JP3089798B2

JP3089798B2 - 位置合わせ装置

Info

Publication number: JP3089798B2
Application number: JP04074943A
Authority: JP
Inventors: 玄内田
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1992-03-31
Filing date: 1992-03-31
Publication date: 2000-09-18
Anticipated expiration: 2015-09-18
Also published as: JPH05283312A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は被検物体の位置並びに回
転量を検出する位置検出装置に関するものであり、特
に、ICやLSI 等の半導体素子及び液晶ディスプレイを製
造するために、１枚の被露光基板上に形成された複数の
回路パターンにマスク（又はレチクル）の回路パターン
をステップアンドリピート方式で重ね合わせ露光するス
テップアンドリピート方式の露光装置の位置検出装置に
好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体素子及び液晶ディスプレイ
製造のために半導体ウェハ又は、ガラス基板（以下ウェ
ハと称する）上にマスクまたはレチクル（以下レチクル
と称する）の回路パターンを繰り返し露光する装置、所
謂ステップアンドリピート露光装置が生産現場で多数使
用され、多大な効果を得ている。特にレチクルの回路パ
ターンを縮小投影レンズを介してウェハ上に転写する縮
小投影型露光装置は、レチクルの回路パターンを縮小投
影するため、レチクル上に付着した微小な異物が縮小投
影レンズの解像力によって転写されにくいという利点が
あり、さらにウェハ上に形成された複数の回路パターン
の各々に、レチクルの回路パターンを重ねて露光するた
め、ウェハの各種処理による伸縮に対しても常に正確な
重ね合わせができるという利点もあり、極めて生産性の
高い露光装置といえる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】この種の露光装置はウ
ェハを載置する２次元移動ステージを有し、このステー
ジをレチクルの回路パターン像に対して所定の座標系に
従って一定ピッチで歩進させては露光することを繰り返
す。このため、ウェハ上にはマトリックス状に回路パタ
ーンが配列される。このウェハ上の回路パターンの配列
座標は露光中のステージの座標系に従っているが、ウェ
ハを交換するとそのウェハ上の配列座標とステージの座
標系とは回転ずれが生じる。

【０００４】この回転ずれはウェハを回転させることで
複正できるが、それでも微小角度の回転ずれは残存す
る。このウェハ上の配列座標とステージの座標系との微
小な回転ずれは、所謂ウェハローテーションと呼ばれる
ものである。より高精度な重ね合せ露光を達成するため
に、特開昭56−102823号公報にウェハローテーションの
補正方法を開示した。これらの公報に開示された縮小投
影型露光装置では、ウェハ上の回路パターンの５倍（ま
たは任意の固定倍率）の拡大パターンが描かれたレチク
ルを使ってステップアンドリピート方式で露光するが、
その際レチクルはステージの座標系に対して回転ずれな
く装着されるとした。

【０００５】ところが、ウェハ上に転写すべき回路パタ
ーンのサイズが小さくなり、線幅が１μｍ程度になると
レチクルの微小な回転ずれが無視できなくなる。レチク
ルが微小回転していると、ウェハ上の各回路パターンと
の重ね合せ精度が低下するばかりでなくウェハ上に第１
層目の回路パターンを転写したとき、ウェハの配列座標
に対して転写された回路パターンが微小回転することに
なり、第２層目以降の重ね合せが不十分なものとなり、
所期の特性を満足する半導体素子及び液晶基板を高い生
産性で得ることができない。このため、特開昭60-18684
5 号公報では、レチクルの微小回転ずれ、所謂レチクル
ローテーションの補正方法等を開示した。

【０００６】しかしながら、レチクル上には、２次元的
なアライメントを行うためのマークに加え、レチクルの
微小回転を検出すべきマークが必要となるため、ウェハ
上に転写すべき回路パターンの大きさが制約されてしま
い、この事も生産性を低くする要因の１つとなってい
た。また、通常とは異なるサイズのレチクルで露光を行
う場合には、レチクルのサイズが異なるに伴いレチクル
上に形成されるマークの位置が異なる。このために、ア
ライメント光学系を移動させてレチクル上の各マークを
正確に検出しなければならず、スループットを低下させ
る要因になっていた。

