JP3098130B2 - テストヘッド構造体およびこの使用方法 - Google Patents

テストヘッド構造体およびこの使用方法

Info

Publication number
JP3098130B2
JP3098130B2 JP05014590A JP1459093A JP3098130B2 JP 3098130 B2 JP3098130 B2 JP 3098130B2 JP 05014590 A JP05014590 A JP 05014590A JP 1459093 A JP1459093 A JP 1459093A JP 3098130 B2 JP3098130 B2 JP 3098130B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
anisotropic conductive
head structure
test head
conductive film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP05014590A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06232222A (ja
Inventor
正行 金戸
寛 矢田
嘉也 高山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP05014590A priority Critical patent/JP3098130B2/ja
Publication of JPH06232222A publication Critical patent/JPH06232222A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3098130B2 publication Critical patent/JP3098130B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は回路基板や半導体素子な
どの検査を行なうために用いるテストヘッド構造体およ
びこの使用方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体基板の製造技術の発展がめ
ざましく、それに伴いIC配線の多ピン、狭ピッチなど
の微細パターン化が急速に進み、このような微細パター
ンのICを搭載する半導体製品も年々増加している。通
常、このような半導体装置は導通検査などを行う必要が
あり、例えば針式のメカニカルプローブやメンブレン型
プローブなどが用いられている。
【0003】メカニカルプローブは接触用針によって被
検査回路を1か所ずつ検査するものであるが、パターン
の微細化に伴いメカニカルプローブでは検査時の位置合
わせが困難であること、接触用針が検査時に曲がり短絡
しやすいこと、および位置合わせ時にパターンを損傷す
るおそれがあることなどから、複数箇所を一括して検査
することができるメンブレン型プローブが注目されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】メンブレン型プローブ
は絶縁性フィルムの厚み方向に導電性、所謂異方導電性
を有するフィルムを用いたものであって、被検査回路に
加圧接触することによって一括接触させて導通検査を行
うものである。このような異方導電フィルムとしては導
電性粒子や導電性繊維をフィルム中に分散させてなるも
のが提案されているが、近年の高密度化された配線回路
の検査の場合には、正確な異方導電性を確保することが
難しい。また、フィルム基材には通常、可撓性を付与す
るために可塑剤としての油状成分を含有するゴム基材が
使用されているために、この油状成分がフィルム表面に
ブルーミングしやすく、その結果、被検査回路を汚染す
るおそれがある。
【0005】一方、ポリイミド系樹脂やポリエステル系
樹脂をフィルム基材とし、このフィルムの厚み方向に微
小径の導通路を有する異方導電フィルムも提案されてい
る。しかしながら、このようなフィルム基材からなる異
方導電フィルムは適度な可撓性を有するものの、基材自
体に弾力性(クッション性)がないために、テストヘッ
ド構造体として被検査回路に加圧接触させた場合、確実
に接触させがたく、特に高密度配線された配線回路の検
査においてやや難を有する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来のメン
ブレン型プローブが有する問題点を解決し、高密度配線
が施された配線回路に対しても確実に接触でき、しかも
被検査回路を汚染することもないテストヘッド構造体を
提供することを目的とする。
【0007】また、本発明の他の目的は上記テストヘッ
ド構造体の使用方法を提供することにある。
【0008】本発明者らは上記目的を達成するために検
討を重ねた結果、2種類の異方導電フィルムを組み合わ
せた異方導電フィルムを用いることによって、優れた接
続信頼性を有するテストヘッド構造体が得られることを
見い出し、本発明を完成するに至った。
【0009】即ち、本発明は絶縁性フィルムの厚み方向
に金属物質を充填してなる複数の導通路を有し、導通路
端に位置する絶縁性フィルムの少なくとも片面に触針用
金属バンプが形成されてなる第1の異方導電フィルム
と、導電性粒子または導電性繊維を反発弾性が5〜70
%の弾性体フィルム中に分散させてなる第2の異方導電
フィルムとを積層してなることを特徴とするテストヘッ
ド構造体を提供するものである。
【0010】また、本発明は上記テストヘッド構造体の
第1の異方導電フィルムを被検査回路に接触させてなる
テストヘッド構造体の使用方法を提供するものである。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて説明す
る。
【0012】図1は本発明のテストヘッド構造体の一実
施例を説明する断面図であり、図2は図1に示すテスト
ヘッド構造体を被検査回路に接触させて導通検査を行う
際の断面図、図3は本発明のテストヘッド構造体の他の
実施例を説明する断面図である。
【0013】図1に示すように、本発明のテストヘッド
構造体は第1の異方導電フィルムAと第2の異方導電フ
ィルムBからなり、第1の異方導電フィルムAは絶縁性
フィルム1の厚み方向に金属物質を充填してなる複数の
導通路2を有し、導通路2端には被検査回路11に接触
する触針用金属バンプ3が形成されている。本発明にお
いては各図から明らかなように、第1の異方導電フィル
ムAは被検査回路11に接触させて使用するものであ
る。
【0014】また、第2の異方導電フィルムBは上記第
1の異方導電フィルムAに積層され、フィルム5内に導
電性粒子または導電性繊維6が分散状態にて含有されて
いる。第2の異方導電フィルムBは被検査回路に接する
のではなく、図1および図3に示すように検査用回路1
0に直接もしくは第1の異方導電フィルムAを介して接
触するように配置する。
【0015】本発明においては第2の異方導電フィルム
Bが適度な弾性(クッション性)を有するので、本発明
のテストヘッド構造体を使用するに際して、図2に示す
ように第2の異方導電フィルムBが検査回路10や、第
1の異方導電フィルムAに形成している金属バンプ3と
加圧接触することによって厚み方向に圧縮され、その結
果、フィルム5内に分散している導電性粒子や導電性繊
維6が厚み方向に接触して異方導電化するのである。従
って、被検査回路1と接触する金属バンプ3の高さが多
少不揃いであっても、そのバラツキは上記第2の異方導
電フィルムBによるクッション効果によって緩和され、
高い接触信頼性を有するようになる。
【0016】本発明における第1の異方導電フィルムA
を構成する絶縁性フィルム1は電気絶縁特性を有するプ
ラスチックフィルムであればその素材に制限はなく、ポ
リエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、
ポリスチレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド
系樹脂、ポリイミド系樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、シリコーン系樹脂など熱硬化性樹脂や熱可塑
性樹脂を問わず目的に応じて選択でき、熱的寸法安定性
や機械的強度などの点からはポリイミド系樹脂を用いる
ことが好ましい。該絶縁性フィルム1の厚みは特に制限
ないが、機械的強度や絶縁性などの点から通常、5〜2
00μm、好ましくは10〜100μm程度のものを用
いる。
【0017】上記絶縁性フィルム1内に形成する導通路
2は、金や銀、銅、錫、鉛、ニッケル、コバルト、イン
ジウムなどの各種金属、およびこれらを成分とする各種
合金などから形成される。また、導通路2は一種の金属
から形成される必要はなく、上記各金属を二種以上用い
て積層構造にすることも可能である。導通路2の径は、
確実に絶縁性フィルム1の表裏面に導通させるためには
3〜100μm、好ましくは10〜50μm程度とし、
隣接する導通路との間隔(ピッチ)は、隣接する導通路
同士が導通して短絡などを生じないようにするために5
〜200μm、好ましくは15〜100μm程度とする
ことが望ましい。
【0018】さらに、導通路2端部に形成する触針用金
属バンプ3は、上記導通路2を形成する金属と同様の金
属を用いることができる。また、金属バンプ3の突出高
さは通常、5μm以上、好ましくは5〜100μm程度
とすることが接続の操作性の点から好ましいものであ
る。
【0019】一方、第2の異方導電フィルムBには反発
弾性が5〜70%、好ましくは30〜60%の値を有す
る弾性体からなるフィルム5が用いられる。このような
フィルムとしては、例えばオレフィン系ゴム、ウレタン
系ゴム、エステル系ゴム、スチレン系ゴム、アミド系ゴ
ム、シリコーン系ゴム、フッ素系ゴム、これらを混合し
たゴムなどをフィルム状に成形したものを用いることが
できる。これらのゴムのうち、熱的安定性の点からはシ
リコーン系ゴムやフッ素系ゴムなどの弾性体フィルムを
用いることが好ましい。本発明のテストヘッド構造体に
おいては、第2の異方導電フィルムBの反発弾性があま
り大きすぎると、所望のクッション効果が得られないの
で、最大でも70%程度とすることが好ましいのであ
る。なお、本発明における反発弾性とは、JIS−K6
301に規定する方法によるものであり、値が大きいほ
ど硬くクッション性がないことを示す指標となる。
【0020】上記第2の異方導電フィルムB中に分散さ
せる導電性粒子や導電性繊維6としては、前記第1の異
方導電フィルムA中の導通路2を形成する金属やカーボ
ンを粉末状または繊維状に加工したものが用いられる。
確実な異方導電性を発揮するためには、粒子状の場合に
は通常、1〜200μm、好ましくは5〜50μm、繊
維状の場合には短径と長径との平均径が1〜200μ
m、好ましくは5〜20μm、繊維長10〜2000μ
m、好ましくは20〜200μm程度のものを用いる。
【0021】本発明のテストヘッド構造体は上記2種類
の異方導電フィルムA,Bを積層してなるものである
が、本発明の効果の一つであるクッション性を充分に発
揮するためには、第2の異方導電フィルムBの厚みは5
〜2000μm、好ましくは100〜1000μmと
し、特に、第1の異方導電フィルムAの厚みと第2の異
方導電フィルムBとの厚みの比率を、1/50〜50/
1とすることがクッション性の付与や電気的接続信頼性
などの点から好ましいものである。この比率が1/50
に満たない場合は、得られるテストヘッド構造体はクッ
ション性を付与できるものの微細ピッチな回路の検査が
できるほどの正確な異方導電性を発揮しがたく、電気的
接続信頼性に劣る傾向を示し、また50/1を超える
と、充分なクッション性を付与しがたいものである。
【0022】本発明のテストヘッド構造体は以上のよう
な構成からなるが、具体的な製造方法の一例を以下に例
示する。
【0023】まず、第1の異方導電フィルムAは任意の
材質からなる絶縁性フィルム1のいずれか一方の表面に
導電層となる金属層を形成して複合フィルムとし、絶縁
性フィルム1に導通路2とすべき貫通孔を、パンチング
などの機械的加工法、感光性レジストを塗布後、孔形状
にパターニングしたのち、間接エッチングするウエット
エッチング法、絶縁性フィルム1自体に感光性を付与し
て直接エッチングするウエットエッチング法、絶縁性フ
ィルム1表面に所望の孔形状を有するマスクを介してレ
ーザーやプラズマを照射してなるドライエッチング法な
どによって形成する。これらのうち、エキシマレーザー
の如き紫外線レーザーによるアブレーションを用いたド
ライエッチング法の場合は、高いアスペクト比が得られ
るので好ましい。
【0024】そののち、金属層を陰極としてメッキなど
の手段によって形成した貫通孔内に金属物質を充填して
導通路2および触針用金属バンプ3を形成する。このと
き、メッキ時間を適度に調整することによって導通路2
の形成と共に、導通路2の端部に触針用金属バンプ3を
形成することができる。また、金属バンプ3は導通路2
の形成後、クリーム半田などの金属ペーストを印刷する
ことによって形成することもできる。
【0025】なお、具体的には特開平3−266306
号公報に記載の方法を採用することができる。
【0026】一方、第2の異方導電フィルムBは、加熱
溶融状態や任意の有機溶剤にて溶液状体とした弾性体中
に前記導電性粒子または導電性繊維6をディスパーやロ
ール混練りなどの手段によって機械的に均一分散させ、
しかるのち、冷却やフィルム状に押し出したり、塗工
(および乾燥)などの手段によってフィルム状に成形す
ることによって得ることができる。
【0027】なお、本発明のテストヘッド構造体は上記
したように、第1の異方導電フィルムAと第2の異方導
電フィルムBとを積層した構造であるが、各図に示すよ
うな検査用の配線回路10を一体に形成しておくこと
が、導通検査時の操作性の点から好ましいものである。
この場合、検査用配線回路10はセラミック基板やガラ
スエポキシ基板などの公知の回路基板上に形成しておけ
ばよい。
【0028】
【発明の効果】本発明のテストヘッド構造体は以上のよ
うに、確実な異方導電性を確保するために触針用の金属
バンプを有する特定構造の第1の異方導電フィルムを用
い、これに第2の異方導電フィルムを積層して適度なク
ッション性を有するようにしたので、高密度配線が施さ
れた配線回路に対しても確実に接触検査することができ
る。また、油状成分が表面に滲出しやすい第2の異方導
電フィルムは被検査回路に接触しないので、被検査回路
表面を汚染することがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のテストヘッド構造体の実施例を説明
する断面図である。
【図2】 図1に示すテストヘッド構造体を被検査回路
に接触させて導通検査行う際の断面図である。
【図3】 本発明のテストヘッド構造体の他の実施例の
断面図である。
【符号の説明】
A 第1の異方導電フィルム 1 絶縁性フィルム 2 導通路 3 触針用金属バンプ B 第2の異方導電フィルム 5 弾性体フィルム 6 導電性粒子または導電性繊維 10 検査用配線回路 11 被検査回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−83359(JP,A) 特開 平4−269474(JP,A) 特開 平6−160432(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66 G01R 31/26

