JP3106990B2 - 液体材料気化装置 - Google Patents
液体材料気化装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置へ
の液体材料の供給等を好適に行い得るようにした液体材
料気化装置に関するものである。
の液体材料の供給等を好適に行い得るようにした液体材
料気化装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造工程で、膜質や成
膜速度、ステップカバレッジの点でスパッタ等に比べて
優れているとして、近年、ＭｏＣＶＤ法が盛んに利用さ
れる様になった。このＣＶＤ用ガス供給方法には、バブ
リング法、昇華法等があるが、制御性、安定性の点で、
有機金属を溶剤に溶かし、反応層の直前で気化させる方
法が有力視されている。
膜速度、ステップカバレッジの点でスパッタ等に比べて
優れているとして、近年、ＭｏＣＶＤ法が盛んに利用さ
れる様になった。このＣＶＤ用ガス供給方法には、バブ
リング法、昇華法等があるが、制御性、安定性の点で、
有機金属を溶剤に溶かし、反応層の直前で気化させる方
法が有力視されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、そのための
従来の液体材料気化装置は、原料を溶剤に溶かして収容
する複数の材料容器と、各容器からの液体材料を１箇所
に集合させるための送液ラインとを備えた構成からな
る。しかしながら、単にこのような構成では、原料同士
の混合比率は送液ラインに流量制御弁等を配置すること
によって変えられるものの、全体を希釈若しくは濃厚に
する必要がある場合には、各容器を逐一取り外して溶剤
と原料の比率を変えなければならない。このため、作業
が煩雑であるほか、この種の液体材料は常温常圧で液体
であって容器内を開放したときに大気中の水分に触れる
と加水分解をおこすなど、取り扱いも極めて煩雑なもの
となっている。
従来の液体材料気化装置は、原料を溶剤に溶かして収容
する複数の材料容器と、各容器からの液体材料を１箇所
に集合させるための送液ラインとを備えた構成からな
る。しかしながら、単にこのような構成では、原料同士
の混合比率は送液ラインに流量制御弁等を配置すること
によって変えられるものの、全体を希釈若しくは濃厚に
する必要がある場合には、各容器を逐一取り外して溶剤
と原料の比率を変えなければならない。このため、作業
が煩雑であるほか、この種の液体材料は常温常圧で液体
であって容器内を開放したときに大気中の水分に触れる
と加水分解をおこすなど、取り扱いも極めて煩雑なもの
となっている。
【０００４】本発明は、このような課題に着目してなさ
れたものであって、混合比のみならず混合液の濃度も容
易に可変とする液体材料気化装置を提供することを目的
としている。
れたものであって、混合比のみならず混合液の濃度も容
易に可変とする液体材料気化装置を提供することを目的
としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、次のような手段を講じたものである。
すなわち、本発明の液体材料気化装置は、複数の液体材
料を混合する際に利用されるものであって、各々の液体
材料を収容する複数の材料容器と、前記各液体材料に使
用されている溶剤と同一又は同種の溶剤を充填した溶剤
専用容器と、各容器からの液体材料及び溶剤を１箇所に
集合させるための複数の送液ラインとを具備するととも
に、前記溶剤専用容器の溶剤を各材料容器に直接供給す
ることのできる溶剤バイパスラインを設けたものであ
る。
達成するために、次のような手段を講じたものである。
すなわち、本発明の液体材料気化装置は、複数の液体材
料を混合する際に利用されるものであって、各々の液体
