JP3142338B2 - 常圧ｃｖｄ方法およびその装置 - Google Patents
常圧ｃｖｄ方法およびその装置Info
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- JP3142338B2 JP3142338B2 JP03345638A JP34563891A JP3142338B2 JP 3142338 B2 JP3142338 B2 JP 3142338B2 JP 03345638 A JP03345638 A JP 03345638A JP 34563891 A JP34563891 A JP 34563891A JP 3142338 B2 JP3142338 B2 JP 3142338B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ベルトコンベアにて被
成膜物を搬送する常圧ＣＶＤ方法およびその装置に関す
る。
成膜物を搬送する常圧ＣＶＤ方法およびその装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、たとえば液晶表示装置などの製造
に際し、ガラス基板に薄膜を形成する手段として、常圧
ＣＶＤ装置が用いられている。
に際し、ガラス基板に薄膜を形成する手段として、常圧
ＣＶＤ装置が用いられている。
【０００３】この常圧ＣＶＤ装置としては、たとえば図
４に示す構成が知られている。この図４に示す構成は、
図示しない被成膜物であるガラス基板を基板搬入部１か
ら搬入し、この基板搬入部１から搬入されたガラス基板
を予備加熱部２で予備加熱し、この予備加熱されたガラ
ス基板上にＣＶＤ部３で気相化学成長により成膜し、こ
の成膜されたガラス基板を冷却部４で冷却し、この冷却
されたガラス基板を基板搬出部５で搬出するようになっ
ている。そして、基板搬入部１、予備加熱部２、ＣＶＤ
部３、冷却部４および基板搬出部５に、ガラス基板を図
示しないベルトコンベアにより順次移動させられる。
４に示す構成が知られている。この図４に示す構成は、
図示しない被成膜物であるガラス基板を基板搬入部１か
ら搬入し、この基板搬入部１から搬入されたガラス基板
を予備加熱部２で予備加熱し、この予備加熱されたガラ
ス基板上にＣＶＤ部３で気相化学成長により成膜し、こ
の成膜されたガラス基板を冷却部４で冷却し、この冷却
されたガラス基板を基板搬出部５で搬出するようになっ
ている。そして、基板搬入部１、予備加熱部２、ＣＶＤ
部３、冷却部４および基板搬出部５に、ガラス基板を図
示しないベルトコンベアにより順次移動させられる。
【０００４】また、クリーンルーム６と一般室７との境
界壁８に沿って、基板搬入部１、予備加熱部２、ＣＶＤ
部３、冷却部４および基板搬出部５が配置され、基板搬
入部１および基板搬出部５の出入口はクリーンルーム６
側に対向する。
界壁８に沿って、基板搬入部１、予備加熱部２、ＣＶＤ
部３、冷却部４および基板搬出部５が配置され、基板搬
入部１および基板搬出部５の出入口はクリーンルーム６
側に対向する。
【０００５】そして、ベルトコンベアは、たとえば金属
製のメッシュで、ベルト駆動部によりある一定速度で駆
動され、基板搬入部１より、既に前処理の完了している
ガラス基板を搬入する。また、搬入されたガラス基板
は、予備加熱部２によりある設定された温度勾配で設定
温度まで加熱され、加熱されたガラス基板は、ＣＶＤ部
３において一定温度に保たれながらガラス基板上に薄膜
を形成する。さらに、薄膜を形成されたガラス基板は、
冷却部４にて設定された温度勾配で冷却し、基板搬出部
５より薄膜を形成された状態のガラス基板を搬出する。
製のメッシュで、ベルト駆動部によりある一定速度で駆
動され、基板搬入部１より、既に前処理の完了している
ガラス基板を搬入する。また、搬入されたガラス基板
は、予備加熱部２によりある設定された温度勾配で設定
