JP3143329B2 - 脱穀選別装置の処理物層厚検出装置 - Google Patents
脱穀選別装置の処理物層厚検出装置Info
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- JP3143329B2 JP3143329B2 JP06176352A JP17635294A JP3143329B2 JP 3143329 B2 JP3143329 B2 JP 3143329B2 JP 06176352 A JP06176352 A JP 06176352A JP 17635294 A JP17635294 A JP 17635294A JP 3143329 B2 JP3143329 B2 JP 3143329B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、脱穀後の処理物を上下
揺動しながら選別処理する揺動選別板と、固定枠側に設
置されて、前記揺動選別板上の処理物の層厚を検出する
層厚検出手段と、前記層厚検出手段の検出情報に基づい
て前記処理物の層厚を判別する層厚判別手段とが設けら
れた脱穀選別装置の処理物層厚検出装置に関する。
揺動しながら選別処理する揺動選別板と、固定枠側に設
置されて、前記揺動選別板上の処理物の層厚を検出する
層厚検出手段と、前記層厚検出手段の検出情報に基づい
て前記処理物の層厚を判別する層厚判別手段とが設けら
れた脱穀選別装置の処理物層厚検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】上記処理物層厚検出装置においては、層
厚検出手段が、例えば、機体後方側に揺動自在に垂下姿
勢で枢支されて揺動選別板の上方側に配置されたセンサ
バーと、そのセンサバーが処理物に接触して機体後方側
へ揺動した角度を層厚値に変換するポテンショメータ等
からなる層厚センサで構成されるとともに、層厚センサ
の層厚検出値が、揺動選別板の上下揺動のために時間的
に変動することから、その層厚検出値を適当な時間間隔
(例えば100ms)でサンプリングし、その複数回の
データの移動平均値を層厚値として判別するようにして
いた。
厚検出手段が、例えば、機体後方側に揺動自在に垂下姿
勢で枢支されて揺動選別板の上方側に配置されたセンサ
バーと、そのセンサバーが処理物に接触して機体後方側
へ揺動した角度を層厚値に変換するポテンショメータ等
からなる層厚センサで構成されるとともに、層厚センサ
の層厚検出値が、揺動選別板の上下揺動のために時間的
に変動することから、その層厚検出値を適当な時間間隔
(例えば100ms)でサンプリングし、その複数回の
データの移動平均値を層厚値として判別するようにして
いた。
【0003】尚、脱穀選別装置においては、上記判別さ
れた層厚検出情報(例えば層厚検出値とその変化率の情
報)に基づいて、揺動選別板上の処理物の層厚が適正範
囲となるように揺動選別板の漏下開度を変更調節し、こ
れにより、上記処理物層が薄過ぎる場合における1番物
への藁屑混入や、逆に上記処理物層が厚過ぎる場合にお
ける3番ロスの増加、及び2番還元量の増え過ぎによる
穀粒の損傷等の不具合を防止するようにしていた(例え
ば、特開平5‐21号公報参照)。
れた層厚検出情報(例えば層厚検出値とその変化率の情
報)に基づいて、揺動選別板上の処理物の層厚が適正範
囲となるように揺動選別板の漏下開度を変更調節し、こ
れにより、上記処理物層が薄過ぎる場合における1番物
への藁屑混入や、逆に上記処理物層が厚過ぎる場合にお
ける3番ロスの増加、及び2番還元量の増え過ぎによる
穀粒の損傷等の不具合を防止するようにしていた(例え
ば、特開平5‐21号公報参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術におい
て、揺動選別板上の処理物層厚の時間的変動が緩やかで
あれば、移動平均によって求めた層厚値と実際の層厚と
の差は小さく無視できる。しかし、揺動選別板上の処理
物層厚の時間的変動が大きくなると、上記移動平均によ
る層厚値と実際の層厚との差は大きくなり、特に、その
層厚変化を正確に検出することは不可能になる。従っ
て、この層厚検出情報に基づいて揺動選別板の漏下開度
の調節を行っても的確な調節制御でないために、揺動選
別板上の処理物の層厚が適正範囲から大きく外れてしま
って、前記処理物層が厚過ぎる又は薄過ぎる場合の不具
合を発生させるおそれがあった。
て、揺動選別板上の処理物層厚の時間的変動が緩やかで
あれば、移動平均によって求めた層厚値と実際の層厚と
の差は小さく無視できる。しかし、揺動選別板上の処理
物層厚の時間的変動が大きくなると、上記移動平均によ
る層厚値と実際の層厚との差は大きくなり、特に、その
層厚変化を正確に検出することは不可能になる。従っ
て、この層厚検出情報に基づいて揺動選別板の漏下開度
の調節を行っても的確な調節制御でないために、揺動選
別板上の処理物の層厚が適正範囲から大きく外れてしま
って、前記処理物層が厚過ぎる又は薄過ぎる場合の不具
合を発生させるおそれがあった。
【0005】本発明は、上記実情に鑑みて為されたもの
であって、その目的は、上下揺動する揺動選別板上の処
理物の層厚検出をより正確に行い、もって、この層厚検
出情報に基づいて揺動選別板の漏下開度調節等を的確に
行わせることにある。
であって、その目的は、上下揺動する揺動選別板上の処
理物の層厚検出をより正確に行い、もって、この層厚検
出情報に基づいて揺動選別板の漏下開度調節等を的確に
行わせることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の脱穀選別装置の
処理物層厚検出装置は、脱穀後の処理物を上下揺動しな
がら選別処理する揺動選別板と、固定枠側に設置され
て、前記揺動選別板上の処理物の層厚を検出する層厚検
出手段と、前記層厚検出手段の検出情報に基づいて前記
処理物の層厚を判別する層厚判別手段とが設けられたも
のであって、その第1の特徴構成は、前記層厚判別手段
は、前記層厚検出手段の検出情報を前記揺動選別板の揺
動周期よりも短いサンプリング周期でサンプリングし、
且つ、前記揺動選別板の揺動周期と同じ処理周期ごと
に、その処理周期内においてサンプリングしたサンプリ
ングデータに基づいて、前記層厚検出手段の検出値の前
記処理周期内での最大値と最小値とを平均した値を前記
処理物の層厚とする層厚判別を行うように構成されてい
る点にある。
処理物層厚検出装置は、脱穀後の処理物を上下揺動しな
がら選別処理する揺動選別板と、固定枠側に設置され
て、前記揺動選別板上の処理物の層厚を検出する層厚検
出手段と、前記層厚検出手段の検出情報に基づいて前記
処理物の層厚を判別する層厚判別手段とが設けられたも
のであって、その第1の特徴構成は、前記層厚判別手段
は、前記層厚検出手段の検出情報を前記揺動選別板の揺
動周期よりも短いサンプリング周期でサンプリングし、
且つ、前記揺動選別板の揺動周期と同じ処理周期ごと
に、その処理周期内においてサンプリングしたサンプリ
ングデータに基づいて、前記層厚検出手段の検出値の前
記処理周期内での最大値と最小値とを平均した値を前記
処理物の層厚とする層厚判別を行うように構成されてい
る点にある。
【0007】第2の特徴構成は、前記揺動選別板の揺動
周期を検出する揺動周期検出手段が設けられ、前記層厚
判別手段は、前記揺動周期検出手段の情報に基づいて、
前記揺動選別板の揺動周期に合わせて、前記処理周期を
変更するように構成されている点にある。
周期を検出する揺動周期検出手段が設けられ、前記層厚
判別手段は、前記揺動周期検出手段の情報に基づいて、
前記揺動選別板の揺動周期に合わせて、前記処理周期を
変更するように構成されている点にある。
【0008】第3の特徴構成は、前記層厚検出手段が、
機体後方側に揺動自在に垂下姿勢で枢支された状態で前
記揺動選別板の上方側に配置された接触子と、その接触
子の前記処理物への接触による機体後方側への揺動量を
層厚値に変換する変換部とから構成されている点にあ
る。
機体後方側に揺動自在に垂下姿勢で枢支された状態で前
記揺動選別板の上方側に配置された接触子と、その接触
子の前記処理物への接触による機体後方側への揺動量を
層厚値に変換する変換部とから構成されている点にあ
る。
【0009】
【0010】
【作用】本発明の第1の特徴構成によれば、揺動選別板
上の脱穀後の処理物が揺動選別板の上下揺動に伴って上
下揺動して、その処理物の層厚を検出するために固定枠
側に設置された層厚検出手段の検出情報が上記揺動選別
板の揺動周期に合わせて変動する。そして、その周期的
に変動する層厚検出情報が、揺動選別板の揺動周期より
も短いサンプリング周期でサンプリングされた後、揺動
選別板の揺動周期と同じに設定された処理周期ごとに、
その処理周期内においてサンプリングしたサンプリング
データに基づいて、その処理周期内においてサンプリン
グデータの最大値と最小値との平均値によって処理物の
層厚が判別される。以上の処理によって、層厚検出情報
に対する揺動選別板の上下揺動の影響が除去され、処理
物の層厚のみの検出情報が得られる。
上の脱穀後の処理物が揺動選別板の上下揺動に伴って上
下揺動して、その処理物の層厚を検出するために固定枠
側に設置された層厚検出手段の検出情報が上記揺動選別
板の揺動周期に合わせて変動する。そして、その周期的
に変動する層厚検出情報が、揺動選別板の揺動周期より
も短いサンプリング周期でサンプリングされた後、揺動
選別板の揺動周期と同じに設定された処理周期ごとに、
その処理周期内においてサンプリングしたサンプリング
データに基づいて、その処理周期内においてサンプリン
グデータの最大値と最小値との平均値によって処理物の
層厚が判別される。以上の処理によって、層厚検出情報
に対する揺動選別板の上下揺動の影響が除去され、処理
物の層厚のみの検出情報が得られる。
【0011】又、第2の特徴構成によれば、揺動選別板
の揺動周期が変動するときには、その変動する揺動選別
板の揺動周期に合わせて、その揺動選別板と同じ周期に
なるように変更された処理周期ごとに、その処理周期内
においてサンプリングしたサンプリングデータに基づい
て処理物の層厚が判別される。
の揺動周期が変動するときには、その変動する揺動選別
板の揺動周期に合わせて、その揺動選別板と同じ周期に
なるように変更された処理周期ごとに、その処理周期内
においてサンプリングしたサンプリングデータに基づい
て処理物の層厚が判別される。
【0012】
【0013】又、第3の特徴構成によれば、機体後方側
に揺動自在に垂下姿勢で枢支された状態で揺動選別板の
