JP3114204B2 - 光記録媒体の記録再生方法 - Google Patents

光記録媒体の記録再生方法

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Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、光記録媒体に対して光ビームを照射しなが
ら信号を読み取るような記録再生方法に関し、特に、高
密度情報の再生が行える光記録媒体の記録再生方法に関
する。
背景技術 光記録媒体は、いわゆるコンパクトディスク等のよう
な再生専用媒体と、光磁気ディスク等のような信号の記
録が可能な媒体とに大別できるが、これらいずれの光記
録媒体においても、記録密度をさらに高めることが望ま
れている。これは、記録される信号としてディジタル・
ビデオ信号を考慮する場合にディジタル・オーディオ信
号の数倍から十数倍ものデータ量を必要とすることや、
ディジタル・オーディオ信号を記録する場合でもディス
ク等の媒体の寸法をより小さくしてプレーヤ等の製品を
さらに小型化したい等の要求があるからである。
ところで、このような光記録媒体の記録密度は、記録
トラックの走査方向に沿った線密度と、走査方向に直交
する方向の隣接トラック間隔(トラックピッチ)に応じ
たトラック密度とによって定まる。これらの線密度やト
ラック密度の物理光学的限界はいずれも光源の波長λ及
び対物レンズの開口数NAによって決まり、例えば信号再
生時の空間周波数については、一般に2NA/λが読み取り
限界とされている。このことから、光記録媒体において
高密度化を実現するためには、先ず再生光学系の光源
(例えば半導体レーザ)の波長λを短くし、対物レンズ
の開口数NAを大きくすることが必要とされている。
しかしながら、これら光源の波長λや対物レンズの開
口数NAの改善にも限度があることから、記録媒体の構造
や読み取り方法を改善して記録密度を高めることが研究
されている。
ここで、例えばレーザビームの走査方向(記録トラッ
クの方向)の密度やピット配置間隔(いわゆる線記録密
度やその逆数であるピット記録間隔)について検討す
る。このビーム走査方向の最小ピット間隔qは、理論上
ではレーザ光の波長λ及び対物レンズの開口数NAによっ
て、 q=λ/2NA となる。従って、例えばNA=0.5、λ=780nm(0.78μ
m)のときの最小ピット間隔qは0.78μmとなり、これ
以下のピット間隔の信号の再生はできない。これは、記
録線密度としては、1mm当たり1400ピットとなるが、上
述したように、さらに線密度を高めることが要請されて
いる。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであ
り、記録線密度をさらに高めることができ、媒体容量の
増加が図れるような光記録媒体の記録再生方法を提供す
ることを目的とする。
発明の開示 本発明に係る光記録媒体の記録再生方法は、少なくと
も磁気的に結合される再生層と記録保持層とを有する光
記録媒体に光ビームを照射して記録及び再生を行う光記
録媒体の記録再生方法であって、上記光ビームの波長を
λ、対物レンズの開口数をNAとするとき、該光ビームの
照射により、該光ビームの走査方向に沿って、上記記録
保持層に、最短ピット間隔がλ/2NA以下となるような記
録を行い、上記再生層に光ビームを照射することによ
り、該再生層を加熱して該記録保持層と該再生層の磁気
的結合状態を非結合状態とし、再生磁界の印加により、
該再生層を消去しながら磁気光学効果により光学信号に
変換して再生することを特徴とするものである。
また、本発明に係る光記録媒体の記録再生方法は、少
なくとも磁気的に結合される再生層と記録保持層とを有
する光記録媒体に光ビームを照射して記録及び再生を行
う光記録媒体の記録再生方法であって、上記光ビームの
波長をλ、対物レンズの開口数をNAとするとき、該光ビ
ームの照射により、該光ビームの走査方向に沿って、上
記記録保持層に、最短ピット間隔がλ/2NA以下となるよ
うな記録を行い、上記再生層に初期化磁界を加えて磁化
方向を一定方向に揃えた後、初期化磁界とは逆方向の再
生磁界を印加して、光ビームを照射することにより、該
再生層を加熱して該記録保持層に磁気記録されている信
号を該再生層に転写しながら磁気光学効果により光学信
号に変換して再生するものである。
従って、本発明に係る光記録媒体の記録再生方法によ
