JP3098562B2 - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents

カラーフィルターの製造方法

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慎 津久井
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーフィルターおよ
びカラーフィルターの製造方法に関し、とくに無機阻止
層の形成に特徴を有する、カラー液晶表示装置等に使用
されるカラーフィルターおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】各種の装置において小型の表示装置とし
てCRTに代わって利用されている液晶表示装置は、透
明電極層を設けたガラス等の透明な基板を数μm程度の
ギャップを設けてその間に液晶物質を封入し、電極間に
印加した電圧によって液晶を一定の方向に配向させて透
明部分と不透明部分を形成して画像を表示している。カ
ラー液晶表示装置はいずれかの透明電極基板上に光の三
原色に対応する赤(R)、緑(G)、青(B)の三色の
カラーフィルターを設けている。
【0003】カラー液晶表示装置用のカラーフィルター
は、透明基板、着色層、保護層、透明導電膜等により構
成されており、RGBの三原色の位置に対向する電極あ
るいは薄膜トランジスタを形成した透明基板とを数μm
の間隔を保持し液晶物質を封入して液晶表示装置を形成
している。
【0004】液晶表示装置によるカラー表示の方法には
各種の方法があるが、現在では透明電極基板上に光の三
原色に対応する赤(R)、緑(G)、青(B)の三色の
カラーフィルターを設け、液晶によりフィルターのRG
Bに対応した光の透過量を制御する、カラーフィルター
を使用する方法が中心となっている。
【0005】このような目的で使用されるカラーフィル
ターは、透過光を液晶による光変調作用で制御するため
に、透明電極基板上に光の三原色に対応する赤(R)、
緑(G)、青(B)の三色の着色層、着色層の保護層、
液晶の駆動用の透明電極層が形成されている。カラーフ
ィルターは着色層のRGBの三原色の位置に対向する電
極あるいは能動素子を形成した透明基板との間に液晶物
質を封入して液晶表示装置を形成している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】カラーフィルターはガ
ラスなどの透明基板上に顔料分散法、染色法、電着法、
印刷法等によってR、G、Bの三原色を所定の形状とし
た着色層を形成し、着色層上には着色層の物理的および
化学的な保護と着色層表面の平滑化を目的として保護層
を形成している。保護層としては、アクリル系やノボラ
ック系等の透明な高分子組成物で構成している。
【0007】保護層がカラーフィルター全面に形成され
ている場合には、カラーフィルターの基板と透明電極層
との付着強度が十分でなかったり、カラーフィルターと
対向電極を接着剤によってはり合わせる際に充分な接着
強度が得られないことが生じることから、カラーフィル
ターに形成する保護層はカラーフィルター上に限定する
ことが望ましく、カラーフィルターの外周部に保護層を
形成しないために、着色層を形成した基板上に光硬化性
の樹脂を塗布して光の照射部分を着色層上に限定するフ
ォトマスクを設けて露光して、着色層外の部分について
は現像時に樹脂を除去する等の各種の工夫がなされてい
る。
【0008】保護層の表面に直接酸化インジウムと酸化
錫からなるITOの透明電極膜を形成することによって
カラーフィルターを製造することが行われるが、有機物
で形成された保護層や着色層をその後の液晶表示装置の
製造過程での熱あるいは薬品類から保護するためにケイ
素酸化物からなる透明な無機質の無機阻止層を形成する
ことが好ましい。
【0009】ところが、保護層の表面に無機阻止層を形
成しても無機阻止層とカラーフィルター周辺部分の保護
層を形成していない部分でのガラス基板との接合強度が
小さいと無機阻止層のガラス基板からの剥がれが起こ
り、周辺部分から着色層に薬品が浸透したりあるいは無
機阻止層上に形成した透明電極層の剥がれ等のカラーフ
ィルターにとって致命的な問題が生じることがある。
【0010】無機阻止層の剥がれが起こる原因を鋭意検
討したところ、着色層および保護層の形成時において使
用する色材、感光性樹脂等の各種の有機物がカラーフィ
ルターの外周部の基板上に残渣として付着することが避
けられず、外周部でのこうした有機物の残渣が極めてわ
ずかな量であっても、無機阻止層の付着強度を左右し、
電極の取り出し部の断線、剥離等の液晶表示装置の信頼
性に重大な影響を及ぼす事態が発生することが判明し
た。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記した問
題点を解決する手段を検討した結果、透明基板上に形成
した着色層上に保護層を形成したカラーフィルター上に
ケイ素酸化物の無機阻止層をスパッタリングによって形
成する際にスパッタリング時の放電ガスを特定の成分と
することによって、無機阻止層を形成するカラーフィル
ターをスパッタリング前に格別の前処理を行わなくて
も、ガラス基板との付着力が大きな無機阻止層を形成す
ることを見いだしたものである。
【0012】すなわち、着色層上に保護層を形成したカ
ラーフィルターを二酸化ケイ素のターゲットを用いてス
パッタリングする際に、アルゴン中に微量の酸素を添加
して放電ガスとするものである。
【0013】酸素を放電ガスとしたプラズマが有機物の
灰化等に使用されていることはよく知られていることで
あるが、本発明で使用する混合ガスの場合には着色層上
に形成した有機物からなる保護層には悪影響を与えるこ
となく着色層の周辺部での無機阻止層の付着力を高める
ことを可能としたものである。
【0014】本発明で使用する放電ガスの組成を例示す
れば、分圧が3×10-3torrのアルゴンに酸素分圧
が3×10-5torrないし5×10-4torrの酸素
を混合したガスであり、このような組成のガスを放電ガ
スとして二酸化ケイ素のターゲットを用いて高周波スパ
ッタリングによってケイ素酸化物の無機阻止層を形成
し、形成された無機阻止層上にITOの透明電極膜をス
パッタリング等によって成膜をするものである。
【0015】
【作用】本発明によって得られるカラーフィルターは、
有機物の被膜を形成した基板上に透明電極膜を形成する
方法において、ケイ素酸化物からなる無機阻止層をアル
ゴンおよび酸素を含有する放電気体中においてスパッタ
リングすることによって形成した後に透明電極を成膜し
たことにより、保護層への悪影響を与えずに無機阻止層
および透明電極膜の付着力を極めて大きなものを得るこ
とができる。
【0016】以下に本発明の実施例を示し、更に詳細に
説明する。
【0017】
【実施例】図面を参照して本発明を説明すると、第1図
は本発明の方法を実施する装置を示す。スパッタリング
装置1内には、二酸化ケイ素からなるターゲット2、タ
ーゲットに対向して陽極3、陽極には無機阻止層を形成
すべきカラーフィルター4が設けられており、ターゲッ
トと陽極には高周波電源5から高周波電流を印加する。
【0018】スパッタリングは装置内を十分に減圧に真
空排気した後に、アルゴンと酸素とを所定の分圧となる
ように供給し、規定の膜厚の無機阻止層が得られるまで
放電を行う。
【0019】また、第2図には本発明の方法を適用して
製造したカラーフィルターの断面図を示すが、カラーフ
ィルター4には、着色層6上に保護層7、無機阻止層8
および透明電極膜9が形成されており、周縁部10にお
いて無機阻止層は基板11と強固に結合している。
【0020】実施例1 大きさ300mm×350mm、厚さ1.1mmのガラ
ス基板(旭硝子(株)製AL材)を充分に洗浄し、その
上に、赤色感光性樹脂を1.2μmの膜厚になるように
塗布し、その後温度70℃で30分間オ−ブン中で乾燥
させ、水銀ランプを用いて露光し、水によるスプレー現
像を1分間行い、赤色画素を形成すべき領域に赤色のレ
リーフ画像を形成し、さらに150℃で30分間、加熱
硬化させた。
【0021】同様の工程を繰り返して、緑色画素を形成
すべき領域に緑色のレリーフ画素を形成し、青色画素を
形成すべき領域に青色のレリーフ画素を形成して着色層
を形成した。
【0022】続いて光硬化性アクリレートオリゴマーと
して、ビスフェノールAアクリレート(分子量1500
〜2000)を50重量部、多官能重合性モノマーとし
て、トリメチロールプロパントリアクリレート(日本化
薬(株)製TMPTA)を50重量部混合し、さらに重
合開始剤としてイルガキュアー651(チバガイギー社
製)2重量部を混合した配合物を、エチルセルソルブア
セテート200重量部中に溶解させ、その溶液10g を
用いてスピンコーターで前記着色層上に2.0μmの厚
さに塗布した。塗布膜に接してフォトマスクを配置し
て、2.0KWの超高圧水銀ランプによって着色層上の
みに紫外線を10秒間照射した。続いて温度25℃の
1,1,2,2-テトラクロロエタンからなる現像液中に1
分間浸漬して、塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
【0023】次に、得られた保護層を形成した基板を高
周波スパッタリング装置において、反応室内を1×10
-6torrまで減圧した後に、装置内のアルゴン分圧を
3×10-3torrとし、酸素分圧を3×10-5tor
rないし8×10-4torrの間に変化させて、二酸化
ケイ素をターゲットとして周波数13.56MHz、タ
ーゲット投入電力密度1.5W/cm2にてスパッタリ
ングを行い、厚さ500nmの無機阻止層を得た。
【0024】得られた無機阻止層上にDCマグネトロン
スパッタリングによって厚さ200nmのITOの透明
電極膜を形成した。
【0025】酸素分圧を変化させた際のカラーフィルタ
ーの周縁部での密着性を図3に概要を示す引っかき試験
機で調べた。その結果を表1に示す。
【0026】
【表1】
【0027】比較例1 反応ガスを圧力3×10-3torrのアルゴンのみとし
た点以外は実施例1と同様の方法でスパッタリングを行
ってカラーフィルターを製造した。
【0028】カラーフィルターの周縁部での密着性を実
施例と同様に引っかき試験機で調べたところ、荷重50
gにて二酸化ケイ素層の剥離が生じた。
【0029】
【発明の効果】本発明の方法は、有機物の被膜を形成し
た基板上に透明電極層を形成する方法において、ケイ素
酸化物からなる無機阻止層をアルゴンおよび酸素を含有
する放電気体中においてスパッタリングすることによっ
て成膜した後に透明電極を成膜したことにより、保護層
への悪影響を与えずに無機阻止層および透明電極膜の付
着力を極めて大きくすることができるので、信頼性の高
いカラーフィルターが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の方法を実施するスパッタリング装置を
示す。
【図2】本発明の方法で製造したカラーフィルターの断
面図を示す。
【図3】引っかき試験の概要を示す。
【符号の説明】
1…スパッタリング装置、2…ターゲット、3…陽極、
4…カラーフィルター、5…高周波電源、6…着色層、
7…保護層…、8…無機阻止層、9…透明電極膜、10
…周辺部、11…基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−26821(JP,A) 特開 昭58−193370(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1343 G02B 5/20 101 G02F 1/1335 505

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明基板上に着色層、保護膜、ケイ素酸
    化物により形成された無機阻止層、及び透明電極膜が順
    に積層され、周辺部では無機阻止層が透明基板上に着色
    層及び保護層を介さずに形成されたカラーフィルターの
    製造方法において、アルゴンおよび酸素を含有し、アル
    ゴン分圧が1×10-3torrないし1×10-2tor
    r、酸素分圧が1×10-5torrないし1×10-3
    orrである放電気体中において、スパッタリングを行
    うことによってケイ素酸化物からなる無機阻止層を形成
    することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
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