【０００７】本発明は上記欠点を解決し、ウェハに対し
てレチクルに回転ずれが残在する場合、及び通常とは異
なるサイズのレチクルをアライメントする場合にも、位
置合わせ装置をレチクルの各マークに対して厳密に合わ
せ込まなくとも、原理的に２つのレチクルマークによっ
てレチクルとウエハとの高精度な検出が迅速にできる位
置検出装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、図１及び図２に示す如く、所定のＸＹ直
交座標に沿って移動するＸＹステージ１上に保持された
ウエハＷ上に、所定のパターンＰｒが形成されたレチク
ルＲを露光する際に、レチクルＲとウエハＷとの相対的
な位置に合わせを行う位置合わせ装置において、そのレ
チクルＲ上に設けられた第１レチクルマークＲｘｙとウ
エハＷ上に設けられた第１ウエハマークＷＭ１との位置
を検出する第１検出系１０と、その第１レチクルマーク
Ｒｘｙとは異なるレチクルＲ上の所定の位置に設けられ
た第２レチクルマークＲθｘと第１ウエハマークＷＭ１
とは異なるウエハ上の所定の位置に設けられた第２ウエ
ハマークＷＭ２との位置を検出する第２検出系２０とを
有するものである。

【０００９】そして、この基本構成に基づいて、その第
１検出系１０は、第１対物レンズ１１と、その第１対物
レンズ１１を介して第１レチクルマークＲｘｙの像及び
第１ウエハマークＷＭ１の像を検出する第１像検出手段
１４と、その第１対物レンズ１１とその第１像検出手段
１４との光路間に順次配置された第１のレチクル側光分
割部材１５及び第１の検出側光分割部材１７と、その第
１のレチクル側光分割部材１５の光分割方向に設けられ
て第１レチクルマークＲｘｙ及び第１ウエハマークＷＭ
１のＸ方向を検出する第１のＸ方向検出手段１３と、第
１の検出側光分割部材１７の光分割方向に設けられて第
１レチクルマークＲｘｙ及び第１ウエハマークＷＭ１の
Ｙ方向を検出する第１のＹ方向検出手段１２とを有し、
その第２検出系２０は、第２対物レンズ２１と、その第
２対物レンズ２１を介して第２レチクルマークＲθｘの
像及び前記第２ウエハマークＷＭ２の像を検出する第２
像検出手段２４と、第２対物レンズ２１と第２像検出手
段２４との光路間に順次配置された第２のレチクル側光
分割部材２５及び第２の検出側光分割部材２７と、その
第２のレチクル側光分割部材２５の光分割方向に設けら
れて第２レチクルマークＲθｘ及び第２ウエハマークＷ
Ｍ２のＸ方向を検出する第２のＸ方向検出手段２２と、
その第２の検出側光分割部材２７の光分割方向に設けら
れて第２レチクルマークＲθｘ及び前記第２ウエハマー
クＷＭ２のＹ方向を検出する第１のＹ方向検出手段２３
とを有し、第１のレチクル側光分割部材１５と第１の検
出側光分割部材１７との間に、第１検出系１０の光軸を
Ｘ方向に変位させる第１補正部材１６を配置すると共
に、第２のレチクル側光分割部材２５と第２の検出側光
分割部材２７との間に、第２検出系２０の光軸をＹ方向
に変位させる第２補正部材２６を配置したものである。

【００１０】そして、本発明の好ましき構成として、第
１補正部材１６は第１検出系１０の光軸Ａｘ₁に垂直で
Ｙ方向に回転軸Ｓ₁を持つ傾角可変な平行平面板で構成
され、第２補正部材２６は第２光学系２０の光軸Ａｘ₂
に垂直でＸ方向に回転軸Ｓ₂を持つ傾角可変な平行平面
板とすることが良い。