れば、レーザビーム等の光ビームの走査方向のピット配
置間隔(いわゆる記録ピット間隔)をλ/2NA以下とする
ことにより、光記録媒体のこの方向の記録密度、いわゆ
る線記録密度を高めて、媒体記録容量を高めることがで
きる。
図面の簡単な説明 図1は本発明に係る光記録媒体の記録再生方法の一実
施例に用いられる光磁気記録媒体とこの媒体上のレーザ
光のスポットを概略的に示す平面図である。
図2は再生装置の光学系の概略構成を示す模式図であ
る。
図3はピット記録間隔の逆数の空間周波数に対する再
生信号のキャリアレベルを示す図である。
図4は消去型の光磁気記録媒体上にレーザ光を照射し
たときを示し、Aは平面図、Bは断面図である。
図5は浮き出し型の光磁気記録媒体上にレーザ光を照
射したときを示し、Aは平面図、Bは断面図である。
発明を実施するための最良の形態 以下、本発明に係る光記録媒体の記録再生方法につい
て、図面を参照しながら、記録可能な媒体としての光磁
気記録媒体を用いた記録再生方法に本発明を適用した実
施例を説明する。
上記光磁気記録媒体は、例えばポリカーボネート等か
ら成る透明基板あるいは光透過性基体の一主面に、膜面
と垂直方向に磁化容易軸を有し優れた磁気光学効果を有
する磁性層(例えば希土類−遷移金属合金薄膜)を、誘
電体層や表面保護層等と共に積層して構成されたもので
あり、上記透明基板側からレーザ光等を照射して信号の
記録、再生が行われる。この光磁気記録媒体に対する信
号記録は、レーザ光照射等によって上記磁性層を局部的
に例えばキュリー点近傍の温度にまで加熱し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の向
きに磁化することにより行う、いわゆる熱磁気記録であ
る。また光磁気記録媒体からの信号再生は、上記磁性層
の磁化の向きによりレーザ光等の直線偏光の偏光面が回
転する磁気光学効果(いわゆる磁気カー効果、ファラデ
ィ効果)を利用して行われる。
先ず、図1に示す実施例においては、光磁気記録媒体
として、後述する消去型と浮き出し型とが混合したタイ
プの高密度再生用の媒体を用いている。この光磁気記録
媒体は、少なくとも磁気的に結合される再生層と記録保
持層とを有して成る交換結合磁性多層膜を記録層として
いる。上記記録保持層に信号が磁気記録された上記再生
層の磁化の向きが揃えられた状態の光磁気記録媒体を再
生する際には、上記再生層にレーザ光を照射することに
より当該再生層を加熱して上記記録保持層に磁気記録さ
れている信号を上記再生層に転写しながら磁気光学効果
により光学信号に変換して読み取っている。
この図1に示す高密度再生技術には、例えば、レーザ
照射によって生ずる媒体温度分布により、ビーム・スポ
ットSP内で初期化状態を維持する低温部分と、記録保持
層の磁化が表面の再生層に転写される高温の記録浮き出
し領域FLと、さらに高温となって外部印加磁界の向きに
磁化が揃えられて消去される記録消去領域ERとが形成さ
れるような光磁気記録媒体が用いられる。
すなわち、常温で情報記録ピットRPが消えている状態
(初期化状態)の記録媒体にレーザ光を照射して加熱す
ることで、照射レーザ光のビーム・スポットSPからレー
ザ光走査方向後方側にややずれた位置に楕円形状の記録
浮き出し領域FLを形成すると共に、この記録浮き出し領
域FL内にさらに高温の記録消去領域ERを形成し、ビーム
・スポットSP内で、記録浮き出し領域FL内の記録消去領
域ERでマスクされた以外の部分(信号検出領域)DT内の
記録ピットRPのみを読み取るようにしている。
このときの信号検出領域DTは、ビーム・スポットSPの
径に比べてレーザ光走査方向の寸法dが狭いため、この
方向のピット間隔を短く(いわゆる線記録密度を高く)
でき、また、レーザ光走査方向に直交する方向の寸法が
小さくなるため、隣接トラックからのクロストークを低
減し、隣接トラック間のピッチ(いわゆるトラックピッ
チ)pをより狭く(高密度に)してトラック密度を高め
ることができる。
この図1の例では、記録ピットRPに関する各部寸法と
して、レーザ光走査方向に直交する方向のピット配置間
隔、いわゆるトラックピッチをpとし、レーザ光走査方
向(トラック方向)に沿ったピット配列間隔の最短間
隔、いわゆるピット記録最短周期(線記録密度の逆数)
をqとし、レーザ光走査方向に直交する方向(ディスク
径方向)のピット幅をhとしている。図5では、各記録
ピットRPが上記最短記録周期qで配列されている状態を
