剤）を還元剤とともに含ませておくことでハロゲン化
銀の潜像が形成されない部分（還元剤より、その酸化体
の方が重合抑制機能が強い場合）または潜像が形成され
た部分（還元剤の方が、その酸化体より重合抑制機能が
強い場合）に重合が起こる。上記のような機能を有する
還元剤の例としては、１−フェニル−３−ピラゾリドン
類およびハイドロキノン類を挙げることができる。この
場合、以下に述べるような熱重合開始剤または光重合開
始剤を感光材料中に添加しておく必要がある。By adjusting the type and amount of the reducing agent, the polymerizable compound in either the portion where the latent image of the silver halide is formed or the portion where the latent image is not formed is selectively polymerized. be able to. The reducing agent develops the silver halide and oxidizes itself to an oxidized form. When the oxidized form of this reducing agent is decomposed in the layer to generate radicals,
Polymerization occurs in the portion where the silver halide latent image is formed. Examples of such reducing agents include hydrazines. On the other hand, when the oxidant does not generate (or hardly generates) a radical and the reducing agent itself or the oxidant has a polymerization suppressing function, the polymerization initiator (radical generating agent) is included together with the reducing agent to form a halogen. The part where the latent image of silver halide is not formed (when the oxidized product has a stronger polymerization suppressing function than the reducing agent) or the portion where the latent image is formed (the reducing agent has a more polymerization suppressing function than the oxidized product) If strong) polymerization occurs. Examples of reducing agents having the above functions include 1-phenyl-3-pyrazolidones and hydroquinones. In this case, it is necessary to add a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator as described below to the photosensitive material.

【０１０８】［重合開始剤］熱重合開始剤については、
高分子学会・高分子実験学編集委員会編「付加重合・開
環重合」（１９８３年、共立出版）の６〜１８頁および
特開昭６１−２４３４４９号公報に記載がある。熱重合
開始剤の例としては、アゾ化合物（例、アゾビス（イソ
ブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（１−シクロヘ
キサンカルボニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビ
スイソブチレート、２，２’−アゾビス（２−メチルブ
チロニトリル）、アゾビスジメチルバレロニトリル）、
過酸化物（例、過酸化ベンゾイル、ジ−ｔ−ブチルパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイ
ドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、
過酸化水素、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム）お
よびｐ−トルエンスルフィン酸ナトリウムを挙げること
ができる。光重合開始剤については、Oster 他著「Chem
ical Review 」第６８巻（１９６８年）の１２５〜１５
１頁、Kosar 著「Light-Sensitive System」（John Wil
ey& Sons,１９６５年）の１５８〜１９３頁および特開
昭６１−７５３４２号公報、特開平２−２０７２５４号
公報に記載がある。光重合開始剤の例としては、カルボ
ニル化合物（例、α−アルコキシフェニルケトン類、多
環式キノン類、ベンゾフェノン誘導体、キサントン類、
チオキサントン類、ベンゾイン類、市販の光重合開始剤
（例、チバガイギー社製「イルガキュアー６５１」、同
「イルガキュアー９０７」））、含ハロゲン化合物
（例、クロロスルホニルおよびクロロメチル多核芳香化
合物、クロロスルフォニルおよびクロロメチル複素環式
化合物、クロロスルフォニルおよびクロロメチルベンゾ
フェノン類、フルオレノン類）、ハロアルカン類、α−
ハロ−α−フェニルアセトフェノン類、光還元性色素と
還元剤とのレドックスカップル類、有機硫黄化合物、過
酸化物、光半導体（例、二酸化チタン、酸化亜鉛）、金
属化合物（例、鉄（Ｉ）塩、金属カルボニル、金属錯
体、ウラニル塩）、ハロゲン化銀、アゾおよびジアゾ化
合物を挙げることができる。[Polymerization initiator] Regarding the thermal polymerization initiator,
This is described in pages 6 to 18 of "Addition Polymerization and Ring-Opening Polymerization" (edited by the Society of Polymer Science and Polymer Science, Editing Committee, 1983, Kyoritsu Shuppan) and JP-A-61-243449. Examples of the thermal polymerization initiator include azo compounds (eg, azobis (isobutyronitrile), 1,1′-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate, , 2'-azobis (2-methylbutyronitrile), azobisdimethylvaleronitrile),
Peroxides (eg, benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide,
Hydrogen peroxide, potassium persulfate, ammonium persulfate) and sodium p-toluenesulfinate. Oster et al., Chem.
ical Review, Vol. 68 (1968), 125-15
Page 1, Kosar, "Light-Sensitive System" (John Wil
ey & Sons, 1965), pages 158-193, JP-A-61-75342, and JP-A-2-207254. Examples of the photopolymerization initiator include carbonyl compounds (eg, α-alkoxyphenyl ketones, polycyclic quinones, benzophenone derivatives, xanthones,
Thioxanthones, benzoins, commercially available photopolymerization initiators (eg, “Irgacure 651” and “Irgacure 907” manufactured by Ciba Geigy), halogen-containing compounds (eg, chlorosulfonyl and chloromethyl polynuclear aromatic compounds, chlorosulfonyl) And chloromethyl heterocyclic compounds, chlorosulfonyl and chloromethylbenzophenones, fluorenones), haloalkanes, α-
Halo-α-phenylacetophenones, redox couples of a photoreducing dye and a reducing agent, organic sulfur compounds, peroxides, optical semiconductors (eg, titanium dioxide, zinc oxide), metal compounds (eg, iron (I) Salt, metal carbonyl, metal complex, uranyl salt), silver halide, azo and diazo compounds.

【０１０９】光重合開始剤の具体例には、２−ジメトキ
シ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−｛４−
（メチルチオ）フェニル｝−２−モルホリノ−１−プロ
パノン、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラースケトン、
４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、クロロメチ
ルベンゾフェノン、クロロスルホニルベンゾフェノン、
９，１０−アンスラキノン、２−メチル−９，１０−ア
ンスラキノン、クロロスルホニルアンスラキノン、クロ
ロメチルアンスラキノン、９，１０−フェナンスレンキ
ノン、キサントン、クロロキサントン、チオキサント
ン、クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサ
ントン、クロロスルホニルチオキサントン、クロロメチ
ルベンゾチアゾール、クロロスルホニルベンゾキサゾー
ル、クロロメチルキノリン、フルオレンおよび四臭化炭
素が含まれる。Specific examples of the photopolymerization initiator include 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 2-methyl- {4-
(Methylthio) phenyl} -2-morpholino-1-propanone, benzoin butyl ether, benzoin isopropyl ether, benzophenone, Michler's ketone,
4,4′-diethylaminobenzophenone, chloromethylbenzophenone, chlorosulfonylbenzophenone,
9,10-anthraquinone, 2-methyl-9,10-anthraquinone, chlorosulfonylanthraquinone, chloromethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, xanthone, chloroxanthone, thioxanthone, chlorothioxanthone, 2,4 -Including diethylthioxanthone, chlorosulfonylthioxanthone, chloromethylbenzothiazole, chlorosulfonylbenzoxazole, chloromethylquinoline, fluorene and carbon tetrabromide.

【０１１０】重合開始剤は、重合性化合物１ｇ当り、
０．００１乃至０．５ｇの範囲で用いることが好まし
く、０．０１乃至０．２ｇの範囲で用いることがさらに
好ましい。The polymerization initiator was used per 1 g of the polymerizable compound.
It is preferably used in the range of 0.001 to 0.5 g, and more preferably in the range of 0.01 to 0.2 g.

【０１１１】［重合性化合物］重合性化合物としては、
重合性モノマーまたは架橋性ポリマーを用いることがで
きる。重合性モノマーと架橋性ポリマーを併用してもよ
い。重合性モノマーの例としては、付加重合性または開
環重合性を有する化合物を挙げることができる。付加重
合性を有する化合物としては、エチレン性不飽和基を有
する化合物、開環重合性を有する化合物としては、エポ
キシ基を有する化合物がある。エチレン性不飽和基を有
する化合物が特に好ましい。エチレン性不飽和基を有す
る化合物の例としては、アクリル酸およびその塩、アク
リル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸お
よびその塩、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミ
ド類、無水マレイン酸、マレイン酸エステル類、イタコ
ン酸エステル類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニ
ルエステル類、Ｎ−ビニル複素環類、アリルエーテル
類、アリルエステル類およびそれらの誘導体を挙げると
ができる。アクリル酸エステル類もしくはメタクリル酸
エステル類が好ましい。[Polymerizable compound] As the polymerizable compound,
Polymerizable monomers or crosslinkable polymers can be used. A polymerizable monomer and a crosslinkable polymer may be used in combination. Examples of the polymerizable monomer include a compound having addition polymerizability or ring-opening polymerizability. Compounds having addition polymerizability include compounds having an ethylenically unsaturated group, and compounds having ring-opening polymerizability include compounds having an epoxy group. Compounds having an ethylenically unsaturated group are particularly preferred. Examples of the compound having an ethylenically unsaturated group include acrylic acid and salts thereof, acrylic esters, acrylamides, methacrylic acid and salts thereof, methacrylic esters, methacrylamides, maleic anhydride, maleic esters , Itaconic esters, styrenes, vinyl ethers, vinyl esters, N-vinyl heterocycles, allyl ethers, allyl esters and derivatives thereof. Acrylic esters or methacrylic esters are preferred.

【０１１２】アクリル酸エステル類の具体例としては、
ｎ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、２−エチルヘキシルアクリレート、ベンジルアクリ
レート、フルフリルアクリレート、エトキシエチルアク
リレート、ジシクロヘキシルオキシエチルアクリレー
ト、トリシクロデカニルオキシアクリレート、ノニルフ
ェニルオキシエチルアクリレート、１，３−ジオキソラ
ンアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ブ
タンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ポリオキシエチレン化ビスフ
ェノールＡのジアクリレート、２，２−ジメチル−３−
ヒドロキシプロピオンアルデヒドとトリメチロールプロ
パンの縮合物のジアクリレート、２，２−ジメチル−３
−ヒドロキシプロピオンアルデヒドとペンタエリスリト
ールの縮合物のトリアクリレート、ポリオキシエチレン
化ビスフェノールＦのジアクリレート、ポリウレタンア
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ポリプロピレンジアクリレート、２−（２−ヒドロキシ
−１，１−ジメチルエチル）−５−ヒドロキシメチル−
５−エチル−１，３−ジオキサンジアクリレート、２−
（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−５，５
−ジヒドロキシメチル−１，３−ジオキサントリアクリ
レート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイ
ド付加物のトリアクリレート、ヒドロキシポリエーテル
のポリアクリレート、ポリエステルアクリレートおよび
ポリウレタンアクリレートを挙げることができる。Specific examples of the acrylates include:
n-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, benzyl acrylate, furfuryl acrylate, ethoxyethyl acrylate, dicyclohexyloxyethyl acrylate, tricyclodecanyloxy acrylate, nonylphenyloxyethyl acrylate, 1,3-dioxolan acrylate, hexane Diol diacrylate, butanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, tricyclodecane dimethylol diacrylate,
Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, polyoxyethylenated bisphenol A diacrylate, 2,2-dimethyl-3-
Diacrylate of condensate of hydroxypropionaldehyde and trimethylolpropane, 2,2-dimethyl-3
Triacrylate of a condensate of hydroxypropionaldehyde and pentaerythritol, diacrylate of polyoxyethylenated bisphenol F, polyurethane acrylate, polyethylene glycol diacrylate,
Polypropylene diacrylate, 2- (2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5-hydroxymethyl-
5-ethyl-1,3-dioxane diacrylate, 2-
(2-hydroxy-1,1-dimethylethyl) -5,5
-Dihydroxymethyl-1,3-dioxane triacrylate, triacrylate of propylene oxide adduct of trimethylolpropane, polyacrylate of hydroxypolyether, polyester acrylate and polyurethane acrylate.

【０１１３】メタクリル酸エステル類の具体例として
は、メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、エ
チレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジ
メタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリス
リトールテトラメタクリレートおよびポリオキシアルキ
レン化ビスフェノールＡのジメタクリレートなど上記の
アクリル酸エステル類の具体例として挙げた重合性モノ
マー化合物のアクリロイル基の一部または全部をメタク
リロイル基に置換した化合物を挙げることができる。Specific examples of methacrylates include methyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, butanediol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, and pentaerythritol tetramethacrylate. And a compound in which a part or all of the acryloyl group of the polymerizable monomer compound mentioned as a specific example of the acrylates such as dimethacrylate of polyoxyalkylenated bisphenol A is substituted with a methacryloyl group.

