JP3104312B2 - アセトニトリルの精製方法 - Google Patents
アセトニトリルの精製方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高品質のアセトニトリ
ル、特に液体クロマトグラフィー用の溶媒等に用いられ
る高純度のアセトニトリルを得るためのアセトニトリル
の精製方法に関する。
ル、特に液体クロマトグラフィー用の溶媒等に用いられ
る高純度のアセトニトリルを得るためのアセトニトリル
の精製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高純度アセトニトリル、特に液体クロマ
トグラフィー（以下、液クロと略記する）の溶媒に用い
られるアセトニトリルは、その中の紫外線吸収がバック
グランドにならぬよう、２００〜３５０ｎｍにおける紫
外線吸収のないものであることが必要である。従来、こ
のようなアセトニトリルを得るためには粗アセトニトリ
ルから煩雑で非工業的な方法で精製の必要があった。
トグラフィー（以下、液クロと略記する）の溶媒に用い
られるアセトニトリルは、その中の紫外線吸収がバック
グランドにならぬよう、２００〜３５０ｎｍにおける紫
外線吸収のないものであることが必要である。従来、こ
のようなアセトニトリルを得るためには粗アセトニトリ
ルから煩雑で非工業的な方法で精製の必要があった。
【０００３】即ちプロピレン等のアンモキシデーション
反応で副生するアセトニトリル精製法としては、次の様
な方法が知られているがいずれも液クロ溶媒用には不適
当なアセトニトリルしか得られなかった。
反応で副生するアセトニトリル精製法としては、次の様
な方法が知られているがいずれも液クロ溶媒用には不適
当なアセトニトリルしか得られなかった。
【０００４】例えば、特開昭５８−１２４７５１号公報
の方法は、アンモニアと酸素によるプロピレンの接触的
アンモキシデーションによるアクリロニトリルの製造法
において副生する粗アセトニトリルを３つの蒸留塔と１
つの蒸解器を使うことによりアセトニトリルを回収する
方法であるが、液クロ溶媒用のアセトニトリルは得られ
ず、その原料レベルの精製でしかなかった。
の方法は、アンモニアと酸素によるプロピレンの接触的
アンモキシデーションによるアクリロニトリルの製造法
において副生する粗アセトニトリルを３つの蒸留塔と１
つの蒸解器を使うことによりアセトニトリルを回収する
方法であるが、液クロ溶媒用のアセトニトリルは得られ
ず、その原料レベルの精製でしかなかった。
【０００５】また、特開昭５５−１１８４４７号公報に
はアセトニトリルの濃縮法、特開昭５５−１５３７５７
号公報にはアセトニトリル中の水分のＮａＯＨによる抽
出除去法、特開昭５５−１４３９４９号公報にはアセト
ニトリル中のアリルアルコールの蒸留分離法、特開昭５
５−１２９２５７号公報にはアセトニトリル中のシアン
化水素の除去法等が開示されているが、いずれも、それ
単独にはもとより組合わせても液クロ溶媒用のものは得
ることができなかった。
はアセトニトリルの濃縮法、特開昭５５−１５３７５７
号公報にはアセトニトリル中の水分のＮａＯＨによる抽
出除去法、特開昭５５−１４３９４９号公報にはアセト
ニトリル中のアリルアルコールの蒸留分離法、特開昭５
５−１２９２５７号公報にはアセトニトリル中のシアン
化水素の除去法等が開示されているが、いずれも、それ
単独にはもとより組合わせても液クロ溶媒用のものは得
ることができなかった。
【０００６】このような状況下、不純物を徹底的に除去
し、高純度アセトニトリルを得るまで精製する技術とし
ては、わずかに東ドイツ特許ＤＤ（１１）２１７２１２
（Ａ１）にオゾン処理したあと蒸留処理する方法が、そ
してＣｈｅｍ．Ｔｅｃｈ（Ｌｅｉｐｚｉｇ），３７
（８），３２８−３０にはＫＭｎＯ4 処理したあと蒸留
分離する方法が開示されており、又Ｈｏｐｐｅ−Ｓｅｙ
ｌｅｒ’ｓ Ｚ．Ｐｈｙｓｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，３６３
（５），４８５−６にはＡｌ2 Ｏ3 カラムクロマト処理