温度まで加熱され、加熱されたガラス基板は、ＣＶＤ部
３において一定温度に保たれながらガラス基板上に薄膜
を形成する。さらに、薄膜を形成されたガラス基板は、
冷却部４にて設定された温度勾配で冷却し、基板搬出部
５より薄膜を形成された状態のガラス基板を搬出する。
【０００６】ところが、ＣＶＤ部３において、ガラス基
板上だけではなくガラス基板以外のベルト上にも成膜し
てしまうため、ある程度の累積成膜時間に達すると、ベ
ルトコンベアに形成された膜がゴミとなり、ガラス基板
上の膜に悪影響をおよぼす。そこで、累積限界成膜時間
に達する前に、金属製のメッシュのベルトを新しいもの
に交換している。
板上だけではなくガラス基板以外のベルト上にも成膜し
てしまうため、ある程度の累積成膜時間に達すると、ベ
ルトコンベアに形成された膜がゴミとなり、ガラス基板
上の膜に悪影響をおよぼす。そこで、累積限界成膜時間
に達する前に、金属製のメッシュのベルトを新しいもの
に交換している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来の
常圧ＣＶＤ装置では、被成膜物であるガラス基板の製造
の歩留まりを維持するために、頻繁に金属製のメッシュ
のベルトを交換しなければならず、このベルト交換に多
大な時間と労力を費やし、装置稼働率を大幅に低下させ
る。
常圧ＣＶＤ装置では、被成膜物であるガラス基板の製造
の歩留まりを維持するために、頻繁に金属製のメッシュ
のベルトを交換しなければならず、このベルト交換に多
大な時間と労力を費やし、装置稼働率を大幅に低下させ
る。
【０００８】また、移動時における発塵、搬入の際の発
塵およびクリーンルーム内に長時間暴露させることによ
り発塵する。
塵およびクリーンルーム内に長時間暴露させることによ
り発塵する。
【０００９】さらに、基板搬入部１と基板搬出部５が装
置両端にあるため、ＣＶＤ装置をクリーンルーム６と一
般室７の境界壁８面に沿って設置する必要があり、非常
に効率の悪いレイアウトになる問題を有している。
置両端にあるため、ＣＶＤ装置をクリーンルーム６と一
般室７の境界壁８面に沿って設置する必要があり、非常
に効率の悪いレイアウトになる問題を有している。
【００１０】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、装置稼働率を向上し、効率のよいレイアウトにする
ことができる常圧ＣＶＤ方法およびその装置を提供する
ことを目的とする。
で、装置稼働率を向上し、効率のよいレイアウトにする
ことができる常圧ＣＶＤ方法およびその装置を提供する
ことを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の常圧ＣＶ
Ｄ方法は、被成膜物をベルトコンベアで搬送し、搬入さ
れた前記被成膜物を前記ベルトコンベア上で洗浄し、こ
の洗浄された被成膜物を前記ベルトコンベア上で気相化
学成長させ、この気相化学成長された被成膜物を前記ベ
ルトコンベヤ上から搬出し、前記被成膜物が搬出された
前記ベルトコンベヤを化学的にエッチングした後にブラ
シで洗浄し、この洗浄された前記ベルトコンベアで新た
な被成膜物を搬送するものである。
Ｄ方法は、被成膜物をベルトコンベアで搬送し、搬入さ
れた前記被成膜物を前記ベルトコンベア上で洗浄し、こ
の洗浄された被成膜物を前記ベルトコンベア上で気相化
学成長させ、この気相化学成長された被成膜物を前記ベ
ルトコンベヤ上から搬出し、前記被成膜物が搬出された
前記ベルトコンベヤを化学的にエッチングした後にブラ
シで洗浄し、この洗浄された前記ベルトコンベアで新た
な被成膜物を搬送するものである。
【００１２】請求項２記載の常圧ＣＶＤ装置は、被成膜
物を搬入する搬入部と、この搬入された被成膜物を洗浄
する前処理部と、この洗浄された被成膜物を気相化学成
長させるＣＶＤ部と、この気相化学成長された被成膜物
を搬出する搬出部と、前記被成膜物を前記搬入部から前