図示しているが、記録データに応じてこの配列間隔(及
びレーザ走査方向に沿ったピットの長さ)が変化するこ
とを勿論である。
次に、この図1に示す光磁気記録媒体をディスク状に
形成したいわゆる光磁気ディスクに対する再生装置の概
略構成を図2に示している。
この図2において、レーザ光源としての例えば半導体
レーザ11から出射されたレーザ光は、コリメータレンズ
12で平行ビームとされ、ビームスプリッタ13を介して対
物レンズ14に送られる。光磁気ディスク15は、上記図1
と共に説明した光磁気記録媒体であり、上記対物レンズ
14を介して照射されたレーザビームは、上述した光磁気
記録用磁性多層膜にて反射され、対物レンズ14を介して
ビームスプリッタ13に入射されて反射され、集光レンズ
16で集光されてフォトダイオード等の光検出器17に入射
される。光磁気ディスク15のレーザ光照射位置の裏面
(図中上面)側には、再生磁界Hreadを印加するための
磁気ヘッド18が配設されている。また、例えばレーザ光
の波長λを0.78μm、対物レンズ14の開口数NAを0.5と
している。
次に図3は、レーザ光走査方向に沿ったビット記録間
隔の逆数である空間周波数(本/mm)を横軸に示し、こ
の空間周波数に対する再生信号のキャリアレベルを縦軸
に示している。この図3において、曲線aが上記図1の
実施例の記録媒体を用いたときの再生信号のキャリアレ
ベルを示し、曲線bが通常の光ディスク再生時のキャリ
アレベルを示している。
ここで、一般に有効な信号再生を行うために必要とさ
れるC/N比は例えば50dB程度から40dB程度とされるが、
空間周波数が2NA/λ以上(すなわちレーザ走査方向のピ
ット記録間隔としてはλ/2NA以下)でも、上記高密度再
生技術を用いた場合の曲線aでは、3.6NA/λまでの範囲
でC/N比が40dB以上とれており、充分実用的な範囲であ
る。従って、最短のピット記録間隔qをλ/2NA以下とし
ても、有効な信号再生が行えることが明らかであり、線
密度の向上が図れ、媒体記録容量を増大させることがで
きる。
次に、上記高密度再生が可能な光磁気記録媒体につい
てさらに説明する。
本件出願人は、先に例えば特開平1−143041号公報、
特開平1−143042号公報等において、情報ビット(磁
区)を再生時に拡大、縮小あるいは消滅させることによ
り再生分解能を向上させるような光磁気記録媒体の信号
再生方法を提案している。この技術は、記録磁性層を再
生層、中間層、記録層から成る交換結合多層膜とし、再
生時において再生光ビームで加熱された再生層の磁区を
温度の高い部分で拡大、縮小あるいは消去することによ
り、再生時の情報ビット間の干渉を減少させ、光の回折
限界以上の周期の信号を再生可能とするものである。ま
た、特願平1−229395号の明細書及び図面においては、
光磁気記録媒体の記録層を磁気的に結合される再生層と
記録保持層とを含む多層膜で構成し、予め再生層の磁化
の向きを揃えて消去状態としておくとともに、再生時に
はレーザ光の照射によって再生層を所定の温度以上に昇
温し、この昇温された状態でのみ記録保持層に書き込ま
れた磁気信号を再生層に転写しながら読み取るようにす
ることにより、クロストークを解消して線記録密度、ト
ラック密度の向上を図る技術を提案している。
これらの高密度再生技術をまとめると、消去型と浮き
出し型とに大別でき、それぞれの概要を図4及び図5に
示す。
先ず図4のA、Bを参照しながら消去型の高密度再生
技術について説明する。この消去型の場合には、常温に
て情報記録ピットRPが表れている状態の記録媒体にレー
ザ光LBを照射して加熱することで、照射レーザ光LBのビ
ーム・スポットSP内に記録消去領域ERを形成し、ビーム
・スポットSP内の残りの領域RD内の記録ピットRPを読み
取ることにより、線密度を高めた再生を行っている。こ
れは、ビーム・スポットSP内の記録ピットRPを読み取る
際に、記録消去領域ERをマスクとすることで読み取り領
域RDの幅dを狭くし、レーザ光の走査方向(トラック方
向)に沿った密度(いわゆる線記録密度)を高めた再生
を可能とするものである。
この消去型高密度再生のための記録媒体は、光磁気記
録用アモルファス稀土類(Gd,Tb)−鉄属(Fe,Co)フェ
リ磁性膜から成る交換結合磁性多層膜構造を有し、図4
のBに示す例では、ポリカーボネート等の透明基板(図
示せず)の一主面に、第1の磁性膜である再生層61、第
2の磁性膜である切断層62、及び第3の磁性膜である記
録保持層63を順次積層した構造を有している。第1の磁
性膜(再生層)61は、例えばGdFeCoで、キュリー温度T
C1>400℃のものが用いられ、第2の磁性膜(切断層、
中間層)62は、例えばTbFeCoAlで、キュリー温度TC2=1
20℃のものが用いられ、第3の磁性膜(記録保持層)63
は、例えばTbFeCoで、キュリー温度TC3=300℃のものが
用いられる。なお、図4中の各磁性膜61、62、63内の矢
印は各磁区の磁化の向きを示している。また、Hread
再生磁界の向きを示している。
再生時の動作を簡単に説明すると、所定温度TOPより
下の常温では記録媒体の記録保持層63の記録磁区が切断
層62を介して再生層61に転写されている。この記録媒体
に対してレーザ光LBを照射して媒体温度を高めると、レ
ーザ光の走査に伴って媒体の温度変化は遅延されて表
れ、上記所定温度TOP以上となる領域(記録消去領域E
R)はビーム・スポットSPよりもレーザ走査方向の後方
側にややずれて表れる。この所定温度TOP以上では、再
生層61の磁区が再生磁界Hreadの向きに揃えられること
により、媒体表面上では記録が消えた状態となる。これ
によって、上記所定温度TOP以上となる領域ERの記録を
マスクし、高密度再生を実現している。
次に、図5に示す浮き出し型の高密度再生技術では、
常温で情報記録ピットRPが消えている状態(初期化状
態)の記録媒体にレーザ光を照射して加熱することによ
り、照射レーザ光のビーム・スポットSP内に記録浮き出
し領域である信号検出領域DTを形成し、この信号検出領
域DT内の記録ピットRPのみを読み取るようにすることで
再生線密度を高めている。
この浮き出し高密度再生のための記録媒体は、交換結
合磁性多層膜構造を有するものであり、図5の例では、
ポリカーボネート等の透明基板(図示せず)の一主面に
第1の磁性膜である再生層71、第2の磁性膜である再生
補助層72、第3の磁性膜である中間層73、第4の磁性膜
である記録保持層74を順次積層した構造を有している。
第1の磁性膜(再生層)71は、例えばGdFeCoでキュリー
温度TC1>300℃のもの、第2の磁性膜(再生補助層)72
は、例えばTbFeCoAlでキュリー温度TC2≒120℃のもの、
第3の磁性膜(中間層)73は、例えばGdFeCoでキュリー
温度TC3≒250℃のもの、第4の磁性膜(記録保持層)74
は、例えばTbFeCoでキュリー温度TC4≒250℃のものがそ
れぞれ用いられる。なお、図5中の各磁性膜71、72、7
3、74内の矢印は各磁区の磁化の向きを示しており、H
readは再生磁界の向きを示している。
再生時の動作を簡単に説明すると、先ず再生前に初期
化磁界により再生層71及び再生補助層72の磁化の向きを
一方向(図5では上方向)に揃える。次に逆方向の再生
磁界Hreadを印加しながらレーザ光LBを照射すると、レ
ーザ光の走査に伴って媒体の温度変化は遅延されて表れ
るから、所定の再生温度TRP以上となる領域(記録浮き
出し領域)はビーム・スポットSPよりも走査方向の後方
側にややずれて表れる。この所定再生温度TRP以上で
は、再生補助層72の保磁力が低下し、再生磁界Hread
印加されることによって磁壁がなくなり、記録保持層74
の情報が再生層71に転写される。これによって、レーザ
光LBのビーム・スポットSP内で上記再生温度TRPに達す
る前の領域がマスクされ、このスポットSP内の残部が記
録浮き出し領域である信号検出領域DTとなり、高密度再
生が可能となる。
さらに、これらの消去型と浮き出し型とを混合した技
術として、上記図1に示したような高密度再生技術も考
えられている。この図1においては、上述したように、
常温で情報記録ピットRPが消えている状態(初期化状
態)の記録媒体にレーザ光を照射して加熱することで、
照射レーザ光のビーム・スポットSPに対してレーザ光走
査方向の後方側にややずれた位置に記録浮き出し領域FL
を形成すると共に、この記録浮き出し領域FLにさらに高
温の記録消去領域ERを形成している。
また、本件出願人が先に提出した特願平3−418110号
の明細書及び図面においては、少なくとも再生層、中間
層、記録保持層を有する光磁気記録媒体を用い、再生層
にレーザ光を照射すると共に再生磁界を印加し、このレ
ーザ照射により生ずる温度分布を利用して、初期化状態
を維持する部分、記録保持層の情報が転写される部分、