【０１１４】架橋性ポリマーとしては、ラジカル種に対
して反応性の基を有する公知のポリマーであればいずれ
も使用可能である。これらのポリマーは、ホモポリマー
であっても、ラジカル種に対して反応性の基を有しない
モノマーとのコポリマーであってもよい。このようなポ
リマーは、（Ａ）ラジカル（重合開始ラジカルまたは重
合性モノマーの重合過程の成長ラジカル）が付加するこ
とのできる二重結合基を、分子の主鎖中または側鎖中に
有するポリマー、および（Ｂ）ラジカルによって主鎖ま
たは側鎖の原子（水素原子、塩素などのハロゲン原子）
が容易に引き抜かれてポリマーラジカルが生じるポリマ
ーである。上記の（Ａ）のポリマーの例としては、特開
昭６４−１７０４７号公報に記載されているような、側
鎖にエチレン性不飽和二重結合を有するポリマー（例、
アリル（メタ）アクリレートのポリマー（コポリマーを
含む）、１，２−ポリブタジエン、１，２−ポリイソプ
レン）および主鎖に不飽和二重結合を有するポリマー
（例、ポリ−１，４−ブタジエン、ポリ−１，４−イソ
プレン（コポリマーを含む）、天然および合成ゴム）を
挙げることができる。上記の（Ｂ）のポリマーの例とし
ては、「高分子反応」（高分子学会偏／共立出版、１９
７８年刊）の１４７頁〜１９２頁に記載されているポリ
マーを挙げることができる。具体的には、ポリ（メタ）
アクリレ−ト、ポリビニルブチラート、ポリビニルホル
マール、ポリビニルピロリドン、ポリ酢酸ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、酢酸ビニル−エチレンコポリマー、塩
化ビニリデン−アクリロニトリルコポリマー、塩素化ポ
リエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチ
レート、トリアセチルセルロース、エチルセルロース、
ポリビニルピリジン、ポリビニルイミダゾールを挙げる
ことができる。後述するように、重合の後、アルカリ性
水溶液でエッチング処理を行う場合には、架橋性ポリマ
ーは酸性官能基をその分子内に有するものであることが
好ましい。酸性官能基の例としては、カルボキシル基、
酸無水物基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スル
ホンアミド基およびスルホンイミド基を挙げることがで
きる。具体的には、（メタ）アクリル酸、スチレンスル
フォン酸あるいは無水マレイン酸のホモポリマーまたは
コポリマーを挙げることができる。コポリマーの場合、
酸性基を持つモノマーのモル含有量は、１〜５０％、よ
り好ましくは５〜３０％の範囲である。As the crosslinkable polymer, any known polymer having a group reactive with a radical species can be used. These polymers may be homopolymers or copolymers with monomers having no groups reactive to radical species. Such polymers include (A) a polymer having a double bond group in a main chain or a side chain of a molecule to which a radical (a polymerization initiation radical or a growth radical in a polymerization process of a polymerizable monomer) can be added; And (B) radicals in the main chain or side chains (hydrogen atoms, halogen atoms such as chlorine) by radicals
Is a polymer that is easily extracted to generate a polymer radical. Examples of the above polymer (A) include polymers having an ethylenically unsaturated double bond in a side chain as described in JP-A-64-17047 (eg,
Allyl (meth) acrylate polymers (including copolymers), 1,2-polybutadiene, 1,2-polyisoprene) and polymers having an unsaturated double bond in the main chain (eg, poly-1,4-butadiene, poly) -1,4-isoprene (including copolymers), natural and synthetic rubbers). As an example of the polymer of the above (B), “Polymer Reaction” (Polymer Science Society / Kyoritsu Publishing, 19
Polymers described on pages 147 to 192 of the '78 publication. Specifically, poly (meta)
Acrylate, polyvinyl butyrate, polyvinyl formal, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, vinyl acetate-ethylene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, polycarbonate, diacetyl cellulose, cellulose acetate butyrate Rate, triacetyl cellulose, ethyl cellulose,
Examples thereof include polyvinyl pyridine and polyvinyl imidazole. As described later, when etching treatment is performed with an alkaline aqueous solution after polymerization, the crosslinkable polymer preferably has an acidic functional group in its molecule. Examples of acidic functional groups include carboxyl groups,
Examples thereof include an acid anhydride group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a sulfonamide group and a sulfonimide group. Specifically, a homopolymer or copolymer of (meth) acrylic acid, styrenesulfonic acid, or maleic anhydride can be used. For copolymers,
The molar content of the monomer having an acidic group is in the range of 1 to 50%, more preferably 5 to 30%.

【０１１５】以上述べたような重合性化合物は、二種以
上を併用してもよい。なお、還元剤または色剤の化学構
造にビニル基やビニリデン基等の重合性官能基を導入し
た物質も重合性化合物として使用できる。上記のように
還元剤と重合性化合物、あるいは色剤と重合性化合物を
兼ねた物質の使用も感光材料の態様に含まれる。重合性
化合物は重合性層中に、層の全量に対して３乃至９０重
量％の範囲で含まれていることが好ましく、１５乃至６
０重量％の範囲で含まれていることがさらに好ましい。The polymerizable compounds described above may be used in combination of two or more. Note that a substance in which a polymerizable functional group such as a vinyl group or a vinylidene group is introduced into the chemical structure of the reducing agent or the coloring agent can also be used as the polymerizable compound. As described above, the use of a substance that also serves as a reducing agent and a polymerizable compound or a coloring agent and a polymerizable compound is also included in the embodiment of the photosensitive material. The polymerizable compound is preferably contained in the polymerizable layer in an amount of 3 to 90% by weight based on the total amount of the layer, and 15 to 6% by weight.
More preferably, it is contained in the range of 0% by weight.

【０１１６】［重合性層のバインダー］重合性層には、
強度を改良するために、さらにバインダーを添加するこ
とができる。バインダーとしては、天然および合成の高
分子化合物が使用できる。重合性化合物として架橋性ポ
リマーを用いた場合は、この架橋性ポリマーは、重合性
化合物としてだけではなく、バインダーとしても機能す
る。具体的なバインダーの例としては、付加重合型の合
成ホモポリマーおよびコポリマー（例、種々のビニルモ
ノマーのホモポリマーおよびコポリマー）、縮重合型の
合成ホモポリマーおよびコポリマー（例、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル−ポリア
ミド）を挙げることができる。重合の後、アルカリ性水
溶液でエッチング処理を行う場合には、バインダーに用
いるポリマーは酸性官能基をその分子内に有するもので
あることが好ましい。酸性官能基の例としては、カルボ
キシル基、酸無水物基、フェノール性水酸基、スルホン
酸基、スルホンアミド基およびスルホンイミド基を挙げ
ることができる。具体的には、（メタ）アクリル酸、ス
チレンスルフォン酸あるいは無水マレイン酸のホモポリ
マーまたはコポリマーを挙げることができる。コポリマ
ーの場合、酸性基を持つモノマーのモル含有量は、１乃
至５０％であることが好ましく、５乃至３０％であるこ
とがさらに好ましい。バインダーに用いるポリマーとし
ては、架橋性ポリマーでかつ酸性官能基をその分子内に
有するものが、特に好ましい。このようなポリマーとし
て、例えばアリル（メタ）アクリレートと（メタ）アク
リル酸のコポリマーを挙げることができる。バインダー
もしくは重合性化合物として、側鎖にエチレン性不飽和
二重結合を有するポリマーを用いると、重合性層に重合
性モノマーが含まれていなくとも画像を得ることができ
るが、一般には、重合性モノマーを併用する方が、硬度
を高くすることができるので好ましい。また、重合性層
にバインダーが含まれずに、重合性モノマーだけが含ま
れていても画像を得ることができるが、重合性モノマー
が液体の場合、重合性層が柔らかくなり過ぎるので好ま
しくない。バインダーの重合性層への添加量は、一般に
重合性層全体の８０重量％以下、好ましくは７０重量％
以下である。[Binder of Polymerizable Layer] In the polymerizable layer,
Further binders can be added to improve the strength. As the binder, natural and synthetic polymer compounds can be used. When a crosslinkable polymer is used as the polymerizable compound, the crosslinkable polymer functions not only as the polymerizable compound but also as a binder. Specific examples of the binder include synthetic homopolymers and copolymers of addition polymerization type (eg, homopolymers and copolymers of various vinyl monomers), and synthetic homopolymers and copolymers of condensation polymerization type (eg, polyester, polyamide, polyurethane, Polyester-polyamide). When performing an etching treatment with an alkaline aqueous solution after the polymerization, the polymer used for the binder preferably has an acidic functional group in the molecule. Examples of the acidic functional group include a carboxyl group, an acid anhydride group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a sulfonamide group, and a sulfonimide group. Specifically, a homopolymer or copolymer of (meth) acrylic acid, styrenesulfonic acid, or maleic anhydride can be used. In the case of a copolymer, the molar content of the monomer having an acidic group is preferably from 1 to 50%, more preferably from 5 to 30%. As the polymer used for the binder, a crosslinkable polymer having an acidic functional group in the molecule is particularly preferable. Examples of such a polymer include a copolymer of allyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid. When a polymer having an ethylenically unsaturated double bond in a side chain is used as a binder or a polymerizable compound, an image can be obtained even when the polymerizable layer does not contain a polymerizable monomer. It is preferable to use a monomer in combination because the hardness can be increased. Further, an image can be obtained even if the polymerizable layer contains only a polymerizable monomer without containing a binder. However, if the polymerizable monomer is a liquid, the polymerizable layer becomes too soft, which is not preferable. The amount of the binder added to the polymerizable layer is generally 80% by weight or less, preferably 70% by weight of the entire polymerizable layer.
It is as follows.

【０１１７】［親水性ポリマー］感光材料の感光性層、
オーバーコート層や画像形成促進層のような親水性層
は、親水性ポリマーをバインダーとして含む。親水性ポ
リマーとは、分子構造内に親水性基または親水性結合を
有する高分子化合物である。親水性基の例としては、カ
ルボキシル、アルコール性水酸基、フェノール性水酸
基、スルホ、スルホンアミド基、スルホンイミドおよび
アミドを挙げることができる。親水性結合の例として
は、ウレタン結合、エーテル結合およびアミド結合を挙
げることができる。親水性ポリマーとして、水溶性ポリ
マーまたは水膨潤性ポリマーを用いることが好ましい。
水膨潤性ポリマーとは、水に対して親和性を有するが、
ポリマーの架橋構造等のために、水には完全には溶解し
ないものを言う。水溶性もしくは水膨潤性のポリマーと
しては、天然もしくは合成の高分子化合物が使用でき
る。天然高分子には、水溶性多糖類およびタンパク質を
用いることができる。水溶性多糖類の例としては、デン
プン、デンプン誘導体、セルロース、セルロース誘導
体、アルギン酸、ペクチン酸、アラビアゴム、プルラン
およびデキストランを挙げることができる。タンパク質
の例としてはゼラチンおよびカゼインを挙げることがで
きる。これらの天然高分子は、必要に応じて人工的に変
性して用いてもよい。また、感光材料の調製において、
天然高分子を変性または架橋して使用することもでき
る。合成高分子としては、上記のような親水性基または
親水性結合を有するモノマーの重合体もしくはこれと他
のモノマーとのコポリマーを用いることができる。本発
明では、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、
ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシドおよびこ
れらの誘導体または変性体が好ましく使用できる。ポリ
ビニルアルコールが特に好ましい。[Hydrophilic polymer] A photosensitive layer of a photosensitive material,
A hydrophilic layer such as an overcoat layer or an image formation accelerating layer contains a hydrophilic polymer as a binder. The hydrophilic polymer is a polymer compound having a hydrophilic group or a hydrophilic bond in a molecular structure. Examples of the hydrophilic group include carboxyl, alcoholic hydroxyl group, phenolic hydroxyl group, sulfo, sulfonamide group, sulfonimide and amide. Examples of the hydrophilic bond include a urethane bond, an ether bond, and an amide bond. It is preferable to use a water-soluble polymer or a water-swellable polymer as the hydrophilic polymer.
A water-swellable polymer has an affinity for water,
It does not completely dissolve in water due to the crosslinked structure of the polymer. As the water-soluble or water-swellable polymer, a natural or synthetic polymer compound can be used. As the natural polymer, a water-soluble polysaccharide and a protein can be used. Examples of water-soluble polysaccharides include starch, starch derivatives, cellulose, cellulose derivatives, alginic acid, pectic acid, gum arabic, pullulan and dextran. Examples of proteins include gelatin and casein. These natural polymers may be artificially modified as needed. In the preparation of the photosensitive material,
The natural polymer may be modified or crosslinked for use. As the synthetic polymer, a polymer of a monomer having a hydrophilic group or a hydrophilic bond as described above or a copolymer of the monomer and another monomer can be used. In the present invention, polyvinyl alcohol, polyvinyl ether,
Polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and derivatives or modified products thereof can be preferably used. Polyvinyl alcohol is particularly preferred.