【００１１】

【作用】本発明の装置では、レチクルＲが回転誤差Δθ
を含んだ状態のままで、各レチクルマークを検出し、そ
の後、レチクルＲの回転誤差Δθが補正されることによ
りレチクルＲに対して第１及び第２検出系の視野がずれ
たとしても、第１及び第２補正部材により第１及び第２
検出系を移動させることなく各レチクルマークを正確に
検出することができる。

【００１２】また、レチクルが通常のサイズとは異なる
事に伴いレチクルマークの位置が異なっても、各検出系
をこのレチクルマークに対して厳密に合わせ込まなくて
も、レチクルマークを正確に検出することができる。従
って、レチクルＲが回転誤差Δθを含んだ状態及び、レ
チクルサイズの異なるに伴い第１及び第２検出系を移動
させても横ずれを含んでレチクルマークが検出された状
態でも、第１及び第２検出系を検出マークに対して厳密
に合わせ込むことなく、レチクル上では原理的に２つの
検出マークでも迅速かつ高精度なアライメントが可能と
なる。

【００１３】

【実施例】図１には本発明による位置検出装置を縮小投
影露光装置に応用した例を示しており、この図１を参照
しながら説明する。所定のパターンが形成されるレチク
ル（マスク）Ｒは、不図示の照明光学系によって均一に
照明され、レチクルＲのパターン領域Ｐｒの像が投影レ
ンズ２によってウエハＷ上に転写される。レチクルＲ
は、レチクルステージ３上に載置されており、このレチ
クルステージ３のＸ方向には駆動部４が、Ｙ方向には駆
動部５がそれぞれ設けられている。この駆動部４は、レ
チクルステージ３をＸ方向に移動させ、また駆動部５
は、レチクルステージ３をＹ方向に移動させて、レチク
ルＲの回転誤差を含めた２次元的な位置合わせを行う。

【００１４】一方、ウエハＷはウエハステージ１上に載
置されており、このステージ８上の一端にはウエハステ
ージ座標に対し、後述するアライメント光学系１０、２
０の基準の位置出し、あるいはレチクルＲの回転誤差等
を検出するための基準マーク板（十字状のマーク）３０
（以下、基準マークと称する）が設けられている。ウエ
ハステージ１は駆動部６によってＸ方向に移動され、駆
動部７によってＹ方向に移動される。また、このウエハ
ステージ１の下方にはこれをＺ方向（図１では上下方
向）へ移動させるＺステージ８が設けられている。な
お、不図示ではあるが、ウエハステージ１のＸＹ座標内
での位置を検出するための干渉系が設けられている。

【００１５】さて、本発明の装置には位置合せ（アライ
メント）用の光学系及び検出系が設けられている。図３
に示すようにレチクルＲを装置本体（例えば投影レチク
ルＲの光軸Ａｘ₀）に対してアライメントするための２
つのアライメント系１０、２０である。この２つのアラ
イメント系１０、２０は、サイズの異なるレチクルにも
対応できるように、Ｘ方向へ移動可能に設けられてい
る。アライメント系１０はレチクルＲ上の所定のパター
ンが描かれた領域（以下パターン領域とする）Ｐ_rの周
辺に設けられたレチクルマーク（十字状のマーク）Ｒｘ
ｙを観察し、アライメント系２０はパターン領域Ｐ_rの
周辺でレチクルマーク（十字状のマーク）Ｒｘｙとは異
なる位置に設けられたレチクルマークＲθｘを観察す
る。すなわち、アライメント系１０、２０は、レチクル
アライメント顕微鏡として機能する。