再生磁界方向に磁化の向きが揃えられる部分をレンズ視
野内に生ぜしめることにより、レンズ視野内を光学的に
マスクしたのと等価な状態とし、線記録密度及びトラッ
ク密度を高め、また、再生パワーが変動しても記録保持
層の情報が転写される領域が縮小あるいは拡大すること
がなく、再生時の周波数特性も良好なものとした光磁気
記録媒体における信号再生方法を提案している。
これらの光磁気記録媒体を用いた高密度再生技術によ
れば、ビーム・スポットSP内で、記録浮き出し領域FL内
の一部領域である読み取り領域RDや信号検出領域DT内の
記録ピットRPのみを読み取るようにしている。この読み
取り領域RDや信号検出領域DTの寸法が、ビーム・スポッ
トSPの寸法よりも小さくなることから、レーザ光走査方
向、及びレーザ光走査方向に直交する方向のピット配置
間隔を短くすることができ、高密度化が可能となり、媒
体記録容量の増大が図れることになる。
すななち、本発明に係る実施例の光磁気記録媒体の記
録再生方法によれば、再生層と記録保持層とを有する光
磁気記録媒体に対してレーザ光を照射して、記録保持層
と再生層との磁気的結合状態を非結合状態としてこの非
結合状態とされた部分を消去しながら磁気光学効果によ
り光学信号に変換して読み取るか、あるいは記録保持層
の記録信号を再生層に転写して磁気光学的に信号を読み
取る光磁気記録媒体であって、レーザ光走査方向の記録
信号の最短ピット間隔をλ/2NA以下とすることにより、
この方向の記録密度、いわゆる線記録密度を高めて、媒
体記録容量を高めることができる。
なお、本発明は上記実施例のみに限定されるものでは
なく、例えば、上記光記録媒体としては、ディスク状の
みならず、カード状、シート状等の媒体にも本発明を適
用することができる。また、図4に示すようないわゆる
消去型の光磁気記録媒体や、図5に示すようないわゆる
浮き出し型の光磁気記録媒体に本発明を適用することも
できる。
フロントページの続き (72)発明者 小野 真澄 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソ ニー株式会社内 (72)発明者 保田 宏一 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソ ニー株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−255940(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 11/105

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】少なくとも磁気的に結合される再生層と記
    録保持層とを有する光記録媒体に光ビームを照射して記
    録及び再生を行う光記録媒体の記録再生方法であって、 上記光ビームの波長をλ、対物レンズの開口数をNAとす
    るとき、 該光ビームの照射により、該光ビームの走査方向に沿っ
    て、上記記録保持層に、最短ピット間隔がλ/2NA以下と
    なるような記録を行い、 上記再生層に光ビームを照射することにより、該再生層
    を加熱して該記録保持層と該再層の磁気的結合状態を非
    結合状態とし、再生磁界の印加により、該再生層を消去
    しながら磁気光学効果により光学信号に変換して再生す
    ることを特徴とする光記録媒体の記録再生方法。
  2. 【請求項2】少なくとも磁気的に結合される再生層と記
    録保持層とを有する光記録媒体に光ビームを照射して記
    録及び再生を行う光記録媒体の記録再生方法であって、 上記光ビームの波長をλ、対物レンズの開口数をNAとす
    るとき、 該光ビームの照射により、該光ビームの走査方向に沿っ
    て、上記記録保持層に、最短ピット間隔がλ/2NA以下と
    なるような記録を行い、 上記再生層に初期化磁界を加えて磁化方向を一定方向に
    揃えた後、初期化磁界とは逆方向の再生磁界を印加し
    て、光ビームを照射することにより、該再生層を加熱し
    て該記録保持層に磁気記録されている信号を該再生層に
    転写しながら磁気光学効果により光学信号に変換して再
    生することを特徴とする光記録媒体の記録再生方法。
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