材料を収容する複数の材料容器と、前記各液体材料に使
用されている溶剤と同一又は同種の溶剤を充填した溶剤
専用容器と、各容器からの液体材料及び溶剤を１箇所に
集合させるための複数の送液ラインとを具備するととも
に、前記溶剤専用容器の溶剤を各材料容器に直接供給す
ることのできる溶剤バイパスラインを設けたものであ
る。
【０００６】このようなものであると、溶剤専用容器か
ら適宜量の溶剤を送り込むことで混合液中に占める溶剤
の割合すなわち原料の割合を可変とすることができる。
したがって、本発明によると、容器内を一切開放するこ
となく、混合比は勿論のことその混合液全体の希釈度等
の濃度調整も有効に行うことが可能となる。また、溶剤
バイパスラインを通じて材料容器に溶剤を導入すれば、
容器近傍に液体材料が残留することを確実に防止するこ
とができるので、容器交換時などにおける加水分解の問
題も有効に解消することが可能となる。この場合、混合
を適切に行うためには、各送液ラインによる液体材料及
び溶剤の集合位置の下流にミキサーを配置しておくこと
が好ましい。
ら適宜量の溶剤を送り込むことで混合液中に占める溶剤
の割合すなわち原料の割合を可変とすることができる。
したがって、本発明によると、容器内を一切開放するこ
となく、混合比は勿論のことその混合液全体の希釈度等
の濃度調整も有効に行うことが可能となる。また、溶剤
バイパスラインを通じて材料容器に溶剤を導入すれば、
容器近傍に液体材料が残留することを確実に防止するこ
とができるので、容器交換時などにおける加水分解の問
題も有効に解消することが可能となる。この場合、混合
を適切に行うためには、各送液ラインによる液体材料及
び溶剤の集合位置の下流にミキサーを配置しておくこと
が好ましい。
【０００７】液体材料又は溶剤を気化するための気化器
は、送液ライン上の集合位置の上流又は下流いずれに設
けることもできる。気化器の浄化を有効に行うために
は、前記溶剤専用容器を直接気化器の入口に導入する溶
剤移送ラインを設けておくことが好ましい。
は、送液ライン上の集合位置の上流又は下流いずれに設
けることもできる。気化器の浄化を有効に行うために
は、前記溶剤専用容器を直接気化器の入口に導入する溶
剤移送ラインを設けておくことが好ましい。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例を、図面を参照して
説明する。図１に示す液体材料気化装置は、ＣＶＤ成膜
装置の構成要素であるＣＶＤリアクタ１に液体材料を混
合、気化して供給するためのもので、材料容器２Ａ、２
Ｂ、２Ｃと、溶剤専用容器２Ｄと、送液ライン４Ａ、４
Ｂ、４Ｃ、４Ｄとを具備してなる。
説明する。図１に示す液体材料気化装置は、ＣＶＤ成膜
装置の構成要素であるＣＶＤリアクタ１に液体材料を混
合、気化して供給するためのもので、材料容器２Ａ、２
Ｂ、２Ｃと、溶剤専用容器２Ｄと、送液ライン４Ａ、４
Ｂ、４Ｃ、４Ｄとを具備してなる。
【０００９】材料容器２Ａ、２Ｂ、２Ｃには、それぞれ
共通の溶剤を用いて原料を所定の割合で溶かした液体材
料Ａ、Ｂ、Ｃが充填される。上記液体材料Ａ、Ｂ、Ｃの
原料には、例えば強誘電体薄膜を成膜するのであればＰ
ｂ、Ｚｒ、Ｔｉなどが、また高誘電体薄膜を成膜するの
であればＢａ、Ｓｒ、Ｔｉなどが、さらに超伝導薄膜を
成膜するのであればＢｉ、Ｓｒ、Ｃｕなどがそれぞれ用
いられる。勿論、原料の数に応じて用意する材料容器の
数が２個或いは４個以上になる事があるのは言うまでも
ない。
共通の溶剤を用いて原料を所定の割合で溶かした液体材
料Ａ、Ｂ、Ｃが充填される。上記液体材料Ａ、Ｂ、Ｃの
原料には、例えば強誘電体薄膜を成膜するのであればＰ
ｂ、Ｚｒ、Ｔｉなどが、また高誘電体薄膜を成膜するの
であればＢａ、Ｓｒ、Ｔｉなどが、さらに超伝導薄膜を