【０１１８】ポリビニルアルコールは、種々のケン化度
のものが使用できる。ただし、酸素の透過率を低下させ
るためには、ケン化度を５０％以上とすることが好まし
く、８０％以上とすることがさらに好ましく、そして９
５％以上とすることが特に好ましい。共重合変性ポリビ
ニルアルコールも使用できる。共重合変性は、酢酸ビニ
ルと他のモノマーとの共重合体をケン化して、変性ポリ
ビニルアルコールを合成する方法である。共重合するモ
ノマーとしては酢酸ビニルと共重合するものであればい
ずれも使用できる。そのようなモノマーの例としては、
エチレン、高級カルボン酸ビニル、高級アルキルビニル
エーテル、メチルメタクリレートおよびアクリルアミド
を挙げることができる。また、後変性したポリビニルア
ルコールも使用できる。後変性とは、ポリビニルアルコ
ールの水酸基に対して反応性を有する化合物を用いて、
ポリビニルアルコールの合成後に高分子反応によって変
性させる方法である。具体的には、ポリビニルアルコー
ルの水酸基を、エーテル化、エステル化あるいはアセタ
ール化により修飾する。さらに、架橋化したポリビニル
アルコールを使用することもできる。架橋剤としては、
アルデヒド、メチロール化合物、エポキシ化合物、ジイ
ソシアネート、ジビニル化合物、ジカルボン酸類あるい
は無機系架橋剤（例、ホウ酸、チタン、銅）を使用する
ことができる。親水性ポリマーの分子量は、３０００乃
至５０万の範囲が好ましい。親水性ポリマーの使用量
は、０．０５乃至２０ｇ／ｍ² であることが好ましく、
０．１乃至１０ｇ／ｍ² であることがさらに好ましい。
なお、ハロゲン化銀を含む層において、ゼラチンと他の
親水性ポリマーを併用する場合は、ハロゲン化銀を含む
層のｐＨをゼラチンの等電点よりも１．２以下または
１．２以上の値に調整することが好ましい。As the polyvinyl alcohol, those having various degrees of saponification can be used. However, in order to lower the oxygen permeability, the saponification degree is preferably 50% or more, more preferably 80% or more, and 9%.
It is particularly preferred that the content be 5% or more. Copolymerized modified polyvinyl alcohol can also be used. Copolymerization modification is a method of saponifying a copolymer of vinyl acetate and another monomer to synthesize a modified polyvinyl alcohol. Any monomer can be used as long as it copolymerizes with vinyl acetate. Examples of such monomers include:
Mention may be made of ethylene, higher vinyl carboxylate, higher alkyl vinyl ether, methyl methacrylate and acrylamide. Also, post-modified polyvinyl alcohol can be used. Post-modification, using a compound that is reactive to the hydroxyl group of polyvinyl alcohol,
This is a method in which polyvinyl alcohol is denatured by a polymer reaction after synthesis. Specifically, the hydroxyl group of polyvinyl alcohol is modified by etherification, esterification, or acetalization. Furthermore, cross-linked polyvinyl alcohol can be used. As a crosslinking agent,
Aldehydes, methylol compounds, epoxy compounds, diisocyanates, divinyl compounds, dicarboxylic acids, or inorganic crosslinking agents (eg, boric acid, titanium, copper) can be used. The molecular weight of the hydrophilic polymer is preferably in the range of 3000 to 500,000. The amount of the hydrophilic polymer used is preferably 0.05 to 20 g / m ² ,
More preferably, it is 0.1 to 10 g / m ² .
When gelatin and another hydrophilic polymer are used in combination in the layer containing silver halide, the pH of the layer containing silver halide is set to a value of 1.2 or less or 1.2 or more higher than the isoelectric point of gelatin. It is preferable to adjust to.

【０１１９】［塩基または塩基プレカーサー］感光材料
は、塩基または塩基プレカーサーを含むことができる。
特に加熱による乾式の現像処理を行う場合、感光材料は
塩基または塩基プレカーサーを含むことが好ましい。塩
基および塩基プレカーサーとしては、無機の塩基および
有機の塩基、またはそれらの塩基プレカーサー（脱炭酸
型、熱分解型、反応型および錯塩形成型など）が使用で
きる。無機塩基の例は特開昭６２−２０９４４８号公報
に記載がある。有機塩基の例としては、第３級アミン化
合物（特開昭６２−１７０９５４号公報記載）、ビスあ
るいはトリスあるいはテトラアミジン化合物（特開昭６
３−３１６７６０号公報記載）およびビスあるいはトリ
スあるいはテトラグアニジン化合物（特開昭６４−６８
７４６号公報記載）を挙げることができる。本発明にお
いては、ｐＫａ７以上の塩基が好ましい。本発明におい
ては、感光材料の保存安定性の点から塩基よりも塩基プ
レカーサーが好ましい。好ましい塩基プレカーサーの例
としては、加熱より脱炭酸する有機酸と塩基の塩（特開
昭６３−３１６７６０号、同６４−６８７４６号、同５
９−１８０５３７号および同６１−３１３４３１号各公
報記載）および加熱により塩基を放出する尿素化合物
（特開昭６３−９６１５９号公報記載）を挙げることが
できる。また、反応を利用して塩基を放出させる方法と
しては、遷移金属アセチリド、遷移金属イオンに対しア
セチリドアニオン以上の親和性を有するアニオンを含む
塩との反応（特開昭６３−２５２０８号公報記載）や、
水に難溶な塩基性金属化合物およびこの塩基性金属化合
物を構成する金属イオンに対し水を媒体として錯形成反
応し得る化合物を含有させ、水の存在下でこれらの２つ
の化合物の間の反応による塩基を放出させる方法（特開
平１−３２８２号公報記載）が挙げられる。本発明の塩
基プレカーサーとしては、５０℃〜２００℃で塩基を放
出するものであることが好ましく、８０℃〜１６０℃で
塩基を放出するものであることがさらに好ましい。塩基
と塩基プレカーサーは、併用することもできる。塩基ま
たは塩基プレカーサーは、ハロゲン化銀１モル当たり
０．１乃至２０モルの範囲で使用することが好ましく、
より好ましくは０．２乃至１０モルの範囲である。[Base or Base Precursor] The light-sensitive material can contain a base or a base precursor.
In particular, when performing a dry development process by heating, the photosensitive material preferably contains a base or a base precursor. As the base and the base precursor, an inorganic base and an organic base, or a base precursor thereof (a decarboxylation type, a thermal decomposition type, a reaction type and a complex salt forming type) can be used. Examples of inorganic bases are described in JP-A-62-209448. Examples of the organic base include tertiary amine compounds (described in JP-A-62-170954), bis-, tris-, or tetraamidine compounds (described in JP-A-6-170954).
JP-A-3-316760) and bis or tris or tetraguanidine compounds (JP-A-64-68).
746). In the present invention, a base having a pKa of 7 or more is preferable. In the present invention, a base precursor is preferable to a base from the viewpoint of storage stability of the light-sensitive material. Examples of preferred base precursors include salts of organic acids and bases which can be decarboxylated by heating (JP-A-63-316760, JP-A-64-68746, and JP-A-68-74646).
And urea compounds which release a base upon heating (described in JP-A-63-96159). As a method for releasing a base by utilizing a reaction, a reaction with a transition metal acetylide or a salt containing an anion having an affinity higher than that of the acetylide anion with respect to the transition metal ion (described in JP-A-63-25208) And
A basic metal compound which is hardly soluble in water and a compound capable of forming a complex with a metal ion constituting the basic metal compound using water as a medium are contained, and a reaction between these two compounds in the presence of water is contained. (Described in JP-A-1-28282). The base precursor of the present invention preferably releases a base at 50 ° C to 200 ° C, and more preferably releases a base at 80 ° C to 160 ° C. A base and a base precursor can be used in combination. The base or base precursor is preferably used in an amount of 0.1 to 20 mol per mol of silver halide,
More preferably, it is in the range of 0.2 to 10 mol.

【０１２０】［熱現像促進剤］本発明に用いる感光材料
は、熱現像を促進し、熱現像処理をより短時間で行うた
めに、熱現像促進剤をいずれかの層に含有してもよい。
熱現像促進剤としては、感光材料のいずれかの層に用い
られるバインダーに対して室温もしくは加熱時に可塑化
作用を有する化合物や、可塑化作用はないが加熱によっ
て層内で溶融しうる化合物であればいずれも使用可能で
ある。感光材料のいずれかの層に用いられるバインダー
に対して室温もしくは加熱時に可塑化作用を有する化合
物としては、高分子化合物の可塑剤として知られている
公知の化合物がすべて使用可能である。このような可塑
剤としては、「プラスチック配合剤」大成社、P21-63；
「プラスチックス・アディティブズ第２版」（Plastics
Additives, 2nd Edition ）Hanser Publishers, Chap.
5 P251-296；「サーモプラスティク・アディティブズ」
（Thermoplastics Additives）Marcel Dekker Inc. Cha
p.9 P345-379；「プラスティク・アディティブズ・アン
・インダストリアル・ガイド」（Plastics Additives A
n Industrial Guide）Noyes Publications, Section-14
P333-485 ；「ザ・テクノロジー・オブ・ソルベンツ・
アンド・プラスティサイザーズ」（The Technology of
Solvents and Plasticizers ）John Wiley & Sons Inc.
Chap.15 P903-1027）；「インダストリアル・プラステ
ィサイザーズ」（Industrial Plasticizers, Pergamon
Press ）；「プラスティサイザー・テクノロジー第１
巻」（Plasticizer Technology Vol.1, Reinhold Publi
shing Corp. ）；「プラスティサイゼーション・アンド
・プラスティサイザー・プロセス」（Plusticization a
nd Plusticizer Process, American Chemistry）に記載
の可塑剤が使用できる。好ましい熱現像促進剤として
は、グリコール類（例、ジエチレングリコール、ジポリ
プロピレングリコール）、多価アルコール類（例、グリ
セリン、ブタンジオール、ヘキサンジオール）、糖類、
ギ酸エステル、尿素類（例、尿素、ジエチル尿素、エチ
レン尿素、プロピレン尿素）、尿素樹脂、フェノール樹
脂、アミド化合物（例、アセトアミド、プロピオンアミ
ド）、スルファミド類およびスルホンアミド類を挙げる
ことができる。また、上記の熱現像促進剤を２種以上組
み合わせて使用することもできる。また、２つ以上の層
に分割して添加することもできる。熱現像促進剤の添加
量は、０．０５乃至２ｇ／ｍ² であることが好ましく、
０．１乃至１ｇ／ｍ² であることがさらに好ましい。[Thermal Development Accelerator] The photosensitive material used in the present invention may contain a thermal development accelerator in any one of the layers in order to promote thermal development and to perform thermal development processing in a shorter time. .
As the thermal development accelerator, a compound having a plasticizing effect at room temperature or upon heating with respect to a binder used in any layer of the photosensitive material, or a compound having no plasticizing effect but capable of melting in the layer by heating is used. Any of them can be used. As the compound having a plasticizing action at room temperature or when heated to a binder used in any layer of the photosensitive material, all known compounds known as plasticizers of high molecular compounds can be used. Examples of such a plasticizer include “Plastic Compounding Agent” Taiseisha, P21-63;
"Plastics Additives Second Edition" (Plastics
Additives, 2nd Edition) Hanser Publishers, Chap.
5 P251-296; “Thermoplastic Additives”
(Thermoplastics Additives) Marcel Dekker Inc. Cha
p.9 P345-379; "Plastics Additives An Industrial Guide" (Plastics Additives A
n Industrial Guide) Noyes Publications, Section-14
P333-485; "The Technology of Solvents
And Plasticizers "(The Technology of
Solvents and Plasticizers) John Wiley & Sons Inc.
Chap.15 P903-1027); "Industrial Plasticizers" (Industrial Plasticizers, Pergamon
Press); "Plasticizer Technology No. 1
(Plasticizer Technology Vol.1, Reinhold Publi
shing Corp.); “Plasticization and plasticizer process”
nd Plusticizer Process, American Chemistry). Preferred thermal development accelerators include glycols (eg, diethylene glycol, dipropylene glycol), polyhydric alcohols (eg, glycerin, butanediol, hexanediol), sugars,
Formic esters, ureas (eg, urea, diethyl urea, ethylene urea, propylene urea), urea resins, phenolic resins, amide compounds (eg, acetamido, propionamide), sulfamides and sulfonamides can be mentioned. Further, two or more of the above thermal development accelerators can be used in combination. Further, it can be added separately in two or more layers. The addition amount of the thermal development accelerator is preferably 0.05 to 2 g / m ² ,
More preferably, it is 0.1 to 1 g / m ² .

【０１２１】［着色剤］ハレーションおよびイラジエー
ション防止、または重合画像の着色を目的として、着色
剤を感光材料に添加することができる。このための着色
剤としては、重合性層の重合硬化反応を著しく妨げた
り、ハロゲン化銀の感光性や現像性を著しく妨げたりし
ない限りにおいて、顔料・染料を問わず任意の公知の着
色剤を使用することができる。着色剤をハレーション防
止または画像の着色の目的で使用する場合は、重合性層
に添加するのが好ましい。また、イラジエーション防止
の目的で使用する場合は、感光性層に添加するのが好ま
しい。ハレーションおよびイラジエーション防止のため
に着色剤を添加する場合は、ハロゲン化銀の感光波長領
域の光を吸収できるものが好ましい。着色剤として用い
ることができる顔料としては、市販の顔料およびカラー
インデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日
本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技
術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技
術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔
料が利用できる。黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素
が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレー
キ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペ
リノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キ
ノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニ
トロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔
料が使用できる。これら顔料は表面処理をせずに用いて
もよく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理
の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面
活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シラン
カップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート
等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記
の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書
房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８
６年刊）に記載されている。顔料の粒径は０．０１乃至
１０μｍの範囲であることが好ましく、０．０５乃至１
μｍの範囲であることがさらに好ましい。顔料を分散す
る方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられ
る公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音
波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、ス
ーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、
ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミ
ル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料
応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載があ
る。着色剤として用いることができる染料としては、市
販の染料および文献（例えば「染料便覧」有機合成化学
協会編集、昭和４５年刊）に記載されている公知のもの
が利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染
料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロ
シアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、
メチン染料などの染料が挙げられる。ハロゲン化銀の感
度への影響が少ないイラジエーション防止用の染料は、
特公昭４１−２０３８９号、同４３−３５０４号、同４
３−１３１６８号および特開平２−３９０４２号各公
報、および米国特許３６９７０３７号、同３４２３２０
７号、同２８６５７５２号、英国特許１０３０３９２号
および同１１００５４６号各明細書に記載がある。着色
剤の使用量は、０．０１乃至２ｇ／ｍ² 、より好ましく
は０．０５乃至１ｇ／ｍ² である。[Colorant] A colorant can be added to the light-sensitive material for the purpose of preventing halation and irradiation, or coloring a polymerized image. As a colorant for this, any known colorant regardless of pigment or dye may be used as long as it does not significantly hinder the polymerization curing reaction of the polymerizable layer or significantly hinders the photosensitivity and developability of silver halide. Can be used. When a colorant is used for the purpose of preventing halation or coloring an image, it is preferably added to the polymerizable layer. When used for the purpose of preventing irradiation, it is preferably added to the photosensitive layer. When a colorant is added to prevent halation and irradiation, those capable of absorbing light in the photosensitive wavelength region of silver halide are preferred. Examples of the pigment that can be used as a colorant include commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing) Pigment described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) can be used. Examples include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bound pigments. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments And quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, and inorganic pigments. These pigments may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate) to the pigment surface. Conceivable. The above surface treatment methods are described in “Properties and Applications of Metallic Soap” (Koshobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 198).
6th edition). The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 to 10 μm, and 0.05 to 1 μm.
More preferably, it is in the range of μm. As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, attritors, pearl mills, supermills, ball mills, impellers, desparsers,
Examples include a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986). As the dye that can be used as the colorant, commercially available dyes and known dyes described in literature (for example, “Dye Handbook” edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dye, metal complex salt azo dye, pyrazolone azo dye, anthraquinone dye, phthalocyanine dye, carbonium dye, quinone imine dye,
Dyes such as methine dyes are exemplified. Dyes for preventing irradiation which have little effect on the sensitivity of silver halide are
JP-B-41-20389, JP-B-43-3504, JP-B-4
3-1168 and JP-A-2-39042, and U.S. Pat. Nos. 3697037 and 342320.
7, 2,865,752, British Patent Nos. 1,030,392 and 1,100,546. The amount of the colorant used is 0.01 to 2 g / m ² , and more preferably 0.05 to 1 g / m ² .

【０１２２】［かぶり防止剤、現像促進剤、安定剤］写
真特性を改良するために、かぶり防止剤、銀現像を促進
する銀現像促進剤、安定剤等の添加剤をいずれかの層に
含有させてもよい。それらの例としては、リサーチ・デ
ィスクロージャー誌Ｎｏ．１７６４３、２４〜２５ペー
ジ（１９７８年）に記載されているアゾール類やアザイ
ンデン類、特開昭５９−１６８４４２号公報に記載の窒
素を含むカルボン酸類およびリン酸類、同６２−８７９
５７号公報記載のアセチレン化合物類を挙げることがで
きる。これらの化合物の使用量はハロゲン化銀１モル当
り１０^-7モル乃至１モルの範囲である。[Anti-fogging agent, development accelerator, stabilizer] In order to improve photographic characteristics, additives such as an anti-fogging agent, a silver development accelerator for accelerating silver development, and a stabilizer are contained in any layer. May be. Examples thereof include Research Disclosure Magazine No. 17643, pp. 24-25 (1978), azoles and azaindenes, and carboxylic acids and phosphoric acids containing nitrogen described in JP-A-59-168442, 62-879.
No. 57 acetylene compounds. The amount of these compounds used is in the range of 10 ^-7 mol to 1 mol per mol of silver halide.

【０１２３】［現像停止剤］本発明において、熱現像時
の処理温度および処理時間に対し、常に一定の画像を得
る目的で種々の現像停止剤を用いることができる。ここ
でいう現像停止剤とは、適正現像後、速やかに塩基を中
和または塩基と反応して層中の塩基濃度を下げ現像を停
止させる化合物または銀および銀塩と相互作用して現像
を抑制させる化合物である。具体的には、加熱により酸
を放出する酸プレカーサー、加熱により共存する塩基と
置換反応を起こす親電子化合物、または含窒素ヘテロ環
化合物、メルカプト化合物およびその前駆体等が挙げら
れる。熱現像停止剤については、特開昭６２−２５３１
５９号公報、特開平２−４２４４７号および同２−２６
２６６１号各公報に記載がある。[Development Stopping Agent] In the present invention, various development stopping agents can be used for the purpose of always obtaining a constant image with respect to the processing temperature and the processing time during the heat development. The term "development terminator" as used herein means that after appropriate development, the base is quickly neutralized or reacts with the base to reduce the base concentration in the layer and to inhibit development by interacting with a compound or silver and silver salt. Compound. Specific examples include an acid precursor that releases an acid when heated, an electrophilic compound that undergoes a substitution reaction with a coexisting base when heated, or a nitrogen-containing heterocyclic compound, a mercapto compound, and a precursor thereof. Thermal development terminators are disclosed in JP-A-62-2531.
No. 59, JP-A-2-42447 and 2-26
No. 2661, each of which is described.

【０１２４】［界面活性剤］本発明においては、界面活
性剤をいずれかの層に添加することができる。界面活性
剤は、公知のものが使用できる。例としては、ノニオン
活性剤、アニオン活性剤、カチオン活性剤、フッ素活性
剤、特開平２−１９５３５６号公報に記載の界面活性剤
を挙げることができる。特に、ソルビタン類、ポリオキ
シエチレン類、含窒素界面活性剤が好ましい。[Surfactant] In the present invention, a surfactant can be added to any of the layers. Known surfactants can be used. Examples thereof include nonionic activators, anionic activators, cationic activators, fluorine activators, and surfactants described in JP-A-2-195356. Particularly, sorbitans, polyoxyethylenes, and nitrogen-containing surfactants are preferable.

【０１２５】［マット剤］感光材料のバック層、または
感光層が塗設された側の最上層に設けられるオーバーコ
ート層あるいは画像形成促進層に含むことのできるマッ
ト剤は、通常の銀塩写真の技術分野やにおいてよく知ら
れている親水性コロイドバインダー中に分散可能な無機
または有機材料の不連続固体粒子である。無機のマット
剤の例としては、酸化物（例、二酸化珪素、酸化チタ
ン、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム）、アルカリ
土類金属塩（例、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウム、
硫酸マグネシウム、炭酸カリウム）、画像を形成しない
ハロゲン化銀粒子およびガラスを挙げることができる。
また、有機のマット剤の例としては、デンプン、セルロ
ースエステル、セルロースエーテルおよび合成樹脂を挙
げることができる。合成樹脂としては、水不溶または水
難溶性の合成ポリマーを用いることが好ましい。このよ
うなポリマーの例には、アルキルアクリレート、アルキ
ルメタクリレート、アルコキシアルキルアクリレート、
アルコキシアルキルメタクリレート、グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート、アクリルアミド、
メタクリルアミド、ビニルエステル、アクリロニトリ
ル、オレフィン、スチレンまたはベンゾグアナミンのホ
モポリマーまたはコポリマーが含まれる。上記コポリマ
ーの場合、他の共重合単位の例としては、アクリル酸、
メタクリル酸、α、β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキ
シアルキルアクリレート、ヒドロキシアルキルメタクリ
レート、スルホアルキルアクリレート、スルホアルキル
メタクリレートおよびスチレンスルホン酸を挙げること
ができる。その他、エポキシ樹脂、ナイロン、ポリカー
ボネート、フェノール樹脂、ポリビニルカルバゾール、
ポリ塩化ビニリデンも利用できる。また、メタクリル酸
アルキル／メタクリル酸コポリマーのようなアルカリ可
溶性マット剤（特開昭５３−７２３１号、同５８−６６
９３７号および同６０−８８９４号各公報記載）やアニ
オン性基を有するアルカリ可溶性ポリマー（特開昭５８
−１６６３４１号公報記載）も利用できる。マット剤の
粒径は１乃至５０μｍの範囲が好ましい。粒径分布は、
単分散であっても多分散であってもよい。粒子の最大粒
径が３０μｍを越えないマット剤で、さらに粒径２０μ
ｍ以上のものが１０vol.％以下であることが特に好まし
い。上記マット剤の使用量は、０．０１乃至１ｇ／ｍ²
の範囲で用いることが好ましく、０．１乃至０．７ｇ／
ｍ² の範囲で用いることがさらに好ましい。[Matting Agent] The matting agent which can be contained in the back layer of the photosensitive material, the overcoat layer provided on the uppermost layer on the side on which the photosensitive layer is provided, or the image formation accelerating layer is a common silver salt photographic material. And discontinuous solid particles of an inorganic or organic material which can be dispersed in a hydrophilic colloid binder well known in the art. Examples of inorganic matting agents include oxides (eg, silicon dioxide, titanium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide), alkaline earth metal salts (eg, barium sulfate, strontium sulfate,
Magnesium sulfate, potassium carbonate), non-image-forming silver halide grains and glass.
Examples of the organic matting agent include starch, cellulose ester, cellulose ether and synthetic resin. As the synthetic resin, it is preferable to use a water-insoluble or hardly water-soluble synthetic polymer. Examples of such polymers include alkyl acrylates, alkyl methacrylates, alkoxyalkyl acrylates,
Alkoxyalkyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, acrylamide,
Includes homopolymers or copolymers of methacrylamide, vinyl ester, acrylonitrile, olefin, styrene or benzoguanamine. In the case of the above copolymer, examples of other copolymerized units include acrylic acid,
Mention may be made of methacrylic acid, α, β-unsaturated dicarboxylic acids, hydroxyalkyl acrylates, hydroxyalkyl methacrylates, sulfoalkyl acrylates, sulfoalkyl methacrylates and styrene sulfonic acids. In addition, epoxy resin, nylon, polycarbonate, phenol resin, polyvinyl carbazole,
Polyvinylidene chloride can also be used. Further, an alkali-soluble matting agent such as an alkyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (JP-A-53-7231, JP-A-58-66).
No. 937 and No. 60-8894) and an alkali-soluble polymer having an anionic group (Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-1983).
166341) can also be used. The particle size of the matting agent is preferably in the range of 1 to 50 μm. The particle size distribution is
It may be monodisperse or polydisperse. Matting agent whose maximum particle size does not exceed 30 μm
It is particularly preferable that the ratio of m or more is 10 vol.% or less. The amount of the matting agent used is 0.01 to 1 g / m ^2.
It is preferably used in the range of 0.1 to 0.7 g /
More preferably, it is used in the range of m ² .

【０１２６】［重合禁止剤］感光材料の保存中に重合性
化合物が重合してしまうのを防止するためのに、重合禁
止剤を重合性層に添加することができる。このための重
合禁止剤としては、従来公知の重合禁止剤がいずれも使
用可能である。重合禁止剤の例としては、ニトロソアミ
ン化合物、チオ尿素化合物、チオアミド化合物、尿素化
合物、フェノール誘導体、ニトロベンゼン誘導体および
アミン化合物を挙げることができる。さらに具体的に
は、クペロンアルミニウム塩、Ｎ−ニトロソジフェニル
アミン、アリルチオ尿素、アリールフォスファイト、ｐ
−トルイジン、φ−トルチノン、ニトロベンゼン、ピリ
ジン、フェナチアジン、β−ナフトール、ナフチルアミ
ン、ｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン、クロラニ
ール、ｐ−メトキシフェノール、ピロガロール、ハイド
ロキノン、およびアルキルまたはアリール置換ハイドロ
キノンを挙げることができる。[Polymerization Inhibitor] A polymerization inhibitor can be added to the polymerizable layer in order to prevent polymerization of the polymerizable compound during storage of the photosensitive material. As the polymerization inhibitor for this purpose, any conventionally known polymerization inhibitors can be used. Examples of the polymerization inhibitor include a nitrosamine compound, a thiourea compound, a thioamide compound, a urea compound, a phenol derivative, a nitrobenzene derivative, and an amine compound. More specifically, cuperone aluminum salt, N-nitrosodiphenylamine, allylthiourea, aryl phosphite, p
-Toluidine, [phi] -tolutinone, nitrobenzene, pyridine, phenathiazine, [beta] -naphthol, naphthylamine, t-butylcatechol, phenothiazine, chloranil, p-methoxyphenol, pyrogallol, hydroquinone, and alkyl or aryl substituted hydroquinone.

【０１２７】次に、画像形成の各工程について説明す
る。 ［画像露光］画像露光は、ハロゲン化銀の分光感度（増
感色素）に応じた波長の光を放出する光源を用いて行
う。用いることのできる光源の例としては、タングステ
ンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノン
フラッシュランプ、水銀ランプ、カーボンアークランプ
等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘ
リウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリ
ムカドミウムレーザー）、発光ダイオード、陰極線管な
どを挙げることができる。露光波長は、可視光、近紫外
光、近赤外光が一般的であるが、Ｘ線、電子ビームを用
いてもよい。露光量はハロゲン化銀の感度で決まるが、
一般に、０．０１乃至１００００ｅｒｇｓ／ｃｍ² 、よ
り好ましくは０．１乃至１０００ｅｒｇ／ｃｍ² の範囲
である。なお、支持体が透明である場合は、支持体の裏
側から支持体を通して露光することもできる。Next, each step of image formation will be described. [Image exposure] Image exposure is performed using a light source that emits light having a wavelength corresponding to the spectral sensitivity (sensitizing dye) of silver halide. Examples of light sources that can be used include tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, carbon arc lamps, and various other lasers (eg, semiconductor lasers, helium neon lasers, argon ion lasers, (Helim cadmium laser), a light emitting diode, a cathode ray tube, and the like. The exposure wavelength is generally visible light, near ultraviolet light, or near infrared light, but X-rays or electron beams may be used. The exposure is determined by the sensitivity of the silver halide,
Generally, it is in the range of 0.01 to 10000 ergs / cm ² , more preferably 0.1 to 1000 erg / cm ² . When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support.

【０１２８】［現像処理］感光材料の現像は、一般に加
熱による乾式（熱現像）で行う。ただし、現像液を使用
する湿式の現像処理を採用してもよい。熱現像は、感熱
材料を加熱した物体（例えば、金属の板、ブロック、ロ
ーラー）に密着する方法、加熱した液体に浸漬する方
法、赤外線を照射する方法等によって行うことができ
る。感光材料の表面を空気中に開放し、支持体側から加
熱してもよく、あるいは表面を加熱物体に密着させ、空
気を遮断した状態で加熱してもよい。表面を空気中に開
放して加熱する場合、空中の酸素が感光材料中に浸透し
て重合反応を阻害することがあるので、感光材料の少な
くとも一部の層に、前述した酸素の透過率が低いポリマ
ーをバインダーとして用いることが好ましい。加熱温度
は６０乃至２００℃、より好ましくは１００乃至１５０
℃の範囲である。加熱時間は１乃至１８０秒、より好ま
しくは５乃至６０秒の範囲である。露光済の感光材料を
主加熱条件よりも低い温度または短時間で予備加熱する
か、または主加熱後に後加熱してもよい。後加熱は、画
像形成の後処理の後、例えば溶出（エッチング）処理後
に行ってもよい。還元剤またはその酸化体の重合禁止作
用を利用して重合画像を形成する場合は、重合開始剤か
ら均一にラジカルを発生させる必要がある。熱重合開始
剤を用た場合は、熱現像時の加熱でラジカルを発生させ
ることができるので、加熱は一回でよい。光重合開始剤
を用いた場合は、ラジカルを発生させるために、熱現像
後に、全面露光する必要がある。この際の光は、光重合
開始剤の吸収する波長を有していなければならない。光
源としては、前記の画像露光に用いる光源として例示し
たものから、適宜、選択することができる。露光量は約
１０³ 乃至１０⁷ ｅｒｇｓ／ｃｍ² の範囲である。[Development processing] Development of the photosensitive material is generally performed by dry (thermal development) by heating. However, a wet developing process using a developing solution may be employed. The thermal development can be performed by a method in which the heat-sensitive material is brought into close contact with a heated object (for example, a metal plate, a block, or a roller), a method in which the heat-sensitive material is immersed in a heated liquid, or a method in which infrared light is irradiated. The surface of the photosensitive material may be opened into the air and heated from the support side, or the surface may be closely contacted with a heated object and heated while the air is shut off. When the surface is opened to the air and heated, oxygen in the air may penetrate into the photosensitive material and inhibit the polymerization reaction, so that at least a part of the layer of the photosensitive material has the above-described oxygen transmittance. Preferably, a low polymer is used as the binder. The heating temperature is 60 to 200 ° C, more preferably 100 to 150.
It is in the range of ° C. The heating time ranges from 1 to 180 seconds, more preferably from 5 to 60 seconds. The exposed photosensitive material may be pre-heated at a lower temperature or a shorter time than the main heating condition, or may be post-heated after the main heating. The post-heating may be performed after the post-processing of image formation, for example, after the elution (etching) processing. When a polymerization image is formed by utilizing the polymerization inhibiting action of the reducing agent or its oxidized product, it is necessary to uniformly generate radicals from the polymerization initiator. When a thermal polymerization initiator is used, heating can be performed only once because radicals can be generated by heating during thermal development. When a photopolymerization initiator is used, the entire surface must be exposed after thermal development in order to generate radicals. The light at this time must have a wavelength that the photopolymerization initiator absorbs. The light source can be appropriately selected from those exemplified as the light source used for the image exposure. Exposure doses range from about 10 ^{3 to} 10 ⁷ ergs / cm ² .

【０１２９】熱現像後、得られた画像は、その硬化部と
未硬化部との化学的または物理的性質（例えば、溶解
性、表面粘着性、支持体との接着の強さ、軟化点、屈折
性、誘電率、拡散性、着色性）の違いを利用して後処理
をする。後処理とては、溶出（エッチング）処理、（シ
ートによる）除去処理、転写処理、トナー現像処理およ
び染色処理が挙げられる。以下、各処理について説明す
る。これらの処理を任意に組み合わせて実施してもよ
い。After the thermal development, the obtained image shows the chemical or physical properties of the cured part and the uncured part (for example, solubility, surface tackiness, strength of adhesion to a support, softening point, Post-processing is performed using the difference in refractive index, dielectric constant, diffusivity, and coloring property). The post-processing includes an elution (etching) process, a removal process (with a sheet), a transfer process, a toner development process, and a dyeing process. Hereinafter, each process will be described. These processes may be performed in any combination.

【０１３０】［溶出（エッチング）処理］溶出処理で
は、未硬化部と硬化部の溶解性の差を利用して、未硬化
部のみを溶出してポリマー画像を形成する。一般に、熱
現像の後、重合性層の未硬化部を除去できる液体（エッ
チング液）に感光材料を浸漬する。エッチング液には、
有機溶剤、アルカリ性水溶液またはその混合液などの未
硬化の重合性層を溶かすか膨潤させる液体を使用する。
アルカリ性化合物としては、水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケ
イ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸カリウ
ム、リン酸ナトリウム、アンモニアおよびアミノアルコ
ール類（例、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン）を挙げることができる。水
を主体にしたエッチング液には、必要に応じて種々の有
機溶媒を添加してもよい。有機溶媒としては、低級アル
コール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、
ブタノール）、芳香族環含有アルコール（例、ベンジル
アルコール、フェネチルアルコール）、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、セロソルブ類、および塩
基として前述したアミノアルコール類が挙げられる。さ
らに、エッチング液は必要に応じて、界面活性剤、消泡
剤、その他の添加剤を添加することができる。また、市
販の印刷版用の現像液も用いることができる。熱現像を
終わった感光材料は、直接エッチング液に浸漬してもよ
いが、予め、重合性層以外の感光性層などを水洗い、も
しくは剥離して除去してからエッチング液に浸漬しても
よい。[Elution (Etching) Treatment] In the elution treatment, only the uncured part is eluted by utilizing the difference in solubility between the uncured part and the cured part to form a polymer image. In general, after thermal development, the photosensitive material is immersed in a liquid (etching liquid) capable of removing the uncured portion of the polymerizable layer. In the etching solution,
A liquid that dissolves or swells the uncured polymerizable layer, such as an organic solvent, an alkaline aqueous solution, or a mixture thereof is used.
Examples of the alkaline compound include potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium silicate, sodium silicate, potassium metasilicate, sodium metasilicate, potassium phosphate, sodium phosphate, ammonia and amino alcohols (eg, monoethanolamine, diethanolamine , Triethanolamine). Various organic solvents may be added to the etching solution mainly composed of water as needed. Organic solvents include lower alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol,
Butanol), aromatic ring-containing alcohols (eg, benzyl alcohol, phenethyl alcohol), ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, cellosolves, and the above-mentioned amino alcohols as bases. Further, a surfactant, an antifoaming agent, and other additives can be added to the etching solution as needed. Further, a commercially available developer for a printing plate can also be used. The photosensitive material after the heat development may be directly immersed in the etching solution, or may be immersed in the etching solution after previously removing the photosensitive layer or the like other than the polymerizable layer by washing or peeling. .

【０１３１】［（シートによる）除去処理］未硬化部と
硬化部の支持体との接着の強さの差を利用して、未硬化
部もしくは硬化部を選択的に別のシート（除去シート）
に付着させて除去する。これにより、感光材料に残った
部分を画像として利用する。なお、除去シートは、画像
露光前あるいは現像前に感光材料とラミネートしておい
てもよい。[Removal treatment (by sheet)] The uncured portion or the cured portion is selectively separated into another sheet (removed sheet) by utilizing the difference in the adhesive strength between the uncured portion and the cured portion of the support.
And remove it. Thus, the portion remaining on the photosensitive material is used as an image. The removal sheet may be laminated with the photosensitive material before image exposure or development.

【０１３２】［転写処理］未硬化部と硬化部の支持体と
の接着の強さの差を利用して、未硬化部もしくは硬化部
を選択的に別のシート（受像材料）に付着させて転写す
る。これにより、受像材料に転写された部分を画像とし
て利用する。なお、受像材料は、画像露光前あるいは現
像前に感光材料とラミネートしておいてもよい。[Transfer Processing] The uncured portion or the cured portion is selectively adhered to another sheet (image receiving material) by utilizing the difference in adhesion strength between the uncured portion and the cured portion of the support. Transcribe. Thus, the portion transferred to the image receiving material is used as an image. The image receiving material may be laminated with the photosensitive material before image exposure or development.

【０１３３】［トナー現像処理］未硬化部もしくは硬化
部に選択的に着色物質（トナー）を付着させて、これに
より画像を可視化する。未硬化部と硬化部の表面粘着性
の差を利用して、未硬化部にトナーを付着させることが
できる。また、未硬化部もしくは硬化部に選択的に除去
後、残った部分にトナーを付着させてもよい。感光材料
に粘着性層を設け、未硬化部もしくは硬化部に選択的に
除去後、露出した粘着性層にトナーを付着させてること
もできる。さらに、未硬化部もしくは硬化部に選択的に
転写した受像材料に対しても、トナー現像処理を実施で
きる。[Toner Development Process] A coloring substance (toner) is selectively adhered to the uncured portion or the cured portion, thereby visualizing the image. By utilizing the difference in surface tackiness between the uncured portion and the cured portion, toner can be attached to the uncured portion. Further, after selectively removing the uncured portion or the cured portion, the toner may be attached to the remaining portion. An adhesive layer may be provided on the photosensitive material, and after selectively removing the uncured or cured portions, toner may be attached to the exposed adhesive layer. Further, the toner developing process can be performed on the image receiving material selectively transferred to the uncured portion or the cured portion.

【０１３４】［染色処理」未硬化部または硬化部を選択
的に染色し、画像を可視化する。未硬化部もしくは硬化
部に選択的に転写した受像材料に対して、染色処理を実
施してもよい。[Dyeing treatment] The uncured portion or the cured portion is selectively stained to visualize the image. A dyeing process may be performed on the image receiving material selectively transferred to the uncured portion or the cured portion.

【０１３５】以上のように得られた画像は、印刷版、カ
ラープルーフ、ハードコピー、レリーフなどに用いるこ
とができる。The image obtained as described above can be used for a printing plate, a color proof, a hard copy, a relief and the like.

【０１３６】[0136]

【実施例】【Example】

［実施例１］感光材料の作成 「アルミニウム支持体の作成」厚さが０．３０ｍｍのア
ルミニウム板の表面を、ナイロンブラシとパミストン
（４００メッシュ）の水懸濁液とで砂目立てした後、水
でよく洗浄した。次に、１０％の水酸化ナトリウム水溶
液に７０℃で６０秒間浸漬してエッチングしたのち、流
水で水洗いした。２０％の硝酸水溶液で中和、洗浄し、
水洗いした。得られたアルミニウム板を、正弦波の交番
波形電流（条件：陽極時電圧１２．７ｖ、陽極時電気量
に対する陰極時電気量の比が０．８、陽極時電気量１６
０クーロン／ｄｍ² ）を用いて、１％硝酸水溶液中で電
解粗面化処理を行った。得られた板の表面粗さは、０．
６μｍ（Ｒａ表示）であった。この処理に続いて、３０
％の硫酸水溶液中、５５℃で２分間デスマットした。次
に、厚さが２．７ｇ／ｄｍ²になるように、２０％の硫
酸水溶液中で陽極酸化処理をした（電流密度：２Ａ／ｄ
ｍ² ）。得られたアルミニウム板を、３重量％のケイ酸
ナトリウム水溶液に、７０℃で２０分間浸漬し、水洗、
乾燥した。[Example 1] Preparation of photosensitive material " Preparation of aluminum support" After graining the surface of an aluminum plate having a thickness of 0.30 mm with a nylon brush and an aqueous suspension of Pamistone (400 mesh), water was used. Well washed. Next, the film was immersed in a 10% aqueous solution of sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching, and then washed with running water. Neutralized with 20% nitric acid aqueous solution, washed,
Washed with water. The obtained aluminum plate was subjected to a sine wave alternating waveform current (condition: voltage at anode: 12.7 v, ratio of electricity at cathode to electricity at anode: 0.8, electricity at anode: 16).
Using 0 coulomb / dm ² ), electrolytic surface roughening treatment was performed in a 1% aqueous nitric acid solution. The surface roughness of the obtained plate was 0.
It was 6 μm (Ra indication). Following this processing, 30
The mixture was desmutted in a 55% aqueous sulfuric acid solution at 55 ° C. for 2 minutes. Next, anodizing treatment was performed in a 20% aqueous sulfuric acid solution so that the thickness became 2.7 g / dm ² (current density: 2 A / d).
m ² ). The obtained aluminum plate is immersed in a 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 20 minutes, washed with water,
Dried.

【０１３７】「顔料分散液の調製」下記の組成の混合液
をダイノミル分散機にて４５℃で１時間分散した。この
ようにして平均粒子サイズが０．１５μｍの顔料分散液
を調製した。[Preparation of Pigment Dispersion] A mixture having the following composition was dispersed at 45 ° C. for 1 hour using a Dynomill disperser. Thus, a pigment dispersion having an average particle size of 0.15 μm was prepared.

【０１３８】 ──────────────────────────────────── 顔料分散液 ──────────────────────────────────── クロモフタルレッドＡ２Ｂ １８ｇ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合比＝８０／２０） １２ｇ シクロヘキサノン ３０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０ｇ ────────────────────────────────────<< Pigment Dispersion >>ク ロ Chromophthal Red A2B 18 g Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio = 80/20) 12g Cyclohexanone 30g Propylene glycol monomethyl ether 40g

【０１３９】「重合性層の形成」以下の塗布液を前記支
持体上に塗布、乾燥して、膜厚が１．３μｍの重合性層
を設けた。[Formation of Polymerizable Layer] The following coating solution was applied on the support and dried to form a polymerizable layer having a thickness of 1.3 μm.

【０１４０】 ──────────────────────────────────── 重合性層の塗布液 ──────────────────────────────────── ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２．５ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合比＝８３／１７）の２ ０重量％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液 ３７．５ｇ 前記の顔料分散液 １３．０ｇ フッ素系界面活性剤（大日本インキ（株）製、メガファックＦ−１７２） ０．０１ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ３７．０ｇ メチルエチルケトン ３７．０ｇ ────────────────────────────────────<< Coating Solution for Polymerizable Layer >> ─────────────────────────────── Dipentaerythritol hexaacrylate 2.5 g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymer 20% by weight propylene glycol monomethyl ether solution having a ratio of 83/17) 37.5 g The above pigment dispersion 13.0 g Fluorinated surfactant (manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., Megafac F-172) 0.01 g Propylene glycol monomethyl ether 37.0 g Methyl ethyl ketone 37.0 g

【０１４１】「ハロゲン化銀乳剤の調製」石灰処理オセ
インゼラチン（等電点：５．０）と臭化カリウムと水が
入り５５℃に加温された容器に、下記のチオエーテル化
合物を硝酸銀全添加量に対して２．０×１０^-3モル相当
の量で添加した後、反応容器中のｐＡｇを９．２に保ち
つつ、硝酸銀水溶液と、沃化カリウムおよび硝酸銀の全
添加量に対するロジウムのモル比で４×１０^-8モルにな
るようにロジウムアンモニウムクロライドを含有する臭
化カリウム水溶液とを、ｐＡｇコントロールドダブルジ
エット法により添加し、沃臭化銀粒子を形成した。次い
で、５５℃のまま、この乳剤に下記の分光増感色素のメ
タノール溶液（１０^-2Ｍ／Ｌ）を硝酸銀１モル相当の乳
剤に対して２００ｍｌ添加した。さらに引き続いて、同
一温度、ｐＡｇ＝８．９にて、硝酸銀水溶液と、銀に対
するイリジウムのモル比で１０^-7モルになるようにヘキ
サクロロイリジウム（III)酸塩を添加した臭化カリウム
水溶液をコントロールドダブルジェット法で２段目の添
加を行い、下記の組成のコア／シェル型沃臭化銀乳剤粒
子を作成した。なお、上記石灰処理オセインゼラチンの
等電点は、シュクロース濃度勾配等電点電気泳動法（To
da, Y.(1988), 5th IAG Conference) に従って測定した
値である。[Preparation of Silver Halide Emulsion] The following thioether compound was added to silver nitrate in a container containing lime-treated ossein gelatin (isoelectric point: 5.0), potassium bromide and water and heated to 55 ° C. After the addition in an amount equivalent to 2.0 × 10 ⁻³ mol with respect to the addition amount, while maintaining the pAg in the reaction vessel at 9.2, the aqueous solution of silver nitrate and the amount of rhodium relative to the total amount of potassium iodide and silver nitrate were added. An aqueous solution of potassium bromide containing rhodium ammonium chloride was added by a pAg controlled double jet method in a molar ratio of 4 × 10 ⁻⁸ mol to form silver iodobromide grains. Then, at 55 ° C., 200 ml of a methanol solution of the following spectral sensitizing dye (10 ⁻² M / L) was added to this emulsion to an emulsion equivalent to 1 mol of silver nitrate. Subsequently, at the same temperature and pAg = 8.9, an aqueous silver nitrate solution and an aqueous potassium bromide solution to which hexachloroiridium (III) salt was added so that the molar ratio of iridium to silver was 10 ^-7 mol were controlled. The second stage addition was carried out by a double jet method to produce core / shell type silver iodobromide emulsion grains having the following composition. The isoelectric point of the lime-processed ossein gelatin was determined by the sucrose concentration gradient isoelectric focusing method (To
da, Y. (1988), 5th IAG Conference).

【０１４２】コア： 沃臭化銀（沃化銀含有
率：３．５モル％） シェル： 純臭化銀 コア／シェル比： ５／５（銀モル比） 平均沃化銀含有率：１．８モル％ 平均粒子サイズ： ０．３５μｍCore: silver iodobromide (silver iodide content: 3.5 mol%) Shell: pure silver bromide Core / shell ratio: 5/5 (silver molar ratio) Average silver iodide content: 1. 8 mol% average particle size: 0.35 μm

【０１４３】これらの乳剤粒子は、単分散で平均粒子サ
イズの±４０％以内に全粒子の９８％が存在していた。
次いで、この乳剤を水洗、脱塩後、ｐＨを６．２、ｐＡ
ｇを８．９に調整してから、チオ硫酸ナトリウムと塩化
金酸とにより金・硫黄増感を行ない、ハロゲン化銀乳剤
を調製した。These emulsion grains were monodispersed and contained 98% of all grains within ± 40% of the average grain size.
Next, the emulsion was washed with water and desalted, and then adjusted to pH 6.2 and pA.
After adjusting the g to 8.9, gold / sulfur sensitization was performed with sodium thiosulfate and chloroauric acid to prepare a silver halide emulsion.

【０１４４】[0144]

【化４９】 Embedded image

【０１４５】[0145]

【化５０】 Embedded image

【０１４６】「還元剤分散液の調製」下記の組成の混合
液をダイノミル分散機にて４５℃で１時間分散し、還元
剤の分散液を得た。還元剤の平均粒子サイズは１μｍ以
下であった。[Preparation of Reducing Agent Dispersion] A mixture of the following composition was dispersed at 45 ° C. for 1 hour using a Dynomill disperser to obtain a reducing agent dispersion. The average particle size of the reducing agent was 1 μm or less.

【０１４７】 ──────────────────────────────────── 還元剤分散液 ──────────────────────────────────── 下記の還元剤 １０ｇ ケン化度９８．５％のポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２０５、クラ レ（株）製） ２ｇ 水 ８８ｇ ────────────────────────────────────分散 Reducing agent dispersion liquid─────── ───────────────────────────── The following reducing agent 10g Polyvinyl alcohol with a saponification degree of 98.5% (trade name: PVA- 205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 2 g Water 88 g

【０１４８】[0148]

【化５１】 Embedded image

【０１４９】「感光性層の形成」以下の成分の塗布液を
調製し、上記重合性層の上に塗布、乾燥して、乾燥膜厚
が約１．２μｍの感光性層を設けた。[Formation of Photosensitive Layer] A coating solution of the following components was prepared, coated on the above polymerizable layer and dried to form a photosensitive layer having a dry film thickness of about 1.2 μm.

【０１５０】 ──────────────────────────────────── 感光性層の塗布液 ──────────────────────────────────── ケン化度７９．５％のポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−４２０、クラ レ（株）製）の６重量％水溶液 ９０ｇ ３−メルカプト１，２，４−トリアゾール類（Ｉ−１７）の０．１０重量％の メタノール溶液 ７ｇ 上記のハロゲン化銀乳剤 ３．７ｇ 上記の還元剤の分散液 １０ｇ 下記の界面活性剤の５重量％水溶液 ３．５ｇ 水 ７０ｇ ────────────────────────────────────<< Coating Liquid for Photosensitive Layer >>ポ リ ビ ニ ル Polyvinyl alcohol with a saponification degree of 79.5% (trade name: PVA-420, 90 g of a 6% by weight aqueous solution of Re Co., Ltd.) 7 g of a 0.10% by weight methanol solution of 3-mercapto 1,2,4-triazole (I-17) 7 g of the above silver halide emulsion 3.7 g of the above reduction Dispersion of the agent 10 g 5% by weight aqueous solution of the following surfactant 3.5 g Water 70 g ──────

【０１５１】[0151]

【化５２】 Embedded image

【０１５２】「塩基プレカーサー分散液の調製」下記の
塩基プレカーサーの粉末２５０ｇを、ダイノミル分散器
を用いて、ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶ
Ａ−２０５）の３重量％水溶液７５０ｇ中に分散した。
塩基プレカーサーの粒子サイズは０．５μｍ以下であっ
た。[Preparation of Base Precursor Dispersion] Using a Dynomill disperser, 250 g of the following base precursor powder was mixed with polyvinyl alcohol (PVC manufactured by Kuraray Co., Ltd.).
A-205) in 750 g of a 3% by weight aqueous solution.
The particle size of the base precursor was 0.5 μm or less.

【０１５３】[0153]

【化５３】 Embedded image

【０１５４】「画像形成促進層の形成」以下の組成から
なる塗布液を調製し、これを感光性層上に塗布、乾燥し
て、乾燥膜厚が約３．３μｍの画像形成促進層を形成し
た。[Formation of image formation accelerating layer] A coating solution having the following composition was prepared, applied on the photosensitive layer and dried to form an image formation accelerating layer having a dry film thickness of about 3.3 µm. did.

【０１５５】 ──────────────────────────────────── 画像形成促進層の塗布液 ──────────────────────────────────── ケン化度９８．５％のポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−２０５、クラ レ（株）製）の１０重量％水溶液 ２００．０ｇ 上記塩基プレカーサー分散液 １．２５ｇ 前記の界面活性剤の５重量％水溶液 ４．０ｇ ────────────────────────────────────塗布 Coating solution for image formation accelerating layer────ポ リ ビ ニ ル Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 98.5% (trade name: PVA-205, 200.0 g of a 10% by weight aqueous solution of Kuraray Co., Ltd. 1.25 g of the above base precursor dispersion 4.0 g of a 5% by weight aqueous solution of the above surfactant ──────────────────────

【０１５６】（画像形成）上記のようにして得られた各
感光材料に、原稿フイルムを密着させて、５００Ｗのタ
ングステンランプを用い、５００ｎｍの光を通すバンド
パスフィルターを通して露光した。次に、感光材料の背
面（アルミニウム支持体の層が設けられていない側の
面）を加熱した熱板に密着させ、感光材料表面に１００
μｍの厚さのポリエチレンテレフタレートフイルムを密
着させた状態で加熱したところ、露光した部分に銀画像
が見られた。熱板の温度は、１３５℃、１４０℃および
１４５℃に設定し、加熱温度はそれぞれの設定加熱温度
に対して２０秒、４０秒および６０秒行った。次に、こ
れらの熱現像したサンプルを、エッチング液（富士ＰＳ
現像液ＤＰ−４、富士写真フイルム（株）製）を用い、
自動エッチング機にてブラシ現像した後、よく水洗し、
未露光部分の感光層を溶出除去したところ、露光部分に
は赤色に着色したポリマーのレリーフ画像が得られた。(Image Formation) An original film was brought into close contact with each of the photosensitive materials obtained as described above, and exposed through a band-pass filter that allows light of 500 nm to pass through using a 500 W tungsten lamp. Next, the back surface of the photosensitive material (the surface on the side on which the aluminum support layer is not provided) is brought into close contact with a heated hot plate, so that 100
When a polyethylene terephthalate film having a thickness of μm was heated while keeping the film in close contact with the film, a silver image was observed in the exposed portion. The temperature of the hot plate was set to 135 ° C., 140 ° C., and 145 ° C., and the heating temperature was set to 20, 40, and 60 seconds for each set heating temperature. Next, these heat-developed samples were used as an etchant (Fuji PS
Developer DP-4, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
After brush development with an automatic etching machine, wash well with water,
When the unexposed portion of the photosensitive layer was eluted and removed, a relief image of a polymer colored red was obtained in the exposed portion.

【０１５７】（画像濃度の測定）得られた画像の反射濃
度をＸ−ＲＩＴＥ−３１０型反射濃度計を用い、グリー
ンフィルターを通して測定し、画像の最大濃度（D_max）
および最小濃度（D_min）を求めた。最大濃度および最小
濃度は、各々、測定された最大濃度、最小濃度から支持
体による濃度を差引いて求めた。結果を第１表に示す。(Measurement of Image Density) The reflection density of the obtained image was measured using a X-RITE-310 type reflection densitometer through a green filter, and the maximum image density (D _max ) was measured.
And the minimum density (D _min ) was determined. The maximum concentration and the minimum concentration were determined by subtracting the concentration of the support from the measured maximum concentration and minimum concentration, respectively. The results are shown in Table 1.

【０１５８】また、感光性層の塗布液に用いた化合物
（Ｉ−１７）に代えて、第１表に示す化合物（Ｉ−９）
〜（Ｉ−４８）を用いた以外は同様にして感光材料を作
成し、画像を形成して評価した。The compounds (I-9) shown in Table 1 were used in place of the compound (I-17) used in the coating solution for the photosensitive layer.
A light-sensitive material was prepared in the same manner as above except that (I-48) was used, and an image was formed and evaluated.

【０１５９】さらに、感光性層の塗布液に用いた化合物
（Ｉ−１７）に代えて、以下の比較化合物を用いた以外
は同様にして感光材料を作成し、画像を形成して評価し
た。以上の結果も第１表に示す。Further, a photosensitive material was prepared in the same manner except that the following comparative compound was used in place of the compound (I-17) used in the coating solution for the photosensitive layer, and an image was formed and evaluated. The above results are also shown in Table 1.

【０１６０】[0160]

【化５４】 Embedded image

【０１６１】[0161]

【化５５】 Embedded image

【０１６２】[0162]

【表１】 第１表 ──────────────────────────────────── 添加化合物 加熱温度１３５℃ 加熱温度１４０℃ 番号 濃度 ２０秒 ４０秒 ６０秒 ２０秒 ４０秒 ６０秒 (wt.%) Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin ──────────────────────────────────── I-17 0.10% 0.92/0.00 0.95/0.00 0.93/0.00 0.92/0.00 0.92/0.00 0.92/0.20 I-9 0.11% 0.82/0.00 0.95/0.00 0.94/0.00 0.92/0.00 0.93/0.00 0.92/0.20 I-10 0.11% 0.92/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.92/0.40 I-14 0.10% 0.93/0.00 0.93/0.00 0.94/0.15 0.94/0.00 0.94/0.10 0.93/0.40 I-15 0.09% 0.93/0.00 0.92/0.00 0.95/0.15 0.92/0.00 0.93/0.00 0.94/0.00 I-20 0.09% 0.92/0.00 0.93/0.00 0.95/0.10 0.91/0.00 0.92/0.00 0.94/0.20 I-24 0.09% 0.90/0.00 0.92/0.00 0.93/0.10 0.92/0.00 0.93/0.00 0.94/0.15 I-25 0.09% 0.93/0.00 0.94/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.92/0.00 0.92/0.20 I-26 0.11% 0.92/0.00 0.92/0.00 0.93/0.00 0.92/0.00 0.93/0.00 0.94/0.00 I-28 0.09% 0.91/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.94/0.00 0.93/0.00 0.94/0.40 I-34 0.11% 0.92/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.94/0.00 0.93/0.00 I-35 0.09% 0.94/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.94/0.00 0.94/0.00 0.94/0.00 I-48 0.12% 0.85/0.00 0.94/0.00 0.94/0.00 0.93/0.00 0.94/0.00 0.95/0.00 ──────────────────────────────────── (A) 0.07% 0.90/0.00 0.92/0.05 0.95/0.95 0.90/0.00 0.92/0.90 0.93/0.93 (B) 0.08% 0.95/0.00 0.98/0.35 0.95/0.95 0.96/0.00 0.98/0.95 0.99/0.97 (C) 0.11% 0.40/0.00 0.95/0.00 0.97/0.00 0.45/0.00 0.95/0.00 0.98/0.00 ──────────────────────────────────── 註：「濃度」は、添加溶液中の濃度（重量％）を意味す
る。各数値は、画像の最高濃度／最低濃度である。[Table 1] Table 1 Additive compound Heating temperature 135 ° C Heating temperature 140 ° C No.Concentration 20 seconds 40 seconds 60 seconds 20 seconds 40 seconds 60 seconds (wt.%) Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin ───────────── ─────────────────────── I-17 0.10% 0.92 / 0.00 0.95 / 0.00 0.93 / 0.00 0.92 / 0.00 0.92 / 0.00 0.92 / 0.20 I-9 0.11 % 0.82 / 0.00 0.95 / 0.00 0.94 / 0.00 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.92 / 0.20 I-10 0.11% 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.92 / 0.40 I-14 0.10% 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 / 0.15 0.94 / 0.00 0.94 / 0.10 0.93 / 0.40 I-15 0.09% 0.93 / 0.00 0.92 / 0.00 0.95 / 0.15 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 / 0.00 I-20 0.09% 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.95 /0.10 0.91 / 0.00 0.92 / 0.00 0.94 / 0.20 I-24 0.09% 0.90 / 0.00 0.92 / 0.00 0.93 / 0.10 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 / 0.15 I-25 0.09% 0.93 / 0.00 0.94 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.92 / 0.00 0.92 / 0.20 I-26 0.11% 0.92 / 0.00 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 / 0.00 I-28 0.09% 0.91 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 / 0.40 I-34 0.11% 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 / 0.00 0.93 / 0.00 I-35 0.09% 0.94 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 / 0.00 0.94 / 0.00 0.94 / 0.00 I-48 0.12% 0.85 / 0.00 0.94 / 0.00 0.94 / 0.00 0.93 / 0.00 0.94 /0.00 0.95 / 0.00 ──────────────────────────────────── (A) 0.07% 0.90 / 0.00 0.92 /0.05 0.95 / 0.95 0.90 / 0.00 0.92 / 0.90 0.93 / 0.93 (B) 0.08% 0.95 / 0.00 0.98 / 0.35 0.95 / 0.95 0.96 / 0.00 0.98 / 0.95 0.99 / 0.97 (C) 0.11% 0.40 / 0.00 0.95 / 0.00 0.97 / 0.00 0.45 / 0.00 0.95 / 0.00 0.98 / 0.00 註 Note: “Concentration "Means the concentration (% by weight) in the added solution
You. Each numerical value is the maximum density / minimum density of the image.

【０１６３】［実施例２］実施例１の重合性層の塗布液
の代わりに、以下の重合性層の塗布液を用いた以外は実
施例１と同様にして、感光材料の作成、画像形成および
評価を行った。結果を第２表に示す。Example 2 Preparation of photosensitive material and image formation in the same manner as in Example 1 except that the following coating solution for the polymerizable layer was used instead of the coating solution for the polymerizable layer in Example 1. And evaluation. The results are shown in Table 2.

【０１６４】 ──────────────────────────────────── 重合性層の塗布液 ──────────────────────────────────── ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ２．５ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合比＝８３／１７）の２ ０重量％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液 ３７．５ｇ 化合物（II-8）の０．６重量％プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液 ５．０ｇ 前記の顔料分散液 １３．０ｇ メチルエチルケトン ７４．０ｇ ────────────────────────────────────<< Coating Solution for Polymerizable Layer >> ─────────────────────────────── Dipentaerythritol hexaacrylate 2.5 g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymer Ratio: 83/17) 20% by weight propylene glycol monomethyl ether solution 37.5 g Compound (II-8): 0.6% by weight propylene glycol monomethyl ether solution 5.0 g The above pigment dispersion 13.0 g Methyl ethyl ketone 74. 0g ────────────────────────────────────

【０１６５】[0165]

【表２】 第２表 ──────────────────────────────────── 加熱温度１３５℃ 加熱温度１４０℃ ２０秒 ４０秒 ６０秒 ２０秒 ４０秒 ６０秒 Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin ──────────────────────────────────── 0.92/0.00 0.95/0.00 0.93/0.00 0.92/0.00 0.92/0.00 0.92/0.20 ────────────────────────────────────Table 2 Heating temperature 135 ° C Heating temperature 140 ℃ 20 seconds 40 seconds 60 seconds 20 seconds 40 seconds 60 seconds Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin ─────────────────── ───────────────── 0.92 / 0.00 0.95 / 0.00 0.93 / 0.00 0.92 / 0.00 0.92 / 0.00 0.92 / 0.20 ─────────────── ─────────────────────

【０１６６】［実施例３］ 「メルカプト銀化合物の調製」ケン化度７９．５％のポ
リビニルアルコール（ＰＶＡ−４２０、クラレ（株）
製）２．８ｇを水６０ｇに溶解し、０．１Ｎ水酸化カリ
ウム水溶液を１０．３ｇ加え、５０℃に加温した。よく
攪拌しつつ、この溶液中に０．９３ミリモルの硝酸銀を
含む水溶液と、化合物例Ｉ−３６を０．９３ミリモル含
むメタノール溶液を、同時に２０分間にわたり滴下し、
滴下終了後２０分間攪拌した。次いで室温まで冷却後、
ｐＨを６．３に調整した。このようにして、化合物例Ｉ
−３６のメルカプト銀化合物（化合物例Ｉ−３６の−Ｓ
Ｈを−ＳＡｇに変換したもの）を調製した。収量は１１
３．６８ｇであった。また、この溶液のｐＡｇは６．３
１であった。Example 3 "Preparation of silver mercapto compound" Polyvinyl alcohol having a saponification degree of 79.5% (PVA-420, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
2.8 g) was dissolved in 60 g of water, 10.3 g of a 0.1 N aqueous potassium hydroxide solution was added, and the mixture was heated to 50 ° C. While thoroughly stirring, an aqueous solution containing 0.93 mmol of silver nitrate and a methanol solution containing 0.93 mmol of Compound Example I-36 in this solution were simultaneously added dropwise over 20 minutes,
After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred for 20 minutes. Then, after cooling to room temperature,
The pH was adjusted to 6.3. Thus, Compound Example I
-36 mercapto silver compound (-S of compound example I-36)
H was converted to -SAg). Yield 11
The weight was 3.68 g. The pAg of this solution was 6.3.
It was one.