する方法が知られているにすぎない。しかし、これらの
方法もいずれも液クロ用溶媒等に適するアセトニトリル
の精製方法としては充分なものではなかった。
し、高純度アセトニトリルを得るまで精製する技術とし
ては、わずかに東ドイツ特許ＤＤ（１１）２１７２１２
（Ａ１）にオゾン処理したあと蒸留処理する方法が、そ
してＣｈｅｍ．Ｔｅｃｈ（Ｌｅｉｐｚｉｇ），３７
（８），３２８−３０にはＫＭｎＯ4 処理したあと蒸留
分離する方法が開示されており、又Ｈｏｐｐｅ−Ｓｅｙ
ｌｅｒ’ｓ Ｚ．Ｐｈｙｓｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，３６３
（５），４８５−６にはＡｌ2 Ｏ3 カラムクロマト処理
する方法が知られているにすぎない。しかし、これらの
方法もいずれも液クロ用溶媒等に適するアセトニトリル
の精製方法としては充分なものではなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、プロピレン
等のアンモキシデーション反応で副生する粗アセトニト
リルから、液クロ溶媒に用いることができる高純度アセ
トニトリルを工業的に精製する方法を提供することを課
題とするものである。
等のアンモキシデーション反応で副生する粗アセトニト
リルから、液クロ溶媒に用いることができる高純度アセ
トニトリルを工業的に精製する方法を提供することを課
題とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため研究を重ねた結果、オゾン処理とＮａＯ
Ｈ等塩基物質処理を組合わせ、且つ蒸留することによっ
て後課題が解決できることを見出し本発明に到達した。
すなわち、本発明はプロピレンまたはイソブチレンを触
媒の存在下アンモオキシデーション反応せしめて得たア
セトニトリルを主成分とする副生物を前処理して不純物
を低減せしめて得た粗アセトニトリルをオゾンを含むガ
スと接触させ、次いで塩基性物質で中和した後、蒸留す
ることにより高純度のアセトニトリルを得ることを特徴
とするアセトニトリルの精製方法を提供するものであ
る。 以下本発明を詳細に説明する。
を解決するため研究を重ねた結果、オゾン処理とＮａＯ
Ｈ等塩基物質処理を組合わせ、且つ蒸留することによっ
て後課題が解決できることを見出し本発明に到達した。
すなわち、本発明はプロピレンまたはイソブチレンを触
媒の存在下アンモオキシデーション反応せしめて得たア
セトニトリルを主成分とする副生物を前処理して不純物
を低減せしめて得た粗アセトニトリルをオゾンを含むガ
スと接触させ、次いで塩基性物質で中和した後、蒸留す
ることにより高純度のアセトニトリルを得ることを特徴
とするアセトニトリルの精製方法を提供するものであ
る。 以下本発明を詳細に説明する。
【０００９】本発明の原料となる粗アセトニトリルは、
プロピレン等のアンモオキシデーションによりアクリロ
ニトリルを製造する際、副生成物として得ることが出来
るもので、その製造工程より回収したアセトニトリルに
含まれるＨＣＮ、アクリロニトリル、Ｈ2Ｏ、オキサゾ
ール、アリルアルコール、アセトン等の不純物を前処理
して分離除去したものである。
プロピレン等のアンモオキシデーションによりアクリロ
ニトリルを製造する際、副生成物として得ることが出来
るもので、その製造工程より回収したアセトニトリルに
含まれるＨＣＮ、アクリロニトリル、Ｈ2Ｏ、オキサゾ
ール、アリルアルコール、アセトン等の不純物を前処理
して分離除去したものである。
【００１０】それらの不純物の分離除去法としては、例
えば特開昭５８−１２４７５１号公報記載の「連続式ア
セトニトリル回収法」、特公昭４０−２６８１４号公報
に示される方法、あるいは特開昭５５−１１８４４７
号、特開昭５５−１５３７５７号、特開昭５５−１４３
９４９号、特開昭５５−１２９５７号、特開昭５５−１
４３９５０号に記載された方法の組合せ等が用いられ
る。
えば特開昭５８−１２４７５１号公報記載の「連続式ア
セトニトリル回収法」、特公昭４０−２６８１４号公報
に示される方法、あるいは特開昭５５−１１８４４７
号、特開昭５５−１５３７５７号、特開昭５５−１４３
９４９号、特開昭５５−１２９５７号、特開昭５５−１
４３９５０号に記載された方法の組合せ等が用いられ
る。
【００１１】これらの方法によれば、例えばアセトニト
リルの品質として一般にアリルアルコール２００ｐｐ
ｍ、アクリロニトリル５ｐｐｍ、オキサゾール５０ｐｐ
ｍ、青酸５ｐｐｍ、プロピオニトリル２００ｐｐｍ、Ｈ
2 Ｏ ５００ｐｐｍ程度のものが得られる。勿論これら
の濃度は、蒸留塔・反応槽・抽出塔等の設備・操作条件
により、異なった品質のものが得られることは言うまで
もない。
リルの品質として一般にアリルアルコール２００ｐｐ
ｍ、アクリロニトリル５ｐｐｍ、オキサゾール５０ｐｐ
ｍ、青酸５ｐｐｍ、プロピオニトリル２００ｐｐｍ、Ｈ
2 Ｏ ５００ｐｐｍ程度のものが得られる。勿論これら
の濃度は、蒸留塔・反応槽・抽出塔等の設備・操作条件
により、異なった品質のものが得られることは言うまで
もない。
【００１２】本発明は、上記した粗アセトニトリルを原
料としてオゾン酸化処理したあと、ＮａＯＨ等塩基で中
和し次いで蒸留を行うことにより、高純度のアセトニト
リルを得るものである。
料としてオゾン酸化処理したあと、ＮａＯＨ等塩基で中
和し次いで蒸留を行うことにより、高純度のアセトニト
リルを得るものである。
【００１３】即ちまず、完全には除かれていないアリル
アルコール、アクリロニトリル、オキサゾール、青酸、
アセトン等を含む粗アセトニトリルを原料として温度−
７０〜８０℃において、好ましくは１０〜６０℃で、オ
ゾンを含むガスを接触させる。このオゾンを含むガス
は、オゾンの濃度０．０１〜１０vol ％、好ましくは
０．１〜５vol ％の空気、酸素等のガスを用いる。この
時、アセトニトリルとの爆発混合気を形成しないように
不活性ガスで希釈を行う。不活性ガスとしては、窒素、
二酸化炭素などが使われる。
アルコール、アクリロニトリル、オキサゾール、青酸、
アセトン等を含む粗アセトニトリルを原料として温度−
７０〜８０℃において、好ましくは１０〜６０℃で、オ
ゾンを含むガスを接触させる。このオゾンを含むガス
は、オゾンの濃度０．０１〜１０vol ％、好ましくは
０．１〜５vol ％の空気、酸素等のガスを用いる。この
時、アセトニトリルとの爆発混合気を形成しないように
不活性ガスで希釈を行う。不活性ガスとしては、窒素、
二酸化炭素などが使われる。
【００１４】オゾンの供給量は、アセトニトリルに含ま
れる二重結合を有する化合物（アリルアルコール、アク
リロニトリル、オキサゾール等）が完全に消滅するに要
するオゾン量以上とする。すなわち、アセトニトリルに
含まれる二重結合を有する化合物が完全に消滅するに要
するオゾン量の１〜５倍、好ましくは１．０５〜３倍量
である。オゾンとの反応を示さなくなった時点の確認
は、排出ガス中のオゾン濃度を分析することによりでき
る。この分析法には、ＪＩＳの方法、紫外線吸収を利用
した連続分析計算等が使われる。
れる二重結合を有する化合物（アリルアルコール、アク
リロニトリル、オキサゾール等）が完全に消滅するに要
するオゾン量以上とする。すなわち、アセトニトリルに
含まれる二重結合を有する化合物が完全に消滅するに要
するオゾン量の１〜５倍、好ましくは１．０５〜３倍量
である。オゾンとの反応を示さなくなった時点の確認
は、排出ガス中のオゾン濃度を分析することによりでき
る。この分析法には、ＪＩＳの方法、紫外線吸収を利用
した連続分析計算等が使われる。
【００１５】このオゾン処理によりＰＨは低下する傾向
が観察される。粗アセトニトリルは、通常おおよそ中性
を示すが、オゾン処理により二重結合を有する化合物が
酸化されカルボン酸等が生成するためそのＰＨは、不純
物濃度、オゾン処理時間等により異なるが１／１０水希
釈ＰＨで約ＰＨ３〜５と低下する。
が観察される。粗アセトニトリルは、通常おおよそ中性
を示すが、オゾン処理により二重結合を有する化合物が
酸化されカルボン酸等が生成するためそのＰＨは、不純
物濃度、オゾン処理時間等により異なるが１／１０水希
釈ＰＨで約ＰＨ３〜５と低下する。
【００１６】次にこの液に、ＮａＯＨ等の塩基を添加
し、１／１０水希釈ＰＨで５〜９、好ましくは、６〜８
に調整する。ここで添加する塩基はＮａＯＨ以外にはＫ
ＯＨ，ＬｉＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）2 ，Ｍｇ（ＯＨ）2 、Ｂ
Ａ（ＯＨ）2 等１価２価の塩基のいずれでも良いが、好
ましくはＮａＯＨ等１価の塩基物質である。これらの供
給の形態は、結晶のままでも良いし、水溶液あるいはス
ラリー状態でもよい。
し、１／１０水希釈ＰＨで５〜９、好ましくは、６〜８
に調整する。ここで添加する塩基はＮａＯＨ以外にはＫ
ＯＨ，ＬｉＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）2 ，Ｍｇ（ＯＨ）2 、Ｂ
Ａ（ＯＨ）2 等１価２価の塩基のいずれでも良いが、好
ましくはＮａＯＨ等１価の塩基物質である。これらの供
給の形態は、結晶のままでも良いし、水溶液あるいはス
ラリー状態でもよい。
【００１７】ここで、ＮａＯＨ等の塩基物質添加により
前記したカルボン酸等の酸と塩を形成しその生成した塩
はＨ2 Ｏ濃度によって結晶を析出してくる場合がある。
その場合は後工程での操作を容易にするため、それら結
晶の分離をすることが好ましい。
前記したカルボン酸等の酸と塩を形成しその生成した塩
はＨ2 Ｏ濃度によって結晶を析出してくる場合がある。
その場合は後工程での操作を容易にするため、それら結
晶の分離をすることが好ましい。
【００１８】次いで、この液を上記したオゾン処理・中
和処理の過程で生成した軽沸点化合物と高沸点化合物を
分離すると、その中間留分として目的物が得られる。こ
の蒸留は、軽沸点化合物を除いたあと、高沸点化合物を
除いても良いが、その逆に高沸点化合物を除いたあと軽
沸点化合物を除くのが好ましい。あるいは、一つの蒸留
塔で軽沸点化合物と高沸点化合物を同時分離し目的とす
るアセトニトリルをこの蒸留塔の側流として抜きだして
も良い。これらは、回分的方法あるいは連続的方法で操
作される。
和処理の過程で生成した軽沸点化合物と高沸点化合物を
分離すると、その中間留分として目的物が得られる。こ
の蒸留は、軽沸点化合物を除いたあと、高沸点化合物を
除いても良いが、その逆に高沸点化合物を除いたあと軽
沸点化合物を除くのが好ましい。あるいは、一つの蒸留
塔で軽沸点化合物と高沸点化合物を同時分離し目的とす
るアセトニトリルをこの蒸留塔の側流として抜きだして
も良い。これらは、回分的方法あるいは連続的方法で操
作される。
【００１９】これらの操作は、減圧、常圧、加圧のいず
れでも操作可能であるが、不純物の分解を抑制すること
により高品質を確保するためには、減圧蒸留が好まし
い。以上により、高純度なアセトニトリルを製造するこ
とが出来る。
れでも操作可能であるが、不純物の分解を抑制すること
により高品質を確保するためには、減圧蒸留が好まし
い。以上により、高純度なアセトニトリルを製造するこ
とが出来る。
【００２０】
【実施例】次に本発明を実施例及び比較例により説明す
る。
る。
【００２１】実施例１ ：プロピレンのアンモキシデーション反応の副生物で
あるアセトニトリルを蒸留で濃縮し、苛性ソーダでＰＨ
１３とし７５℃、６時間反応し、蒸留によりアリルアル
コール、ＨＣＮを分離した。次いで、苛性ソーダにより
水分を５wt％以下にしたあと蒸留により低沸点物質・高
沸点物質を除去した。この結果、以下の本発明の原料と
なる粗アセトニトリルを得た。
あるアセトニトリルを蒸留で濃縮し、苛性ソーダでＰＨ
１３とし７５℃、６時間反応し、蒸留によりアリルアル
コール、ＨＣＮを分離した。次いで、苛性ソーダにより
水分を５wt％以下にしたあと蒸留により低沸点物質・高
沸点物質を除去した。この結果、以下の本発明の原料と
なる粗アセトニトリルを得た。
【００２２】〔不純物〕 アリルアルコール ２００ｐｐｍ アクリロニトリル ５ｐｐｍ オキサゾール ５０ｐｐｍ プロピオニトリル ２００ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ＨＣＮ ０ｐｐｍ Ｈ2 Ｏ ５００ｐｐｍ １／１０ＰＨ ７．０