成膜するのであればＢｉ、Ｓｒ、Ｃｕなどがそれぞれ用
いられる。勿論、原料の数に応じて用意する材料容器の
数が２個或いは４個以上になる事があるのは言うまでも
ない。
【００１０】溶剤専用容器２Ｄには、上記各液体材料
Ａ、Ｂ、Ｃに用いているものと同一の溶剤Ｄが充填され
る。この場合、ＣＶＤ処理に化学的影響を与えない範囲
で溶剤Ｄは必ずしも同一でなくてもよく、性質を共通に
する同種の溶剤を用いることもできる。送液ライン４Ａ
〜４Ｄは、一端を各材料容器２Ａ〜２Ｃ若しくは溶剤専
用容器２Ｄの液中に浸漬する位置に配設し他端を集合位
置Ｘに集合させてなるもので、この集合位置Ｘの上流に
それぞれ流量調節可能な比例バルブ５Ａ、５Ｂ、５Ｃ、
５Ｄを介在させている。この実施例では送液ライン４
Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ以外に外部供給ライン６Ａ、６
Ｂ、６Ｃ、６Ｄ、パージライン７、バキュームライン８
及び溶剤バイパスライン９等を可能な限り配管を共用し
且つ配管の接点の周辺に多数のバルブ（図示省略）を組
み込んで構成しているものであり、上記送液ライン４
Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄは所要のバルブ開閉操作を通じて
図２中矢印ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１に沿ってそれぞれ容
器２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄから集合位置Ｘへ送液される
ものである。
Ａ、Ｂ、Ｃに用いているものと同一の溶剤Ｄが充填され
る。この場合、ＣＶＤ処理に化学的影響を与えない範囲
で溶剤Ｄは必ずしも同一でなくてもよく、性質を共通に
する同種の溶剤を用いることもできる。送液ライン４Ａ
〜４Ｄは、一端を各材料容器２Ａ〜２Ｃ若しくは溶剤専
用容器２Ｄの液中に浸漬する位置に配設し他端を集合位
置Ｘに集合させてなるもので、この集合位置Ｘの上流に
それぞれ流量調節可能な比例バルブ５Ａ、５Ｂ、５Ｃ、
５Ｄを介在させている。この実施例では送液ライン４
Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ以外に外部供給ライン６Ａ、６
Ｂ、６Ｃ、６Ｄ、パージライン７、バキュームライン８
及び溶剤バイパスライン９等を可能な限り配管を共用し
且つ配管の接点の周辺に多数のバルブ（図示省略）を組
み込んで構成しているものであり、上記送液ライン４
Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄは所要のバルブ開閉操作を通じて
図２中矢印ａ１、ｂ１、ｃ１、ｄ１に沿ってそれぞれ容
器２Ａ、２Ｂ、２Ｃ、２Ｄから集合位置Ｘへ送液される
ものである。
【００１１】外部供給ライン６Ａ〜６Ｄは、所要のバル
ブ操作を通じ、図３中矢印ａ２、ｂ２、ｃ２、ｄ２に沿
って図外の供給源から各容器２Ａ〜２Ｄの入口側に液体
材料Ａ〜Ｃや溶剤Ｄを充填、補充するものである。パー
ジライン７は、各容器２Ａ〜２Ｄに対して送液の為の液
面加圧を行い、或いは容器２Ａ〜２Ｄ内、周辺管内のパ
ージを行うためのもので、液面加圧を行う場合には図２
中矢印ｅに沿って図外のＮ2やＡｒ等の不活性ガスを各
容器２Ａ〜２Ｄに供給する。また容器入口側の配管内及
び容器２内のパージを行う場合には図４中矢印ｆに沿っ
て不活性ガス供給源から容器出口側に不活性ガスを導入
する。さらに、容器入口側及び容器出口側の配管のパー
ジを行う場合は、図５中矢印ｇに沿って容器入口側から
容器２を介さず直接容器出口側を経て比例バルブ５Ａ〜
５Ｄに向かい不活性ガスを送給する。
ブ操作を通じ、図３中矢印ａ２、ｂ２、ｃ２、ｄ２に沿