上方側に配置された接触子が、上下揺動する揺動選別板
上の勝利物に接触して機体後方側に揺動すると、揺動選
別板の揺動周期と同じ周期で変動する接触子の揺動量が
層厚値に変換される。そして、その周期的に変動する層
厚情報が、揺動選別板の揺動周期よりも短い周期でサン
プリングされ、揺動選別板と同じ周期ごとに、その処理
周期内でのサンプリングデータに基づいて処理物の層厚
が判別される。
に揺動自在に垂下姿勢で枢支された状態で揺動選別板の
上方側に配置された接触子が、上下揺動する揺動選別板
上の勝利物に接触して機体後方側に揺動すると、揺動選
別板の揺動周期と同じ周期で変動する接触子の揺動量が
層厚値に変換される。そして、その周期的に変動する層
厚情報が、揺動選別板の揺動周期よりも短い周期でサン
プリングされ、揺動選別板と同じ周期ごとに、その処理
周期内でのサンプリングデータに基づいて処理物の層厚
が判別される。
【0014】
【発明の効果】本発明の第1の特徴構成によれば、上下
揺動する揺動選別板上の処理物の層厚検出をその揺動選
別板の上下揺動の影響を除去してより正確に行うことが
でき、もって、その層厚検出情報に基づいて揺動選別板
の漏下開度調節等を的確に行わせることが可能となっ
た。又、処理周期内におけるサンプリングデータの最大
値と最小値とを平均して処理物の層厚を判別するので、
例えば、上記サンプリングデータの全てを平均して処理
物の層厚を判別するものに比べて、実用的な層厚検出精
度を確保しながら、処理構成の簡素化を図ることができ
る。
揺動する揺動選別板上の処理物の層厚検出をその揺動選
別板の上下揺動の影響を除去してより正確に行うことが
でき、もって、その層厚検出情報に基づいて揺動選別板
の漏下開度調節等を的確に行わせることが可能となっ
た。又、処理周期内におけるサンプリングデータの最大
値と最小値とを平均して処理物の層厚を判別するので、
例えば、上記サンプリングデータの全てを平均して処理
物の層厚を判別するものに比べて、実用的な層厚検出精
度を確保しながら、処理構成の簡素化を図ることができ
る。
【0015】又、第2の特徴構成によれば、揺動選別板
の上下揺動の周期が変動する場合であっても、その変動
した揺動選別板の上下揺動の影響を確実に除去して、処
理物の層厚検出の確度を維持することができ、もって、
上記第1の特徴構成を実施する際の好適な手段が得られ
る。
の上下揺動の周期が変動する場合であっても、その変動
した揺動選別板の上下揺動の影響を確実に除去して、処
理物の層厚検出の確度を維持することができ、もって、
上記第1の特徴構成を実施する際の好適な手段が得られ
る。
【0016】
【0017】又、第3の特徴構成によれば、処理物と接
触する接触子の機械的な移動量を層厚値に変換して層厚
を検出するので、例えば、超音波センサや光電センサ等
の非接触式のセンサにて層厚を検出するものに比べて、
より簡便な構成でありながらも検出の信頼性を確保する
ことが容易にでき、もって、上記第1又は第2の特徴構
成を実施する際の好適な手段が得られる。
触する接触子の機械的な移動量を層厚値に変換して層厚
を検出するので、例えば、超音波センサや光電センサ等
の非接触式のセンサにて層厚を検出するものに比べて、
より簡便な構成でありながらも検出の信頼性を確保する
ことが容易にでき、もって、上記第1又は第2の特徴構
成を実施する際の好適な手段が得られる。
【0018】
【実施例】以下、本発明をコンバインの脱穀装置に適用
した場合の実施例を図面に基づいて説明する。図2〜図
4に示すように、コンバインは、左右一対のクローラ走
行装置1、脱穀装置2、操縦部3、刈取部4等を備え
る。
した場合の実施例を図面に基づいて説明する。図2〜図
4に示すように、コンバインは、左右一対のクローラ走
行装置1、脱穀装置2、操縦部3、刈取部4等を備え
る。
【0019】刈取部4には、分草具5、植立穀稈を引き
起こす引き起こし装置6、引き起こされた穀稈の株元を
切断する刈り刃7、及び、刈取穀稈を係止搬送して機体
後方側の脱穀装置2のフィードチェーン16に渡す縦搬
送装置9等が順次並ぶ状態で設けられている。尚、縦搬
送装置9の始端部には、刈取穀稈の有無を検出するため
に、刈取穀稈が有るときにオンし、無いときにオフする
スイッチからなる株元センサS4が設けられている。
起こす引き起こし装置6、引き起こされた穀稈の株元を
切断する刈り刃7、及び、刈取穀稈を係止搬送して機体
後方側の脱穀装置2のフィードチェーン16に渡す縦搬
送装置9等が順次並ぶ状態で設けられている。尚、縦搬
送装置9の始端部には、刈取穀稈の有無を検出するため
に、刈取穀稈が有るときにオンし、無いときにオフする
スイッチからなる株元センサS4が設けられている。
【0020】脱穀装置2は、図4に示すように、扱胴1
5を収納する扱室A、刈取部4から供給される穀稈を扱
室Aに供給搬送するフィードチェーン16、排塵用の横
断流ファン17、脱穀後の処理物を選別するための選別
装置Bを備える。選別装置Bは、トウミ18、揺動選別
板19、選別後の処理物を回収するための一番物回収部
(以下、一番口という)20及び二番物回収部(以下、
二番口という)21を備えている。
5を収納する扱室A、刈取部4から供給される穀稈を扱
室Aに供給搬送するフィードチェーン16、排塵用の横
断流ファン17、脱穀後の処理物を選別するための選別
装置Bを備える。選別装置Bは、トウミ18、揺動選別
板19、選別後の処理物を回収するための一番物回収部
(以下、一番口という)20及び二番物回収部(以下、
二番口という)21を備えている。
【0021】フィードチェーン16にて扱室Aに供給搬
送される穀稈は扱胴15の回転により脱穀される。扱室
Aの下部には受網22が設けられ、脱穀後の処理物のう
ち単粒化した穀粒は受網22から揺動選別板19に漏下
する。受網22から漏下できなかった処理物は受網22
の後端部より揺動選別板19に落下する。
送される穀稈は扱胴15の回転により脱穀される。扱室
Aの下部には受網22が設けられ、脱穀後の処理物のう
ち単粒化した穀粒は受網22から揺動選別板19に漏下
する。受網22から漏下できなかった処理物は受網22
の後端部より揺動選別板19に落下する。
【0022】揺動選別板19は、トウミ18の上方に位
置するグレンパン23、その後方に位置するチャフシー
ブ24、その下方に位置するグレンシーブ25等からな
り、脱穀後の処理物を上下揺動しながら後方に移送して
比重選別により選別処理する。一番口20及び二番口2
1は、それぞれスクリューコンベアを備え、チャフシー
ブ24及びグレンシーブ25から漏下した穀粒は一番口
20から回収されてタンク等に貯溜される。チャフシー
ブ24の後端やグレンシーブ25の後端から落下した穀
粒と藁屑との混合物は、二番口21で回収されてから、
所定の2番還元時間(例えば、3秒程度)の後に揺動選
別板19に還元される。
置するグレンパン23、その後方に位置するチャフシー
ブ24、その下方に位置するグレンシーブ25等からな
り、脱穀後の処理物を上下揺動しながら後方に移送して
比重選別により選別処理する。一番口20及び二番口2
1は、それぞれスクリューコンベアを備え、チャフシー
ブ24及びグレンシーブ25から漏下した穀粒は一番口
20から回収されてタンク等に貯溜される。チャフシー
ブ24の後端やグレンシーブ25の後端から落下した穀
粒と藁屑との混合物は、二番口21で回収されてから、
所定の2番還元時間(例えば、3秒程度)の後に揺動選
別板19に還元される。
【0023】チャフシーブ24は、図5に示すように、
複数の板状部材24aが所定間隔毎に前後方向に並設さ
れたものである。各板状部材24aは左右軸芯周りに回
動自在に左右の側板に枢着され、下端部がリンク24b
にて枢支連結されている。従って、リンク24bを前後
方向に移動操作すると、各板状部材24aが同時に回動
し、各板状部材24aの隣接間隔tが変化する。この間
隔tが揺動選別板19における漏下開度(以下、チャフ
開度という)に相当し、このチャフ開度の変更は、シー
ブモータM1を正逆方向に回転駆動することによって行
われる。そのシーブモータM1の回転動作はギヤ式の連
係機構26、揺動アーム27、ワイヤ28によってリン
ク24bの前後移動動作に変換されて、上記の如くチャ
フ開度が変更される。尚、揺動アーム27の回動角度か
らチャフ開度を検出するポテンショメータ式のチャフ開
度センサS2が設けられている。
複数の板状部材24aが所定間隔毎に前後方向に並設さ
れたものである。各板状部材24aは左右軸芯周りに回
動自在に左右の側板に枢着され、下端部がリンク24b
にて枢支連結されている。従って、リンク24bを前後
方向に移動操作すると、各板状部材24aが同時に回動
し、各板状部材24aの隣接間隔tが変化する。この間
隔tが揺動選別板19における漏下開度(以下、チャフ
開度という)に相当し、このチャフ開度の変更は、シー
ブモータM1を正逆方向に回転駆動することによって行
われる。そのシーブモータM1の回転動作はギヤ式の連
係機構26、揺動アーム27、ワイヤ28によってリン
ク24bの前後移動動作に変換されて、上記の如くチャ
フ開度が変更される。尚、揺動アーム27の回動角度か
らチャフ開度を検出するポテンショメータ式のチャフ開
度センサS2が設けられている。
【0024】トウミ18は、選別風を発生するためのも
のであり、その風力の変更は、トウミ18の回転数を変
えることによって行われる。つまり、回転数を大きくす
るほど、トウミ風力が大きくなる。トウミ回転数の変更
は、後述の割りプーリ式のベルト変速装置8(図3参
照)をトウミモータM2によって変速操作することによ
って行われる。尚、トウミ18の回転数を検出するトウ
ミ回転数センサS3がトウミ18の回転軸18aに設け
られている。
のであり、その風力の変更は、トウミ18の回転数を変
えることによって行われる。つまり、回転数を大きくす
るほど、トウミ風力が大きくなる。トウミ回転数の変更
は、後述の割りプーリ式のベルト変速装置8(図3参
照)をトウミモータM2によって変速操作することによ
って行われる。尚、トウミ18の回転数を検出するトウ
ミ回転数センサS3がトウミ18の回転軸18aに設け
られている。
【0025】上記揺動選別板19の構成において、シー
ブモータM1を駆動してチャフ開度を大きくするほど、
チャフシーブ24において下方側に漏下する穀粒量が増
加して、選別装置Bの処理能力が大きくなる。このと
き、一番口20にて回収される穀粒に藁屑が混入するの
を防止するために、チャフ開度の増加に応じてトウミ風
力が大きくなるつまりトウミ回転数を大きくするように
トウミモータM2を駆動する。