【００１６】レチクルマークＲｘｙをレチクルアライメ
ント系１０中の指標（挟み込み十字状のマーク）に合わ
せるように駆動部４、５を作動させることによってレチ
クルＲのＸ方向とＹ方向の位置決めが達成され、レチク
ルマークＲθｘをレチクルアライメント系２０中の指標
に合わせるように駆動部４、５を作動させることによっ
てレチクルＲの回転方向の位置決めが達成される。これ
らレチクルアライメント系１０、２０は目視による位置
合せ（目合せ）として使ってもよいが、目視ではなくCC
D カメラなどを使用し、モニター像を画像処置しても良
く、もしくは、レチクルマークＲｘｙ、Ｒθｘの観察像
を光電的に検出して自動位置合せとして使っても良い。

【００１７】さて、上記アライメント系１０、２０のも
う一つの使い方としてレチクルＲ上のマークＲｘｙ又は
ＲθｘとウェハＷ上のマークとを投影レンズ２を介して
重ね合せて観察するダイ・バイ・ダイ（Die by Die）ア
ライメント系（以下、DDA 系と呼ぶ）としても使用でき
る。DDA 系はレチクルＲのパターン領域Ｐ_rの周辺に設
けられたマークＲｘｙ、Ｒθｘに露光光と同一波長の照
明光を照射する。この照明光はマークＲｘｙ、Ｒθｘを
照明するとともに投影レンズ２を通って、ウェハＷ上の
マークＷＭ１，ＷＭ２を含む微小領域も照明する。そし
て投影レンズ２で逆投影されたウェハＷ上のマークＷＭ
１，ＷＭ２の像とレチクルＲのマークＲｘｙ、Ｒθｘの
像とがDDA 系によって形成され、レチクルＲのパターン
領域Ｐ_rとウェハＷ上の露光すべき１つの局所領域との
位置合せ状態が検出される。尚、ダイ・バイ・ダイのア
ライメント方式では、レチクルＲのパターン領域Ｐ_rの
投影像とウェハＷ上の１つの局所領域とが正確に重ね合
わされたとき、ウェハＷ上のマークとレチクルＲのマー
クＲｘｙ、Ｒθｘとが所定の位置関係で整列してDDA 系
によって観察される。このためDDA 系でアライメントさ
れるようにウェハステージ８やレチクルステージ３を微
動された後は、ただちに露光動作に移れる。

【００１８】また、各アライメント系１０，２０及び駆
動部４〜７は不図示であるが主制御装置により総括的に
制御されている。次に、図２を参照しながら図１に示し
たアライメント系１０、２０の具体的な構成について説
明する。アライメント系１０（２０）中の光源１９（２
９）からのアライメント光はハーフミラー１８（２８）
及び対物レンズ１１（２１）を介してレチクルマークＲ
ｘｙ（Ｒθｘ）を照明すると共に、投影レンズ２を介し
てウエハマークＷＭ１（ＷＭ２）、あるいは基準マーク
３０を照明する。

【００１９】各マークからの反射光（検出光）は逆の光
路を辿って再び対物レンズ１１（２１）を介して、ハー
フミラー１８（２８）を通過する。その後、検出光は、
ハーフミラー１８（２８）によって２つの光路に分割さ
れ、一方は反射されて、各マークのＹ方向を光電的に検
出するＹ方向検出系１２（アライメント系２０では、各
マークのＸ方向を光電的に検出するＸ方向検出系２２）
に達し、ここで、各マークのＹ方向（Ｘ方向検出系２２
ではＸ方向）が光電的に検出される。

【００２０】一方、ハーフミラー１８（２８）によって
透過しする他方の検出光は、平行平面板１６（２６）を
介して、ハーフミラー１７（２７）によって２つの光路
に分割される。ハーフミラー１７（２７）を反射した一
方の検出光は、各マークのＸ方向を光電的に検出するＸ
方向検出系１３（アライメント系２０では、各マークの
Ｙ方向を光電的に検出するＹ方向検出系２３）に達し、
ここで、各マークのＸ方向（Ｙ方向検出系２３ではＹ方
向）が光電的に検出される。