記搬出部へと搬送するベルトコンベアと、このベルトコ
ンベアを駆動させるベルト駆動部と、前記搬出部から前
記被成膜物を搬出した前記ベルトコンベアを化学的にエ
ッチングするベルトエッチ部、およびこのベルトエッチ
部を経た前記ベルトコンベヤをブラシで洗浄するブラシ
洗浄部を備えたベルトコンベヤ洗浄部とを具備したもの
である。
物を搬入する搬入部と、この搬入された被成膜物を洗浄
する前処理部と、この洗浄された被成膜物を気相化学成
長させるＣＶＤ部と、この気相化学成長された被成膜物
を搬出する搬出部と、前記被成膜物を前記搬入部から前
記搬出部へと搬送するベルトコンベアと、このベルトコ
ンベアを駆動させるベルト駆動部と、前記搬出部から前
記被成膜物を搬出した前記ベルトコンベアを化学的にエ
ッチングするベルトエッチ部、およびこのベルトエッチ
部を経た前記ベルトコンベヤをブラシで洗浄するブラシ
洗浄部を備えたベルトコンベヤ洗浄部とを具備したもの
である。
【００１３】
【作用】請求項１記載の常圧ＣＶＤ方法は、被成膜物を
ベルトコンベアで搬送し、このベルトコンべア上で搬入
された被成膜物を洗浄し、この洗浄された被成膜物をベ
ルトコンベア上で気相化学成長させ、この気相化学成長
された被成膜物をベルトコンベア上から排出し、被成膜
物が排出されたベルトコンベアを化学的にエッチングし
た後にブラシで洗浄し、この洗浄されたベルトコンベア
で新たな被成膜物を搬送するため、新たな被成膜物を搬
送するベルトコンベアは膜付着がなく、気相化学成長さ
れる被成膜物上の膜もゴミの影響を受けにくく、また、
搬入された被成膜物を洗浄処理するため、移動時におけ
る発塵、搬入の際の発塵およびクリーンルーム内に長時
間暴露させることによる発塵を防止できる。さらに、気
相化学成長により付着された膜を化学的なエッチングで
除去した後に、エッチングの残渣物などをブラシで物理
的に除去するので、ベルトコンベアが十分に清掃され
る。
ベルトコンベアで搬送し、このベルトコンべア上で搬入
された被成膜物を洗浄し、この洗浄された被成膜物をベ
ルトコンベア上で気相化学成長させ、この気相化学成長
された被成膜物をベルトコンベア上から排出し、被成膜
物が排出されたベルトコンベアを化学的にエッチングし
た後にブラシで洗浄し、この洗浄されたベルトコンベア
で新たな被成膜物を搬送するため、新たな被成膜物を搬
送するベルトコンベアは膜付着がなく、気相化学成長さ
れる被成膜物上の膜もゴミの影響を受けにくく、また、
搬入された被成膜物を洗浄処理するため、移動時におけ
る発塵、搬入の際の発塵およびクリーンルーム内に長時
間暴露させることによる発塵を防止できる。さらに、気
相化学成長により付着された膜を化学的なエッチングで
除去した後に、エッチングの残渣物などをブラシで物理
的に除去するので、ベルトコンベアが十分に清掃され
る。
【００１４】請求項２記載の常圧ＣＶＤ装置は、搬入部
から搬入された被成膜物を前処理部で洗浄し、この洗浄
された被成膜物をＣＶＤ部で気相化学成長させ、さら
に、この気相化学成長された被成膜物を搬出部から搬出
したベルトコンベヤを、ベルトコンベヤ洗浄部のベルト
エッチ部で化学的にエッチングし、このベルトエッチ部
を経たベルトコンベヤをブラシ洗浄部にてブラシで洗浄
する。このため、、搬入部では膜付着のない常にきれい
なベルトコンベアとなり、ＣＶＤ部において成膜される
被成膜物上の膜もゴミの影響を受けにくく、また、搬入
後に前処理部で洗浄処理するため、移動時における発
塵、搬入の際の発塵およびクリーンルーム内に長時間暴
露させることによる発塵を防止できる。さらに、気相化
学成長により付着された膜を化学的なエッチングで除去
した後に、エッチング残渣物などをブ ラシで物理的に除
去するので、ベルトコンベアが十分に清掃される。
から搬入された被成膜物を前処理部で洗浄し、この洗浄
された被成膜物をＣＶＤ部で気相化学成長させ、さら