ブモータM1を駆動してチャフ開度を大きくするほど、
チャフシーブ24において下方側に漏下する穀粒量が増
加して、選別装置Bの処理能力が大きくなる。このと
き、一番口20にて回収される穀粒に藁屑が混入するの
を防止するために、チャフ開度の増加に応じてトウミ風
力が大きくなるつまりトウミ回転数を大きくするように
トウミモータM2を駆動する。
【0026】又、図6に示すように、チャフシーブ24
上の選別処理物(穀粒等)の層厚を検出する層厚センサ
S1が設けられている。層厚センサS1は、機体後方側
に揺動自在に垂下姿勢で枢支された状態でチャフシーブ
24即ち揺動選別板19の上方側に配置された板状部材
T1,T2(これが接触子に対応する)と、その板状部
材T1,T2の処理物への接触による機体後方側への揺
動量つまり回動角度Iを抵抗値(これが層厚値に対応す
る)に変換する変換部としてのポテンショメータPMか
らなる。処理物の層厚が小さいときは板状部材T1が処
理物に接当して後方へ回動し、層厚が大きくなると板状
部材T2が処理物に接当して後方へ回動するように構成
されている。
上の選別処理物(穀粒等)の層厚を検出する層厚センサ
S1が設けられている。層厚センサS1は、機体後方側
に揺動自在に垂下姿勢で枢支された状態でチャフシーブ
24即ち揺動選別板19の上方側に配置された板状部材
T1,T2(これが接触子に対応する)と、その板状部
材T1,T2の処理物への接触による機体後方側への揺
動量つまり回動角度Iを抵抗値(これが層厚値に対応す
る)に変換する変換部としてのポテンショメータPMか
らなる。処理物の層厚が小さいときは板状部材T1が処
理物に接当して後方へ回動し、層厚が大きくなると板状
部材T2が処理物に接当して後方へ回動するように構成
されている。
【0027】上記構成により、選別処理物の量が多くな
ってその層厚が厚くなるほどセンサバーT1,T2の回
動角度Iが大きくなるので、ポテンショメータPMの抵
抗値から処理物の層厚を検出することができる。従っ
て、固定枠側に設置されて、揺動選別板19上の処理物
の層厚を検出する層厚検出手段が、上記層厚センサS1
によって構成されることになる。
ってその層厚が厚くなるほどセンサバーT1,T2の回
動角度Iが大きくなるので、ポテンショメータPMの抵
抗値から処理物の層厚を検出することができる。従っ
て、固定枠側に設置されて、揺動選別板19上の処理物
の層厚を検出する層厚検出手段が、上記層厚センサS1
によって構成されることになる。
【0028】動力伝達系は図3に示すように構成されて
いる。エンジンEの動力は、脱穀クラッチ10を介して
脱穀装置2に伝達されると共に、走行クラッチ11及び
車速変速用の油圧式の無段変速装置12を介して、左右
一対のクローラ走行装置1のミッションケース13に伝
達され、刈取部4には、ミッションケース13から刈取
クラッチ14を介して動力が伝達される。脱穀装置2に
伝達された動力は、割りプーリ式のベルト変速装置8を
介して前記トウミ18の回転軸18aに伝動され、又、
図示しないが、前記扱胴15、フィードチェーン16、
揺動選別板19等の駆動動力として伝動される。尚、揺
動選別板19の揺動駆動軸には、その揺動周期を検出す
る揺動周期検出手段として、上記揺動駆動軸の回転数を
検出して回転数センサS7が設けられている(図1参
照)。エンジンEには、その回転数を検出するエンジン
回転数センサS6が設けられ、ミッションケース13に
は、クローラ走行装置1への駆動軸の回転数を検出して
車速を検出する車速センサS5が設けられ、脱穀装置2
が動作中か否かを検出するために、脱穀クラッチ10の
入切状態を検出する脱穀スイッチSW1が設けられてい
る。
いる。エンジンEの動力は、脱穀クラッチ10を介して
脱穀装置2に伝達されると共に、走行クラッチ11及び
車速変速用の油圧式の無段変速装置12を介して、左右
一対のクローラ走行装置1のミッションケース13に伝
達され、刈取部4には、ミッションケース13から刈取
クラッチ14を介して動力が伝達される。脱穀装置2に
伝達された動力は、割りプーリ式のベルト変速装置8を
介して前記トウミ18の回転軸18aに伝動され、又、
図示しないが、前記扱胴15、フィードチェーン16、
揺動選別板19等の駆動動力として伝動される。尚、揺
動選別板19の揺動駆動軸には、その揺動周期を検出す
る揺動周期検出手段として、上記揺動駆動軸の回転数を
検出して回転数センサS7が設けられている(図1参
照)。エンジンEには、その回転数を検出するエンジン
回転数センサS6が設けられ、ミッションケース13に
は、クローラ走行装置1への駆動軸の回転数を検出して
車速を検出する車速センサS5が設けられ、脱穀装置2
が動作中か否かを検出するために、脱穀クラッチ10の
入切状態を検出する脱穀スイッチSW1が設けられてい
る。
【0029】図1に示すように、マイクロコンピュータ
等で構成される制御手段Hが設けられ、この制御手段H
には、前述の層厚センサS1、チャフ開度センサS2、
トウミ回転数センサS3、株元センサS4、車速センサ
S5、エンジン回転数センサS6、回転数センサS7、
及び、脱穀スイッチSW1からの各検出情報が入力され
ている。又、前記操縦部3の操縦パネルには、作物条件
を麦、稲、濡れの3条件の中から選択して切り換える作
物切換スイッチSW2と、トウミ調節ボリュームVRと
が設けられ、これらの情報も制御手段Hに入力されてい
る。尚、上記センサ等からの入力情報は、A/D変換さ
れて0〜255の8ビットデジタルデータになる。一
方、制御手段Hからは、前述のシーブモータM1、及
び、トウミモータM2に対する各駆動信号が出力されて
いる。
等で構成される制御手段Hが設けられ、この制御手段H
には、前述の層厚センサS1、チャフ開度センサS2、
トウミ回転数センサS3、株元センサS4、車速センサ
S5、エンジン回転数センサS6、回転数センサS7、
及び、脱穀スイッチSW1からの各検出情報が入力され
ている。又、前記操縦部3の操縦パネルには、作物条件
を麦、稲、濡れの3条件の中から選択して切り換える作
物切換スイッチSW2と、トウミ調節ボリュームVRと
が設けられ、これらの情報も制御手段Hに入力されてい
る。尚、上記センサ等からの入力情報は、A/D変換さ
れて0〜255の8ビットデジタルデータになる。一
方、制御手段Hからは、前述のシーブモータM1、及
び、トウミモータM2に対する各駆動信号が出力されて
いる。
【0030】前記制御手段Hを利用して、前記層厚セン
サS1の検出情報に基づいて前記処理物の層厚を判別す
る層厚判別手段100が構成されている。この層厚判別
手段100は、層厚センサS1の検出情報を前記回転数
センサS7にて検出される揺動選別板19の揺動周期
(例えば、125ms)よりも短いサンプリング周期
(例えば、5ms)でサンプリングし、且つ、揺動選別
板19の揺動周期と同じ周期に設定された周期ごとに、
その処理周期内においてサンプリングしたサンプリング
データに基づいて前記処理物の層厚判別を行う。具体的
には、前記処理周期内でのサンプリングデータの最大値
と最小値とを平均した値を、前記処理物の層厚とする。
サS1の検出情報に基づいて前記処理物の層厚を判別す
る層厚判別手段100が構成されている。この層厚判別
手段100は、層厚センサS1の検出情報を前記回転数
センサS7にて検出される揺動選別板19の揺動周期
(例えば、125ms)よりも短いサンプリング周期
(例えば、5ms)でサンプリングし、且つ、揺動選別
板19の揺動周期と同じ周期に設定された周期ごとに、
その処理周期内においてサンプリングしたサンプリング
データに基づいて前記処理物の層厚判別を行う。具体的
には、前記処理周期内でのサンプリングデータの最大値
と最小値とを平均した値を、前記処理物の層厚とする。
【0031】そして、前記制御手段Hは、前記層厚判別
手段100の情報に基づいて、前記処理物の層厚が適正
範囲となるように、前記揺動選別板19の漏下開度を所
定制御周期で変更調節する開度制御を行う。同時に、前
記処理物の層厚が適正範囲から設定値以上外れた場合、
又は、前記処理物の層厚が設定率以上の変化率で変化す
る場合に、前記開度制御における前記所定制御周期より
も短い制御周期で揺動選別板19の漏下開度を変更調節
する補助開度制御を行う。具体的には、図27(イ)に
示すように、適正層厚範囲s0からの層厚検出値の偏差
が大小2段階の設定値のうちの大側の設定値s2以上の
とき(図の左側部分)、及び、上記層厚の偏差が大側の
設定値s2と小側の設定値s1との間にあってその変化
率が設定率Δs以上のとき(図の右側部分)に、上記補
助開度制御を行う。尚、図27(ロ)には、上記補助開
度制御を行う前後のチャフ開度の変化を例示する。上記
開度制御での揺動選別板19の漏下開度調節のための所
定制御周期が、選別装置Bにおける前述の2番還元時間
(例えば3秒)に設定され、又、上記補助開度制御での
制御周期は、基本的に連続制御とみなせる短い周期(後
述のように、250ms)に設定されている。
手段100の情報に基づいて、前記処理物の層厚が適正
範囲となるように、前記揺動選別板19の漏下開度を所
定制御周期で変更調節する開度制御を行う。同時に、前
記処理物の層厚が適正範囲から設定値以上外れた場合、
又は、前記処理物の層厚が設定率以上の変化率で変化す
る場合に、前記開度制御における前記所定制御周期より
も短い制御周期で揺動選別板19の漏下開度を変更調節
する補助開度制御を行う。具体的には、図27(イ)に
示すように、適正層厚範囲s0からの層厚検出値の偏差
が大小2段階の設定値のうちの大側の設定値s2以上の
とき(図の左側部分)、及び、上記層厚の偏差が大側の
設定値s2と小側の設定値s1との間にあってその変化
率が設定率Δs以上のとき(図の右側部分)に、上記補
助開度制御を行う。尚、図27(ロ)には、上記補助開
度制御を行う前後のチャフ開度の変化を例示する。上記
開度制御での揺動選別板19の漏下開度調節のための所
定制御周期が、選別装置Bにおける前述の2番還元時間
(例えば3秒)に設定され、又、上記補助開度制御での
制御周期は、基本的に連続制御とみなせる短い周期(後
述のように、250ms)に設定されている。
【0032】又、前記制御手段Hは、前記開度制御及び
補助開度制御において、前記層厚センサS1の層厚検出
値及びその変化率に基づいて決定した操作量で前記シー
ブモータM1を作動させて、前記チャフ開度の変更調節
を行うように構成されている。尚、後述のように、上記
シーブモータM1の作動量に応じてトウミモータM2も
作動される。具体的には、制御手段Hは、上記操作量を
ファジィ推論に基づいて予め求めた操作量データを数値
テーブルとして記憶して、その操作量データに基づいて
即ち上記数値テーブル内のデータを選択して前記操作量
を決定するとともに、そのファジィ推論において、揺動
選別板19における漏下開度の大小に対応して設定した
2つの制御規則(2つの数値テーブル)のうちの1つ
を、前記チャフ開度に基づいて選択して、前記操作量デ
ータを求めるように構成されている。尚、制御手段H
は、上記決定した操作量からチャフ開度及びトウミ回転
数の目標値を求め、各目標値とチャフ開度センサS2又
はトウミ回転数センサS3の検出値との偏差をゼロにす
るように制御する。
補助開度制御において、前記層厚センサS1の層厚検出
値及びその変化率に基づいて決定した操作量で前記シー
ブモータM1を作動させて、前記チャフ開度の変更調節
を行うように構成されている。尚、後述のように、上記
シーブモータM1の作動量に応じてトウミモータM2も
作動される。具体的には、制御手段Hは、上記操作量を
ファジィ推論に基づいて予め求めた操作量データを数値
テーブルとして記憶して、その操作量データに基づいて
即ち上記数値テーブル内のデータを選択して前記操作量
を決定するとともに、そのファジィ推論において、揺動
選別板19における漏下開度の大小に対応して設定した
2つの制御規則(2つの数値テーブル)のうちの1つ
を、前記チャフ開度に基づいて選択して、前記操作量デ
ータを求めるように構成されている。尚、制御手段H
は、上記決定した操作量からチャフ開度及びトウミ回転
数の目標値を求め、各目標値とチャフ開度センサS2又
はトウミ回転数センサS3の検出値との偏差をゼロにす
るように制御する。
【0033】前記ファジィ推論における制御規則につい
て説明する。図24に示すファジィマップの配列要素と
して、処理物の層厚目標値(後述のシーブ目標値)に対
する層厚検出値の偏差であるシーブ偏差と、所定時間内
での層厚検出値の変化量であるシーブ変化量(これが層
厚検出値の変化率に対応する)とを求める。ここで、層
厚検出値が層厚目標値よりも大きければシーブ偏差は正
の値になり、逆であれば、負の値になる。又、層厚検出
値が増加傾向にあればシーブ変化量は正の値になり、減
少傾向にあれば負の値になる。次に、チャフ開度が所定
開度(例えば19mm)よりも小さい場合には、2つ用
意されているファジィマップのうちの主マップ(図24
(イ))を選択し、所定開度よりも大きい場合には、補
助マップ(図24(ロ))を選択して、上記シーブ偏差
及びシーブ変化量を前件部のファジィ変数とするファジ
ィ推論により、チャフ開度の操作量即ちシーブモータM
1に対する出力を求める。
て説明する。図24に示すファジィマップの配列要素と
して、処理物の層厚目標値(後述のシーブ目標値)に対
する層厚検出値の偏差であるシーブ偏差と、所定時間内
での層厚検出値の変化量であるシーブ変化量(これが層
厚検出値の変化率に対応する)とを求める。ここで、層
厚検出値が層厚目標値よりも大きければシーブ偏差は正
の値になり、逆であれば、負の値になる。又、層厚検出
値が増加傾向にあればシーブ変化量は正の値になり、減
少傾向にあれば負の値になる。次に、チャフ開度が所定
開度(例えば19mm)よりも小さい場合には、2つ用
意されているファジィマップのうちの主マップ(図24
(イ))を選択し、所定開度よりも大きい場合には、補
助マップ(図24(ロ))を選択して、上記シーブ偏差
及びシーブ変化量を前件部のファジィ変数とするファジ
ィ推論により、チャフ開度の操作量即ちシーブモータM
1に対する出力を求める。
【0034】つまり、シーブ偏差及びシーブ変化量のメ
ンバーシップ関数が、図23(イ)及び(ロ)に示さ
れ、又、図24に示すルールの後件部のファジィ変数で
あるチャフ開度に対する操作量のメンバーシップ関数
が、図23(ハ)に示すように、離散的なシングルトン
の集合として表される。そして、シーブ偏差及びシーブ
変化量の各メンバーシップ関数に対するグレード(適合
度ともいう)に応じて、図24の各マップに示す25個
のルールのうちの1個又は複数のルールからの出力が得
られ、適合するルールから得られる出力にシーブ偏差又
はシーブ変化量のグレードの小さい方の値を掛けた値が
そのルールから得られる出力となる。複数のルールから
複数の出力が得られる場合はそれらの平均値が最終的な
出力になる。尚、上記出力も正負の8ビットデジタル値
で表され、正の値はチャフ開度を大きくする方向に操作
することを表し、負の値はチャフ開度を小さくする方向
に操作することを表す。
ンバーシップ関数が、図23(イ)及び(ロ)に示さ
れ、又、図24に示すルールの後件部のファジィ変数で
あるチャフ開度に対する操作量のメンバーシップ関数
が、図23(ハ)に示すように、離散的なシングルトン
の集合として表される。そして、シーブ偏差及びシーブ
変化量の各メンバーシップ関数に対するグレード(適合
度ともいう)に応じて、図24の各マップに示す25個
のルールのうちの1個又は複数のルールからの出力が得
られ、適合するルールから得られる出力にシーブ偏差又
はシーブ変化量のグレードの小さい方の値を掛けた値が
そのルールから得られる出力となる。複数のルールから
複数の出力が得られる場合はそれらの平均値が最終的な
出力になる。尚、上記出力も正負の8ビットデジタル値
で表され、正の値はチャフ開度を大きくする方向に操作
することを表し、負の値はチャフ開度を小さくする方向
に操作することを表す。
【0035】上記制御ルール(図24)からも判るよう
に、チャフ開度が所定開度よりも小さい場合に選択され
る主マップ(図24(イ))では、チャフ開度が所定開
度よりも大きい場合に選択される補助マップ(図24
(ロ))に比べて、チャフ開度の操作量が大きくなる。
特に、シーブ偏差及びシーブ変化量が共に大きい条件に
おいて、チャフ開度の操作量が大きくなるように設定さ
れている。これにより、揺動選別板19における漏下開
度が小さいときの方が、揺動選別板19における漏下開
度が大きいときよりも、層厚センサS1の層厚検出値及
びその変化率に基づいて決定する操作量を大きくするよ
うに構成されることになる。
に、チャフ開度が所定開度よりも小さい場合に選択され
る主マップ(図24(イ))では、チャフ開度が所定開
度よりも大きい場合に選択される補助マップ(図24
(ロ))に比べて、チャフ開度の操作量が大きくなる。
特に、シーブ偏差及びシーブ変化量が共に大きい条件に
おいて、チャフ開度の操作量が大きくなるように設定さ
れている。これにより、揺動選別板19における漏下開
度が小さいときの方が、揺動選別板19における漏下開
度が大きいときよりも、層厚センサS1の層厚検出値及
びその変化率に基づいて決定する操作量を大きくするよ
うに構成されることになる。
【0036】次に、図7〜図22に示すフローチャート
に基づいて、制御手段Hによる脱穀制御の流れを説明す
る。メインフロー(図7)では、先ず、初期設定処理を
行った後、層厚センサS1による層厚検出データの処理
を行うシーブ検出処理と、共通データの設定処理を行
う。そして、脱穀スイッチSW1がオフ状態のときは、
各種制御用のフラグやカウンタをクリアしてから、セン
サ類や各部の異常を調べる自己診断処理を行う。一方、
脱穀スイッチSW1がオフ状態からオン状態に変化して
脱穀作業が開始されると、所定の制御周期(250m
s)ごとに脱穀制御処理を行い、その後、上記自己診断
処理を行う。
に基づいて、制御手段Hによる脱穀制御の流れを説明す
る。メインフロー(図7)では、先ず、初期設定処理を
行った後、層厚センサS1による層厚検出データの処理
を行うシーブ検出処理と、共通データの設定処理を行
う。そして、脱穀スイッチSW1がオフ状態のときは、
各種制御用のフラグやカウンタをクリアしてから、セン
サ類や各部の異常を調べる自己診断処理を行う。一方、
脱穀スイッチSW1がオフ状態からオン状態に変化して
脱穀作業が開始されると、所定の制御周期(250m
s)ごとに脱穀制御処理を行い、その後、上記自己診断
処理を行う。
【0037】初期設定処理(図8)では、メモリー(E
EPROM)内に記憶されているチャフシーブ24の全
開位置及び全閉位置のデータが正常かどうかを調べる。
正常であれば、それに基づいてチャフ開度調節の上限位
置を上記データの全開位置よりも少し閉じ側の位置とし
て、又、下限位置を上記データの全閉位置よりも少し開
き側の位置としてそれぞれ設定する。さらに、その上限
位置と下限位置の差が所定値(適正開度量)よりも大き
いときだけ、上限位置を下限位置にその所定値(適正開
度量)を加えた位置として再設定する。一方、メモリー
(EEPROM)内のチャフシーブ24の全開位置及び
全閉位置のデータが正常でなければ(例えば、共に
0)、異常として処理する。
EPROM)内に記憶されているチャフシーブ24の全
開位置及び全閉位置のデータが正常かどうかを調べる。
正常であれば、それに基づいてチャフ開度調節の上限位
置を上記データの全開位置よりも少し閉じ側の位置とし
て、又、下限位置を上記データの全閉位置よりも少し開
き側の位置としてそれぞれ設定する。さらに、その上限
位置と下限位置の差が所定値(適正開度量)よりも大き
いときだけ、上限位置を下限位置にその所定値(適正開
度量)を加えた位置として再設定する。一方、メモリー
(EEPROM)内のチャフシーブ24の全開位置及び
全閉位置のデータが正常でなければ(例えば、共に
0)、異常として処理する。
【0038】シーブ検出処理(図9〜図11)では、層
厚センサS1の検出値を所定のサンプリング周期(5m
s)でサンプリングし、その最小値及び最大値検出用の
処理時間(125msに設定)の最初のときだけ上記サ
ンプリングデータを最小値及び最大値データとして記憶
する。以後、順次サンプリングする層厚センサS1の検
出値が最小値データよりも小さいときにはその検出値で
最小値データを更新し、検出値が最大値データよりも大
きいときにはその検出値で最大値データを更新する処理
を、上記処理時間(125ms)が経過するまで続け
る。上記処理時間(125ms)が経過すると、最小値
及び最大値データの平均値を求めるとともに、1つ前の
処理時間での平均値との和Wを求める。そして、上記処
理を2回行うと(つまり250ms経過後)、各処理時
点での層厚データ、即ち、最新のシーブ検出値、250
ms前のシーブ検出値、及び、500ms前のシーブ検
出値を夫々記憶するためにメモリー内に設けた250m
sデータ(2)、250msデータ(1)及び250m
sデータ(0)について、250msデータ(2)及び
250msデータ(1)の記憶内容を、夫々250ms