って図外の供給源から各容器２Ａ〜２Ｄの入口側に液体
材料Ａ〜Ｃや溶剤Ｄを充填、補充するものである。パー
ジライン７は、各容器２Ａ〜２Ｄに対して送液の為の液
面加圧を行い、或いは容器２Ａ〜２Ｄ内、周辺管内のパ
ージを行うためのもので、液面加圧を行う場合には図２
中矢印ｅに沿って図外のＮ2やＡｒ等の不活性ガスを各
容器２Ａ〜２Ｄに供給する。また容器入口側の配管内及
び容器２内のパージを行う場合には図４中矢印ｆに沿っ
て不活性ガス供給源から容器出口側に不活性ガスを導入
する。さらに、容器入口側及び容器出口側の配管のパー
ジを行う場合は、図５中矢印ｇに沿って容器入口側から
容器２を介さず直接容器出口側を経て比例バルブ５Ａ〜
５Ｄに向かい不活性ガスを送給する。
【００１２】バキュームライン８は、容器２Ａ〜２Ｄ内
や周辺配管内の真空引きを行うためのもので、容器２Ａ
〜２Ｄ内の真空排気を行う場合は図３及び図４における
矢印ｈに沿って各容器２Ａ〜２Ｄ内を図外の真空ポンプ
で排気し、また周辺配管内の真空引きを行う場合は回路
上の各接点付近にある全てのバルブを開くことによって
比例バルブ５Ａ〜５Ｄよりも上流側の全配管内の真空排
気を行うことができる。
や周辺配管内の真空引きを行うためのもので、容器２Ａ
〜２Ｄ内の真空排気を行う場合は図３及び図４における
矢印ｈに沿って各容器２Ａ〜２Ｄ内を図外の真空ポンプ
で排気し、また周辺配管内の真空引きを行う場合は回路
上の各接点付近にある全てのバルブを開くことによって
比例バルブ５Ａ〜５Ｄよりも上流側の全配管内の真空排
気を行うことができる。
【００１３】溶剤バイパスライン９は、容器出口側に位
置する配管内の溶剤洗浄を行うためのもので、図６中矢
印ｉに沿って溶剤専用容器２Ｄから導出した溶剤を各材
料容器２Ａ〜２Ｃに向けて移送することができる。この
場合、各材料容器２Ａ〜２Ｃはバキュームライン８を用
いて図中矢印ｈのように排気し、溶剤容器２Ｄはパージ
ライン７を用いて図中矢印ｋのように液面加圧する。
置する配管内の溶剤洗浄を行うためのもので、図６中矢
印ｉに沿って溶剤専用容器２Ｄから導出した溶剤を各材
料容器２Ａ〜２Ｃに向けて移送することができる。この
場合、各材料容器２Ａ〜２Ｃはバキュームライン８を用
いて図中矢印ｈのように排気し、溶剤容器２Ｄはパージ
ライン７を用いて図中矢印ｋのように液面加圧する。
【００１４】このような構成に加え、図１に示す液体材
料気化装置は、上記集合位置Ｘよりも下流側に、流量を
制御する送液ポンプ１０、液混合の為のミキサー１１、
液体材料Ａ〜Ｃ等を気化させる為の気化器１２を設け、
これらを通過した後の混合ガスをＣＶＤリアクター１に
供給するようにしている。ポンプ１０には高精度で低脈
動の直列形ダブルプランジャポンプを採用しており、プ
ランジャが１ストロークする際の吸入時間内に、前述し
た各比例バルブ５Ａ〜５Ｄが各々予め設定された混合比
に見合う配分時間づつ順次に開いてその液体材料又は溶
剤をプランジャに吸入させるものである。全流量は送液
ポンプ１０の駆動回転数を通じて制御される。
料気化装置は、上記集合位置Ｘよりも下流側に、流量を
制御する送液ポンプ１０、液混合の為のミキサー１１、
液体材料Ａ〜Ｃ等を気化させる為の気化器１２を設け、
これらを通過した後の混合ガスをＣＶＤリアクター１に
供給するようにしている。ポンプ１０には高精度で低脈
動の直列形ダブルプランジャポンプを採用しており、プ
ランジャが１ストロークする際の吸入時間内に、前述し
た各比例バルブ５Ａ〜５Ｄが各々予め設定された混合比
に見合う配分時間づつ順次に開いてその液体材料又は溶
剤をプランジャに吸入させるものである。全流量は送液
ポンプ１０の駆動回転数を通じて制御される。
【００１５】なお、前記溶剤専用容器２Ｄは、別途に気