【０１６７】実施例１の感光性層の塗布液の調製におい
て、化合物（Ｉ−１７）７ｇの代わりに、以上のように
調製したメルカプト銀化合物の溶液３．２ｇを用いた以
外は実施例１と同様にして、感光材料の作成、画像形成
および評価を行った。結果を第３表に示す。Example 1 was repeated except that 3.2 g of the silver mercapto compound solution prepared above was used in place of 7 g of the compound (I-17) in the preparation of the coating solution for the photosensitive layer in Example 1. Preparation of a photosensitive material, image formation, and evaluation were performed in the same manner as described above. The results are shown in Table 3.

【０１６８】[0168]

【表３】 第３表 ──────────────────────────────────── 加熱温度１３５℃ 加熱温度１４０℃ ２０秒 ４０秒 ６０秒 ２０秒 ４０秒 ６０秒 Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin Dmax/Dmin ──────────────────────────────────── 0.85/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 0.92/0.00 0.93/0.00 0.93/0.00 ────────────────────────────────────Table 3 Heating temperature 135 ° C Heating temperature 140 ℃ 20 seconds 40 seconds 60 seconds 20 seconds 40 seconds 60 seconds Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin Dmax / Dmin ─────────────────── ───────────────── 0.85 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 0.92 / 0.00 0.93 / 0.00 0.93 / 0.00 ─────────────── ─────────────────────

【０１６９】［実施例４］以下のようにして、画像転写
用感光材料を作成した。 「剥離層」二軸延伸した厚さ１００μｍのポリエチレン
テレフタレートフイルム上に、下記の組成の剥離層形成
用塗布液を作成して、塗布・乾燥して膜厚１．５μｍの
剥離層を形成した。[Example 4] A photosensitive material for image transfer was prepared as follows. "Release layer" A release layer-forming coating solution having the following composition was prepared on a biaxially stretched 100 μm-thick polyethylene terephthalate film, coated and dried to form a 1.5 μm-thick release layer.

【０１７０】 ──────────────────────────────────── 剥離層の塗布液 ──────────────────────────────────── ポリビニルブチラール（エスレック ＢＨ−３ セキスイ化学工業（株）製） ３．７５ｇ ２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−ｐ−ベンゾキノン ０．０２ｇ 界面活性剤 （メガファックＦ１７７Ｐ、大日本インキ（株）製） ０．０７ｇ メタノール ３７．５０ｇ ｎ−プロパノール ３７．５０ｇ ────────────────────────────────────<< Coating Liquid for Release Layer >> ────────────────────────────── Polyvinyl butyral (Eslec BH-3 manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) 3.75 g 2, 3-Dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone 0.02 g Surfactant (MegaFac F177P, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) 0.07 g Methanol 37.50 g n-propanol 37.50 g ───────────────────────────────

【０１７１】「イエロー顔料分散液の調製」下記の組成
からなる液をダイノミルにて２０００ｒｐｍで２時間か
けて分散し、平均粒径０．２５μｍのイエロー顔料分散
液とした。 ──────────────────────────────────── 下記イエロー顔料（C.I. Pigment Yellow 14） ３０．０ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （共重合比＝８０／２０） ５０．０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ３２０．０ｇ ────────────────────────────────────[Preparation of Yellow Pigment Dispersion] A liquid having the following composition was dispersed in a Dynomill at 2000 rpm for 2 hours to obtain a yellow pigment dispersion having an average particle size of 0.25 μm.イ エ ロ ー The following yellow pigment (CI Pigment Yellow 14) 30.0 g Allyl methacrylate / Methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio = 80/20) 50.0 g propylene glycol monomethyl ether 320.0 g ───────────

【０１７２】[0172]

【化５６】 Embedded image

【０１７３】「重合性層の形成」以下の塗布液を前記剥
離層上に塗布、乾燥して膜厚が１．３μｍの重合性層を
設けた。[Formation of Polymerizable Layer] The following coating solution was applied on the release layer and dried to form a polymerizable layer having a thickness of 1.3 μm.

【０１７４】 ──────────────────────────────────── 重合性層の塗布液 ──────────────────────────────────── ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ５．０ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （共重合比＝８０／２０） １０．０ｇ 上記のイエロー顔料分散液 ４０．０ｇ 実施例１で用いた還元剤 １．０ｇ 化合物（II−１８）の０．６重量％プロピレングリコールモノメチルエーテル 溶液 １０ｇ メチルエチルケトン ２０．０ｇ ────────────────────────────────────<< Coating Liquid for Polymerizable Layer >> ─────────────────────────────── Dipentaerythritol hexaacrylate 5.0 g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymer Ratio = 80/20) 10.0 g The above-mentioned yellow pigment dispersion 40.0 g Reducing agent used in Example 1 1.0 g 0.6% by weight propylene glycol monomethyl ether solution of compound (II-18) 10 g Methyl ethyl ketone 20. 0g ────────────────────────────────────

【０１７５】「感光性層の形成」実施例１で用いた感光
性層の塗布液を上記の重合性層の上に塗布、乾燥して、
乾燥膜厚が約１．３μｍの感光性層を設けた。[Formation of Photosensitive Layer] The coating solution for the photosensitive layer used in Example 1 was coated on the polymerizable layer and dried.
A photosensitive layer having a dry film thickness of about 1.3 μm was provided.

【０１７６】「塩基プレカーサー分散液の調製」実施例
１で用いた塩基プレカーサーの粉末２５０ｇを、ダイノ
ミル分散器を用いて、ポリビニルアルコールの３重量％
水溶液７５０ｇ中に分散した。塩基プレカーサーの粒子
サイズは約０．５μｍ以下であった。[Preparation of Base Precursor Dispersion] Using a Dynomill disperser, 250 g of the base precursor powder used in Example 1 was mixed with 3% by weight of polyvinyl alcohol.
Dispersed in 750 g of aqueous solution. The particle size of the base precursor was about 0.5 μm or less.

【０１７７】「オーバーコート層の形成」ポリビニルア
ルコール（ＰＶＡ−２０５、ケン化度８８．０％、クラ
レ（株）製）の１０重量％水溶液１００ｇと、上記塩基
プレカーサー分散液６．２５ｇおよび上記の界面活性剤
５重量％水溶液４ｇを混合し、塗布液を作成した。この
塗布液を、前記の感光性層の上に塗布、乾燥して、乾燥
膜厚が約３．０μｍのオーバーコート層を設けた。[Formation of Overcoat Layer] 100 g of a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-205, saponification degree: 88.0%, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 6.25 g of the base precursor dispersion, and A coating solution was prepared by mixing 4 g of a 5% by weight aqueous solution of a surfactant. This coating solution was applied on the photosensitive layer and dried to form an overcoat layer having a dry film thickness of about 3.0 μm.

【０１７８】（画像形成）上記のように得られた画像転
写用感光材料の最適露光量を求めた。画像転写用感光材
料についての最適露光量は５００ｎｍのバンドパスフィ
ルター（半値幅５０ｎｍ）を通過させた光で感光面上で
３μＪ／ｃｍ² であった。次に、画像転写用感光材料に
ついて、それぞれをリスフイルムを通して画像露光し
た。露光はそれぞれ上記の最適露光条件により行なっ
た。次に、それぞれ上記の条件にて現像処理を行ない、
剥離層上に硬化画像を形成したサンプルを作成した。こ
れを受像材料（受像シートＣＲ−Ｔ３、富士写真フイル
ム（株）製）の受像面に画像面を密着させ、ラミネータ
ー（ＣＡ−６００Ｔ、富士写真フイルム（株）製）を用
いて熱密着させた。次に感光材料の支持体を剥離し、画
像を受像材料に転写した。以上の結果、受像材料に良好
な転写画像を形成することができた。(Image formation) The optimum exposure amount of the photosensitive material for image transfer obtained as described above was determined. The optimum exposure amount for the photosensitive material for image transfer was 3 μJ / cm ² on the photosensitive surface with light passed through a 500 nm band-pass filter (half-width 50 nm). Next, the photosensitive materials for image transfer were each subjected to image exposure through a lith film. Exposure was performed under the above optimum exposure conditions. Next, development processing is performed under the above conditions, respectively.
A sample having a cured image formed on the release layer was prepared. This was brought into close contact with the image receiving surface of an image receiving material (image receiving sheet CR-T3, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), and then thermally bonded using a laminator (CA-600T, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.). . Next, the support of the photosensitive material was peeled off, and the image was transferred to the image receiving material. As a result, a good transferred image could be formed on the image receiving material.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】化合物（Ｉ−１７）の赤外吸収スペクトルであ
る。FIG. 1 is an infrared absorption spectrum of compound (I-17).

【図２】化合物（Ｉ−３４）の赤外吸収スペクトルであ
る。FIG. 2 is an infrared absorption spectrum of compound (I-34).

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 7/06 501 G03F 7/004 501 G03C 1/34 G03C 1/06 Continued on the front page (58) Investigated field (Int.Cl. ⁷ , DB name) G03F 7/06 501 G03F 7/004 501 G03C 1/34 G03C 1/06

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 支持体上に、ハロゲン化銀、還元剤およ
び重合性化合物を一緒にまたは別々に含む一または二以
上の層が設けられた感光材料であって、上記のいずれか
の層がさらに下記式（Ｉ）で表される化合物を含むこと
を特徴とする感光材料。 【化１】 式（Ｉ）において、Ｒ¹ は炭素原子数が４以上であるア
ルキル基、炭素原子数が７以上であるアラルキル基、炭
素原子数が６以上であるアリール基または炭素原子数が
４以上である複素環基である；Ｒ² はアルキル基、アラ
ルキル基、アリール基または複素環基である；そして、
Ｍは水素原子、銀原子またはアルカリ金属原子である。1. A light-sensitive material comprising a support and one or more layers containing a silver halide, a reducing agent and a polymerizable compound together or separately provided thereon. A photosensitive material further comprising a compound represented by the following formula (I). Embedded image In the formula (I), R ¹ is an alkyl group having 4 or more carbon atoms, an aralkyl group having 7 or more carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or 4 or more carbon atoms. R ² is an alkyl, aralkyl, aryl or heterocyclic group; and
M is a hydrogen atom, a silver atom or an alkali metal atom. 【請求項２】 上記のいずれかの層がさらに下記式（I
I）で表される化合物を含む請求項１記載の感光材料。 【化２】 式（II）において、Ｒ³ およびＲ⁴ は、それぞれアルキ
ル基またはアラルキル基である；Ｘはヘテロ原子を介し
てウラシル環の炭素原子に結合している２価の連結基で
ある；ｎは０または１である；そして、Ａはヘテロ原子
を介してウラシル環またはＸの炭素原子に結合している
現像抑制剤残基である。2. The method according to claim 1, wherein any one of the above layers has the following formula (I)
The light-sensitive material according to claim 1, comprising a compound represented by I). Embedded image In the formula (II), R ³ and R ⁴ are each an alkyl group or an aralkyl group; X is a divalent linking group bonded to a carbon atom of a uracil ring via a hetero atom; Or 1; and A is a development inhibitor residue attached to the uracil ring or the carbon atom of X via a heteroatom.