【００２１】また、ハーフミラー１７（２７）を透過し
た他方の検出光は、画像検出系１４（２４）に達し、こ
こで画像検出がなされる。ここで、画像検出系１４（２
４）は、指標マーク（挟み込み十字状マーク）を有する
指標板及びＣＣＤ等を含んでおり、画像アライメントの
際には、この指標マークに対して各アライメントマーク
が合致するように位置合わせが行われる。

【００２２】ここで、アライメント系１０内の平行平面
板１６は、紙面方向に対して垂直な方向（Ｙ方向）に回
転軸Ｓ₁を有し、紙面内で傾角可変に設けられている。
従って、これの傾角を変化させると、図３に示す如く、
アライメント系１０の光軸Ａｘ₁がＸ方向に変位し、Ｘ
方向検出系１３及び画像検出系１４はレチクルＲのＸ方
向における検出領域を変位させることができる。

【００２３】一方、アライメント系２０内の平行平面板
２６は、紙面方向（Ｘ方向）に回転軸Ｓ₂を有し、紙面
内で傾角可変に設けられており、すなわち、平行平面板
２６の回転軸Ｓ₂は、平行平面板１６の回転軸Ｓ₁に対
して直交して設けられている。従って、これの傾角を変
化させると、図４に示す如く、アライメント系２０の光
軸Ａｘ₂がＹ方向に変位し、Ｙ方向検出系２３及び画像
検出系２４はレチクルＲのＹ方向における検出領域を変
位させることができる。

【００２４】この様に、アライメント系１０内のＸ方向
とＹ方向との光電検出系をアライメント系２０内のＸ方
向とＹ方向との光電検出系とは逆の配置関係としている
ために、本実施例での装置では、各アライメント系内の
２つの検出系に関する各方向の光軸調整を原理的に１つ
ずつの平行平面板で可能としている。さて、上記平行平
面板１６及び２６を用いたレチクルアライメント動作の
一例を説明する。

【００２５】先ず、ウエハステージ１の直交座標に対し
てアライメント系１０，２０との各光軸位置が所定の位
置関係となるように調整されているとする。次に、レチ
クルＲがレチクルステージ３に載置されると、各レチク
ルマークＲｘｙ，Ｒθｘが各アライメント系１０，２０
内の画像検出系１４，２４の指標と合致するように、駆
動系４，５によって位置合わせが行われ、少なくともア
ライメント系１０の画像検出系１４内の指標に合致する
ように位置合わせが行われる。ここで、通常のサイズの
レチクルが必ずしもレチクルステージ３に載置されると
は限らないので、通常とは異なるサイズのレチクルＲが
レチクルステージ３に載置された時には、アライメント
系１０，２０内をＸ方向へ移動させ、レチクルマークＲ
ｘｙ，Ｒθｘが各アライメント系１０，２０の各視野内
に入るように駆動系４，５によって位置合わせが行われ
る。そして、図３に示す如く、主制御系により制御され
る不図示の駆動手段を介してアライメント系１０内の平
行平面板１６を傾けて、アライメント系１０の光軸Ａｘ
₁をＸ方向にΔＸだけ変位させ、レチクルマークＲｘｙ
のＸ方向と合致させ、最終的にレチクルマークＲｘｙ，
ＲθｘとのＸ方向を合わせ込み、少なくともアライメン
ト系１０の画像検出系１４内の指標に合致するように位
置合わせが行われる。

【００２６】次に、レチクルＲが図５の様に回転量Θ_R
でレチクルローテーションを起こしてしまう場合がある
ため、レチクルの回転誤差（レチクルローテーション）
を検出する。先ず、アライメント系１０，２０の各視野
内へウエハステージ１上の基準マーク３０を移動させ、
Ｘ方向検出系１３及びＹ方向検出系１２によって、基準
マーク３０からの反射光の強度が最大となるＸ座標値と
Ｙ座標値とを不図示の干渉系から求める。

【００２７】また、これと同じ様に、Ｘ方向検出系２２
及びＹ方向検出系２３によって、基準マーク３０からの
反射光の強度が最大となるＸ座標値とＹ座標値とを不図
示の干渉系から求める。この各マークのＸＹ座標値は、
不図示のレチクル回転誤差検出部に入力される。ここ
で、レチクル上の各マークは所定の距離関係を持たせて
設けられているため、レチクル回転誤差検出部、この各
マーク間の距離の情報を予め記憶している。

【００２８】従って、各マークのＸＹ座標値がレチクル
回転誤差検出部に入力されると、ここで、各マークのＸ
Ｙ座標値からレチクルローテーションが算出される。な
お、この場合、各画像検出系１４、２４によってこれら
の内部の指標と基準マーク３０とが合致した状態でのＸ
座標値とＹ座標値とを不図示の干渉系から求め、その後
レチクル回転誤差検出部にてレチクルローテーションを
算出しても良い。

【００２９】以上にして求められたレチクルローテーシ
ョンの算出結果に基づいて、レチクルローテーションの
分だけ制御部４，５によってレチクルステージ３を微小
量だけ回転させ、レチクルローテーションを補正する。
そして、このレチクルローテーションが許容範囲内であ
れば、各アライメント系１０，２０の各光電検出系（１
２，１３，２２，２３）によってレチクルマーク（Ｒｘ
ｙ，Ｒθｘ）とウエハマーク（ＷＭ１，ＷＭ２）との位
置合わせを行い、露光動作に移行する。

【００３０】しかしながら、許容できないレチクルロー
テーションが存在する場合には、基準マーク３０をアラ
イメント系２０の画像検出系２４内の指標中心に移動さ
せた後、更に基準マーク３０をＹ方向にレチクルローテ
ーションの回転量Θ_Rに対応するずれ量ΔＹの分だけ微
動させ、その時の基準マーク３０にアライメント系２０
の画像検出系２４内の指標中心が合致するように、図４
に示す如く、平行平面板２６を傾ける。これにより、レ
チクルローテーションが補正される。そして、このレチ
クルローテーションが補正されれば、各アライメント系
１０，２０の各光電検出系（１２，１３，２２，２３）
によってレチクルマーク（Ｒｘｙ，Ｒθｘ）とウエハマ
ーク（ＷＭ１，ＷＭ２）との位置合わせを行い、露光動
作に移行する。

【００３１】なお、ウエハステージ１を回転させてレチ
クルローテーションを補正しても良い。以上、本発明は
縮小投影型露光装置にのみ適用されるものではなく、例
えば軟Ｘ線を用いてプロシミティ方式で露光するＸ線露
光装置であっても、ステップアンドリピート方式であれ
ば、全く同様の効果が得られる。

【００３２】また、本実施例では、アライメント系にお
いて画像処理系と光電検出系とを組み合わせた例を示し
たが、これらとは別の方式の検出系と適宜組み合わせて
も良い。

【００３３】

【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、１
枚の被露光基板（ウェハ）にマスク（レチクル）のパタ
ーンを繰り返し重ね合せ露光する際、レチクルローテー
ションが存在する場合、あるいは通常とは異なるサイズ
のレチクルをアライメントする場合にも位置合わせ装置
をレチクルの各マークに対して厳密に合わせ込まなくと
も、原理的に２つのレチクルマークによってレチクルと
ウエハとの高精度な検出が迅速にできる。この結果、製
造された半導体素子又は液晶基板の良品率が高まり歩留
りが著しく向上するという効果が得られる。

【００３４】さらにレチクルやウェハの回転ずれに関す
る位置決め精度を追求しなくとも、ウェハステージやレ
チクルステージの直交座標（座標系XY）に対する位置決
め精度を上げるだけで位置合せ精度、再現性精度の高い
露光装置を容易に得ることができる利点もある。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明の実施例の構成を示す図であ
る。