化器洗浄用に設けた溶剤移送ライン１３及び補助ポンプ
１４を通じて溶剤を直接気化器１２の入口に移送し得る
ようにしている。また、気化器１２に外部からキャリヤ
ガス導入系路１５を通じて不活性なキャリヤガスを導入
することも可能である。次に、本実施例の取扱方法につ
いて説明する。先ず空の容器２Ａ〜２Ｄを取り付ける場
合には、各容器２Ａ〜２Ｄが接続されるべき最寄りの配
管にそれぞれ継手ｚを介してそれらの入口側及び出口側
を接続する。次に、全てのバルブを開いてバキュームラ
イン８を作動させ、容器２Ａ〜２Ｄ及び随所の配管内を
真空排気した後、図３の矢印ａ２〜ｄ２に沿って各容器
２Ａ〜２Ｄ内に液体材料Ａ〜Ｃ及び溶剤Ｄを充填する。
そして、ポンプ１０を作動させると共に、図２に矢印ｅ
で示すパージライン７に沿って各容器２Ａ〜２Ｄの入口
側に不活性ガスを導入し液面加圧を行うと、これらの容
器２Ａ〜２Ｄに充填されている液体材料Ａ〜Ｃ及び溶剤
Ｄが同図中矢印ａ１〜ｄ１で示すように送液ライン４Ａ
〜４Ｄに送り出され、比例バルブ５Ａ〜５Ｄを経て予め
定めた所定の混合比で集合位置Ｘに集合する。この混合
比は、稼働中であっても各比例バルブ５Ａ〜５Ｄの設定
を通じて変更することが可能である。このようにして作
られた混合液は、図１に示すポンプ１０を通過した後、
ミキサー１１で均質に混合され、気化器１２で気化され
る。この気化器１２にはＣＶＤリアクター１の他にベン
トライン１６が設けてあり、混合ガスは図８のタイムチ
ャートで示すように成膜中にのみＣＶＤリアクター１に
送られ、成膜と成膜の間はベントライン１６側に逃がさ
れる。このとき、ポンプ１０をＯＦＦ、ポンプ１４をＯ
Ｎにして、溶剤移送ライン１３から気化器１２に溶剤が
直接移送され、内部の洗浄が行われる。
化器洗浄用に設けた溶剤移送ライン１３及び補助ポンプ
１４を通じて溶剤を直接気化器１２の入口に移送し得る
ようにしている。また、気化器１２に外部からキャリヤ
ガス導入系路１５を通じて不活性なキャリヤガスを導入
することも可能である。次に、本実施例の取扱方法につ
いて説明する。先ず空の容器２Ａ〜２Ｄを取り付ける場
合には、各容器２Ａ〜２Ｄが接続されるべき最寄りの配
管にそれぞれ継手ｚを介してそれらの入口側及び出口側
を接続する。次に、全てのバルブを開いてバキュームラ
イン８を作動させ、容器２Ａ〜２Ｄ及び随所の配管内を
真空排気した後、図３の矢印ａ２〜ｄ２に沿って各容器
２Ａ〜２Ｄ内に液体材料Ａ〜Ｃ及び溶剤Ｄを充填する。
そして、ポンプ１０を作動させると共に、図２に矢印ｅ
で示すパージライン７に沿って各容器２Ａ〜２Ｄの入口
側に不活性ガスを導入し液面加圧を行うと、これらの容
器２Ａ〜２Ｄに充填されている液体材料Ａ〜Ｃ及び溶剤
Ｄが同図中矢印ａ１〜ｄ１で示すように送液ライン４Ａ
〜４Ｄに送り出され、比例バルブ５Ａ〜５Ｄを経て予め
定めた所定の混合比で集合位置Ｘに集合する。この混合
比は、稼働中であっても各比例バルブ５Ａ〜５Ｄの設定
を通じて変更することが可能である。このようにして作
られた混合液は、図１に示すポンプ１０を通過した後、
ミキサー１１で均質に混合され、気化器１２で気化され
る。この気化器１２にはＣＶＤリアクター１の他にベン
トライン１６が設けてあり、混合ガスは図８のタイムチ
ャートで示すように成膜中にのみＣＶＤリアクター１に
送られ、成膜と成膜の間はベントライン１６側に逃がさ
れる。このとき、ポンプ１０をＯＦＦ、ポンプ１４をＯ
Ｎにして、溶剤移送ライン１３から気化器１２に溶剤が
直接移送され、内部の洗浄が行われる。
【００１６】以上のようにして、この実施例のものは、
比例バルブ５Ａ〜５Ｄの設定を通じて各液体材料の混合
比は勿論のこと混合液中に占める溶剤の割合すなわち原
料の濃度を随意に変更することができる。したがって、
本実施例によると、逐一装置の稼働を止めて容器２Ａ〜
２Ｄを継手ｚから取り外すような事を一切行わずとも、
混合液の希釈等を極めて容易に行い、稼働効率の向上を
図ることが可能となる。特に、近時では１回の成膜中に
も混合比や希釈度を変えたいという要望があり、本実施
例の装置はこのような要望に応える上で極めて有用なも
のとなり得る。しかも、各送液ライン４Ａ〜４Ｄの集合
位置Ｘの下流に従来採用されていなかったミキサー１１
を配置しているため、混合はこのミキサー１１において
均質化されることになり、成膜に供される混合ガスを極
めて良質なものにして成膜精度の向上を図ることができ
る。特に、使用される材料によっては気化温度と分解温
度が接近し、気化器１２内にその液体材料が残留するこ
とで分解生成物が発生する場合があったが、本実施例は
図２にタイムチャートで示したように成膜が終了するご
とに気化器１２をベントライン１６に接続して溶剤送給
ライン１３から溶剤を導入し、内部を洗浄するため、分
解生成物の発生を有効に防止して膜質の低下を防ぐこと
ができる。また、各ラインを構成するにあたり種々の配
管を共用化し、また送液のためのポンプ１０や気化器１
２を各１台で賄っているため、全体構成の簡素化を通じ
てコストやメンテナンス上の利点も得ることができる。
比例バルブ５Ａ〜５Ｄの設定を通じて各液体材料の混合
比は勿論のこと混合液中に占める溶剤の割合すなわち原
料の濃度を随意に変更することができる。したがって、
本実施例によると、逐一装置の稼働を止めて容器２Ａ〜
２Ｄを継手ｚから取り外すような事を一切行わずとも、
混合液の希釈等を極めて容易に行い、稼働効率の向上を
図ることが可能となる。特に、近時では１回の成膜中に
も混合比や希釈度を変えたいという要望があり、本実施
例の装置はこのような要望に応える上で極めて有用なも
のとなり得る。しかも、各送液ライン４Ａ〜４Ｄの集合
位置Ｘの下流に従来採用されていなかったミキサー１１
を配置しているため、混合はこのミキサー１１において
均質化されることになり、成膜に供される混合ガスを極
めて良質なものにして成膜精度の向上を図ることができ
る。特に、使用される材料によっては気化温度と分解温
度が接近し、気化器１２内にその液体材料が残留するこ
とで分解生成物が発生する場合があったが、本実施例は
図２にタイムチャートで示したように成膜が終了するご
とに気化器１２をベントライン１６に接続して溶剤送給
ライン１３から溶剤を導入し、内部を洗浄するため、分
解生成物の発生を有効に防止して膜質の低下を防ぐこと
ができる。また、各ラインを構成するにあたり種々の配
管を共用化し、また送液のためのポンプ１０や気化器１
２を各１台で賄っているため、全体構成の簡素化を通じ
てコストやメンテナンス上の利点も得ることができる。
【００１７】以上のような取り扱いに加え、パージライ
ン７を図５の矢印ｇのように形成すれば各容器２Ａ〜２
Ｄに液を残したままの状態で容器下流側の配管における
液除去が行えるし、容器２Ａ〜２Ｄの全部又は一部を液
交換等のために取り外したい場合にはパージライン７を
図４の矢印ｆのように形成し、バキュームライン８を矢
印ｈのように形成すれば容器２Ａ〜２Ｄの継手ｚ付近に
存在する液体材料等をパージすることができる。この場
合、継手ｚ付近の配管内に液体材料が残っていると加水
分解等の原因となるため、引き続き図６に矢印ｋで示す
パージライン７を通じて溶剤容器２Ｄ内の液面加圧を行
いながら矢印ｉで示す溶剤バイパスライン９を通じて材
料容器２Ａ〜２Ｃに溶剤を導入し、同時にバキュームラ
イン８を通じて必要な配管の真空引きを行えば、液体材
料の残留を確実に防止することが可能となる。さらに、
ポンプ１０やバルブ５Ａ〜５Ｃをメンテナンスする際
は、図７の矢印ｍに沿って溶剤容器２Ｄを液面加圧し、
矢印ｎに沿って溶剤を周辺配管に送り出すこともでき