【００２３】〔紫外線吸収〕 波長２００ｎｍ ａｂｓ＝２．１ 波長２２０ｎｍ ａｂｓ＝０．６０ 波長２５０ｎｍ ａｂｓ＝０．０３ 上記吸光度（ａｂｓ＝ａｂｓｏｒｂａｎｃｅは、１０ｍ
ｍ石英セルを用いた吸光度値を示す。（以下同じ）。
ｍ石英セルを用いた吸光度値を示す。（以下同じ）。
【００２４】：攪はん機つき丸底フラスコに原料とし
ての本発明の原料となる粗アセトニトリル２リットル
を入れ、オゾンを０．５ｖｏｌ％含む空気を５０ＮＬ／
Ｈｒ及び窒素を１００ＮＬ／Ｈｒの速度で、２０℃で６
０分間接触処理したところアリルアルコール、アクリロ
ニトリル、オキサゾールは検出できなくなった。更に３
０分間接触したあと、オゾンの供給を停止した。このと
きの１／１０水希釈ＰＨは、３．９を示した。この液の
不純物と紫外線吸収は次のようになった。
ての本発明の原料となる粗アセトニトリル２リットル
を入れ、オゾンを０．５ｖｏｌ％含む空気を５０ＮＬ／
Ｈｒ及び窒素を１００ＮＬ／Ｈｒの速度で、２０℃で６
０分間接触処理したところアリルアルコール、アクリロ
ニトリル、オキサゾールは検出できなくなった。更に３
０分間接触したあと、オゾンの供給を停止した。このと
きの１／１０水希釈ＰＨは、３．９を示した。この液の
不純物と紫外線吸収は次のようになった。
【００２５】〔不純物〕 アリルアルコール ０ｐｐｍ アクリロニトリル ０ｐｐｍ オキサゾール ０ｐｐｍ プロピオニトリル ２００ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ＨＣＮ ０ｐｐｍ Ｈ2 Ｏ ５００ｐｐｍ １／１０ＰＨ ３．９
【００２６】〔紫外線吸収〕 波長２００ｎｍ ａｂｓ＝２．８０ 波長２２５ｎｍ ａｂｓ＝１．３ 波長２５０ｎｍ ａｂｓ＝０．２
【００２７】：ついで、この液に５０％ＮａＯＨで１
／１０水希釈ＰＨ７に調整をした。このとき、カルボン
酸ソーダー等の塩からなる白色結晶が生成するがこれを
分離した。この結果不純物と紫外線吸収は次のようにな
った。
／１０水希釈ＰＨ７に調整をした。このとき、カルボン
酸ソーダー等の塩からなる白色結晶が生成するがこれを
分離した。この結果不純物と紫外線吸収は次のようにな
った。
【００２８】〔不純物〕 アリルアルコール ０ｐｐｍ アクリロニトリル ０ｐｐｍ オキサゾール ０ｐｐｍ プロピオニトリル ２００ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ＨＣＮ ０ｐｐｍ Ｈ2 Ｏ １５０００ｐｐｍ １／１０ＰＨ ７．０
【００２９】〔紫外線吸収〕 波長２００ｎｍ ａｂｓ＝１．９０ 波長２２５ｎｍ ａｂｓ＝０．９０ 波長２５０ｎｍ ａｂｓ＝０．１０
【００３０】：のアセトニトリルを原料として、５
ｍｍラッシヒリングを２００ｍｍの高さに充填した径１
５ｍｍの常圧蒸留装置で全還流のあと、還流比２で初留
の５％を除いたあと、残りの９０％を蒸留留出させたと
ころ、回収されたアセトニトリルの不純物と紫外線吸収
は次のようになった。
ｍｍラッシヒリングを２００ｍｍの高さに充填した径１
５ｍｍの常圧蒸留装置で全還流のあと、還流比２で初留
の５％を除いたあと、残りの９０％を蒸留留出させたと
ころ、回収されたアセトニトリルの不純物と紫外線吸収
は次のようになった。
【００３１】〔不純物〕 アリルアルコール ０ｐｐｍ アクリロニトリル ０ｐｐｍ オキサゾール ０ｐｐｍ プロピオニトリル ０ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ＨＣＮ ０ｐｐｍ Ｈ2 Ｏ ２００ｐｐｍ
【００３２】〔紫外線吸収〕 波長２００ｎｍ ａｂｓ＝０．０２ 波長２２０ｎｍ ａｂｓ＝０．０１ 波長２５０ｎｍ ａｂｓ＝０．００
【００３３】実施例２ ：実施例１と同じ粗アセトニトリルを実施例１の、
及びと同じ処理をして得たアセトニトリルを常圧蒸
留し９５％を留出させた。回収されたアセトニトリルの
組成と紫外線吸収は次のようになった。
及びと同じ処理をして得たアセトニトリルを常圧蒸
留し９５％を留出させた。回収されたアセトニトリルの
組成と紫外線吸収は次のようになった。
【００３４】〔不純物〕 アリルアルコール ０ｐｐｍ アクリロニトリル ０ｐｐｍ オキサゾール ０ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ＨＣＮ ０ｐｐｍ Ｈ2 Ｏ ２００ｐｐｍ
【００３５】〔紫外線吸収〕 波長２００ｎｍ ａｂｓ＝０．２０ 波長２２０ｎｍ ａｂｓ＝０．１２ 波長２５０ｎｍ ａｂｓ＝０．０３
【００３６】：のアセトニトリルを原料として、５
ｍｍラッシヒリングを２００ｍｍの高さに充填した径１
５ｍｍの常圧蒸留装置で全還流のあと、還流比２で初留
の５％を除いたあと、残りの９０％を蒸留留出させたと
ころ、回収されたアセトニトリルの不純物と紫外線吸収
は次のようになった。
ｍｍラッシヒリングを２００ｍｍの高さに充填した径１
５ｍｍの常圧蒸留装置で全還流のあと、還流比２で初留
の５％を除いたあと、残りの９０％を蒸留留出させたと
ころ、回収されたアセトニトリルの不純物と紫外線吸収
は次のようになった。
【００３７】〔不純物〕 アリルアルコール ０ｐｐｍ アクリロニトリル ０ｐｐｍ オキサゾール ０ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ＨＣＮ ０ｐｐｍ Ｈ2 Ｏ ２００ｐｐｍ
【００３８】〔紫外線吸収〕 波長２００ｎｍ ａｂｓ＝０．０１ 波長２２０ｎｍ ａｂｓ＝０．０１ 波長２５０ｎｍ ａｂｓ＝０．００
【００３９】比較例１ 実施例と同じ粗アセトニトリルを実施例１のと同じ処
理をして得たアセトニトリルを、５ｍｍラッシヒリング
を２００ｍｍの高さに充填した径１５ｍｍの常圧蒸留装
置で全還流のあと、還流比２で初留の５％を除去した
後、残りの９０％を蒸留留出させたところ、回収された
アセトニトリルの不純物と紫外線吸収は次のようになっ
た。
理をして得たアセトニトリルを、５ｍｍラッシヒリング
を２００ｍｍの高さに充填した径１５ｍｍの常圧蒸留装
置で全還流のあと、還流比２で初留の５％を除去した
後、残りの９０％を蒸留留出させたところ、回収された
アセトニトリルの不純物と紫外線吸収は次のようになっ
た。
【００４０】〔不純物〕 アリルアルコール １８０ｐｐｍ アクリロニトリル ５ｐｐｍ オキサゾール ３０ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ＨＣＮ ０ｐｐｍ Ｈ2 Ｏ １００ｐｐｍ
【００４１】〔紫外線吸収〕 波長２００ｎｍ ａｂｓ＝２．０ 波長２２０ｎｍ ａｂｓ＝０．５ 波長２５０ｎｍ ａｂｓ＝０．０３
【００４２】比較例２ 実施例と同じ粗アセトニトリルを実施例１の及びと
同じ処理をして得たアセトニトリルを、５ｍｍラッシヒ
リングを２００ｍｍの高さに充填した径１５ｍｍの常圧
蒸留装置で還流比２で初留の５％を除いたあと９５％ま
でを蒸留したところ不純物の紫外線吸収は次のようにな
った。
同じ処理をして得たアセトニトリルを、５ｍｍラッシヒ
リングを２００ｍｍの高さに充填した径１５ｍｍの常圧
蒸留装置で還流比２で初留の５％を除いたあと９５％ま
でを蒸留したところ不純物の紫外線吸収は次のようにな
った。
【００４３】〔不純物〕 アリルアルコール ０ｐｐｍ アクリロニトリル ０ｐｐｍ オキサゾール ０ｐｐｍ アセトン ０ｐｐｍ ＨＣＮ ０ｐｐｍ Ｈ2 Ｏ ５０ｐｐｍ
【００４４】〔紫外線吸収〕 波長２００ｎｍ ａｂｓ＝０．２０ 波長２２０ｎｍ ａｂｓ＝０．０５ 波長２５０ｎｍ ａｂｓ＝０．０２
【００４５】
【発明の効果】本発明によって、従来工業的に得ること
が困難であった液クロ溶媒に用いられる高純度のアセト
ニトリルを工業的に得ることができるようになった効果
に大きい。
が困難であった液クロ溶媒に用いられる高純度のアセト
ニトリルを工業的に得ることができるようになった効果
に大きい。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−153757（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−129257（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−82722（ＪＰ，Ａ) 独国特許出願公開217212（ＤＥ，Ａ １) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 253/34 C07C 253/26 C07C 255/03 C07C 255/02 C07C 255/08 ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ)
Claims (1)
- 【請求項１】 プロピレンまたはイソブチレンを触媒の
存在下アンモオキシデーション反応せしめて得たアセト
ニトリルを主成分とする副生物を前処理して不純物を低
減せしめて得た粗アセトニトリルをオゾンを含むガスと
接触させ、次いで塩基性物質で中和した後、蒸留するこ
とを特徴とするアセトニトリルの精製方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03199868A JP3104312B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | アセトニトリルの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03199868A JP3104312B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | アセトニトリルの精製方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0525112A JPH0525112A (ja) | 1993-02-02 |
| JP3104312B2 true JP3104312B2 (ja) | 2000-10-30 |
Family
ID=16414978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03199868A Expired - Lifetime JP3104312B2 (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | アセトニトリルの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3104312B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| US6395142B1 (en) * | 1999-10-14 | 2002-05-28 | Chemcycles, Inc. | Method and apparatus for purifying low grade acetonitrile and other constituents from hazardous waste |
| JP5153335B2 (ja) * | 2005-05-10 | 2013-02-27 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 高純度アセトニトリルの製造方法 |
| US7324766B2 (en) * | 2005-05-20 | 2008-01-29 | Xerox Corporation | Cross-process charge uniformity scanner |
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| JP6405064B1 (ja) | 2018-02-27 | 2018-10-17 | 日本曹達株式会社 | ニトリル系溶媒の精製方法 |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP03199868A patent/JP3104312B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010131585A1 (ja) | 2009-05-12 | 2010-11-18 | 和光純薬工業株式会社 | 有機溶媒の精製方法 |
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