データ(1)及び250msデータ(0)に移すととも
に、上記求めた和Wの1/2つまり最新のシーブ検出値
を250msデータ(2)に記憶させる。従って、以上
の処理にて、前述の層厚判別手段100が構成され、そ
の層厚判別用の処理周期が上記処理時間(125ms)
に対応することになる。
厚センサS1の検出値を所定のサンプリング周期(5m
s)でサンプリングし、その最小値及び最大値検出用の
処理時間(125msに設定)の最初のときだけ上記サ
ンプリングデータを最小値及び最大値データとして記憶
する。以後、順次サンプリングする層厚センサS1の検
出値が最小値データよりも小さいときにはその検出値で
最小値データを更新し、検出値が最大値データよりも大
きいときにはその検出値で最大値データを更新する処理
を、上記処理時間(125ms)が経過するまで続け
る。上記処理時間(125ms)が経過すると、最小値
及び最大値データの平均値を求めるとともに、1つ前の
処理時間での平均値との和Wを求める。そして、上記処
理を2回行うと(つまり250ms経過後)、各処理時
点での層厚データ、即ち、最新のシーブ検出値、250
ms前のシーブ検出値、及び、500ms前のシーブ検
出値を夫々記憶するためにメモリー内に設けた250m
sデータ(2)、250msデータ(1)及び250m
sデータ(0)について、250msデータ(2)及び
250msデータ(1)の記憶内容を、夫々250ms
データ(1)及び250msデータ(0)に移すととも
に、上記求めた和Wの1/2つまり最新のシーブ検出値
を250msデータ(2)に記憶させる。従って、以上
の処理にて、前述の層厚判別手段100が構成され、そ
の層厚判別用の処理周期が上記処理時間(125ms)
に対応することになる。
【0039】次に、シーブ偏差を、予め設定されている
シーブ目標値と最新のシーブ検出値(上記250msデ
ータ(2)の内容)との差として求め、シーブ微分値
(変化量)を、500ms前のシーブ検出値(上記25
0msデータ(0)の内容)と最新のシーブ検出値(上
記250msデータ(2)の内容)との差として求め
る。尚、上記シーブ目標値は、後述の麦及び稲の各作物
切換条件について異なる値が設定される。そして、前述
のように(図27参照)、シーブ偏差が大小2段階に設
定された設定値のうちの大側の設定値以上のとき、及
び、シーブ偏差が大側の設定値と小側の設定値との間に
あってシーブ微分値が設定値(設定率に対応)以上のと
きには、原則として3秒間隔で行う脱穀制御処理を連続
して(実際には、制御周期250msで)実行すること
を許可する連続制御許可フラグをオンする。一方、上記
以外のときは、連続制御許可フラグをオフする。
シーブ目標値と最新のシーブ検出値(上記250msデ
ータ(2)の内容)との差として求め、シーブ微分値
(変化量)を、500ms前のシーブ検出値(上記25
0msデータ(0)の内容)と最新のシーブ検出値(上
記250msデータ(2)の内容)との差として求め
る。尚、上記シーブ目標値は、後述の麦及び稲の各作物
切換条件について異なる値が設定される。そして、前述
のように(図27参照)、シーブ偏差が大小2段階に設
定された設定値のうちの大側の設定値以上のとき、及
び、シーブ偏差が大側の設定値と小側の設定値との間に
あってシーブ微分値が設定値(設定率に対応)以上のと
きには、原則として3秒間隔で行う脱穀制御処理を連続
して(実際には、制御周期250msで)実行すること
を許可する連続制御許可フラグをオンする。一方、上記
以外のときは、連続制御許可フラグをオフする。
【0040】次に、最新のシーブ検出値(上記250m
sデータ(2)の内容)を5段階のシーブ値、つまり検
出値が小さい方から順番に、0,1,2,3,4のラン
クに分ける。そして、上記ランク分けしたシーブ値が、
以前のシーブ値を記憶しているメモリー内のシーブ値デ
ータと異なる状態が、250msの制御周期で連続して
5回(つまり、少なくとも250ms×4=1秒以上)
続いた場合だけ、新たに求めたシーブ値で上記シーブ値
データを更新する。
sデータ(2)の内容)を5段階のシーブ値、つまり検
出値が小さい方から順番に、0,1,2,3,4のラン
クに分ける。そして、上記ランク分けしたシーブ値が、
以前のシーブ値を記憶しているメモリー内のシーブ値デ
ータと異なる状態が、250msの制御周期で連続して
5回(つまり、少なくとも250ms×4=1秒以上)
続いた場合だけ、新たに求めたシーブ値で上記シーブ値
データを更新する。
【0041】共通データ設定処理(図12)では、前記
トウミ調節ボリュームVRの検出値が、その検出データ
を記憶するメモリー内のトウミボリュームデータの値か
ら不感帯幅を超えて変化したときだけ、その検出値がト
ウミボリュームデータ内の値として更新される。次に、
前記作物切換スイッチSW2の状態を調べて、麦、稲、
及び濡れの各切換位置に応じて、モード(mode)値
を夫々0、1、2とし、更に、麦及び稲モード時におい
て、前記シーブ値が0及び1のときに、後述のように開
度設定用に使用するシーブ値0用及びシーブ値1用のチ
ャフ最低開度を夫々設定する。
トウミ調節ボリュームVRの検出値が、その検出データ
を記憶するメモリー内のトウミボリュームデータの値か
ら不感帯幅を超えて変化したときだけ、その検出値がト
ウミボリュームデータ内の値として更新される。次に、
前記作物切換スイッチSW2の状態を調べて、麦、稲、
及び濡れの各切換位置に応じて、モード(mode)値
を夫々0、1、2とし、更に、麦及び稲モード時におい
て、前記シーブ値が0及び1のときに、後述のように開
度設定用に使用するシーブ値0用及びシーブ値1用のチ
ャフ最低開度を夫々設定する。
【0042】脱穀制御処理(図13)では、先ず、モー
ド(mode)値より作物条件を判断し、濡れモードの
ときはヌレモード制御(図14)を実行する。一方、麦
及び稲モードのときは、株元センサS4の状態及び前記
シーブ値の内容に応じて、以下のように、層厚センサS
1が故障の場合に車速に応じてチャフ開度及びトウミ風
力を調節する車速感応型制御(図15)と、ファジィル
ールに基づいてチャフ開度調節を行うファジィ制御(図
16及び図17)のいずれかを実行する。そして、上記
各制御において設定された調節作動量で、実際にシーブ
モータM1及びトウミモータM2を作動させるチャフ出
力処理及びトウミ出力処理を行う。
ド(mode)値より作物条件を判断し、濡れモードの
ときはヌレモード制御(図14)を実行する。一方、麦
及び稲モードのときは、株元センサS4の状態及び前記
シーブ値の内容に応じて、以下のように、層厚センサS
1が故障の場合に車速に応じてチャフ開度及びトウミ風
力を調節する車速感応型制御(図15)と、ファジィル
ールに基づいてチャフ開度調節を行うファジィ制御(図
16及び図17)のいずれかを実行する。そして、上記
各制御において設定された調節作動量で、実際にシーブ
モータM1及びトウミモータM2を作動させるチャフ出
力処理及びトウミ出力処理を行う。
【0043】つまり、麦及び稲モード時に、株元センサ
S4がオン状態のときは、それがオフからオンに変化後
所定時間(6秒)経過すると、6秒フラグをセットする
(尚、この6秒フラグは株元センサS4がオフ状態にな
るとリセットされる)一方、株元センサS4がオフ状態
のときは、それがオンからオフに変化後に、前記シーブ
値が0の状態が8秒継続したときにだけ8秒フラグをセ
ットする(尚、この8秒フラグは株元センサS4がオン
状態になるとリセットされる)。次に、層厚センサS1
の検出値が正常であるか否かを調べて、例えば、断線等
のために検出値が0Vあるいは電源電圧に相当する値で
ある等から、層厚センサS1の故障が判断されると、車
速感応型制御を行う。層厚センサS1が正常であれば、
所定の制御周期(3秒)が経過したとき、及び、制御周
期(3秒)は経過していないが前記連続制御許可フラグ
がオンしているときに、ファジィ制御を行う。
S4がオン状態のときは、それがオフからオンに変化後
所定時間(6秒)経過すると、6秒フラグをセットする
(尚、この6秒フラグは株元センサS4がオフ状態にな
るとリセットされる)一方、株元センサS4がオフ状態
のときは、それがオンからオフに変化後に、前記シーブ
値が0の状態が8秒継続したときにだけ8秒フラグをセ
ットする(尚、この8秒フラグは株元センサS4がオン
状態になるとリセットされる)。次に、層厚センサS1
の検出値が正常であるか否かを調べて、例えば、断線等
のために検出値が0Vあるいは電源電圧に相当する値で
ある等から、層厚センサS1の故障が判断されると、車
速感応型制御を行う。層厚センサS1が正常であれば、
所定の制御周期(3秒)が経過したとき、及び、制御周
期(3秒)は経過していないが前記連続制御許可フラグ
がオンしているときに、ファジィ制御を行う。
【0044】ヌレモード制御(図14)では、チャフ開
度の目標値を全開位置に設定し、前記トウミボリューム
データに基づいてトウミ回転数を算出する。つまり、ト
ウミ調節ボリュームVRが標準位置のときにトウミ回転
数が標準回転数(例えば、1300rpm)になり、ト
ウミ調節ボリュームVRが標準位置から強側又は弱側に
回されるに従って、トウミ回転数が上記標準回転数から
大側又は小側に変更される。そして、その算出したトウ
ミ回転数がトウミ最小回転数(例えば、1000rp
m)より小さいときはその最小回転数をトウミ目標回転
数とし、トウミ最大回転数(例えば、1500rpm)
より大きいときはその最大回転数をトウミ目標回転数と
し、上記トウミ最小回転数とトウミ最大回転数の間のと
きは算出したトウミ回転数をトウミ目標回転数とする。
度の目標値を全開位置に設定し、前記トウミボリューム
データに基づいてトウミ回転数を算出する。つまり、ト
ウミ調節ボリュームVRが標準位置のときにトウミ回転
数が標準回転数(例えば、1300rpm)になり、ト
ウミ調節ボリュームVRが標準位置から強側又は弱側に
回されるに従って、トウミ回転数が上記標準回転数から
大側又は小側に変更される。そして、その算出したトウ
ミ回転数がトウミ最小回転数(例えば、1000rp
m)より小さいときはその最小回転数をトウミ目標回転
数とし、トウミ最大回転数(例えば、1500rpm)
より大きいときはその最大回転数をトウミ目標回転数と
し、上記トウミ最小回転数とトウミ最大回転数の間のと
きは算出したトウミ回転数をトウミ目標回転数とする。
【0045】車速感応型制御(図15)では、先ず、車
速を、例えば、0〜0.35m/s,0.35〜0.5
5m/s,0.55〜0.75m/s,0.75〜0.
95m/s,0.95m/s〜の5段階に分け、その車
速の各段階に対して予め用意した車速対チャフ開度の算
出マップに基づいて、図26に示すように、麦、稲モー
ド別にチャフ開度目標値を求める。そして、後述のトウ
ミ回転数設定処理(図18及び図19)により、上記チ
ャフ開度目標値に基づいてトウミ目標回転数を算出す
る。
速を、例えば、0〜0.35m/s,0.35〜0.5
5m/s,0.55〜0.75m/s,0.75〜0.
95m/s,0.95m/s〜の5段階に分け、その車
速の各段階に対して予め用意した車速対チャフ開度の算
出マップに基づいて、図26に示すように、麦、稲モー
ド別にチャフ開度目標値を求める。そして、後述のトウ
ミ回転数設定処理(図18及び図19)により、上記チ
ャフ開度目標値に基づいてトウミ目標回転数を算出す
る。
【0046】ファジィ制御(図16及び図17)では、
ファジィマップの配列要素として、シーブ目標値に対す
るシーブ検出値(上記250msデータ(2)の内容)
の偏差であるシーブ偏差と、500ms前のシーブ検出
値(上記250msデータ(0)の内容)に対する最新
のシーブ検出値(上記250msデータ(2)の内容)
の変化量であるシーブ変化量とを求める。次に、前述の
ように、現在のチャフ開度が所定開度(19mm)より
も小さい場合には、主マップ(図24(イ))にて、
又、所定開度よりも大きい場合には、補助マップ(図2
4(ロ))にて、上記シーブ偏差及びシーブ変化量を前
件部のファジィ変数とするファジィ推論により、シーブ
モータM1に対する出力を求める。
ファジィマップの配列要素として、シーブ目標値に対す
るシーブ検出値(上記250msデータ(2)の内容)
の偏差であるシーブ偏差と、500ms前のシーブ検出
値(上記250msデータ(0)の内容)に対する最新
のシーブ検出値(上記250msデータ(2)の内容)
の変化量であるシーブ変化量とを求める。次に、前述の
ように、現在のチャフ開度が所定開度(19mm)より
も小さい場合には、主マップ(図24(イ))にて、
又、所定開度よりも大きい場合には、補助マップ(図2
4(ロ))にて、上記シーブ偏差及びシーブ変化量を前
件部のファジィ変数とするファジィ推論により、シーブ
モータM1に対する出力を求める。
【0047】次に、株元センサS4の状態を調べて、そ
れがオン状態のときは、現在のチャフ開度に上記求めた
操作量を加算してチャフ開度目標値とする。さらに、前
記6秒フラグがセットされている場合、即ち、株元セン
サS4のオン後6秒経過しているときは、前記車速感応
型制御と同様に車速を5段階分けして、各車速段階に対
するチャフ最低開度を予め用意したマップより求め、そ
のチャフ最低開度よりも上記チャフ開度目標値が小さい
ときはそのチャフ最低開度をチャフ開度目標値とする。
れがオン状態のときは、現在のチャフ開度に上記求めた
操作量を加算してチャフ開度目標値とする。さらに、前
記6秒フラグがセットされている場合、即ち、株元セン
サS4のオン後6秒経過しているときは、前記車速感応
型制御と同様に車速を5段階分けして、各車速段階に対
するチャフ最低開度を予め用意したマップより求め、そ
のチャフ最低開度よりも上記チャフ開度目標値が小さい
ときはそのチャフ最低開度をチャフ開度目標値とする。
【0048】一方、株元センサS4がオフ状態のとき
は、チャフ開度の開き側への変更を禁止するために、上
記求めた操作量が正かどうかを調べて、正の場合は操作
量をゼロにする。さらに、前記8秒フラグがセットされ
ている場合、即ち、株元センサS4がオンからオフに変
化後に前記シーブ値0の状態が8秒継続したときには、
チャフ開度目標値を前記設定したシーブ値0用のチャフ
最低開度とする。8秒フラグがリセット状態の場合につ
いては、シーブ値が1以下(0及び1)のときは、チャ
フ開度目標値を前記設定したシーブ値1用のチャフ最低
開度とし、シーブ値が2以上(2、3、4)のときは、
チャフ開度目標値を現在のチャフ開度とする。そして、
上記求めた各チャフ開度目標値に基づいて、後述のトウ
ミ回転数設定処理(図18及び図19)によりトウミ目
標回転数を算出する。
は、チャフ開度の開き側への変更を禁止するために、上
記求めた操作量が正かどうかを調べて、正の場合は操作
量をゼロにする。さらに、前記8秒フラグがセットされ
ている場合、即ち、株元センサS4がオンからオフに変
化後に前記シーブ値0の状態が8秒継続したときには、
チャフ開度目標値を前記設定したシーブ値0用のチャフ
最低開度とする。8秒フラグがリセット状態の場合につ
いては、シーブ値が1以下(0及び1)のときは、チャ
フ開度目標値を前記設定したシーブ値1用のチャフ最低
開度とし、シーブ値が2以上(2、3、4)のときは、
チャフ開度目標値を現在のチャフ開度とする。そして、
上記求めた各チャフ開度目標値に基づいて、後述のトウ
ミ回転数設定処理(図18及び図19)によりトウミ目
標回転数を算出する。
【0049】トウミ回転数設定処理(図18及び図1
9)では、チャフ開度値に対して直線変換式によってト
ウミ回転数を計算するが、この計算は、図25に示す、
前記トウミ調節ボリュームVRが標準位置のときの麦モ
ード及び稲モードについての変換式を用いる。尚、チャ
フ開度の全閉側及び全開側に対応して、トウミ回転数の
最小回転数tmin及び最大回転数tmaxが設定さ
れ、又、参考として、稲モードについて、トウミ調節ボ
リュームVRが標準位置よりも1目盛強側又は弱側に回
されたときの変換式が示されている。次に、上記計算し
たトウミ回転数が、前述のトウミ最小回転数(1000
rpm)より小さいときはその最小回転数をトウミ目標
回転数とし、トウミ最大回転数(1500rpm)より
大きいときはその最大回転数をトウミ目標回転数とす
る。その後、前記トウミ調節ボリュームVRの位置によ
るトウミ目標回転数の増減補正を行い、その補正後の回
転数がトウミ調節ボリュームVRで変更した変換式にお
ける上記最小回転数tminより小さいときはその最小
回転数tminをトウミ目標回転数とし、最大回転数t
maxより大きいときはその最大回転数tmaxをトウ
ミ目標回転数とする。
9)では、チャフ開度値に対して直線変換式によってト
ウミ回転数を計算するが、この計算は、図25に示す、
前記トウミ調節ボリュームVRが標準位置のときの麦モ
ード及び稲モードについての変換式を用いる。尚、チャ
フ開度の全閉側及び全開側に対応して、トウミ回転数の
最小回転数tmin及び最大回転数tmaxが設定さ
れ、又、参考として、稲モードについて、トウミ調節ボ
リュームVRが標準位置よりも1目盛強側又は弱側に回
されたときの変換式が示されている。次に、上記計算し
たトウミ回転数が、前述のトウミ最小回転数(1000
rpm)より小さいときはその最小回転数をトウミ目標
回転数とし、トウミ最大回転数(1500rpm)より
大きいときはその最大回転数をトウミ目標回転数とす
る。その後、前記トウミ調節ボリュームVRの位置によ
るトウミ目標回転数の増減補正を行い、その補正後の回
転数がトウミ調節ボリュームVRで変更した変換式にお
ける上記最小回転数tminより小さいときはその最小
回転数tminをトウミ目標回転数とし、最大回転数t
maxより大きいときはその最大回転数tmaxをトウ
ミ目標回転数とする。
【0050】次に、前記6秒フラグがオフ状態であるか
どうかにより、刈り終わりのトウミ回転数制御を行うか
どうかを判断するが、前記6秒フラグがオンのときは、
その時点での前記トウミ目標回転数を、刈り終わりのト
ウミ回転数制御で使用する刈り終わり時のトウミ回転数
として記憶しておく。株元センサS4がオフして6秒フ
ラグがオフ状態に変化すると、刈り終わりトウミ回転数
制御に入り、シーブ値に応じてトウミ回転数を次のよう
に設定する。つまり、シーブ値が3以上(3、4)のと
きは、上記刈り終わり時のトウミ回転数に設定し、シー
ブ値が2のときは、上記刈り終わり時のトウミ回転数か
ら所定回転数(例えば100rpm)少ない回転数に設
定し、シーブ値が1のときは、前記トウミ調節ボリュー
ムVRで変更した前記変換式における前記最小回転数t
min(図25参照)に設定し、シーブ値が0の状態が
8秒継続したとき(前記8秒フラグがオンしていると
き)は、前記最低回転数(1000rpm)に設定す
る。
どうかにより、刈り終わりのトウミ回転数制御を行うか
どうかを判断するが、前記6秒フラグがオンのときは、
その時点での前記トウミ目標回転数を、刈り終わりのト
ウミ回転数制御で使用する刈り終わり時のトウミ回転数
として記憶しておく。株元センサS4がオフして6秒フ
ラグがオフ状態に変化すると、刈り終わりトウミ回転数
制御に入り、シーブ値に応じてトウミ回転数を次のよう
に設定する。つまり、シーブ値が3以上(3、4)のと
きは、上記刈り終わり時のトウミ回転数に設定し、シー
ブ値が2のときは、上記刈り終わり時のトウミ回転数か
ら所定回転数(例えば100rpm)少ない回転数に設
定し、シーブ値が1のときは、前記トウミ調節ボリュー
ムVRで変更した前記変換式における前記最小回転数t
min(図25参照)に設定し、シーブ値が0の状態が
8秒継続したとき(前記8秒フラグがオンしていると
き)は、前記最低回転数(1000rpm)に設定す
る。
【0051】チャフ出力処理(図20)では、今回のチ
ャフ開度目標値が前回のチャフ開度目標値と異なる場合
だけ、次回のために今回のチャフ開度目標値を前回のチ
ャフ開度目標値として記憶してから、上記チャフ開度目
標値と現在のチャフ開度を比較する。チャフ開度目標値
が現在のチャフ開度よりも大きいときは、シーブモータ
M1が閉じ側に出力中かどうか調べ、閉じ側に出力中の
ときはその閉じ側への出力を停止し、さらに、上記チャ
フ開度目標値と現在のチャフ開度との差が所定値よりも
大きいときだけ開き方向に出力する。尚、チャフ開度目
標値と現在のチャフ開度との差が所定値よりも小さいと
きは、所定期間(例えば、500ms程度)閉じ方向へ
の出力を停止する。一方、チャフ開度目標値が現在のチ
ャフ開度以下のときは、シーブモータM1が開き側に出
力中かどうか調べ、開き側に出力中のときはその開き側
への出力を停止し、さらに、上記チャフ開度目標値と現
在のチャフ開度との差が所定値よりも大きいときだけ閉
じ方向に出力する。尚、チャフ開度目標値と現在のチャ
フ開度との差が所定値よりも小さいときは、所定期間
(例えば、500ms程度)開き方向への出力を停止す
る。そして、最後に、チャフ開度変更制御用のタイマー
(3秒)をスタートさせる。
ャフ開度目標値が前回のチャフ開度目標値と異なる場合
だけ、次回のために今回のチャフ開度目標値を前回のチ
ャフ開度目標値として記憶してから、上記チャフ開度目
標値と現在のチャフ開度を比較する。チャフ開度目標値
が現在のチャフ開度よりも大きいときは、シーブモータ
M1が閉じ側に出力中かどうか調べ、閉じ側に出力中の
ときはその閉じ側への出力を停止し、さらに、上記チャ
フ開度目標値と現在のチャフ開度との差が所定値よりも
大きいときだけ開き方向に出力する。尚、チャフ開度目
標値と現在のチャフ開度との差が所定値よりも小さいと
きは、所定期間(例えば、500ms程度)閉じ方向へ
の出力を停止する。一方、チャフ開度目標値が現在のチ
ャフ開度以下のときは、シーブモータM1が開き側に出
力中かどうか調べ、開き側に出力中のときはその開き側
への出力を停止し、さらに、上記チャフ開度目標値と現
在のチャフ開度との差が所定値よりも大きいときだけ閉
じ方向に出力する。尚、チャフ開度目標値と現在のチャ
フ開度との差が所定値よりも小さいときは、所定期間
(例えば、500ms程度)開き方向への出力を停止す
る。そして、最後に、チャフ開度変更制御用のタイマー
(3秒)をスタートさせる。
【0052】トウミ出力処理(図21及び図22)で
は、現在のトウミ回転数が500rpmを超えている状
態で、且つ、トウミモータM2のオンオフ駆動周期(5
00ms)におけるオフ時間の終了即ちモータ駆動周期
の終了を確認したときに、目標回転数から現在の回転数
を引いて求まるトウミ回転数偏差の値に基づいて、以下
の処理を行う。つまり、上記回転数偏差が−100rp
mよりも小さいときは、トウミモータM2が強方向に出
力中かどうか調べ、強方向に出力中のときはその強方向
への出力を停止した後、弱方向に連続出力する。具体的
には、弱方向へのモータオン時間を500ms(従って
モータオフ時間は0)にする。上記回転数偏差が100
rpmよりも大きいときは、トウミモータM2が弱方向
に出力中かどうか調べ、弱方向に出力中のときはその弱
方向への出力を停止した後、強方向に連続出力する。具
体的には、強方向へのモータオン時間を500ms(従
ってモータオフ時間は0)にする。上記回転数偏差が−
15rpmと15rpmの間にあるときは、不感帯内に
あるとして、モータ出力を停止する。具体的には、モー
タオン時間を0(従ってモータオフ時間は500ms)
にする。
は、現在のトウミ回転数が500rpmを超えている状
態で、且つ、トウミモータM2のオンオフ駆動周期(5
00ms)におけるオフ時間の終了即ちモータ駆動周期
の終了を確認したときに、目標回転数から現在の回転数
を引いて求まるトウミ回転数偏差の値に基づいて、以下
の処理を行う。つまり、上記回転数偏差が−100rp
mよりも小さいときは、トウミモータM2が強方向に出
力中かどうか調べ、強方向に出力中のときはその強方向
への出力を停止した後、弱方向に連続出力する。具体的
には、弱方向へのモータオン時間を500ms(従って
モータオフ時間は0)にする。上記回転数偏差が100
rpmよりも大きいときは、トウミモータM2が弱方向
に出力中かどうか調べ、弱方向に出力中のときはその弱
方向への出力を停止した後、強方向に連続出力する。具
体的には、強方向へのモータオン時間を500ms(従
ってモータオフ時間は0)にする。上記回転数偏差が−
15rpmと15rpmの間にあるときは、不感帯内に
あるとして、モータ出力を停止する。具体的には、モー
タオン時間を0(従ってモータオフ時間は500ms)
にする。
【0053】一方、上記回転数偏差が−100rpmと
−15rpmの間、及び、15rpmと100rpmの
間にあるときは、モータを間欠駆動させるのモータオン
時間Tonを、上記回転数偏差Hr及び前記エンジン回
転数センサS6によるエンジン回転数Erに基づいて下
式のように計算する。尚、a1は所定のゲイン係数であ
る。
−15rpmの間、及び、15rpmと100rpmの
間にあるときは、モータを間欠駆動させるのモータオン
時間Tonを、上記回転数偏差Hr及び前記エンジン回
転数センサS6によるエンジン回転数Erに基づいて下
式のように計算する。尚、a1は所定のゲイン係数であ
る。
【0054】
【数1】Ton=a1・Hr/Er
【0055】ここで、計算したオン時間Tonが250
msを超えるときはモータオン時間を250msに、8
0msより小さいときは80msに、250msと80
msの間のときは計算したオン時間に夫々設定し、又、
モータオフ時間を500msから上記設定したモータオ
ン時間を引いた時間として設定する。そして、上記回転
数偏差が正のときは、上記設定したモータオン時間を強
方向オン時間とする一方、上記回転数偏差が負のとき
は、上記設定したモータオン時間を弱方向オン時間とす
る。最後に、上記設定したモータオン及びオフ時間でト
ウミモータM2を駆動することになる。
msを超えるときはモータオン時間を250msに、8
0msより小さいときは80msに、250msと80
msの間のときは計算したオン時間に夫々設定し、又、
モータオフ時間を500msから上記設定したモータオ
ン時間を引いた時間として設定する。そして、上記回転
数偏差が正のときは、上記設定したモータオン時間を強
方向オン時間とする一方、上記回転数偏差が負のとき
は、上記設定したモータオン時間を弱方向オン時間とす
る。最後に、上記設定したモータオン及びオフ時間でト
ウミモータM2を駆動することになる。
【0056】〔別実施例〕 以下、別実施例を列記する。
【0057】又、上記実施例では、揺動選別板19の揺
動周期を125ms、層厚検出手段(層厚センサS1)
の検出情報をサンプリングするために揺動選別板19の
揺動周期よりも短く設定されるサンプリング周期を5m
s、処理物の層厚判別用の処理周期を上記揺動選別板1
9の揺動周期と同じ周期125msとするものを示した
が、これらの周期については装置の条件に応じて適宜変
更できる。
動周期を125ms、層厚検出手段(層厚センサS1)
の検出情報をサンプリングするために揺動選別板19の
揺動周期よりも短く設定されるサンプリング周期を5m
s、処理物の層厚判別用の処理周期を上記揺動選別板1
9の揺動周期と同じ周期125msとするものを示した
が、これらの周期については装置の条件に応じて適宜変
更できる。
【0058】又、上記実施例では、揺動選別板19の揺
動周期が大きく変動しないことを前提にして、前記サン
プリングデータに基づく処理物の層厚判別用の処理周期
を例えば定常状態における揺動選別板19の揺動周期
(例えば125ms)と同じに設定したが、揺動選別板
19の揺動周期の変動が大きいような場合に対応すべ
く、揺動周期検出手段(回転数センサS7)の情報に基
づいて、揺動選別板19の揺動周期に合わせて、前記処
理周期を変更するようにしてもよい。
動周期が大きく変動しないことを前提にして、前記サン
プリングデータに基づく処理物の層厚判別用の処理周期
を例えば定常状態における揺動選別板19の揺動周期
(例えば125ms)と同じに設定したが、揺動選別板
19の揺動周期の変動が大きいような場合に対応すべ
く、揺動周期検出手段(回転数センサS7)の情報に基
づいて、揺動選別板19の揺動周期に合わせて、前記処
理周期を変更するようにしてもよい。
【0059】上記実施例では、揺動周期検出手段を、揺
動選別板19の揺動駆動軸の回転数を検出する回転数セ
ンサS7で構成したが、これに限るものではない。例え
ば、揺動選別板19の一部箇所の上下揺動を直接検出す
る光電式又は磁気式等の各種センサが使用できる。
動選別板19の揺動駆動軸の回転数を検出する回転数セ
ンサS7で構成したが、これに限るものではない。例え
ば、揺動選別板19の一部箇所の上下揺動を直接検出す
る光電式又は磁気式等の各種センサが使用できる。
【0060】上記実施例では、処理物の層厚検出値及び
その変化率に基づいてファジィ推論により、揺動選別板
19の漏下開度変更用の操作量を決定したが、ファジィ
推論ではなく、例えば、PID制御等によって行うよう
にしてもよい。尚、前記操作量の決定をファジィ推論に
よって行う場合に、上記実施例では、予め演算して求め
た操作量データを数値テーブルとして記憶するようにし
たが、このような数値テーブルではなく演算用のテーブ
ルを記憶し、その演算用のテーブルを用いて、層厚検出
値及びその変化率の情報から前記操作量を演算して求め
るようにしてもよい。この演算テーブル方式によれば、
記憶情報量が数値テーブル方式に比べて少なくて済むと
いうメリットがある。又、上記実施例では、前記操作量
データを求めるためのファジィ推論において2つの制御
規則を、揺動選別板19における漏下開度(チャフ開
度)の大小に対応して設定したが、より適切な制御を行
うために、上記制御規則を2つではなく、例えば、上記
漏下開度の大中小に対応して3つ設定するようにしても
よい。
その変化率に基づいてファジィ推論により、揺動選別板
19の漏下開度変更用の操作量を決定したが、ファジィ
推論ではなく、例えば、PID制御等によって行うよう
にしてもよい。尚、前記操作量の決定をファジィ推論に
よって行う場合に、上記実施例では、予め演算して求め
た操作量データを数値テーブルとして記憶するようにし
たが、このような数値テーブルではなく演算用のテーブ
ルを記憶し、その演算用のテーブルを用いて、層厚検出
値及びその変化率の情報から前記操作量を演算して求め
るようにしてもよい。この演算テーブル方式によれば、
記憶情報量が数値テーブル方式に比べて少なくて済むと
いうメリットがある。又、上記実施例では、前記操作量
データを求めるためのファジィ推論において2つの制御
規則を、揺動選別板19における漏下開度(チャフ開
度)の大小に対応して設定したが、より適切な制御を行
うために、上記制御規則を2つではなく、例えば、上記
漏下開度の大中小に対応して3つ設定するようにしても
よい。
【0061】上記実施例では、揺動選別板19における
漏下開度が小さいときの方が、揺動選別板19における
漏下開度が大きいときよりも、層厚検出手段(層厚セン
サS1)の層厚検出値及びその変化率に基づいて決定す
る操作量を大きくするのに、特にシーブ偏差及びシーブ
変化量が共に大きい条件において、操作量が大きくなる
ようにしたものを示したが、これに限るものではない。
例えば、上記シーブ偏差及びシーブ変化量が共に大きい
条件に加えて、シーブ偏差及びシーブ変化量が共に小さ
い条件においても操作量が大きくなるようにしてもよ
い。
漏下開度が小さいときの方が、揺動選別板19における
漏下開度が大きいときよりも、層厚検出手段(層厚セン
サS1)の層厚検出値及びその変化率に基づいて決定す
る操作量を大きくするのに、特にシーブ偏差及びシーブ
変化量が共に大きい条件において、操作量が大きくなる
ようにしたものを示したが、これに限るものではない。
例えば、上記シーブ偏差及びシーブ変化量が共に大きい
条件に加えて、シーブ偏差及びシーブ変化量が共に小さ
い条件においても操作量が大きくなるようにしてもよ
い。
【0062】固定枠側に設置されて、揺動選別板19上
の処理物の層厚を検出する層厚検出手段は、上記実施例
のような接触子T1,T2と変換部(ポテンショメータ
PM)とからなる層厚センサS1に限らない。例えば、
発信部及び受信部が固定枠側に設置されて処理物層の上
下位置を上方から検出するように配置された超音波セン
サ等の各種センサが利用できる。
の処理物の層厚を検出する層厚検出手段は、上記実施例
のような接触子T1,T2と変換部(ポテンショメータ
PM)とからなる層厚センサS1に限らない。例えば、
発信部及び受信部が固定枠側に設置されて処理物層の上
下位置を上方から検出するように配置された超音波セン
サ等の各種センサが利用できる。
【0063】上記実施例では、揺動選別板19において
漏下開度を変えながら処理物を漏下させる手段を、チャ
フシーブ24の開度を変更するように構成したが、これ
に限るものではない。上記実施例のチャフシーブ24に
代えて、例えば、網状又はスリット状の開口部をスライ
ドグレンパンといわれる遮蔽板で遮蔽し、スライドグレ
ンパンをスライドさせてその開口部の遮蔽面積つまり開
度を変えるように構成してもよい。
漏下開度を変えながら処理物を漏下させる手段を、チャ
フシーブ24の開度を変更するように構成したが、これ
に限るものではない。上記実施例のチャフシーブ24に
代えて、例えば、網状又はスリット状の開口部をスライ
ドグレンパンといわれる遮蔽板で遮蔽し、スライドグレ
ンパンをスライドさせてその開口部の遮蔽面積つまり開
度を変えるように構成してもよい。
【0064】上記実施例では、揺動選別板19の漏下開
度の変更に応じて、トウミ回転数を変更させるように構
成したが、これに限るものではなく、例えば、トウミ回
転数を所定回転数に固定(つまりトウミモータM2を所
定回転位置に固定)した状態で、シーブモータM1だけ
を正逆方向に回転駆動させるようにしてもよい。
度の変更に応じて、トウミ回転数を変更させるように構
成したが、これに限るものではなく、例えば、トウミ回
転数を所定回転数に固定(つまりトウミモータM2を所
定回転位置に固定)した状態で、シーブモータM1だけ
を正逆方向に回転駆動させるようにしてもよい。
【0065】本発明は、上記実施例のような自脱型コン
バインに限らず、普通型コンバイン等の他のコンバイン
に適用することもでき、又、コンバイン以外の脱穀装置
にも適用することもできる。
バインに限らず、普通型コンバイン等の他のコンバイン
に適用することもでき、又、コンバイン以外の脱穀装置
にも適用することもできる。
【0066】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。
【図1】本発明の実施例に係るコンバインの制御構成の
ブロック図
ブロック図
【図2】自脱型コンバインの側面図
【図3】動力伝達機構の模式図
【図4】脱穀装置の側面透視図
【図5】チャフシーブとその開度変更手段を示す図
【図6】層厚センサの構造を示す側面図
【図7】制御作動のフローチャート
【図8】制御作動のフローチャート
【図9】制御作動のフローチャート
【図10】制御作動のフローチャート
【図11】制御作動のフローチャート
【図12】制御作動のフローチャート
【図13】制御作動のフローチャート
【図14】制御作動のフローチャート
【図15】制御作動のフローチャート
【図16】制御作動のフローチャート
【図17】制御作動のフローチャート
【図18】制御作動のフローチャート
【図19】制御作動のフローチャート
【図20】制御作動のフローチャート
【図21】制御作動のフローチャート
【図22】制御作動のフローチャート
【図23】ファジィ推論における各変数のメンバーシッ
プ関数を示す図
プ関数を示す図
【図24】ファジィ推論におけるルールを示すテーブル
【図25】チャフ開度値からトウミ回転数を求める変換
式を示すグラフ
式を示すグラフ
【図26】車速感応型制御における車速対チャフ開度値
を示すグラフ
を示すグラフ
【図27】補助開度制御についての説明図
19 揺動選別板 S1 層厚検出手段 100 層厚判別手段 S7 揺動周期検出手段 T1,T2 接触子 PM 変換部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) A01F 12/32
Claims (3)
- 【請求項1】 脱穀後の処理物を上下揺動しながら選別
処理する揺動選別板(19)と、固定枠側に設置され
て、前記揺動選別板(19)上の処理物の層厚を検出す
る層厚検出手段(S1)と、前記層厚検出手段(S1)
の検出情報に基づいて前記処理物の層厚を判別する層厚
判別手段(100)とが設けられた脱穀選別装置の処理
物層厚検出装置であって、 前記層厚判別手段(100)は、前記層厚検出手段(S
7)の検出情報を前記揺動選別板(19)の揺動周期よ
りも短いサンプリング周期でサンプリングし、且つ、前
記揺動選別板(19)の揺動周期と同じ処理周期ごと
に、その処理周期内においてサンプリングしたサンプリ
ングデータに基づいて、前記層厚検出手段(S1)の検
出値の前記処理周期内での最大値と最小値とを平均した
値を前記処理物の層厚とする層厚判別を行うように構成
されている脱穀選別装置の処理物層厚検出装置。 - 【請求項2】 前記揺動選別板(19)の揺動周期を検
出する揺動周期検出手段(S7)が設けられ、 前記層厚判別手段(100)は、前記揺動周期検出手段
(S7)の情報に基づいて、前記揺動選別板(19)の
揺動周期に合わせて、前記処理周期を変更するように構
成されている請求項1記載の脱穀選別装置の処理物層厚
検出装置。 - 【請求項3】 前記層厚検出手段(S1)が、機体後方
側に揺動自在に垂下姿勢で枢支された状態で前記揺動選
別板(19)の上方側に配置された接触子(T1,T
2)と、その接触子(T1,T2)の前記処理物への接
触による機体後方側への揺動量を層厚値に変換する変換
部(PM)とから構成されている請求項1 又は2記載の
脱穀選別装置の処理物層厚検出装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06176352A JP3143329B2 (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | 脱穀選別装置の処理物層厚検出装置 |
KR1019940033128A KR0127876B1 (ko) | 1994-07-28 | 1994-12-07 | 콤바인의 탈곡선별장치 |
CN94119206A CN1056030C (zh) | 1994-07-28 | 1994-12-23 | 联合收割机的脱粒分选装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06176352A JP3143329B2 (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | 脱穀選別装置の処理物層厚検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0837905A JPH0837905A (ja) | 1996-02-13 |
JP3143329B2 true JP3143329B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=16012109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06176352A Expired - Fee Related JP3143329B2 (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | 脱穀選別装置の処理物層厚検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3143329B2 (ja) |
-
1994
- 1994-07-28 JP JP06176352A patent/JP3143329B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0837905A (ja) | 1996-02-13 |
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