る。
ン７を図５の矢印ｇのように形成すれば各容器２Ａ〜２
Ｄに液を残したままの状態で容器下流側の配管における
液除去が行えるし、容器２Ａ〜２Ｄの全部又は一部を液
交換等のために取り外したい場合にはパージライン７を
図４の矢印ｆのように形成し、バキュームライン８を矢
印ｈのように形成すれば容器２Ａ〜２Ｄの継手ｚ付近に
存在する液体材料等をパージすることができる。この場
合、継手ｚ付近の配管内に液体材料が残っていると加水
分解等の原因となるため、引き続き図６に矢印ｋで示す
パージライン７を通じて溶剤容器２Ｄ内の液面加圧を行
いながら矢印ｉで示す溶剤バイパスライン９を通じて材
料容器２Ａ〜２Ｃに溶剤を導入し、同時にバキュームラ
イン８を通じて必要な配管の真空引きを行えば、液体材
料の残留を確実に防止することが可能となる。さらに、
ポンプ１０やバルブ５Ａ〜５Ｃをメンテナンスする際
は、図７の矢印ｍに沿って溶剤容器２Ｄを液面加圧し、
矢印ｎに沿って溶剤を周辺配管に送り出すこともでき
る。
【００１８】なお、上記実施例は取り扱いの一例を示し
たに過ぎないものであり、バルブの種々の開閉操作を通
じて異なる態様のパージ、真空引き等が行えるのは言う
までもない。また、バルブを自動で制御するようにした
り、ポンプに変えてマスフローコントローラを用いるな
ど、各部の具体的な構成は図示実施例のものに限定され
るものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々
変形が可能である。
たに過ぎないものであり、バルブの種々の開閉操作を通
じて異なる態様のパージ、真空引き等が行えるのは言う
までもない。また、バルブを自動で制御するようにした
り、ポンプに変えてマスフローコントローラを用いるな
ど、各部の具体的な構成は図示実施例のものに限定され
るものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々
変形が可能である。
【００１９】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、液体材
料を収容する容器以外にそれらの液体材料に用いられて
いるものと同一又は同種の溶剤を収容する溶剤専用容器
を設け、これらの容器から導出した液体材料及び溶剤を
送液ラインを介して１箇所に集合させるようにしたもの
である。このため、各液体材料同士の割合のみならずそ
の希釈度等をも逐一容器を取り外すことなく簡単に変更
することが可能となり、稼働効率のみならず成膜の品質
なども有効に向上させることが可能となる。その上、溶
剤バイパスラインを通じて材料容器に溶剤を導入すれ
ば、容器近傍に液体材料が残留することを確実に防止す
ることができるので、容器交換時などにおける加水分解
の問題も有効に解消することができ、メンテナンスの便
も有効に向上させることが可能となる。
料を収容する容器以外にそれらの液体材料に用いられて
いるものと同一又は同種の溶剤を収容する溶剤専用容器
を設け、これらの容器から導出した液体材料及び溶剤を
送液ラインを介して１箇所に集合させるようにしたもの
である。このため、各液体材料同士の割合のみならずそ
の希釈度等をも逐一容器を取り外すことなく簡単に変更
することが可能となり、稼働効率のみならず成膜の品質
なども有効に向上させることが可能となる。その上、溶
剤バイパスラインを通じて材料容器に溶剤を導入すれ
ば、容器近傍に液体材料が残留することを確実に防止す
ることができるので、容器交換時などにおける加水分解
の問題も有効に解消することができ、メンテナンスの便
も有効に向上させることが可能となる。
【図１】本発明の一実施例を示す回路図。
【図２】同回路の要部説明図。
【図３】同回路の要部説明図。
【図４】同回路の要部説明図。
【図５】同回路の要部説明図。
【図６】同回路の要部説明図。
【図７】同回路の要部説明図。
【図８】同実施例の運転状態を示すタイムチャート図。
Ａ、Ｂ、Ｃ…液体材料 Ｄ…溶剤 ２Ａ、２Ｂ、２Ｃ…材料容器 ２Ｄ…溶剤専用容器 ４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ…送液ライン
Claims (1)
- 【請求項１】複数の液体材料を混合する際に利用される
ものであって、各々の液体材料を収容する複数の材料容
器と、前記各液体材料に使用されている溶剤と同一又は
同種の溶剤を充填した溶剤専用容器と、各容器からの液
体材料及び溶剤を１箇所に集合させるための複数の送液
ラインとを具備するとともに、前記溶剤専用容器の溶剤
を各材料容器に直接供給することのできる溶剤バイパス
ラインを設けたことを特徴とする液体材料気化装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09029446A JP3106990B2 (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | 液体材料気化装置 |
| KR1019980003226A KR100345223B1 (ko) | 1997-02-13 | 1998-02-05 | 액체재료기화장치 |
| US09/021,153 US6074487A (en) | 1997-02-13 | 1998-02-10 | Unit for vaporizing liquid materials |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09029446A JP3106990B2 (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | 液体材料気化装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10229076A JPH10229076A (ja) | 1998-08-25 |
| JP3106990B2 true JP3106990B2 (ja) | 2000-11-06 |
Family
ID=12276357
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09029446A Expired - Fee Related JP3106990B2 (ja) | 1997-02-13 | 1997-02-13 | 液体材料気化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3106990B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5154591B2 (ja) * | 2007-08-30 | 2013-02-27 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法及び基板処理装置 |
| JP2009129966A (ja) * | 2007-11-20 | 2009-06-11 | Fujitsu Microelectronics Ltd | 成膜方法、成膜装置及び半導体装置の製造方法 |
-
1997
- 1997-02-13 JP JP09029446A patent/JP3106990B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10229076A (ja) | 1998-08-25 |
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