に、この気相化学成長された被成膜物を搬出部から搬出
したベルトコンベヤを、ベルトコンベヤ洗浄部のベルト
エッチ部で化学的にエッチングし、このベルトエッチ部
を経たベルトコンベヤをブラシ洗浄部にてブラシで洗浄
する。このため、、搬入部では膜付着のない常にきれい
なベルトコンベアとなり、ＣＶＤ部において成膜される
被成膜物上の膜もゴミの影響を受けにくく、また、搬入
後に前処理部で洗浄処理するため、移動時における発
塵、搬入の際の発塵およびクリーンルーム内に長時間暴
露させることによる発塵を防止できる。さらに、気相化
学成長により付着された膜を化学的なエッチングで除去
した後に、エッチング残渣物などをブ ラシで物理的に除
去するので、ベルトコンベアが十分に清掃される。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の常圧ＣＶＤ装置の一実施例を
図面を参照して説明する。なお、図４に示す従来例に対
応する部分には、同一符号を付して説明する。
図面を参照して説明する。なお、図４に示す従来例に対
応する部分には、同一符号を付して説明する。
【００１６】図１に示すように、ガラス基板を搬入する
基板搬入部１およびこのガラス基板を気相化学成長（Ｃ
ＶＤ）による成膜処理前の洗浄などを行なうガラス基板
前処理部11と、ＣＶＤ前に予備加熱する予備加熱部２、
ＣＶＤ処理を行なうＣＶＤ部３、ＣＶＤ処理されたガラ
ス基板を冷却する冷却部４およびガラス基板を搬出する
基板搬出部５とが並列に配設され、ガラス基板前処理部
11と予備加熱部２との間にはクリーントンネル部12が配
設され、ガラス基板前処理部11と予備加熱部２とがクリ
ーントンネル部12によって連通される。このクリーント
ンネル部12は、上部にヘパフィルタを設け、清浄空気の
ダウンフロー状態雰囲気にしてあり、その中をコロ搬送
によりガラス基板を予備加熱部２まで搬送する。
基板搬入部１およびこのガラス基板を気相化学成長（Ｃ
ＶＤ）による成膜処理前の洗浄などを行なうガラス基板
前処理部11と、ＣＶＤ前に予備加熱する予備加熱部２、
ＣＶＤ処理を行なうＣＶＤ部３、ＣＶＤ処理されたガラ
ス基板を冷却する冷却部４およびガラス基板を搬出する
基板搬出部５とが並列に配設され、ガラス基板前処理部
11と予備加熱部２との間にはクリーントンネル部12が配
設され、ガラス基板前処理部11と予備加熱部２とがクリ
ーントンネル部12によって連通される。このクリーント
ンネル部12は、上部にヘパフィルタを設け、清浄空気の
ダウンフロー状態雰囲気にしてあり、その中をコロ搬送
によりガラス基板を予備加熱部２まで搬送する。
【００１７】また、基板搬入部１、ガラス基板前処理部
11、クリーントンネル部12、予備加熱部２、ＣＶＤ部
３、冷却部４および基板搬出部５はコ字状に配設され、
基板搬入部１および基板搬出部５はクリーンルーム６側
に、ガラス基板前処理部11、クリーントンネル部12、予
備加熱部２、ＣＶＤ部３および冷却部４はクリーンルー
ム６と境界壁８を介した一般室７にそれぞれ配設されて
いる。一方、基板搬入部１と基板搬出部５とのガラス基
板の搬出入口は、クリーンルーム６側に対向して設けら
れ、基板搬入部１はヘパフィルタを上部に設け、清浄空
気のダウンフロー状態雰囲気にしてある。
11、クリーントンネル部12、予備加熱部２、ＣＶＤ部
３、冷却部４および基板搬出部５はコ字状に配設され、
基板搬入部１および基板搬出部５はクリーンルーム６側
に、ガラス基板前処理部11、クリーントンネル部12、予
備加熱部２、ＣＶＤ部３および冷却部４はクリーンルー
ム６と境界壁８を介した一般室７にそれぞれ配設されて
いる。一方、基板搬入部１と基板搬出部５とのガラス基
板の搬出入口は、クリーンルーム６側に対向して設けら
れ、基板搬入部１はヘパフィルタを上部に設け、清浄空
気のダウンフロー状態雰囲気にしてある。
【００１８】さらに、予備加熱部２、ＣＶＤ部３、冷却