【図２】図２は、２つのアライメント系の構成を示す図
である。

【図３】図３は、一方のアライメント系の光軸をＸ方向
に変位させた様子を示す図である。

【図４】図４は、他方のアライメント系の光軸をＹ方向
に変位させた様子を示す図である。

【図５】図５は、レチクルローテーションが存在する時
のレチクルの様子を示す図である。

【主要部分の符号の説明】

１・・・ウエハステージ２・・・投影レンズ３・・・レチクルステージ４、５、６、７・・・駆動部８・・・Ｚステージ１０、２０・・・アライメント系１１、２１・・・対物レンズ１３、２２・・・Ｘ方向検出系１２、２３・・・Ｙ方向検出系１４、２４・・・画像検出系１６、２６・・・平行平面板１５、１７、１８、２５、２７、２８・・・ハーフミラー３０・・・基準マーク板Ｒ・・・レチクルＷ・・・ウエハ

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】所定のＸＹ直交座標に沿って移動するＸＹ
ステージ上に保持されたウエハ上に、所定のパターンが
形成されたレチクルを露光する際に、前記レチクルと前
記ウエハとの相対的な位置に合わせを行う位置合わせ装
置において、前記レチクル上に設けられた第１レチクルマークとウエ
ハ上に設けられた第１ウエハマークとの位置を検出する
第１検出系と、前記第１レチクルマークとは異なる前記
レチクル上の所定の位置に設けられた第２レチクルマー
クと前記第１ウエハマークとは異なる前記ウエハ上の所
定の位置に設けられた第２ウエハマークとの位置を検出
する第２検出系とを有し、前記第１検出系は、第１対物レンズと、該第１対物レン
ズを介して前記第１レチクルマーク像及び前記第１ウエ
ハマーク像を検出する第１像検出手段と、前記第１対物
レンズと前記第１像検出手段との光路間に順次配置され
た第１のレチクル側光分割部材及び第１の検出側光分割
部材と、前記第１のレチクル側光分割部材の光分割方向
に設けられて前記第１レチクルマーク及び前記第１ウエ
ハマークのＸ方向を検出する第１のＸ方向検出手段と、
前記第１の検出側光分割部材の光分割方向に設けられて
前記第１レチクルマーク及び前記第１ウエハマークのＹ
方向を検出する第１のＹ方向検出手段とを有し、前記第２検出系は、第２対物レンズと、該第２対物レン
ズを介して前記第２レチクルマーク像及び前記第２ウエ
ハマーク像を検出する第２像検出手段と、前記第２対物
レンズと前記第２像検出手段との光路間に順次配置され
た第２のレチクル側光分割部材及び第２の検出側光分割
部材と、前記第２のレチクル側光分割部材の光分割方向
に設けられて前記第２レチクルマーク及び前記第２ウエ
ハマークのＸ方向を検出する第２のＸ方向検出手段と、
前記第２の検出側光分割部材の光分割方向に設けられて
前記第２レチクルマーク及び前記第２ウエハマークのＹ
方向を検出する第１のＹ方向検出手段とを有し、前記第１のレチクル側光分割部材と前記第１の検出側光
分割部材との間に、前記第１検出系の光軸をＸ方向に変
位させる第１補正部材を配置すると共に、前記第２のレ
チクル側光分割部材と前記第２の検出側光分割部材との
間に、前記第２検出系の光軸をＹ方向に変位させる第２
補正部材を配置したことを特徴とする位置合わせ装置。
【請求項２】前記第１補正部材は前記第１検出系の光軸
に垂直でＹ方向に回転軸を持つ傾角可変な平行平面板で
構成され、前記第２補正部材は前記第２検出系の光軸に垂直でＸ方
向に回転軸を持つ傾角可変な平行平面板で構成されるこ
とを特徴とする請求項１記載の位置合わせ装置。