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁性フィルムの厚み方向に金属物質を
    充填してなる複数の導通路を有し、導通路端に位置する
    絶縁性フィルムの少なくとも片面に触針用金属バンプが
    形成されてなる第1の異方導電フィルムと、導電性粒子
    または導電性繊維を反発弾性が5〜70%の弾性体フィ
    ルム中に分散させてなる第2の異方導電フィルムとを積
    層してなることを特徴とするテストヘッド構造体。
  2. 【請求項2】 第2の異方導電フィルムの両面に第1の
    異方導電フィルムが積層されてなる請求項1記載のテス
    トヘッド構造体。
  3. 【請求項3】 検査用配線回路を一体に形成してなる請
    求項1または2記載のテストヘッド構造体。
  4. 【請求項4】 請求項1記載のテストヘッド構造体の第
    1の異方導電フィルムを被検査回路に接触させてなるテ
    ストヘッド構造体の使用方法。
JP05014590A 1993-02-01 1993-02-01 テストヘッド構造体およびこの使用方法 Expired - Fee Related JP3098130B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05014590A JP3098130B2 (ja) 1993-02-01 1993-02-01 テストヘッド構造体およびこの使用方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP05014590A JP3098130B2 (ja) 1993-02-01 1993-02-01 テストヘッド構造体およびこの使用方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06232222A JPH06232222A (ja) 1994-08-19
JP3098130B2 true JP3098130B2 (ja) 2000-10-16