部４および基板搬出部５は、図２に示すようになってい
る。これら予備加熱部２、ＣＶＤ部３、冷却部４および
基板搬出部５は、金属製のメッシュのベルトコンベア15
の往路により順次搬送されるとともに、これら予備加熱
部２、ＣＶＤ部３、冷却部４および基板搬出部５の下部
に位置し、復路となる部分にはベルトコンベア15を回転
駆動するベルト駆動部16およびベルトコンベア15を洗浄
するベルトコンベア洗浄部17が配設されている。
部４および基板搬出部５は、図２に示すようになってい
る。これら予備加熱部２、ＣＶＤ部３、冷却部４および
基板搬出部５は、金属製のメッシュのベルトコンベア15
の往路により順次搬送されるとともに、これら予備加熱
部２、ＣＶＤ部３、冷却部４および基板搬出部５の下部
に位置し、復路となる部分にはベルトコンベア15を回転
駆動するベルト駆動部16およびベルトコンベア15を洗浄
するベルトコンベア洗浄部17が配設されている。
【００１９】そして、ベルトコンベア洗浄部17には、ベ
ルトコンベア15の表面が成膜された部分をエッチングす
るベルトエッチ部21、超音波により洗浄を行なう超音波
洗浄槽22、ベルトコンベア15を乾燥させるベルト乾燥部
23およびブラシ洗浄部24を有している。
ルトコンベア15の表面が成膜された部分をエッチングす
るベルトエッチ部21、超音波により洗浄を行なう超音波
洗浄槽22、ベルトコンベア15を乾燥させるベルト乾燥部
23およびブラシ洗浄部24を有している。
【００２０】さらに、超音波洗浄槽22、ベルト乾燥部23
およびブラシ洗浄部24は、図３に示すようになってい
る。すなわち、ベルトコンベア15は、超音波洗浄槽22の
純水中で超音波洗浄され、ブラシ洗浄部24に設けられた
シャワーノズル25で純水を噴出しながらブラシ体26を回
転させて洗浄し、エアーナイフ27により水切りする。さ
らに、ベルト乾燥部23でベルトコンベア15を乾燥する。
およびブラシ洗浄部24は、図３に示すようになってい
る。すなわち、ベルトコンベア15は、超音波洗浄槽22の
純水中で超音波洗浄され、ブラシ洗浄部24に設けられた
シャワーノズル25で純水を噴出しながらブラシ体26を回
転させて洗浄し、エアーナイフ27により水切りする。さ
らに、ベルト乾燥部23でベルトコンベア15を乾燥する。
【００２１】次に、上記実施例の動作について説明す
る。
る。
【００２２】まず、ガラス基板を数十枚毎にカセットに
収納して基板搬入部１にセットすると、基板搬入部１は
ガラス基板を１枚ずつ所定間隔で、ガラス基板前処理部
11へ搬送する。ガラス基板前処理部11では、ガラス基板
を図示しない純水シャワー、ブラシ洗浄、キャビテーシ
ョンジェット、純水シャワーおよび温風エアーナイフ乾
燥等の各工程処理の後、クリーントンネル部12に搬送す
る。クリーントンネル部12は、清浄空気のダウンフロー
状態雰囲気中に、コロ搬送によりガラス基板を予備加熱
部２まで搬送する。
収納して基板搬入部１にセットすると、基板搬入部１は
ガラス基板を１枚ずつ所定間隔で、ガラス基板前処理部
11へ搬送する。ガラス基板前処理部11では、ガラス基板
を図示しない純水シャワー、ブラシ洗浄、キャビテーシ
ョンジェット、純水シャワーおよび温風エアーナイフ乾
燥等の各工程処理の後、クリーントンネル部12に搬送す
る。クリーントンネル部12は、清浄空気のダウンフロー
状態雰囲気中に、コロ搬送によりガラス基板を予備加熱
部２まで搬送する。
【００２３】そして、ベルト駆動部16により一定速度で
駆動されるベルトコンベア15で、クリーントンネル部12
からのガラス基板を搬入する。この搬入されたガラス基
板は、予備加熱部２によりある設定された温度勾配で設
定温度まで加熱され、加熱されたガラス基板はＣＶＤ部
３において一定温度に保たれながらガラス基板上に薄膜
を形成する。さらに、薄膜を形成されたガラス基板は、
冷却部４にて設定された温度勾配で冷却し、基板搬出部
５では一定間隔で、薄膜が形成されたガラス基板を１枚
ずつカセット内に取り込み、搬出する。
駆動されるベルトコンベア15で、クリーントンネル部12
からのガラス基板を搬入する。この搬入されたガラス基
板は、予備加熱部２によりある設定された温度勾配で設
定温度まで加熱され、加熱されたガラス基板はＣＶＤ部
３において一定温度に保たれながらガラス基板上に薄膜
を形成する。さらに、薄膜を形成されたガラス基板は、
冷却部４にて設定された温度勾配で冷却し、基板搬出部
５では一定間隔で、薄膜が形成されたガラス基板を１枚
ずつカセット内に取り込み、搬出する。
【００２４】また、ガラス基板とともに成膜されたベル
トコンベア15は、ベルトエッチ部21のＨＦベーパー雰囲
気のＨＦチャンバ内にて付着形成された薄膜をエッチン
グする。このエッチングされたベルトコンベア15は、超
音波洗浄槽22内の純水にて洗浄され、ベルト乾燥部23に
て乾燥される。さらに、一度乾燥されたベルトコンベア
15は、再び超音波洗浄槽22にて純水で洗浄される。超音
波洗浄槽22で２度目の洗浄をされたベルトコンベア15
は、シャワーノズル25で純水の噴射を受けながらブラシ
体26により洗浄され、エアーナイフ27により水切りす
る。その後、べルトコンベア15は、再度、ベルト乾燥部
23にて完全に水分を除去される。
トコンベア15は、ベルトエッチ部21のＨＦベーパー雰囲
気のＨＦチャンバ内にて付着形成された薄膜をエッチン
グする。このエッチングされたベルトコンベア15は、超
音波洗浄槽22内の純水にて洗浄され、ベルト乾燥部23に
て乾燥される。さらに、一度乾燥されたベルトコンベア
15は、再び超音波洗浄槽22にて純水で洗浄される。超音
波洗浄槽22で２度目の洗浄をされたベルトコンベア15
は、シャワーノズル25で純水の噴射を受けながらブラシ
体26により洗浄され、エアーナイフ27により水切りす
る。その後、べルトコンベア15は、再度、ベルト乾燥部
23にて完全に水分を除去される。
【００２５】上記実施例によると、ガラス基板前処理部
11を設け搬入後のガラス基板を洗浄することにより、ガ
ラス基板の移動中における発塵や、基板搬入部１での発
塵によるパーティクルを確実に除去することができる。
また、ベルトコンベア洗浄部17を設けたことにより、ベ
ルトコンベア15がＣＶＤ部３にて薄膜が形成されても、
ベルトコンベア15は、１回毎に洗浄、エッチングするた
め、ベルトコンベア15自体が破損により使用不可能とな
るまで交換する必要がなく、装置稼働率を大幅に向上さ
せ、しかも低パーティクルな薄膜を得ることができる。
11を設け搬入後のガラス基板を洗浄することにより、ガ
ラス基板の移動中における発塵や、基板搬入部１での発
塵によるパーティクルを確実に除去することができる。
また、ベルトコンベア洗浄部17を設けたことにより、ベ
ルトコンベア15がＣＶＤ部３にて薄膜が形成されても、
ベルトコンベア15は、１回毎に洗浄、エッチングするた
め、ベルトコンベア15自体が破損により使用不可能とな
るまで交換する必要がなく、装置稼働率を大幅に向上さ
せ、しかも低パーティクルな薄膜を得ることができる。
【００２６】さらに、ＣＶＤによりベルトコンベアに付
着した膜は、ブラシのみでは完全に除去しにくく、まし
てはベルトコンベアに微細な隙間、例えばメッシュ部分
などが形成されている場合には、このメッシュ部の網目
内などの洗浄には不充分である。そこで、このメッシュ
部全面を均一に洗浄することは困難であるが、化学的な
エッチングでベルトコンベアを洗浄する。また、この化
学的なエッチングでは、ベルトコンベアにエッチング残
渣物が残る場合がある。このため、エッチングで洗浄し
たベルトコンベアを、さらにブラシ洗浄部でブラシによ
り洗浄する。これにより、このベルトコンベアに残った
エッチング残渣物を除去することができ る。
着した膜は、ブラシのみでは完全に除去しにくく、まし
てはベルトコンベアに微細な隙間、例えばメッシュ部分
などが形成されている場合には、このメッシュ部の網目
内などの洗浄には不充分である。そこで、このメッシュ
部全面を均一に洗浄することは困難であるが、化学的な
エッチングでベルトコンベアを洗浄する。また、この化
学的なエッチングでは、ベルトコンベアにエッチング残
渣物が残る場合がある。このため、エッチングで洗浄し
たベルトコンベアを、さらにブラシ洗浄部でブラシによ
り洗浄する。これにより、このベルトコンベアに残った
エッチング残渣物を除去することができ る。
【００２７】この結果、搬出部からガラス基板を搬出し
たベルトコンベヤを、ベルトエッチング部で化学的なエ
ッチングした後に、ブラシ洗浄部でブラシにより洗浄す
ることにより、ＣＶＤによりベルトコンベアに付着した
膜を効率良く洗浄することができる。
たベルトコンベヤを、ベルトエッチング部で化学的なエ
ッチングした後に、ブラシ洗浄部でブラシにより洗浄す
ることにより、ＣＶＤによりベルトコンベアに付着した
膜を効率良く洗浄することができる。
【００２８】また、基板搬入部１と基板搬出部５のみを
クリーンルーム６内に並列に設置することにより、装置
レイアウトがシンプルにしかも効率良くできる。
クリーンルーム６内に並列に設置することにより、装置
レイアウトがシンプルにしかも効率良くできる。
【００２９】さらに、基板搬入部１と予備加熱部２の間
に、ガラス基板前処理部11を設けることにより、前処理
後のガラス基板を人手による運搬をせずに成膜できるた
め、被成膜物である製品基板の歩留まりが飛躍的に向上
する。
に、ガラス基板前処理部11を設けることにより、前処理
後のガラス基板を人手による運搬をせずに成膜できるた
め、被成膜物である製品基板の歩留まりが飛躍的に向上
する。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、被成膜物を搬送するベ
ルトコンベアに付着した気相化学成長による膜を化学的
にエッチングした後に、エッチングの残渣物などをブラ
シで物理的に除去するので、このベルトコンベアに付着
した膜を効率良く洗浄できるとともに、被成膜物を搬送
する際には膜付着のない常にきれいなベルトコンベアと
なり、被成膜物上の膜もゴミの影響を受けにくく、ま
た、被成膜物を搬送する際に洗浄処理するため、移動時
における発塵、搬入の際の発塵およびクリーンルーム内
に長時間暴露させることによる発塵を防止できる。
ルトコンベアに付着した気相化学成長による膜を化学的
にエッチングした後に、エッチングの残渣物などをブラ
シで物理的に除去するので、このベルトコンベアに付着
した膜を効率良く洗浄できるとともに、被成膜物を搬送
する際には膜付着のない常にきれいなベルトコンベアと
なり、被成膜物上の膜もゴミの影響を受けにくく、ま
た、被成膜物を搬送する際に洗浄処理するため、移動時
における発塵、搬入の際の発塵およびクリーンルーム内
に長時間暴露させることによる発塵を防止できる。
【図１】本発明の常圧ＣＶＤ装置の一実施例の全体の構
成図である。
成図である。
【図２】同上一部の構成を示す構成図である。
【図３】同上ベルトコンベア洗浄部の構成図である。
【図４】従来例の常圧ＣＶＤ装置の全体の構成図であ
る。
る。
１ 基板搬入部 ３ ＣＶＤ部 ５ 基板搬出部 ６ クリーンルーム ７ 一般室 11 ガラス基板前処理部 15 ベルトコンベア 16 ベルト駆動部 17 ベルトコンベア洗浄部21 ベルトエッチ部 24 ブラシ洗浄部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−225515（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−127726（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−139378（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−169920（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−78421（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/205 C23C 16/54 H01L 21/31
Claims (2)
- 【請求項１】 被成膜物をベルトコンベアで搬送し、 搬入された前記被成膜物を前記ベルトコンベア上で洗浄
し、この洗浄された 被成膜物を前記ベルトコンベア上で気相
化学成長させ、 この気相化学成長された被成膜物を前記ベルトコンベヤ
上から搬出し、前記被成膜物が搬出された前記 ベルトコンベヤを化学的
にエッチングした後にブラシで洗浄し、 この洗浄された前記ベルトコンベアで新たな被成膜物を
搬送することを特徴とする常圧ＣＶＤ方法。 - 【請求項２】 被成膜物を搬入する搬入部と、 この搬入された被成膜物を洗浄する前処理部と、この洗浄された 被成膜物を気相化学成長させるＣＶＤ部
と、この気相化学成長された 被成膜物を搬出する搬出部と、 前記被成膜物を前記搬入部から前記搬出部へと搬送する
ベルトコンベアと、 このベルトコンベアを駆動させるベルト駆動部と、前記搬出部から前記被成膜物を搬出した 前記ベルトコン
ベアを化学的にエッチングするベルトエッチ部、および
このベルトエッチ部を経た前記ベルトコンベヤをブラシ
で洗浄するブラシ洗浄部を備えたベルトコンベヤ洗浄部
とを具備したことを特徴とする常圧ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03345638A JP3142338B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 常圧ｃｖｄ方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03345638A JP3142338B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 常圧ｃｖｄ方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05182912A JPH05182912A (ja) | 1993-07-23 |
| JP3142338B2 true JP3142338B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=18377961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03345638A Expired - Fee Related JP3142338B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 常圧ｃｖｄ方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3142338B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112705514A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-04-27 | 有研半导体材料有限公司 | 一种用于apcvd的履带线下清洗的装置和方法 |
-
1991
- 1991-12-26 JP JP03345638A patent/JP3142338B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05182912A (ja) | 1993-07-23 |
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