Family

ID=11865392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP05014590A Expired - Fee Related JP3098130B2 (ja) 1993-02-01 1993-02-01 テストヘッド構造体およびこの使用方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3098130B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7292056B2 (en) 2004-10-08 2007-11-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Membrane with bumps, method of manufacturing the same, and method of testing electrical circuit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7292056B2 (en) 2004-10-08 2007-11-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Membrane with bumps, method of manufacturing the same, and method of testing electrical circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06232222A (ja) 1994-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI281984B (en) Connector for measuring resistance, apparatus and method for measuring resistance of circuit board
US6474997B1 (en) Contact sheet
JP2867209B2 (ja) フレキシブル回路基板と接触対象物との接続方法およびその構造
US7267559B2 (en) Anisotropic conductive sheet, production process, contact structure, electronic device and inspection apparatus for operation test
US20010024892A1 (en) Contact sheet
JP4723195B2 (ja) プローブの製造方法
US6597192B2 (en) Test method of semiconductor device
US20070222070A1 (en) Contact piece member, contactor and contact method
JPH1164425A (ja) 電子部品における導通検査方法及び装置
JP3365612B2 (ja) 電子装置用試験装置
JP3098130B2 (ja) テストヘッド構造体およびこの使用方法
JP4380373B2 (ja) 電気抵抗測定用コネクター、電気抵抗測定用コネクター装置およびその製造方法並びに回路基板の電気抵抗測定装置および測定方法
Souriau et al. Electrical conductive film for flip-chip interconnection based on Z-axis conductors
KR100929244B1 (ko) 프로브 시트, 이를 포함하는 프로브 카드 및 이의 제조방법
JP2920198B2 (ja) 電気接続用コネクタ
JPH07167912A (ja) Lcd検査装置
KR102518123B1 (ko) 전자 부품 검사용 소켓 및 소켓 핀
KR101340416B1 (ko) 프로브 시트, 이를 포함하는 프로브 카드 및 이의 제조방법
JP2008122240A (ja) 電気抵抗測定用コネクター装置および回路基板の電気抵抗測定装置
JP3033594B2 (ja) 検査装置
JP2002176082A (ja) 半導体検査装置およびそれを用いた半導体装置の検査方法および半導体装置の製造方法
JP2004165659A (ja) 電極の接続方法および該方法で得た電極の接続構造
JP2602654Y2 (ja) Icチップの検査装置、検査接続構造、及びこれに用いられる異方導電性フィルムないしシート
JPH10135283A (ja) 半導体装置の検査用治具
JPH08285887A (ja) 半導体装置検査用治具

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120811

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees