JP3088645B2 - 電子写真用感光体およびその製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、導電性基体上に感
光層が形成された電子写真用感光体およびその製造方法
に関し、特に、複写画質を最適制御するのに適した電子
写真用感光体およびその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、複写機等の電子写真装置におけ
る画像形成プロセスは、複写（画像形成）スタートキー
入力を起点とし、予めプログラムされたシーケンスに従
って、感光体の駆動、感光体への電荷付与、露光による
潜像形成、現像、給紙、用紙への像転写、用紙への像定
着、感光体表面のクリーニング、および感光体の残留電
位除電の各工程が行われ、複写画像が得られるようにな
っている。

【０００３】近年、複写画像の高画質化を求める市場要
求に応じて、一定濃度の良質な黒ベタ、ハーフトーン画
像を得るために、感光体の帯電電位、光学系ランプ電
圧、あるいはトナー濃度のような画像形成プロセス因子
の制御が行われている。

【０００４】このような制御方法としては、具体的に
は、例えば、帯電電位、および露光後の表面電位を表面
電位計によって測定し、基準電位との差を求めることに
よって、帯電器の印加電圧や光源のランプ電圧を制御す
る方法、あるいは、一定濃度のパッチのトナー画像を感
光体の一部に形成し、そのトナー画像の濃度を光学セン
サで測定し、現像剤中のトナー比率を制御する方法等が
挙げられる。

【０００５】上記制御方法は、何れも、感光体表面の一
部に静電潜像あるいはトナー画像を形成し、これら静電
潜像やトナー画像の表面電位、あるいはトナー画像濃度
を測定し、その測定情報をもとに、制御回路から出力さ
れた制御情報を用いて、良好な画像を得るために各プロ
セス因子を制御する方法であり、通常、原稿複写の前に
実行される。

【０００６】上記静電潜像あるいはトナー画像は、例え
ば、複写スタートキー入力の信号を起点とし、設定時間
経過後に、複写機の原稿台の一部に設けられた一定濃度
のパッチを露光することで、あるいは露光後にトナーに
より現像することで、感光体表面に形成される。

【０００７】ところが、複写スタートキーの信号入力時
における感光体の回転開始位置は一定していない。この
ため、該回転開始位置の変化に対応して、感光層表面に
おけるパッチの静電潜像あるいはトナー画像の形成位置
も変化することになる。

【０００８】この結果、感光体の形状精度（真円度）や
回転振れ精度等の機械的なばらつき、あるいは、感光体
表面上の位置による感光性能のばらつき等により、一定
濃度のパッチを用いたとしても、その形成位置により、
上記パッチの静電潜像から得られる表面電位、あるい
は、トナー画像から得られるトナー画像濃度の測定値、
即ち光学センサの出力が異なる。それ故、良好な画像を
得るための制御情報が複写動作毎にばらつくので、最適
な複写画像が一定して得られないという問題が生じてい
る。

【０００９】そこで、近年、一定濃度のパッチに対する
露光後の静電潜像の表面電位、あるいはトナー画像の濃
度等の測定が、複写動作毎に感光体上の常に同じ位置で
行われるように、感光体上に、基準位置となるマーキン
グ領域を設けることがなされている。このようなマーキ
ング領域を有する電子写真用感光体として、例えば、特
開平６−３５３７９号公報には、研削用の砥石や研削加
工テープ、あるいは、研削剤等により形成されたマーキ
ング領域を備えた電子写真用感光体が開示されている。
また、特開平６−１４９１３６号公報には、レーザ光線
により研削加工成形されてなるマーキング領域を備えた
電子写真用感光体が開示されている。

【００１０】尚、上記感光体としては、無公害で、成膜
および製造が容易である等の利点から、有機系の光導電
材料を用いた感光体が多く使用され、その中でも、電荷
発生層および電荷輸送層を積層した、いわゆる積層型感
光体が主流となっている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところが、これまで実
用化されている積層型感光体は、光感度が不十分、感光
体表面の残留電位が高い、光応答性が悪い等の電気特性
上の問題点を有している。そこで、感光層の膜厚を厚く
することで光感度を向上させる方法がとられているが、
感光層の膜厚を厚く（膜厚30μｍ〜40μｍ) すると、複
写画質における文字の輪郭の美しさ（いわゆるキレ）や
鮮明さを低下させるという新たな問題点が生じる。

【００１２】一方、文字のキレや鮮明さを向上させるた
めに、感光材料や、感光層の構成を改良することによ
り、感光層の膜厚が25μｍ未満の感光体が開発されてい
る。ところが、このような感光体に、プロセス因子の制
御を目的とする前述のマーキング領域を設けると、マー
キング領域に対応する位置に形成される感光層の表面の
平滑性等が悪くなる。このため、クリーニング不良や、
トナー落ち等の不具合が生じるという別の問題点を招来
する。

【００１３】そこで、プロセス因子の制御を実行できる
と共に、感光層の膜厚を薄くしても、クリーニング不良
や、トナー落ち等の不具合を生じない感光体が求められ
ている。

【００１４】本願発明者等は、上記不具合が生じない感
光体を得るべく、鋭意検討した結果、導電性基体上にマ
ーキング領域が設けられた感光体において、マーキング
領域に対応する位置に形成された感光層の最大表面粗
さ、およびマーキング領域の相対的反射率を規定するこ
とにより、感光層の膜厚を薄くしても、常に安定した複
写画像が得られることを見いだして、本発明を完成させ
た。即ち、本発明は上記問題点に鑑みなされたものであ
って、その目的は、常に安定した良好な複写画像を得る
ことができる電子写真用感光体およびその製造方法を提
供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明にか
かる電子写真用感光体は、上記の課題を解決するため
に、導電性基体上に、感光層が形成されてなる電子写真
用感光体において、上記感光層の膜厚が25μｍ以下であ
る一方、上記導電性基体は、第１表面部と、上記第１表
面部とは異なる光学的反射特性を有する第２表面部とを
備え、上記第２表面部に対応する位置に形成された感光
層の最大表面粗さが2.5 μｍ以下であり、かつ、第１表
面部の光学的反射率に対する第２表面部の光学的反射率
の比が、0.3 〜0.7 の範囲内にあることを特徴としてい
る。

【００１６】請求項１記載の構成によれば、感光層の膜
厚が25μｍ以下であり、第２表面部に対応する位置に形
成された感光層の最大表面粗さを2.5 μｍ以下に規定
し、かつ、第１表面部の光学的反射率に対する第２表面
部の光学的反射率の比を0.3 〜0.7 の範囲内に規定して
いる。このため、感光層の膜厚を薄く、25μｍ以下とし
た場合においても、第２表面部に対応する位置に形成さ
れた感光層の表面の平滑性等を高め、薄膜化によって生
じるクリーニング不良やトナー落ち等の弊害を防止する
ことができる。また、このように、感光層の膜厚を薄く
した場合においても、第２表面部を設けることができ、
複写画質における文字の輪郭の美しさや鮮明さを向上さ
せることができる。従って、クリーニング不良やトナー
落ち等の不具合を防止し、かつ、第２表面部の形成位置
を基準とした画像形成プロセス因子の制御を正確に行う
ことができるので、常に安定した良好な複写画像を得る
ことができる。

【００１７】請求項２記載の発明にかかる電子写真用感
光体は、上記の課題を解決するために、導電性基体上
に、感光層が形成されてなる電子写真用感光体におい
て、上記導電性基体は、第１表面部と、上記第１表面部
とは異なる光学的反射特性を有する第２表面部とを備
え、上記導電性基体における第２表面部の最大表面粗さ
が12.7μｍ以下であると共に、上記第２表面部に対応す
る位置に形成された感光層の最大表面粗さが2.5 μｍ以
下であり、かつ、第１表面部の光学的反射率に対する第
２表面部の光学的反射率の比が、0.3 〜0.7 の範囲内に
あることを特徴としている。

【００１８】請求項２記載の構成によれば、導電性基体
における第２表面部の最大表面粗さが12.7μｍ以下であ
り、第２表面部に対応する位置に形成された感光層の最
大表面粗さを2.5 μｍ以下に規定し、かつ、第１表面部
の光学的反射率に対する第２表面部の光学的反射率の比
を0.3 〜0.7 の範囲内に規定している。このため、感光
層の膜厚を薄く（例えば25μｍ以下) した場合において
も、第２表面部に対応する位置に形成された感光層の表
面の平滑性等を高め、薄膜化によって生じるクリーニン
グ不良やトナー落ち等の弊害を防止することができる。
また、このように、感光層の膜厚を薄くした場合におい
ても、第２表面部を設けることができ、複写画質におけ
る文字の輪郭の美しさや鮮明さを向上させることができ
る。従って、クリーニング不良やトナー落ち等の不具合
を防止し、かつ、第２表面部の形成位置を基準とした画
像形成プロセス因子の制御を正確に行うことができるの
で、常に安定した良好な複写画像を得ることができる。

【００１９】請求項３記載の発明にかかる電子写真用感
光体は、上記の課題を解決するために、導電性基体上
に、感光層が形成されてなる電子写真用感光体におい
て、上記感光層の膜厚が25μｍ以下である一方、上記導
電性基体は、第１表面部と、上記第１表面部とは異なる
光学的反射特性を有する第２表面部とを備え、上記導電
性基体における第２表面部の最大表面粗さが12.7μｍ以
下であると共に、上記第２表面部に対応する位置に形成
された感光層の最大表面粗さが2.5 μｍ以下であり、か
つ、第１表面部の光学的反射率に対する第２表面部の光
学的反射率の比が、0.3 〜0.7 の範囲内にあることを特
徴としている。

【００２０】請求項３記載の構成によれば、感光層の膜
厚が25μｍ以下であり、導電性基体における第２表面部
の最大表面粗さが12.7μｍ以下であり、第２表面部に対
応する位置に形成された感光層の最大表面粗さを2.5 μ
ｍ以下に規定し、かつ、第１表面部の光学的反射率に対
する第２表面部の光学的反射率の比を0.3 〜0.7 の範囲
内に規定している。このため、感光層の膜厚を薄く、25
μｍ以下とした場合においても、第２表面部に対応する
位置に形成された感光層の表面の平滑性等を高め、薄膜
化によって生じるクリーニング不良やトナー落ち等の弊
害を防止することができる。また、このように、感光層
の膜厚を薄くした場合においても、第２表面部を設ける
ことができ、複写画質における文字の輪郭の美しさや鮮
明さを向上させることができる。従って、クリーニング
不良やトナー落ち等の不具合を防止し、かつ、第２表面
部の形成位置を基準とした画像形成プロセス因子の制御
を正確に行うことができるので、常に安定した良好な複
写画像を得ることができる。

【００２１】請求項４記載の発明にかかる電子写真用感
光体は、上記の課題を解決するために、請求項１記載の
電子写真用感光体において、上記感光層は、ガラス転移
点近傍の温度でアニーリングすることにより表面処理さ
れてなることを特徴としている。

【００２２】請求項４記載の構成によれば、感光層は、
ガラス転移点近傍の温度でアニーリングすることにより
表面処理されてなっている。このため、感光層表面の粗
さをより一層抑えることができる。即ち、請求項１の作
用に加えて、電子写真用感光体における平滑性等の表面
性をより一層向上させることができる。従って、画像形
成プロセス因子の制御に、より優れた性能を発揮するこ
とができる。

【００２３】請求項５の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、上記の課題を解決するために、第１表面
部と、上記第１表面部とは異なる光学的反射特性を有す
る第２表面部とを備えた導電性基体上に、感光液を塗布
することにより感光層を形成する電子写真用感光体の製
造方法において、上記導電性基体を、上記第２表面部の
上縁部が重力方向に対して垂直とならない状態に保持
し、上記感光液を塗布することを特徴としている。

【００２４】請求項５記載の方法によれば、請求項１記
載の電子写真用感光体を製造する製造過程において、上
記感光層を形成する際に、第２表面部の上縁部が重力方
向に対して垂直とならない状態に導電性基体を保持す
る。これにより、過剰に塗布された感光液は、第２表面
部の上縁部を伝って流れ落ちる。そのため、請求項１記
載の電子写真用感光体を製造する際に、該感光体の形
状、感光層の形成時における該感光体の向き、および上
記第２表面部の形状や大きさに関係なく、塗布不良（い
わゆる液タレ現象）を防止することができる。従って、
画像形成プロセス因子の制御に、より優れた性能を発揮
することができる。

【００２５】請求項６の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、上記の課題を解決するために、第１表面
部を備えた導電性基体上に、上記第１表面部とは異なる
光学的反射特性を有するように第２表面部を形成し、洗
浄後、この導電性基体上に感光液を塗布することにより
感光層を形成する電子写真用感光体の製造方法におい
て、洗浄および塗布の少なくとも一方を行うに際して、
上記導電性基体を、第２表面部が重量方向に関して画像
形成域より下側になるように保持することを特徴として
いる。

【００２６】請求項６記載の方法によれば、たとえ第２
表面部下側に洗浄・塗布不良が起こったとしても、画像
形成域外で起こるため、画像を損なうことがない。

【００２７】請求項７の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、上記の課題を解決するために、第１表面
部を備えた導電性基体上に、上記第１表面部とは異なる
光学的反射特性を有するように第２表面部を形成し、洗
浄後、この導電性基体上に感光液を塗布することにより
感光層を形成する電子写真用感光体の製造方法におい
て、浸漬洗浄または浸漬塗布する際の導電性基体の引上
げ方向に対して垂直とはならない方向に連続する未加工
部分を有するように上記第２表面部を形成することを特
徴としている。

【００２８】請求項７記載の方法によれば、未加工部分
を通じて洗浄液や感光液が流れやすくなる。このため、
過剰な洗浄液や感光液が付着せず、洗浄または塗布時の
不良を無くすことができると共に、次の工程に移行する
までの時間を短くすることができる。

【００２９】請求項８の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、上記の課題を解決するために、第１表面
部を備えた導電性基体上に、上記第１表面部とは異なる
光学的反射特性を有するように第２表面部を形成し、こ
の導電性基体上に感光液を塗布することにより感光層を
形成する電子写真用感光体の製造方法において、上記第
２表面部に、感光層形成時の導電性基体の重力方向に直
行する方向に第１溝部を形成することを特徴としてい
る。

【００３０】請求項８記載の方法によれば、過剰な感光
液を第１溝部の両端に集中させて流し落とすことができ
る。このため、塗布不良が起こる部分の横幅（面積）を
狭く（小さく）することができ、接着強度を向上させる
ことができると共に、次の工程に移行するまでの時間を
短くすることができる。

【００３１】請求項９の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、上記の課題を解決するために、請求項８
記載の電子写真用感光体の製造方法において、上記第１
溝部に第２溝部を導電性基体の端縁まで繋げて設けるこ
とを特徴としている。

【００３２】請求項９記載の方法によれば、第１溝部の
両端に集中させた過剰な感光液を強制的に流し落とすこ
とができる。従って、接着強度をさらに向上させること
ができると共に、次の工程に移行するまでの時間をさら
に短くすることができる。

【００３３】請求項１０の発明にかかる電子写真用感光
体は、上記請求項５ないし９のいずれか１項に記載の電
子写真用感光体製造方法によって形成されることを特徴
としている。

【００３４】請求項１０の記載の構成によれば、請求項
５ないし９のいずれか１項に記載の電子写真用感光体製
造方法によって電子写真用感光体を形成することができ
る。

【００３５】

【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態について図
１ないし図９に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。

【００３６】図１に示すように、本実施の形態にかかる
感光体（電子写真用感光体）１は、例えば円筒状の素管
である導電性基体２と、導電性基体２上に形成された感
光層３とを備えた構成となっている。導電性基体２は、
その表面に、所定の光学的反射特性を有する非マーキン
グ領域（第１表面）５と、該非マーキング領域５とは異
なる反射特性を有するマーキング領域４とを備えてい
る。また、上記感光層３は、光導電層を有している。
尚、感光層３の構成およびその形成方法については後述
する。

【００３７】上記導電性基体２は円筒状に限らず、例え
ば、板状、無端ベルト状等であってもよい。また、導電
性基体２は、例えば、アルミニウム、アルミニウム合
金、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属材料からなっ
ている。尚、導電性基体２の表面には、印字画像の鮮明
さを向上させるため、鏡面仕上げ等の各種切削加工や研
磨加工またはインパクト成形がなされている。

【００３８】上記マーキング領域４は、該導電性基体２
上に、例えば導電性基体２の表面を粗くすることによっ
て形成されている。そして、上記マーキング領域４は、
一定濃度のパッチに対する露光後の表面電位、あるいは
露光後のトナー画像濃度等の測定が、感光体１上の常に
同じ位置で行われるように、基準位置を示す信号源とな
っている。

【００３９】マーキング領域４の形成位置は、導電性基
体２上で、かつ、光導電層の下であれば特に限定される
ものではない。但し、マーキング領域４を、導電性基体
２表面における画像形成域に設けると、マーキング領域
４が複写画像に影響を及ぼす虞れがある。つまり、マー
キング領域４と非マーキング領域５とでは、微妙な光感
度の差が生じるため、コピー等の最終アウトプットに違
いが生じる虞れがある。このため、マーキング領域４は
画像形成域外に設けることが好ましい。

【００４０】また、画像形成域外にマーキング領域４を
設ける場合で、しかも、現像ギャップを保つために図示
しない現像ギャップ保持治具（コロ）を使用する場合に
は、現像ギャップ保持治具接触域を避けてマーキング領
域４を設けることが好ましい。マーキング領域４を現像
ギャップ保持治具の接触域に設けると、現像ギャップ保
持治具が繰り返しマーキング領域４に接触する。このた
め、該接触域表面、即ち、マーキング領域４が劣化する
ため、好ましくない。さらに、感光体１表面は、繰り返
し使用することによって、現像剤や紙粉により汚染され
てくる。従って、使用開始後に、マーキング領域４の光
反射率がなるべく変化しないように、クリーニングブレ
ード等のクリーナーが接触する接触域に、上記マーキン
グ領域４を設けることが好ましい。

【００４１】上記マーキング領域４の形状は、特に限定
されるものではなく、具体的には、例えば、角形、楕円
形、円形、もしくは不定形であってもよい。

【００４２】また、形成されるマーキング領域４の大き
さ、および個数についても特に限定されるものではな
い。

【００４３】上記マーキング領域４の形成方法は、特に
限定されるものではなく、レーザ光線を用いる方法、研
削用の砥石や研削加工テープを用いる方法、あるいは、
研削剤を用いる方法等が挙げられる。その中でも、レー
ザ光線による研削加工が、常に安定した表面性状を得る
ことができると共に、自動化が容易であり、時間的にも
加工精度的にも非常に有効である。レーザ光線を用いる
ことにより、研削加工をドライプロセスで行うことがで
きるので、その後に実施される感光層３形成時におい
て、感光体特性に対しほとんど影響を与えない。このた
め、感光体１製造における歩留の低下を抑制することが
できる。

【００４４】レーザ装置としては、具体的には、例え
ば、ＹＡＧレーザ、炭酸ガスレーザ等が挙げられるが、
特に限定されるものではない。レーザ光線の出力条件と
しては、特に限定されるものではないが、例えば、ＹＡ
Ｇレーザを用いて、感光層３の膜厚が25μｍ以下の感光
体１にマーキング領域４を形成する場合、感光体１製造
後の感光層３表面の平滑性等を考慮して、周波数１KHz
〜８KHz 、電流値10Ａ〜30Ａの範囲内で使用するのが好
ましい。つまり、レーザ光線の出力条件は、導電性基体
２の材質、所望するマーキング領域４の大きさ、感光層
３の膜厚、およびレーザ装置の種類等の諸条件に応じて
適宜設定すればよい。

【００４５】このようにして形成されたマーキング領域
４は、非マーキング領域５と比較して、光反射率等の光
学的反射特性が異なる。即ち、図２に示すように、感光
層３に吸収されない光（例えば、波長 900μｍの赤外線
等) を感光体１に照射すると、感光層３を透過した光
は、非マーキング領域５では同一方向に殆ど反射する。
しかしながら、マーキング領域４では、マーキング領域
４の表面が粗いため、乱反射する。さらに、感光層３を
透過した光は、マーキング領域４に対応する位置に形成
された感光層３の表面でも、若干、乱反射する。

【００４６】そこで、本願発明者等は、該感光体１にお
ける、マーキング領域４の最大表面粗さ（以下、基体表
面粗度と称する）と、マーキング領域４に対応する位置
に形成された感光層３の最大表面粗さ（以下、塗膜表面
粗度と称する）との関係、および基体表面粗度と、非マ
ーキング領域５の反射率を１とした場合のマーキング領
域４の相対的反射率（以下、説明の便宜上、ＳＮ値と称
する）との関係について、鋭意検討した。その結果、図
３および表１に示す知見が得られた。尚、以下の説明に
おいて使用する感光層３の膜厚は24μｍである。

【００４７】また、このようにして形成されたマーキン
グ領域４は、非マーキング領域５と比較して、光反射率
等の光学的反射特性が異なる。即ち、図２に示すよう
に、感光層３に吸収されない光（例えば、波長 900μｍ
の赤外線等) を感光体１に照射すると、感光層３を透過
した光は、非マーキング領域５では同一方向に殆ど反射
する。しかしながら、マーキング領域４では、マーキン
グ領域４の表面が粗いため、乱反射する。さらに、感光
層３を透過した光は、マーキング領域４に対応する位置
に形成された感光層３の表面でも、若干、乱反射する。

【００４８】そこで、本願発明者等は、該感光体１にお
ける、マーキング領域４の最大表面粗さ（以下、基体表
面粗度と称する）と、マーキング領域４に対応する位置
に形成された感光層３の最大表面粗さ（以下、塗膜表面
粗度と称する）との関係、および基体表面粗度と、非マ
ーキング領域５の反射率を１とした場合のマーキング領
域４の相対的反射率（以下、説明の便宜上、ＳＮ値と称
する）との関係について、鋭意検討した。その結果、図
３および表１に示す知見が得られた。尚、以下の説明に
おいて使用する感光層３の膜厚は24μｍである。

【００４９】

【表１】

【００５０】図３および表１に示した結果から明らかな
ように、基体表面粗度が大きくなるに従って、塗膜表面
粗度は大きくなり、逆に、ＳＮ値は小さくなることが判
る。

【００５１】ところで、マーキング領域４の検出は、電
子写真装置の本体側に設けられた、図示しない反射率検
知センサを用いて、感光層３の上方から行われる。つま
り、反射率検知センサによって検知された反射率が、２
つの閾値で表される範囲内に入っているか否かで、マー
キング領域４を検出するようになっている。

【００５２】従って、上記ＳＮ値を規定することで、感
光体１の帯電電位、光学系ランプ電圧、あるいはトナー
濃度等の画像形成プロセス因子の制御を正確に行うこと
ができると共に、マーキング領域４に対応する位置に形
成された感光層３の表面の粗さを抑えることができる。
即ち、図３および表１から明らかなように、ＳＮ値が１
に近づく程、感光層３表面の粗さは抑えられるが、逆
に、マーキング領域４と非マーキング領域５との光学的
反射特性の差は小さくなる。一方、ＳＮ値が小さくなる
程、感光層３の表面は粗くなる。

【００５３】そこで、本願発明者等が種々検討した結
果、上記プロセス因子の制御を正確に行うと共に、前記
したクリーニング不良やトナー落ち等の不具合を抑制す
るためには、ＳＮ値を0.3 〜0.7 の範囲内に規定する必
要があることを見い出した。即ち、プロセス因子の制御
を正確に行うためには、マーキング領域４を形成する際
の加工のバラツキや、反射率検知センサの検知のバラツ
キ、および感光体１の寿命がくるまでに該感光体１表面
につくキズ等を考慮して、ＳＮ値の上限を0.7 にする必
要がある。一方、塗膜表面粗度を 2.5μｍ以下に抑える
と、クリーニング不良やトナー落ち等の不具合が生じる
のを防ぐことができるため、図３および表１の結果か
ら、ＳＮ値の下限を0.3 に設定した。そこで、反射率検
知センサによって、0.3 〜0.7 の範囲内のＳＮ値が検知
された場合に、そのＳＮ値を検知した領域をマーキング
領域４であると判別させるプログラムを、本体側の図示
しない制御装置に入れておけばよい。さらに、本願発明
者等は、感光層３の膜厚やレーザ光線の出力条件等の種
々の条件の変化を考慮して、クリーニング不良やトナー
落ち等の不具合が生じるのを防止するため、上記ＳＮ値
の規定に加えて、塗膜表面粗度を 2.5μｍ以下に規定し
た。

【００５４】即ち、コピー画質における文字の輪郭の美
しさ（いわゆる、キレ）や鮮明さを向上させるために
は、感光層３の膜厚を薄く（25μｍ以下）することが好
ましいが、従来の電子写真感光体においては、感光層の
膜厚が薄い感光体にマーキング領域を設けると、クリー
ニング不良やトナー落ち等の不具合が生じるという問題
点があった。これに対し、本願の感光体１においては、
塗膜表面粗度、およびＳＮ値を上記範囲内に規定するこ
とで、感光層３の膜厚を薄く（25μｍ以下) しても、マ
ーキング領域４に対応する位置に形成された感光層３の
表面の平滑性等を高め、薄膜化によって生じるクリーニ
ング不良やトナー落ち等の弊害を防止することができる
ようになっている。さらに、膜厚の薄い感光層３を用
い、かつ、マーキング領域４を設けることができるの
で、コピー画質における文字の輪郭の美しさや鮮明さを
向上させることができる。

【００５５】尚、上記反射率検知センサに用いる光の波
長は任意に選べるが、空気中の塵芥、感光層３表面の汚
れ、感光層３の欠陥の影響をなるべく少なくするため、
例えば、850 μｍ、900 μｍ等の赤外光を用いることが
好ましい。

【００５６】また、レーザ光線による研削加工を用いて
マーキング領域４を形成する場合、レーザ光線をパルス
発信させてドット加工するのが一般的であり、図６に示
すように、１つのドット９は、レーザ光線の出力にもよ
るが、例えば直径80μｍ〜200 μｍ、深さ20μｍ〜30μ
ｍの窪みを形成する。この場合、加工状態、即ち、マー
キング領域４の表面性は、ドット９同士の間隔( ドット
９の中心から隣合うドット９の中心までの距離）を適宜
変更することによってコントロールすることができる。

【００５７】通常、マーキング領域４を形成する際のド
ット９同士の間隔は、一定に設定されており、洗浄また
は塗布液（感光液）６（図４参照）の塗布時における導
電性基体２の重力方向（例えば浸漬洗浄または浸漬塗布
する際には導電性基体２の引上げ方向）に対して平行と
なる横方向のドット間隔をピッチａ、導電性基体２の引
上げ方向に対して垂直となる縦方向のドット間隔をピッ
チｂとすると、ａ＝ｂとなる場合が多い。

【００５８】しかし、上記のように、ピッチａとピッチ
ｂが同一である場合、マーキング領域４においては、塗
布液６、あるいは洗浄液が、非マーキング領域５よりも
多くなるため、指触乾燥（自然乾燥）までの時間が長く
かかる。このため、次の工程までの時間が長くかかる。
このとき、指触乾燥前に次の工程に移行すると、次の工
程の塗布液６、あるいは洗浄液の中に、前の工程の材料
が入り、汚染される。

【００５９】そこで、本願発明者等は、マーキング領域
４全体を均一に粗す代わりに、図６に示すように、上記
ピッチａをピッチｂより大きくして、洗浄または塗布液
６の塗布時における導電性基体２の重力方向に対して平
行で微小な幅の連続した未加工部分１０、即ち、ドット
９が形成されてない部分を有するようにマーキング領域
４を形成することで、洗浄または塗布時の不良を防止す
ることができることを見いだした。

【００６０】つまり、上記未加工部分１０は、非マーキ
ング領域５と表面性が同じであり、マーキング領域４内
に未加工部分１０を設けることで、未加工部分１０を通
じて洗浄液や塗布液６が流れやすくなるため、過剰な洗
浄液や、塗布液６が付着せず、洗浄または塗布時の不良
を無くすことができる。

【００６１】また、図７に示すように、洗浄または塗布
液６の塗布時における導電性基体２の重力方向（例えば
浸漬洗浄または浸漬塗布する際には導電性基体２の引上
げ方向）に対して平行となる横方向のドット間隔をピッ
チａ’、導電性基体２の引上げ方向に対して垂直となる
縦方向のドット間隔をピッチｂ’とすると、ピッチａ’
をピッチｂ’より大きくして、洗浄または塗布液６の塗
布時における導電性基体２の重力方向に対して傾斜する
微小な幅の連続的した未加工部分１０を有するように、
マーキング領域４内に、格子状のドットパターンを形成
してもよい。この場合にも、未加工部分１０を通じて洗
浄液や塗布液６が流れやすくなるため、過剰な洗浄液
や、塗布液６が付着せず、洗浄または塗布時の不良を無
くすことができる。

【００６２】また、以上のように、洗浄または塗布液６
の塗布時における導電性基体２の重力方向に対して垂直
とならないような連続した未加工部分１０を有するよう
にマーキング領域４を形成することで、次の工程に移行
するまでの時間（タクトタイム）を短くすることができ
る。

【００６３】このとき、ピッチａあるいはピッチａ’
は、特に限定されるものではないが、ピッチｂあるいは
ピッチｂ’の１倍を越えて２倍の大きさで形成されてい
ることが好ましく、1.25倍〜２倍の範囲内となるように
形成されていることがさらに好ましい。ピッチａあるい
はピッチａ’が、ピッチｂあるいはピッチｂ’より大き
く形成されていることで、洗浄または塗布液６の塗布時
における導電性基体２の重力方向に対して垂直とならな
いような未加工部分１０を設けることができるが、ピッ
チａあるいはピッチａ’が、ピッチｂあるいはピッチ
ｂ’の２倍より大きく形成されている場合、未加工部分
１０における塗布液６の導電性基体２への塗布量が、加
工部分、即ち、ドット９が形成されている部分における
塗布液６の導電性基体２への塗布量と異なるため、白抜
けや黒点等の画像不良が生じる虞れがあるため、好まし
くない。

【００６４】また、図９に示すように、マーキング領域
４の下側部分である領域５３（図中、斜線で示す）は、
加工部分を流れる過剰な洗浄液あるいは塗布液６によ
り、洗浄液や塗布液６が多く接触するため、感光層３の
厚みが厚くなる。

【００６５】このため、例えば、洗浄液６中の残留物や
有機顔料を多く含む後述する電荷発生層等の厚みが厚く
なると、領域５３における感光層３の導電性基体２に対
する接着強度が弱くなり、実使用においても、該感光体
１を搭載してなる例えば複写機等に用いられるクリーニ
ングブレード等による押接力により、感光層３が剥がれ
ることがある。

【００６６】尚、接着強度とは、導電性基体２と感光層
３との付着力を表し、クリーニングブレードによる押接
力とは、通常、その弾性により感光体１に押圧されてい
るクリーニングブレードが、液タレ１５（図４参照）の
発生部分（タレ部）の盛り上がりにより押し戻され、反
発力により上記タレ部にかかる圧力が高くなることを示
す。

【００６７】そこで、マーキング領域４内に、図８およ
び図９に示すように、微小な加工溝（溝部）５１（図
中、二点鎖線内の連続したドット部を示す）を、洗浄ま
たは塗布液６の塗布時における導電性基体２の重力方向
（例えば浸漬洗浄または浸漬塗布する際には導電性基体
２の引上げ方向）に対して直行するように形成すること
で、過剰な塗布液６を加工溝５１の両端に集中させて流
し落とすことができる。このため、液タレ１５等の塗布
不良が起こる部分の横幅（面積）を狭く（小さく）する
ことができ、上記クリーニングブレードがタレ部に押接
力をかける時間を短くすることができるため、実質的な
接着強度を向上させることができる。

【００６８】つまり、領域５３、即ち、感光層３の厚み
ムラが生じている部分の横幅が数ｍｍにわたっていれ
ば、この部分の接着強度は、上記クリーニングブレード
の押接力に対する耐性が弱いため明らかに低下する。こ
れに対し、上記加工溝５１を、例えばマーキング領域４
の幅と同じ長さに形成することで、液タレ１５を加工溝
５１の両端、即ち、マーキング領域４の両端に集中させ
ることができる。これにより、厚みムラが生じている部
分の横幅を例えば１ｍｍ程度と小さくすることができ、
上記クリーニングブレードの押接力がかかる時間を短く
することができるので、接着強度の低下を防止すること
ができる。つまり、加工溝５１を形成する前と比較し
て、接着強度を向上させることができる。

【００６９】また、加工溝５１を設けることで、過剰な
塗布液６を加工溝５１の両端に集中させて流し落とすこ
とができるので、前記タクトタイムの短縮を図ることが
できる。

【００７０】さらに、図９に示すように、上記加工溝５
１の両端部、即ち、マーキング領域４の側端部に繋げ
て、洗浄または塗布液６の塗布時における導電性基体２
の重力方向に対して平行な加工溝５２（図中、二点鎖線
内の連続したドット部を示す）を、導電性基体２の端部
まで形成することで、加工溝５１の両端、即ち、マーキ
ング領域４の両端に集中させた過剰な塗布液６を強制的
に流し落とすことができるので、タクトタイムの短縮
と、前記領域５３部分の接着強度をさらに向上させるこ
とができる。

【００７１】上記加工溝５１並びに加工溝５２は、例え
ば、ドット９同士が部分的に重なるようにレーザ光線を
直線状に連続照射することによって、容易に形成するこ
とができる。このようにして形成された加工溝５１にお
ける、上記引上げ方向に対して平行な間隔（幅）は、ド
ット９の直径とほぼ同じになるが、これに限定されるも
のではなく、上記引上げ方向において隣合うドット９と
重ならなければよい。上記引上げ方向において隣合うド
ット９と重なるように加工溝５１を形成する場合、加工
溝５１の幅が広くなりすぎて、フラットな部分が大きく
なるため、過剰な塗布液６を加工溝５１に集中させるこ
とが困難となるため好ましくない。

【００７２】上記加工溝５１の場合と同様に、加工溝５
２における、上記引上げ方向に対して垂直な間隔（幅）
は、ドット９の直径とほぼ同じになるが、これに限定さ
れるものではなく、過剰な塗布液６を加工溝５１に集中
させることができる幅であればよい。

【００７３】上記加工溝５１並びに加工溝５２の深さ
は、特に限定されるものではないが、0.5 μｍ〜10μｍ
の範囲内が好ましく、１μｍ〜10μｍの範囲内がさらに
好ましい。上記加工溝５１並びに加工溝５２の深さが0.
5 μｍより浅ければ、通常用いられる導電性基体２の表
面粗さとほぼ同じか、導電性基体２よりフラットな状態
となるため、過剰な塗布液６を加工溝５１、加工溝５２
に集中させることが困難となるため好ましくない。一
方、上記加工溝５１並びに加工溝５２の深さが10μｍよ
り深ければ、モアレ対策とならないため、好ましくな
い。

【００７４】マーキング領域４において上記加工溝５１
を形成する位置は、特に限定されるものではないが、マ
ーキング領域４の下端側に設けることが好ましく、上記
加工溝５１の長さは、上述した理由により、マーキング
領域４の幅と同じ長さに形成することが好ましい。尚、
加工溝５１の数は、特に限定されるものではない。

【００７５】このようにしてマーキング領域４および非
マーキング領域５が設けられた導電性基体２上には、洗
浄工程を経た後、感光層３が形成される。

【００７６】上記導電性基体２の洗浄は、例えば、図５
に示す洗浄装置を用いて、導電性基体２をレール７に配
置されたロボットハンド８で支持し、このロボットハン
ド８をレール７に沿って移動させて、各洗浄槽１１・２
１・３１・４１上方で停止させた後、下降させることに
よって導電性基体２を洗浄槽１１・２１・３１・４１に
順に浸漬することによって行われる。

【００７７】第１の洗浄槽１１は界面活性剤が溶解した
純水の洗浄液１８で満たされており、該洗浄液はヒータ
１６により40℃〜60℃に加熱されている。また、第１の
洗浄槽１１底部には超音波発振器１７が備え付けられ、
導電性基体２浸漬時に超音波が発振するようになってい
る。そして、第１の洗浄槽１１には、パイプ１２から洗
浄液１８が図示しないタンクより定常的に送りこまれて
いる。

【００７８】導電性基体２の浸漬によりオーバーフロー
する洗浄液１８は、配管１３から排出される。排出され
た洗浄液１８は、図示しない排液処理装置で処理され
る。

【００７９】第１の洗浄槽１１における洗浄により基体
表面から除去された油、ダスト、切粉が分散している洗
浄後の洗浄液１８は、配管１９からポンプ１４によりフ
ィルター２０を経て循環し、ダスト、切粉はフィルター
２０に補足される。

【００８０】第２の洗浄槽２１、第３の洗浄槽３１、第
４の洗浄槽４１には、それぞれ洗浄液２５、洗浄液３
５、洗浄液４５として、25℃の純水が満たされている。
各洗浄槽２１・３１・４１の底部には、それぞれ超音波
発振器２４・３４・４４が配備され、各洗浄槽２１・３
１・４１の洗浄液２５・３５・４５は、それぞれ配管２
６・３６・４６からポンプ２２・３２・４２によりフィ
ルター２３・３３・４３を経て循環し、該フィルター２
３・３３・４３によってダスト、切粉が補足される。

【００８１】各洗浄槽２１・３１・４１において、洗浄
液２５・３５・４５として用いられる純水は、タンク６
０から先ず第４の洗浄槽４１に供給され、第４の洗浄槽
４１からオーバーフローにより第３の洗浄槽３１に供給
される。次いで、第３の洗浄槽３１からオーバーフロー
により第２の洗浄槽２１に供給され、第２の洗浄槽２１
からオーバーフローする液は、配管２７から排出され、
図示しない排液処理装置で処理される。

【００８２】導電性基体２を洗浄槽１１・２１・３１・
４１に浸漬する際には、導電性基体２を、第１の洗浄槽
１１、第２の洗浄槽２１、第３の洗浄槽３１、第４の洗
浄槽４１の順で、それぞれ 0.5分間〜10分間、好ましく
は 1.5分間〜５分間浸漬することで、洗浄を行う。尚、
浸漬洗浄中は、必要に応じて導電性基体２を振動させて
もよい。

【００８３】このようにして洗浄された導電性基体２
は、例えば、クリーン度100 に保たれたクリーンブース
内で80℃のクリーンエアーを吹きつけることによって乾
燥させてから、次の工程、即ち、感光層３の形成工程へ
と移行する。

【００８４】上記感光層３は、導電性基体２上に形成さ
れたバリアー層と、該バリアー層上に形成された光導電
層とからなっている。

【００８５】上記のバリアー層としては、従来公知のも
のを用いることができ、具体的には、例えば、アルミニ
ウム陽極酸化被膜、酸化アルミニウム、水酸化アルミニ
ウム等の無機層；ポリビニルアルコール、カゼイン、ポ
リビニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース類、
ゼラチン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリ
アミド等の有機層等が挙げられるが、特に限定されるも
のではない。尚、バリアー層の膜厚は、特に限定される
ものではない。また、バリアー層を設けない構成、つま
り、導電性基体２上に光導電層を設けることにより、感
光層３を形成してもよい。

【００８６】光導電層としては、具体的には、例えば、
セレン、ヒ素−セレン合金、セレン−テルル合金、アモ
ルファスシリコン等の無機系光導電層；有機系光導電
層；無機・有機複合型光導電層等が挙げられるが、特に
限定されるものではない。また、上記有機系光導電層と
しては、具体的には、例えば、電荷発生層および電荷輸
送層を用いるいわゆる積層型光導電層；電荷輸送媒体中
に電荷発生物質粒子を分散させたいわゆる分散型光導電
層等が挙げられるが、特に限定されるものではない。

【００８７】上記積層型光導電層において、電荷発生層
は、光照射により電荷を発生する電荷発生物質を含有し
ている。該電荷発生物質としては、特に限定されるもの
ではないが、具体的には、例えば、セレンおよびその合
金、ヒ素−セレン合金、硫化カドミニウム、酸化亜鉛、
その他の無機光導電物質；フタロシアニン、アゾ染料、
キナクリドン、多環キノン、ピリリウム、チアピリリウ
ム、インジゴ、チオインジゴ、アントアントロン、ピラ
ントロン、シアニン等の各種有機顔料あるいは染料が使
用できる。中でも、フタロシアニン、銅塩化インジウ
ム、塩化ガリウム、塩化錫、チタン酸化物；亜鉛、バナ
ジウム等の金属またはその酸化物；塩化物が配位したフ
タロシアニン類；モノアゾ、ビスアゾ、トリスアゾ、ポ
リアゾ等のアゾ染料が好ましい。

【００８８】電荷発生層は、上記電荷発生物質の蒸着膜
であってもよく、また、電荷発生物質の微粒子をバイン
ダー樹脂で結着してなる分散層であってもよい。

【００８９】上記バインダー樹脂としては、具体的に
は、例えば、ポリビニルアセテート、ポリアクリル酸エ
ステルやポリメタクリル酸エステル等のポリエステル、
ポリカーボネート、ポリビニルアセトアセタール、ポリ
ビニルプロピオナール、ポリビニルブチラール、フェノ
キシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、セルロースエ
ステル、セルロースエーテル等が挙げられるが、特に限
定されるものではない。

【００９０】電荷発生物質のバインダー樹脂に対する割
合は、バインダー樹脂 100重量部に対して、30重量部〜
500重量部の範囲内であればよい。また、電荷発生層の
膜厚は、0.1 μｍ〜２μｍが好ましく、0.15μｍ〜0.8
μｍがさらに好ましい。電荷発生層の膜厚が2 μｍを越
えると、感光層３の膜厚が厚くなり、コピー画質におけ
る文字の輪郭の美しさ、鮮明さを低下させることになる
ため、好ましくない。尚、電荷発生層には、必要に応じ
て、塗布性を改善するためのレベリング剤、酸化防止
剤、増感剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。

【００９１】一方、上記積層型光導電層において、電荷
輸送層は、電荷発生物質が発生した電荷を受入れ、この
電荷を輸送する能力を有する電荷輸送物質と、バインダ
ー樹脂とからなっている。該電荷輸送物質としては、具
体的には、例えば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよ
びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリルエチルグルタメ
ートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合
物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフ
ェナントレン、オキサゾール誘導体、オキソジアゾール
誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミ
ノスチリル) アントラセン、1,1 −ビス（４−ジベンジ
ルアミノフェニル）プロパン、1,1 −ビス( ｐ−ジエチ
ルアミノフェニル) −4,4 −ジフェニル− 1,3−ブタジ
エン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フ
ェニルヒドラゾン類、ヒドラゾン誘導体等の電子供与性
物質；フルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導
体、インデノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン
誘導体、インデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導
体、ベンゾ［ｃ］シンノリン誘導体、フェナジンオキサ
イド誘導体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノ
リジメタン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノン等
の電子受容性物質等が挙げられるが、特に限定されるも
のではない。

【００９２】上記バインダー樹脂としては、電荷輸送物
質と相溶性を有するものであればよく、具体的には、例
えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリ
塩化ビニル等のビニル重合体およびこれらの共重合体；
ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエステルカーボ
ネート、ポリスルホン、ポリイミド、フェノキシ、エポ
キシ、シリコーン樹脂等が挙げられ、さらに、それらの
部分的架橋硬化物等も使用できるが、特に限定されるも
のではない。

【００９３】電荷輸送物質のバインダー樹脂に対する割
合は、バインダー樹脂 100重量部に対して、30重量部〜
200重量部の範囲内であればよく、好ましくは40重量部
〜 150重量部の範囲内であればよい。また、電荷輸送層
の膜厚は、10μｍ〜60μｍが好ましく、10μｍ〜45μｍ
がさらに好ましい。また、コピー画質における文字の輪
郭の美しさや鮮明さをより一層向上させるために、感光
層３の膜厚を25μｍ以下にすることが好ましく、従っ
て、電荷輸送層は、より薄い方が好ましい。尚、上記電
荷輸送層には、必要に応じて、酸化防止剤、増感剤等の
各種添加剤が添加されていもよい。

【００９４】さらに、積層型光導電層を光導電層として
用いる場合には、例えば熱可塑性重合体あるいは熱硬化
性重合体を主体とする従来公知のオーバーコート層を設
けることもできる。

【００９５】上記分散型光導電層は、上述した配合比の
バインダー樹脂と電荷輸送物質とを主成分とするマトリ
ックス中に、前述の電荷発生物質が分散されてなってい
る。電荷発生物質の粒子径は充分小さいことが必要であ
り、0.5 μｍ以下で使用されることが好ましい。上記マ
トリックスに対する電荷発生物質の割合は、0.5 重量％
〜50重量％の範囲内であればよく、好ましくは、1 重量
％〜20重量％の範囲内であればよい。尚、上記電荷発生
物質の量が0.5 重量％より少ないと充分な感度が得られ
ないため好ましくない。一方、50重量％より多いと帯電
性の低下や感度の低下等の弊害が生じるため好ましくな
い。

【００９６】さらに、分散型光導電層の場合にも、必要
に応じて、成膜性、可撓性、機械的強度等を改良する可
塑剤、残留電位を抑制する添加剤、分散安定性を向上す
る分散補助剤、塗布性を改善するレベリング剤、界面活
性剤、例えばシリコーンオイル、フッ素系オイル、その
他の各種添加剤等を添加することができる。

【００９７】感光層３を形成する形成方法（塗布方法）
は、特に限定されるものではないが、具体的には、例え
ば、浸漬塗布方法、リング方式塗布方法、およびスプレ
ー塗布方法等が挙げられる。

【００９８】ところで、従来、例えば、浸漬洗浄方法を
用いた洗浄や、浸漬塗布方法（いわゆるディップ法）を
用いた塗布を行った場合、マーキング領域４表面の粗さ
のため、マーキング領域４と非マーキング領域５とでは
ぬれ性が異なり、マーキング領域４の形状、大きさ等に
よっては、図４に示すように、マーキング領域４を起点
とする液タレ現象等の洗浄・塗布不良等が発生し、液タ
レ１５（図中、２点鎖線で示す）が生じる場合があっ
た。

【００９９】洗浄・塗布不良による液タレ１５の発生原
因としては、以下のように考えられる。導電性基体２の
表面性と、洗浄液１８・２５・３５・４５および塗布液
６の物性と、洗浄・塗布時における導電性基体２の引上
げ速度との関係から、導電性基体２上に付着する洗浄液
１８・２５・３５・４５および塗布液６の量は限定され
る。導電性基体２の引上げ途中において、導電性基体２
の表面性が異なる部分（マーキング領域４等）に達した
時、導電性基体２上に付着する洗浄液１８・２５・３５
・４５および塗布液６の量が変化する。上記マーキング
領域４は、その表面が粗いため、この部分で洗浄液１８
・２５・３５・４５および塗布液６の量が多くなり、マ
ーキング領域４と非マーキング領域５との境界部分で、
この過剰な洗浄液１８・２５・３５・４５および塗布液
６が、液タレ１５として発生する。

【０１００】このとき、上記導電性基体２を、マーキン
グ領域４が画像形成域の上方になるように保持して洗
浄、塗布を行う場合、マーキング領域４に保持された前
記洗浄液１８・２５・３５・４５あるいは塗布液６が、
画像形成域外におけるマーキング領域４以外の部分の量
より多くなるため、液タレ１５により、マーキング領域
４下側にあたる画像形成域の画像を損ない、感光体１の
潜像ムラ、即ち、コピームラ等を引き起こすことにな
る。

【０１０１】そこで、上記導電性基体２を、マーキング
領域４が画像形成域の下方になるように保持して洗浄、
塗布を行うことで、つまり、マーキング領域４を画像形
成域外に設けると共に、導電性基体２を、長手方向を上
下方向（重力方向）とした場合、マーキング領域４が形
成された側が下方となるように保持して、洗浄、塗布を
行うことで、たとえマーキング領域４下側に洗浄・塗布
不良が起こったとしても、画像形成域外で起こるため、
画像を損なうことを防ぐことができる。

【０１０２】また、このとき、マーキング領域４に、前
記未加工部分１０、加工溝５１、加工溝５２等が設けら
れていることが、液タレ１５による画像不良を防止する
ことができるので好ましい。

【０１０３】また、以下に詳述するように、該感光体１
を製造する製造過程において、感光層３を形成する際
に、マーキング領域４の上縁部が重力方向に対して垂直
とならない状態に導電性基体２を保持することにより、
換言すれば、導電性基体２を保持した時に、マーキング
領域４の上縁部が重力方向に対して垂直とならないよう
にすることによっても、液タレ１５を防止することがで
きる。

【０１０４】図４に基づいて、感光層３の形成方法の一
例について具体的に説明する。尚、以下の説明において
は、例えば四角形のマーキング領域４が形成された、例
えば円筒状の導電性基体２上に、感光層３を浸漬塗布方
法により形成する場合を挙げることとする。また、上記
導電性基体２は、長手方向を上下方向として、マーキン
グ領域４が形成された側が下方となるように保持され、
感光層３となるべき塗布液６に浸漬された後、塗布液６
からまっすぐ上方（長手方向と平行）に引き上げられる
ことで、浸漬塗布されるものとする。

【０１０５】導電性基体２においては、その保持状態に
おけるマーキング領域４の上縁部（以下、単に上縁部と
称する）が、該導電性基体２の円周方向に対して平行と
ならないように形成されている。即ち、マーキング領域
４の上縁部が重力方向に対して垂直とならないように形
成されている。このため、過剰に塗布された塗布液６
は、マーキング領域４の上縁部を伝って流れ落ちる。以
上のようにして塗布液６を塗布することにより、液タレ
１５を防止することができる。

【０１０６】尚、マーキング領域４の上縁部を、導電性
基体２の円周方向に対して平行にならないように形成す
ることにより、上記効果を得ることができるが、導電性
基体２の円周方向に対してマーキング領域４の上縁部が
なす角度を15°以上に設定することにより、さらに優れ
た効果を得ることができる。

【０１０７】この場合、上記導電性基体２の形状、マー
キング領域４の形状や大きさ、導電性基体２の引き上げ
方向等の諸条件は特に限定されるものではなく、要する
に、マーキング領域４の上縁部が重力方向に対して垂直
とならないようにすればよい。また、塗布液６の種類や
粘性等の物理的性質等も特に限定されるものではない。
例えば、塗布液６の種類や粘性等の物理的性質に応じ
て、導電性基体２の円周方向に対してマーキング領域４
の上縁部がなす角度を適宜設定することで、上記効果を
得ることができる。

【０１０８】また、浸漬洗浄、浸漬塗布する際に、導電
性基体２の、洗浄液１８・２５・３５・４５あるいは塗
布液６からの引上げ途中で引上げ速度を変えることによ
ってもマーキング領域４下側の塗布液６が多くなること
を抑え、非マーキング領域５における塗膜性を均一にす
ることができる。つまり、導電性基体２の引上げ時に、
マーキング領域４の下端側では引上げ速度を低下させる
ことでマーキング領域４全体に付着している過剰な洗浄
液１８・２５・３５・４５あるいは塗布液６が流れ落
ち、相当する洗浄槽１１・２１・３１・４１あるいは塗
布槽に吸収されてマーキング領域４下側の塗布不良が消
滅する。この場合、マーキング領域４は、重力方向に対
して、画像形成域よりも上方にあっても、下方にあって
も構わない。

【０１０９】次に、導電性基体２上に塗布された塗布液
６中の残留溶媒を除去するために、該塗布液６の加熱乾
燥を行う。これにより、感光層３が形成される。以上の
ように、該感光体１の製造過程において、上述した塗布
方法を用いて感光層３を形成することにより、液タレ１
５を防止し、マーキング領域４に対応する位置に形成さ
れた感光層３の表面の平滑性等を高めることができる。
従って、上述の方法によれば、プロセス因子の制御を正
確に行なうことができると共に、常に安定した良好な複
写画像を得ることができる感光体１を提供することがで
きる。尚、感光層３が複数の層からなる場合には、上記
塗布方法を用いた工程を、各層に応じて繰り返し行えば
よい。

【０１１０】さらに、感光層３を、該感光層３の種類や
膜厚等の諸条件に応じて、感光層３のガラス転位点近傍
の温度で、数時間、アニーリングすることにより表面処
理してもよい。これにより、マーキング領域４に対応す
る位置に形成された感光層３の表面の粗さを抑えること
ができるので、平滑性等の表面性をより一層向上させる
ことができ、クリーニング不良やトナー落ち等をさらに
一層抑制することができる。従って、プロセス因子の制
御に、より優れた性能を発揮することができ、常に安定
した良好な複写画像を得ることができる感光体１を提供
することができる。

【０１１１】以上のように、本実施の形態にかかる感光
体１は、導電性基体２が非マーキング領域５と、非マー
キング領域５とは異なる光学的反射特性を有するマーキ
ング領域４とを備え、上記マーキング領域４に対応する
位置に形成された感光層３の最大表面粗さが2.5 μｍ以
下であり、かつ、ＳＮ値が、0.3 〜0.7 の範囲内となっ
ている。このため、感光層３の膜厚を薄く（例えば25μ
ｍ以下）した場合においても、マーキング領域４に対応
する位置に形成された感光層３の表面の平滑性等を高
め、薄膜化によって生じるクリーニング不良やトナー落
ち等の弊害を防止することができる。また、このよう
に、感光層３の膜厚を薄くした場合においてもマーキン
グ領域４を設けることができ、複写画質における文字の
輪郭の美しさや鮮明さを向上させることができる。従っ
て、クリーニング不良やトナー落ち等の不具合を防止
し、かつ、マーキング領域４の形成位置を基準とした画
像形成プロセス因子の制御を正確に行うことができるの
で、常に安定した良好な複写画像を得ることができる。

【０１１２】また、本実施の形態にかかる感光体１は、
感光層３がガラス転移点近傍の温度でアニーリングする
ことにより表面処理されてなっている。このため、感光
層３表面の粗さをより一層抑えることができる。即ち、
感光体１における平滑性等の表面性をより一層向上させ
ることができる。従って、画像形成プロセス因子の制御
に、より優れた性能を発揮することができる。

【０１１３】本実施の形態にかかる感光体１の製造方法
は、非マーキング領域５と、非マーキング領域５とは異
なる光学的反射特性を有するマーキング領域４とを備え
た導電性基体２上に、塗布液６を塗布することにより感
光層３を形成する感光体１の製造方法において、導電性
基体２を、マーキング領域４の上縁部が重力方向に対し
て垂直とならない状態に保持し、上記塗布液６を塗布す
る方法である。これにより、過剰に塗布された塗布液６
は、マーキング領域４の上縁部を伝って流れ落ちる。そ
のため、該感光体１を製造する際に、該感光体１の形
状、感光層３の形成時における該感光体１の向き、およ
び上記マーキング領域４の形状や大きさに関係なく、液
タレ１５を防止することができる。従って、画像形成プ
ロセス因子の制御に、より優れた性能を発揮することが
できる。

【０１１４】尚、マーキング領域４を検知することで、
同サイズの電子写真用感光体の誤挿入を防止することも
できる。該感光体１は、例えばレーザプリンタや複写機
等の電子写真装置に好適に使用される。

【０１１５】また、本実施の形態にかかる感光体１の製
造方法は、洗浄および塗布の少なくとも一方を行うに際
して、上記導電性基体２を、重量方向に関してマーキン
グ領域４が画像形成域より下側になるように保持する方
法である。上記の方法によれば、たとえマーキング領域
４下側に洗浄・塗布不良が起こったとしても、画像形成
域外で起こるため、画像を損なうことがない。

【０１１６】さらに、本実施の形態にかかる感光体１の
製造方法は、感光層３形成時の導電性基体２の重力方向
に対して垂直とはならない方向に連続する未加工部分１
０を有するように上記マーキング領域４を形成する方法
である。この場合、未加工部分１０を通じて洗浄液１８
・２５・３５・４５や塗布液６が流れやすくなる。この
ため、過剰な洗浄液１８・２５・３５・４５や、塗布液
６が付着せず、洗浄または塗布時の不良を無くすことが
できると共に、タクトタイムを短くすることができる。

【０１１７】また、本実施の形態にかかる感光体１の製
造方法は、上記マーキング領域４に、感光層３形成時の
導電性基体２の重力方向に直行する方向に加工溝５１を
形成する方法である。これにより、過剰な塗布液６を加
工溝５１の両端に集中させて流し落とすことができる。
このため、液タレ１５等の塗布不良が起こる部分の横幅
（面積）を狭く（小さく）することができ、接着強度を
向上させることができると共に、タクトタイムの短縮を
図ることができる。

【０１１８】さらに、上記加工溝５１に加工溝５２を導
電性基体２の端縁まで繋げて設けることで、加工溝５１
の両端に集中させた過剰な塗布液６を強制的に流し落と
すことができる。従って、タクトタイムの短縮と、前記
領域５３部分の接着強度とをさらに向上させることがで
きる。

【０１１９】また、本実施の形態にかかる感光体１の製
造方法は、特に、浸漬塗布する際に、導電性基体２の、
塗布液６の液面通過時に、引上げ速度を変更する方法で
ある。これにより、マーキング領域４下側の塗布液６が
多くなることを抑え、非マーキング領域５における塗膜
性を均一にすることができる。つまり、導電性基体２の
引上げ時に、導電性基体２の、塗布液６の液面通過時、
特に、マーキング領域４の下端が塗布液６の液面を通過
する際に、引上げ速度を低下させることでマーキング領
域４全体に付着している過剰な塗布液６が流れ落ちて塗
布槽に吸収され、マーキング領域４下側の塗布不良が消
滅する。しかも、この場合、マーキング領域４は、重力
方向に対して、画像形成域よりも上方にあっても、下方
にあっても構わない。

【０１２０】

【実施例】以下に、本発明について、具体的に例を挙げ
て、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらによっ
てなんら限定されるものではない。尚、以下の実施例、
比較例において、「％」は、「重量％」を示す。

【０１２１】導電性基体２の洗浄は、上記実施の形態に
おいて説明した方法と同様の方法を用いて行った。つま
り、先ず、第１洗浄槽１１における洗浄液１８として田
中インポートグループ株式会社製の「ポラークリーン６
９０」（商品名）の５％純水溶液を用い、温度50℃、浸
漬時間２分間にて浸漬洗浄を行った。次いで、第２洗浄
槽２１・第３洗浄槽３１・第４洗浄槽４１に各々上記
「ポラークリーン６９０」（商品名）の５％純水溶液を
用い、温度25℃にて、この順で各々２分間ずつ浸漬洗浄
を行った。さらに、上記浸漬洗浄後の導電性基体２を、
クリーン度100 に保たれたクリーンブース内で80℃のク
リーンエアーを吹き付けて乾燥させた。

【０１２２】また、マーキング領域４の評価は、電子写
真装置の本体側に設けられた図示しない反射率検知セン
サによって行った。つまり、発光ダイオードから波長90
0 μｍの光を感光体１に照射し、感光体１からの反射光
をフォトトランジスタで受光することによって行った。
さらに、感光体１の初期状態の確認（以下、初期確認と
称する）、および、５万枚のコピーテストは、感光体１
を、いわゆるプロセスコントロール機構を備え、マーキ
ング領域検出センサを装備した複写機に搭載して実施し
た。

【０１２３】〔実施例１〕 外径80mm、長さ 348mm、肉厚 1.0mmのアルミニウム製の
円筒を、最大表面粗さが0.2 μｍとなるように鏡面仕上
げして導電性基体２とした。次に、導電性基体２表面の
一部を粗面化してマーキング領域４を形成した。即ち、
導電性基体２の一方の端から20mmの位置（画像形成域
外、現像ギャップ保持治具の接触域外、かつ、クリーニ
ングブレード接触域）にレーザ光線を照射して、導電性
基体２の円周方向に対して１つの辺が平行となるよう
に、８mm×８mmの大きさを有する正方形のマーキング領
域４を形成した。上記レーザ光線の照射には、ＹＡＧレ
ーザ（ＮＥＣ( 日本電気株式会社) 製、SL-475G ）を用
いた。また、レーザ光線の出力条件は、電流値15.6Ａ、
周波数2.4KHzとした。このときのドット９の直径は80μ
ｍであり、上記導電性基体２について、所定の方法によ
り基体表面粗度を測定したところ、12.0μｍであった。

【０１２４】次に、所定の方法により導電性基体２を洗
浄した後、有機系光導電層としての積層型光導電層を、
いわゆる浸漬塗布方法により形成した。尚、該塗布方法
は、上記導電性基体２を、長手方向を上下方向として、
マーキング領域４が形成された側が下方となるように保
持し、塗布液６に浸漬した後、塗布液６からまっすぐ上
方（長手方向と平行）に引き上げることにより行った。

【０１２５】即ち、先ず、電荷発生物質であるジブロム
アントアントロン１重量部、バインダー樹脂であるブチ
ラール樹脂（積水化学株式会社製、商品名：エスレック
BM-2）１重量部、溶媒であるシクロヘキサノン120 重量
部を調合し、ボールミルにて12時間分散させることによ
って、塗布液（分散液）６を調製した。次に、得られた
塗布液６に上記導電性基体２を浸漬することにより、該
塗布液６を塗布し、その後、80℃で30分間乾燥させて、
膜厚0.5 μｍの電荷発生層を形成した。

【０１２６】次いで、ヒドラゾン系電荷輸送剤( 日本化
薬株式会社製、商品名：ABPH）１重量部、バインダー樹
脂であるポリカーボネート（帝人化成株式会社製、商品
名：パンライトL-1250 )１重量部、およびシリコーン系
レベリング剤（信越化学工業株式会社製、商品名：KF-9
6)0.00013 重量部を溶媒である塩化エチレン８重量部に
加えて45℃に加熱して完全に溶解させた後、自然冷却す
ることにより、別の塗布液６を調製した。そして、得ら
れた別の塗布液６に、電荷発生層が形成された上記導電
性基体２を浸漬することにより、該塗布液６を塗布し、
その後、80℃で１時間乾燥させて、電荷輸送層を形成し
た。これにより、膜厚23μｍの感光層３を有する感光体
１を得た。

【０１２７】得られた感光体１のマーキング領域４につ
いて評価した。その結果、感光体１のＳＮ値は0.33であ
り、塗膜表面粗度は、2.0 μｍであった。また、初期確
認およびコピーテストを行ったところ、感光体１の寿命
に至るまで、初期の段階と同等の複写画像を得ることが
でき、特に不具合は生じなかった。以上の結果を表２に
示す。

【０１２８】〔比較例１〕 実施例１において、導電性基体２に対して、レーザ光線
の出力条件を、電流値15.6Ａから16Ａに、周波数2.4KHz
から2.3KHzに変更した以外は、実施例１と同様の研削加
工を施して、マーキング領域４を形成した。このときの
ドット９の直径は80μｍであり、得られた導電性基体２
について、基体表面粗度を測定したところ、13.0μｍで
あった。

【０１２９】次いで、この導電性基体２を使用し、実施
例１と同様の製造方法を用いて比較用の感光体１を作製
したところ、感光層３の形成過程で、マーキング領域４
を起点とする液タレ１５が生じた。

【０１３０】また、得られた比較用の感光体１のマーキ
ング領域４について評価した。その結果、該感光体１の
ＳＮ値は0.30であり、塗膜表面粗度は2.90μｍであっ
た。さらに、初期確認およびコピーテストを行ったとこ
ろ、クリーニング不良やトナー落ちが発生した。以上の
結果を表２に示す。

【０１３１】〔実施例２〕 実施例１と同様の導電性基体２を用い、実施例１と同様
の研削加工を施して、導電性基体２にマーキング領域４
を形成した。

【０１３２】次に、所定の方法により上記導電性基体２
を洗浄した後、有機系光導電層としての積層型光導電層
を、いわゆる浸漬塗布方法により形成した。尚、塗布液
６の配合成分を変更した以外は、実施例１と同様の条件
とした。

【０１３３】即ち、先ず、共重合ナイロン樹脂( 東レ株
式会社製、商品名：CM4000) ６重量部を溶媒であるメタ
ノール94重量部に溶解させることによって、塗布液６を
調製した。得られた塗布液６に上記導電性基体２を浸漬
することにより、該塗布液６を塗布し、所定の条件で乾
燥させて、膜厚1.0 μｍのバリアー層を形成した。

【０１３４】次いで、電荷発生物質であるクロロダイア
ンブルー（日本化薬株式会社製）２重量部、バインダー
樹脂であるポリエステル（東洋紡株式会社製、商品名：
バイロン200)１重量部、溶媒としてのエチレンジアミン
100 重量部を調合し、ボールミルにて８時間分散させる
ことによって、別の塗布液６を調製した。得られた別の
塗布液６に、バリアー層が形成された上記導電性基体２
を浸漬することにより、該塗布液６を塗布し、その後、
80℃で30分間乾燥させて、膜厚 0.4μｍの電荷発生層を
形成した。

【０１３５】さらに、ブタジエン系電荷輸送剤である1,
1 −ビス( ｐ−ジエチルアミノフェニル) −4,4 −ジフ
ェニル− 1,3−ブタジエン( 高砂香料工業株式会社製)
１重量部、ポリカーボネート（帝人化成株式会社製、商
品名：パンライトL-1225）１重量部、およびシリコーン
系レベリング剤（信越化学工業株式会社製、商品名：KF
-96)0.0001重量部を塩化メチレン10重量部に溶解させる
ことによって、さらに別の塗布液６を調製した。得られ
た該塗布液６に、電荷発生層が形成された上記導電性基
体２を浸漬することにより、該塗布液６を塗布し、その
後、80℃で１時間乾燥させて、電荷輸送層を形成した。
これにより、膜厚24μｍの感光層３を有する感光体１を
得た。

【０１３６】得られた感光体１のマーキング領域４につ
いて評価した。その結果、感光体１のＳＮ値は0.40であ
り、塗膜表面粗度は、1.30μｍであった。また、初期確
認およびコピーテストを行ったところ、感光体１の寿命
に至るまで、初期の段階と同等の複写画像を得ることが
でき、特に不具合は生じなかった。以上の結果を表２に
示す。

【０１３７】〔実施例３〕 実施例２において、感光層３の膜厚を20μｍに形成した
以外は、実施例２と同様の製造方法を用いて感光体１を
作製した。

【０１３８】次いで、上記感光体１を、感光層３のガラ
ス転移温度で10時間放置（アニーリング）した後、感光
体１のマーキング領域４について評価した。その結果、
感光体１のＳＮ値は0.30であり、塗膜表面粗度は、2.40
μｍであった。また、初期確認およびコピーテストを行
ったところ、感光体１の寿命に至るまで、初期の段階と
同等の複写画像を得ることができ、特に不具合は生じな
かった。以上の結果を表２に示す。

【０１３９】〔比較例２〕 実施例３において、アニーリング処理を施さない以外
は、実施例３と同様の製造方法を用いて比較用の感光体
１を作製した。

【０１４０】この比較用の感光体１のマーキング領域４
について評価した。その結果、該感光体１のＳＮ値は0.
20と小さく、一方、塗膜表面粗度は、2.70μｍと大きか
った。また、初期確認およびコピーテストを行ったとこ
ろ、クリーニング不良が発生した。以上の結果を表２に
示す。

【０１４１】〔実施例４〕 実施例２において、導電性基体２に対して、レーザ光線
の出力条件を、電流値15.6Ａから15.4Ａに変更した以外
は、実施例２と同様の研削加工を施して、マーキング領
域４を形成した。次いで、この導電性基体２を使用し、
実施例２と同様の製造方法を用いて感光体１を作製し
た。

【０１４２】得られた感光体１のマーキング領域４につ
いて評価した。その結果、感光体１のＳＮ値は0.70であ
り、塗膜表面粗度は、0.90μｍであった。また、初期確
認およびコピーテストを行ったところ、感光体１の寿命
に至るまで、初期の段階と同等の複写画像を得ることが
でき、特に不具合は生じなかった。以上の結果を表２に
示す。

【０１４３】〔実施例５〕 実施例１において、マーキング領域４の形状を、導電性
基体２の円周方向に対して平行な、８mm×８mmの大きさ
の正方形から、導電性基体２の円周方向に対して、マー
キング領域４の上縁部がなす角度が15°である四角形に
変更した以外は、実施例１と同様の製造方法を用いて感
光体１を作製した。

【０１４４】得られた感光体１のマーキング領域４につ
いて評価した。その結果、感光体１のＳＮ値は0.30であ
り、塗膜表面粗度は、2.40μｍであった。また、初期確
認およびコピーテストを行ったところ、感光体１の寿命
に至るまで、初期の段階と同等の複写画像を得ることが
でき、特に不具合は生じなかった。以上の結果を表２に
示す。

【０１４５】〔実施例６〕 実施例１において、マーキング領域４の形状を、導電性
基体２の円周方向に対して平行な、８mm×８mmの大きさ
の正方形から、導電性基体２の円周方向に対して、マー
キング領域４の上縁部がなす角度が20°である四角形に
変更した以外は、実施例１と同様の製造方法を用いて感
光体１を作製した。

【０１４６】得られた感光体１のマーキング領域４につ
いて評価した。その結果、感光体１のＳＮ値は0.30であ
り、塗膜表面粗度は、2.40μｍであった。また、初期確
認およびコピーテストを行ったところ、感光体１の寿命
に至るまで、初期の段階と同等の複写画像を得ることが
でき、特に不具合は生じなかった。以上の結果を表２に
示す。

【０１４７】

【表２】

【０１４８】〔実施例７〕 外径50mm、長さ 348mm、肉厚 1.0mmのアルミニウム製の
円筒を、最大表面粗さが 0.2μｍとなるように、水溶性
加工油として液温８℃の「ソルブル系タブニーパナクー
ルＣＴ」（商品名；出光興産株式会社製）30％水溶液を
用いて切削加工することで鏡面仕上げして導電性基体２
とした。次に、導電性基体２表面の一部を粗面化してマ
ーキング領域４を形成した。即ち、導電性基体２の一方
の端から18mmの位置（画像形成域外、現像ギャップ保持
治具の接触域外、かつ、クリーニングブレード接触域）
にレーザ光線を照射して、導電性基体２の円周方向に対
して１つの辺が平行となるように、７mm×７mmの大きさ
を有する正方形のマーキング領域４を形成した。上記レ
ーザ光線の照射には、ＹＡＧレーザ（ＮＥＣ( 日本電気
株式会社) 製、SL-475G ）を用いた。このときの加工条
件は、電流値18.0Ａで、ドット９の直径を 200μｍ、図
６に示すドット９の間隔、即ち、ピッチａを200μｍ、
ピッチｂを 200μｍとした。上記導電性基体２につい
て、所定の方法により基体表面粗度を測定したところ、
1.8 μｍであった。

【０１４９】次に、所定の方法により導電性基体２を洗
浄した後、有機系光導電層としての積層型光導電層を、
いわゆる浸漬塗布方法により形成した。

【０１５０】尚、上記洗浄方法は、上記導電性基体２
を、長手方向を上下方向として、マーキング領域４が形
成された側が下方となるように保持し、洗浄液１８、洗
浄液２５、洗浄液３５、洗浄液４５の順に浸漬後まっす
ぐ上方（長手方向と平行）に引き上げることにより行っ
た。また、上記塗布方法は、上記導電性基体２を、長手
方向を上下方向として、マーキング領域４が形成された
側が下方となるように保持し、塗布液６に浸漬した後、
塗布液６からまっすぐ上方（長手方向と平行）に引き上
げることにより行った。

【０１５１】上記積層型光導電層の形成は、以下のよう
にして行った。先ず、電荷発生物質であるジブロムアン
トアントロン１重量部、バインダー樹脂であるブチラー
ル樹脂（積水化学株式会社製、商品名：エスレックBM-
2）１重量部、溶媒であるシクロヘキサノン120 重量部
を調合し、ボールミルにて12時間分散させることによっ
て、塗布液（分散液）６を調製した。次に、得られた塗
布液６に上記導電性基体２を浸漬し、引上げ速度８ｍｍ
／ｓｅｃで引き上げることにより、該塗布液６を塗布
し、その後、80℃で30分間乾燥させて、膜厚0.5 μｍの
電荷発生層を形成した。

【０１５２】次いで、ヒドラゾン系電荷輸送剤( 日本化
薬株式会社製、商品名：ABPH）１重量部、バインダー樹
脂であるポリカーボネート（帝人化成株式会社製、商品
名：パンライトL-1250 )１重量部、およびシリコーン系
レベリング剤（信越化学工業株式会社製、商品名：KF-9
6)0.00013 重量部を溶媒であるジクロロエタン８重量部
に加えて45℃に加熱して完全に溶解させた後、自然冷却
することにより、別の塗布液６を調製した。そして、得
られた別の塗布液６に、電荷発生層が形成された上記導
電性基体２を浸漬し、引上げ速度８ｍｍ／ｓｅｃで引き
上げることにより、該塗布液６を塗布し、その後、80℃
で１時間乾燥させて、電荷輸送層を形成した。これによ
り、膜厚23μｍの感光層３を有する感光体１を得た。

【０１５３】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行った
が、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以上の
結果を表３に示す。

【０１５４】〔比較例３〕 実施例７において、洗浄時に、導電性基体２を、長手方
向を上下方向として、マーキング領域４が形成された側
が上方となるように保持して浸漬洗浄を行った以外は、
実施例７と同様の製造方法を用いて比較用の感光体１を
作製した。

【０１５５】得られた比較用の感光体１について目視確
認を行ったところ、マーキング領域４の下側に液タレ１
５が確認された。また、得られた感光体１を複写機（シ
ャープ株式会社製、商品名：SF-2118 ）に搭載して画像
確認を行ったところ、マーキング領域４の下側の部分に
シミが確認された。その後、引続きエージング確認を行
ったが、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以
上の結果を表３に示す。

【０１５６】〔比較例４〕 実施例７において、塗布時に、導電性基体２を、長手方
向を上下方向として、マーキング領域４が形成された側
が上方となるように保持して浸漬塗布を行った以外は、
実施例７と同様の製造方法を用いて比較用の感光体１を
作製した。

【０１５７】得られた比較用の感光体１について目視確
認を行ったところ、マーキング領域４の下側に液タレ１
５が確認された。また、得られた感光体１を複写機（シ
ャープ株式会社製、商品名：SF-2118 ）に搭載して画像
確認を行ったところ、マーキング領域４の下側の部分に
シミが確認された。その後、引続きエージング確認を行
ったところ、３万枚付近から、感光層３の導電性基体２
からのうきが現れ、４万枚において感光層３の導電性基
体２からのはがれが発生した。以上の結果を表３に示
す。

【０１５８】〔実施例８〕 実施例７と同様の導電性基体２を用い、加工条件を、電
流値18.7Ａ、ドット９の直径を 200μｍ、ピッチａを 2
00μｍ、ピッチｂを 200μｍとした以外は、実施例７と
同様の研削加工を施して、導電性基体２にマーキング領
域４を形成した。上記導電性基体２について、所定の方
法により基体表面粗度を測定したところ、2.0 μｍであ
った。

【０１５９】次に、実施例７と同様の方法により上記導
電性基体２を洗浄した後、有機系光導電層としての積層
型光導電層を、いわゆる浸漬塗布方法により形成した。
尚、塗布液６の配合成分を変更した以外は、実施例７と
同様の条件とした。

【０１６０】上記積層型光導電層の形成は、以下のよう
にして行った。先ず、共重合ナイロン樹脂( 東レ株式会
社製、商品名：CM4000) ６重量部を溶媒であるメタノー
ル94重量部に溶解させることによって、塗布液６を調製
した。得られた塗布液６に上記導電性基体２を浸漬し、
引上げ速度８ｍｍ／ｓｅｃで引き上げることにより、該
塗布液６を塗布し、所定の条件で乾燥させて、膜厚1.0
μｍのバリアー層を形成した。

【０１６１】次いで、電荷発生物質であるクロロダイア
ンブルー（日本化薬株式会社製）２重量部、バインダー
樹脂であるポリエステル（東洋紡株式会社製、商品名：
バイロン200)１重量部、溶媒としてのエチレンジアミン
100 重量部を調合し、ボールミルにて８時間分散させる
ことによって、別の塗布液６を調製した。得られた別の
塗布液６に、バリアー層が形成された上記導電性基体２
を浸漬し、引上げ速度８ｍｍ／ｓｅｃで引き上げること
により、該塗布液６を塗布し、その後、80℃で30分間乾
燥させて、膜厚 0.4μｍの電荷発生層を形成した。

【０１６２】さらに、ブタジエン系電荷輸送剤である1,
1 −ビス( ｐ−ジエチルアミノフェニル) −4,4 −ジフ
ェニル− 1,3−ブタジエン( 高砂香料工業株式会社製)
１重量部、ポリカーボネート（帝人化成株式会社製、商
品名：パンライトL-1225）１重量部、およびシリコーン
系レベリング剤（信越化学工業株式会社製、商品名：KF
-96)0.0001重量部を塩化メチレン10重量部に溶解させる
ことによって、さらに別の塗布液６を調製した。得られ
た該塗布液６に、電荷発生層が形成された上記導電性基
体２を浸漬し、引上げ速度８ｍｍ／ｓｅｃで引き上げる
ことにより、該塗布液６を塗布し、その後、80℃で１時
間乾燥させて、電荷輸送層を形成した。これにより、膜
厚24μｍの感光層３を有する感光体１を得た。

【０１６３】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行ったと
ころ、３万枚付近から、感光層３の導電性基体２からの
僅かなうきが確認されたが、実使用上、問題とならない
程度であり、また、感光体１の寿命に至るまで、はがれ
は確認されなかった。以上の結果を表３に示す。

【０１６４】〔比較例５〕 実施例８において、塗布時に、導電性基体２を、長手方
向を上下方向として、マーキング領域４が形成された側
が上方となるように保持して浸漬塗布を行った以外は、
実施例８と同様の製造方法を用いて比較用の感光体１を
作製した。

【０１６５】得られた比較用の感光体１について目視確
認を行ったところ、マーキング領域４の下側に液タレ１
５が確認された。また、得られた感光体１を複写機（シ
ャープ株式会社製、商品名：SF-2118 ）に搭載して画像
確認を行ったところ、マーキング領域４の下側の部分に
シミ等の画像不良が確認された。その後、引続きエージ
ング確認を行ったところ、４万枚付近から、感光層３の
導電性基体２からのうきが現れ、５万枚において感光層
３の導電性基体２からのはがれが発生した。以上の結果
を表３に示す。

【０１６６】〔実施例９〕 実施例７と同様の導電性基体２を用い、図６に示すよう
に、マーキング領域４が上記導電性基体２の引上げ方向
に対して平行な未加工部分１０を有するように、ドット
９の直径を 200μｍ、ピッチａを 300μｍ、ピッチｂを
200μｍとした以外は、実施例７と同様の研削加工を施
して、導電性基体２にマーキング領域４を形成した。上
記導電性基体２について、所定の方法により基体表面粗
度を測定したところ、1.8 μｍであった。

【０１６７】次に、実施例７と同様の方法により上記導
電性基体２を洗浄した後、実施例７と同様の製造方法に
より積層型光導電層を形成して、感光体１を得た。

【０１６８】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行った
が、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以上の
結果を表３に示す。

【０１６９】〔実施例１０〕 実施例８と同様の導電性基体２を用い、図６に示すよう
に、マーキング領域４が上記導電性基体２の引上げ方向
に対して平行な未加工部分１０を有するように、ドット
９の直径を 200μｍ、ピッチａを 300μｍ、ピッチｂを
200μｍとした以外は、実施例８と同様の研削加工を施
して、導電性基体２にマーキング領域４を形成した。上
記導電性基体２について、所定の方法により基体表面粗
度を測定したところ、1.8 μｍであった。

【０１７０】次に、実施例８と同様の方法により上記導
電性基体２を洗浄した後、実施例８と同様の製造方法に
より積層型光導電層を形成して、感光体１を得た。

【０１７１】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行った
が、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以上の
結果を表３に示す。

【０１７２】〔実施例１１〕 実施例１０において、図７に示すように、マーキング領
域４が上記導電性基体２の引上げ方向に対して傾斜して
いる未加工部分１０を有するように、ドット９の直径を
200μｍ、ピッチａ' を 400μｍ、ピッチｂ' を 200μ
ｍとした以外は、実施例１０と同様の研削加工を施し
て、導電性基体２にマーキング領域４を形成した。上記
導電性基体２について、所定の方法により基体表面粗度
を測定したところ、1.5 μｍであった。

【０１７３】次に、実施例１０と同様の方法により上記
導電性基体２を洗浄した後、実施例１０と同様の製造方
法により積層型光導電層を形成して、感光体１を得た。

【０１７４】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行った
が、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以上の
結果を表３に示す。

【０１７５】〔実施例１２〕 実施例９において、マーキング領域４形成時に、導電性
基体２の引上げ方向、即ち、長手方向を上下（幅）方向
として、マーキング領域４の下端から 200μｍの位置
に、電流値18.0Ａで、幅 200μｍ、長さ７mm、深さ30.0
μｍの加工溝５１を形成した以外は、実施例９と同様の
研削加工を施して、導電性基体２にマーキング領域４を
形成した。上記導電性基体２について、所定の方法によ
り基体表面粗度を測定したところ、1.8 μｍであった。

【０１７６】次に、実施例９と同様の方法により上記導
電性基体２を洗浄した後、実施例９と同様の製造方法に
より積層型光導電層を形成して、感光体１を得た。

【０１７７】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行った
が、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以上の
結果を表３に示す。さらに、前記実施例７および実施例
９では、使用上、何ら問題がない程度ではあったが目視
で僅かな厚みムラが確認されたものの、本実施例では、
さらに厚みムラがなく、塗布状態がさらに良好であっ
た。また、タクトタイムをより短縮することができた。

【０１７８】〔実施例１３〕 実施例１２において、加工溝５１を導電性基体２の端縁
まで繋げた（即ち、マーキング領域４における加工溝５
１の両端部と繋がった、図９に示す加工溝５２を導電性
基体２の端縁までさらに設けた）以外は、実施例９と同
様の研削加工を施して、導電性基体２にマーキング領域
４を形成した。上記導電性基体２について、所定の方法
により基体表面粗度を測定したところ、1.8 μｍであっ
た。

【０１７９】次に、実施例１２と同様の方法により上記
導電性基体２を洗浄した後、実施例１２と同様の製造方
法により積層型光導電層を形成して、感光体１を得た。

【０１８０】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行った
が、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以上の
結果を表３に示す。さらに、本実施例では、前記実施例
１２と比較してより一層厚みムラがなく、塗布状態がさ
らに良好であった。また、より一層タクトタイムを短縮
することができた。

【０１８１】〔実施例１４〕 実施例７において、塗布時に、導電性基体２を、長手方
向を上下方向として、マーキング領域４が形成された側
が上方となるように保持すると共に、導電性基体２を塗
布液６から引上げる際に、マーキング領域４の下端まで
は８ｍｍ／ｓｅｃで導電性基体２を引上げ、マーキング
領域４の下端において１秒間停止させた後、再び８ｍｍ
／ｓｅｃで導電性基体２を引き上げることによって浸漬
塗布を行った以外は、実施例７と同様の製造方法を用い
て感光体１を作製した。

【０１８２】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行った
が、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以上の
結果を表３に示す。

【０１８３】〔実施例１５〕 実施例８において、塗布時に、導電性基体２を、長手方
向を上下方向として、マーキング領域４が形成された側
が上方となるように保持すると共に、導電性基体２を塗
布液６から引上げる際に、マーキング領域４の下端まで
は８ｍｍ／ｓｅｃで導電性基体２を引上げ、マーキング
領域４の下端において１秒間停止させた後、再び８ｍｍ
／ｓｅｃで導電性基体２を引き上げることによって浸漬
塗布を行った以外は、実施例８と同様の製造方法を用い
て感光体１を作製した。

【０１８４】得られた感光体１について目視確認を行っ
たところ、液タレ１５は確認されなかった。また、得ら
れた感光体１を複写機（シャープ株式会社製、商品名：
SF-2118 ）に搭載して画像確認を行ったところ、特に不
具合は生じなかった。引続きエージング確認を行った
が、感光層３のうき、はがれは発生しなかった。以上の
結果を表３に示す。

【０１８５】

【表３】

【０１８６】表２から明らかなように、塗膜表面粗度を
2.5 μｍ以下にし、かつ、ＳＮ値を0.3 〜0.7 の範囲内
に規定することで、感光体１を複写機等の電子写真装置
に使用した場合に、クリーニング不良やトナー落ち等の
不具合を生じないことが判った。即ち、該感光体１は、
塗膜表面粗度が2.5 μｍ以下で、かつＳＮ値が0.3 〜0.
7 の範囲内にあるので、感光層３の膜厚を薄くしても、
薄膜化による弊害（クリーニング不良やトナー落ち等の
不具合）を生じない、優れた特性を有している。

【０１８７】また、実施例３および比較例２の結果から
明らかなように、感光体１の製造過程において、膜厚等
の諸条件に応じて、感光層３を、アニーリングにより表
面処理することで、感光層３表面の平滑性等を向上させ
ることができる。

【０１８８】さらに、実施例５・６の結果から明らかな
ように、導電性基体２を、長手方向を上下方向として、
マーキング領域４が形成された側が下方となるように保
持し、塗布液６からまっすぐ上方（長手方向に平行）に
引き上げて浸漬塗布する場合に、マーキング領域４の上
縁部が導電性基体２の円周方向に対して平行とならない
ように形成されていることで、感光層３を形成する際
に、液タレ１５を防止することができる。

【０１８９】また、表３において、実施例７・８および
比較例３〜５の結果から明らかなように、導電性基体２
を洗浄または塗布液６を塗布する際に、該導電性基体２
を、長手方向を上下方向として、マーキング領域４が形
成された側が画像形成域よりも下方となるように保持し
て洗浄または塗布することで、液タレ１５やシミ等の画
像不良を防止することができると共に、感光層３の導電
性基体２からのうき、はがれを防止して、接着強度を良
好に保つことができる。

【０１９０】また、表３において、実施例９〜１１に示
すように、導電性基体２の引上げ方向に対して垂直とな
らないような連続した未加工部分１０、即ち、導電性基
体２の長手方向に対して平行または傾斜している未加工
部分１０を有するようにマーキング領域４を形成するこ
とで、例えば実施例８と実施例１０、または、実施例８
と実施例１１とを比較して判るように、液タレ１５やシ
ミ等の画像不良をさらに防止することができると共に、
感光層３の導電性基体２からのうき、はがれを防止し
て、接着強度をさらに良好に保つことができる。

【０１９１】また、実施例１２に示すように、マーキン
グ領域４内に、導電性基体２の引上げ方向に対して直行
する加工溝５１を設けることで、厚みムラを抑えて、塗
布状態をさらに良好に保つことができると共に、タクト
タイムを短縮させることができる。

【０１９２】さらに、実施例１３に示すように、上記加
工溝５１から導電性基体２の端縁まで繋がった加工溝６
１を設けることで、厚みムラをさらに抑え、塗布状態を
より一層良好に保つことができると共に、タクトタイム
をさらに短縮させることができる。

【０１９３】さらに、実施例１４〜１５に示すように、
導電性基体２に塗布液６を塗布する際に、導電性基体２
を塗布液６から引上げる速度を途中で変えることによ
り、該導電性基体２を、長手方向を上下方向として、マ
ーキング領域４が形成された側が上方となるように、つ
まり、マーキング領域４が画像形成域よりも下側となる
ように保持して塗布しなくても、液タレ１５やシミ等の
画像不良を防止することができると共に、感光層３の導
電性基体２からのうき、はがれを防止して、接着強度を
良好に保つことができる。

【０１９４】

【発明の効果】請求項１の発明にかかる電子写真用感光
体は、以上のように、感光層の膜厚が25μｍ以下である
一方、上記導電性基体は、第１表面部と、上記第１表面
部とは異なる光学的反射特性を有する第２表面部とを備
え、上記第２表面部に対応する位置に形成された感光層
の最大表面粗さが2.5 μｍ以下であり、かつ、第１表面
部の光学的反射率に対する第２表面部の光学的反射率の
比が、0.3 〜0.7 の範囲内にある構成である。

【０１９５】それゆえ、感光層の膜厚を薄く、25μｍ以
下とした場合においても、第２表面部に対応する位置に
形成された感光層の表面の平滑性等を高め、薄膜化によ
って生じるクリーニング不良やトナー落ち等の弊害を防
止することができる。また、このように、感光層の膜厚
を薄くした場合においても第２表面部を設けることがで
き、複写画質における文字の輪郭の美しさや鮮明さを向
上させることができる。従って、クリーニング不良やト
ナー落ち等の不具合を防止し、かつ、第２表面部の形成
位置を基準とした画像形成プロセス因子の制御を正確に
行うことができるので、常に安定した良好な複写画像を
得ることができるという効果を奏する。

【０１９６】請求項２の発明にかかる電子写真用感光体
は、以上のように、導電性基体は、第１表面部と、上記
第１表面部とは異なる光学的反射特性を有する第２表面
部とを備え、上記導電性基体における第２表面部の最大
表面粗さが12.7μｍ以下であると共に、上記第２表面部
に対応する位置に形成された感光層の最大表面粗さが2.
5 μｍ以下であり、かつ、第１表面部の光学的反射率に
対する第２表面部の光学的反射率の比が、0.3 〜0.7 の
範囲内にある構成である。

【０１９７】それゆえ、感光層の膜厚を薄く（例えば25
μｍ以下) した場合においても、第２表面部に対応する
位置に形成された感光層の表面の平滑性等を高め、薄膜
化によって生じるクリーニング不良やトナー落ち等の弊
害を防止することができる。

【０１９８】また、このように、感光層の膜厚を薄くし
た場合においても、第２表面部を設けることができ、複
写画質における文字の輪郭の美しさや鮮明さを向上させ
ることができる。従って、クリーニング不良やトナー落
ち等の不具合を防止し、かつ、第２表面部の形成位置を
基準とした画像形成プロセス因子の制御を正確に行うこ
とができるので、常に安定した良好な複写画像を得るこ
とができるという効果を奏する。

【０１９９】請求項３の発明にかかる電子写真用感光体
は、以上のように、感光層の膜厚が25μｍ以下である一
方、上記導電性基体は、第１表面部と、上記第１表面部
とは異なる光学的反射特性を有する第２表面部とを備
え、上記導電性基体における第 ２表面部の最大表面粗さ
が12.7μｍ以下であると共に、上記第２表面部に対応す
る位置に形成された感光層の最大表面粗さが2.5 μｍ以
下であり、かつ、第１表面部の光学的反射率に対する第
２表面部の光学的反射率の比が、0.3 〜0.7 の範囲内に
ある構成である。

【０２００】それゆえ、感光層の膜厚を薄く、25μｍ以
下とした場合においても、第２表面部に対応する位置に
形成された感光層の表面の平滑性等を高め、薄膜化によ
って生じるクリーニング不良やトナー落ち等の弊害を防
止することができる。また、このように、感光層の膜厚
を薄くした場合においても、第２表面部を設けることが
でき、複写画質における文字の輪郭の美しさや鮮明さを
向上させることができる。従って、クリーニング不良や
トナー落ち等の不具合を防止し、かつ、第２表面部の形
成位置を基準とした画像形成プロセス因子の制御を正確
に行うことができるので、常に安定した良好な複写画像
を得ることができるという効果を奏する。

【０２０１】請求項４の発明にかかる電子写真用感光体
は、以上のように、請求項１記載の構成に加えて、上記
感光層は、ガラス転移点近傍の温度でアニーリングする
ことにより表面処理されてなる構成である。

【０２０２】それゆえ、感光層表面の粗さをより一層抑
えることができる。即ち、請求項１の作用に加えて、電
子写真用感光体における平滑性等の表面性をより一層向
上させることができる。従って、画像形成プロセス因子
の制御に、より優れた性能を発揮することができるとい
う効果を奏する。

【０２０３】請求項５の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、以上のように、上記導電性基体を、上記
第２表面部の上縁部が重力方向に対して垂直とならない
状態に保持し、上記感光液を塗布する構成である。

【０２０４】そのため、過剰に塗布された感光液は、第
２表面部の上縁部を伝って流れ落ちる。そのため、請求
項１記載の電子写真用感光体を製造する際に、該感光体
の形状、感光層の形成時における該感光体の向き、およ
び上記第２表面部の形状や大きさに関係なく、塗布不良
（いわゆる液タレ現象）を防止することができる。従っ
て、画像形成プロセス因子の制御に、より優れた性能を
発揮することができるという効果を奏する。

【０２０５】請求項６の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、以上のように、洗浄および塗布の少なく
とも一方を行うに際して、上記導電性基体を、第２表面
部が重量方向に関して画像形成域より下側になるように
保持する構成である。

【０２０６】このため、たとえ第２表面部下側に洗浄・
塗布不良が起こったとしても、画像形成域外で起こるた
め、画像を損なうことがないという効果を奏する。

【０２０７】請求項７の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、以上のように、浸漬洗浄または浸漬塗布
する際の導電性基体の引上げ方向に対して垂直とはなら
ない方向に連続する未加工部分を有するように上記第２
表面部を形成する構成である。

【０２０８】このため、上記未加工部分を通じて洗浄液
や感光液が流れやすくなり、過剰な洗浄液や感光液が付
着せず、洗浄または塗布時の不良を無くすことができる
と共に、次の工程に移行するまでの時間を短くすること
ができるという効果を奏する。

【０２０９】請求項８の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、以上のように、上記第２表面部に、感光
層形成時の導電性基体の重力方向に直行する方向に第１
溝部を形成する構成である。

【０２１０】このため、過剰な感光液を第１溝部の両端
に集中させて流し落とすことができる。従って、塗布不
良が起こる部分の横幅（面積）を狭く（小さく）するこ
とができ、接着強度を向上させることができると共に、
次の工程に移行するまでの時間を短くすることができる
という効果を奏する。

【０２１１】請求項９の発明にかかる電子写真用感光体
の製造方法は、以上のように、請求項８記載の構成に加
えて、上記第１溝部に第２溝部を導電性基体の端縁まで
繋げて設ける構成である。

【０２１２】このため、上記第１溝部の両端に集中させ
た過剰な感光液を強制的に流し落とすことができる。従
って、接着強度をさらに向上させることができると共
に、次の工程に移行するまでの時間をさらに短くするこ
とができるという効果を奏する。

【０２１３】請求項１０の発明にかかる電子写真用感光
体は、以上のように、上記請求項５ないし９のいずれか
１項に記載の電子写真用感光体製造方法によって形成さ
れる構成である。

【０２１４】それゆえ、請求項５ないし９のいずれか１
項に記載の電子写真用感光体製造方法によって電子写真
用感光体を形成することができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例にかかる電子写真用感光体を
示す斜視図である。

【図２】上記電子写真用感光体の光学的反射特性を説明
する説明図である。

【図３】マーキング領域（第２表面）の最大表面粗さ
（基体表面粗度）と、マーキング領域に対応する位置に
形成された感光層の最大表面粗さ（塗膜表面粗度）との
関係、および非マーキング領域（第１表面）の反射率を
１とした場合のマーキング領域の相対的反射率（ＳＮ
値）との関係を示すグラフである。

【図４】マーキング領域が設けられた導電性基体への感
光液の塗布方法の一例を説明する説明図である。

【図５】図１に示す電子写真用感光体の形成過程におい
て用いられる洗浄装置の概略図である。

【図６】マーキング領域表面の加工状態の一例を説明す
る説明図である。

【図７】マーキング領域表面の加工状態の他の例を説明
する説明図である。

【図８】マーキング領域内に、第１溝部が形成されてい
ることを示す説明図である。

【図９】図８に示す第１溝部に繋げて、第２溝部が、導
電性基体の端縁まで形成されていることを示す説明図で
ある。

【符号の説明】

１ 感光体（電子写真用感光体） ２ 導電性基体 ３ 感光層 ４ マーキング領域（第２表面部） ５ 非マーキング領域（第１表面部） ６ 塗布液（感光液） ９ ドット １０ 未加工部分 １５ 液タレ １８ 洗浄液 ２５ 洗浄液 ３５ 洗浄液 ４５ 洗浄液 ５１ 加工溝（第１溝部） ５２ 加工溝（第２溝部）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 津越 正弥 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 黒川 誠 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−149136（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−120551（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−219248（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−255451（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/00 101 G03G 5/10

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】導電性基体上に、感光層が形成されてなる
   電子写真用感光体において、上記感光層の膜厚が25μｍ以下である一方、 上記導電性基体は、第１表面部と、上記第１表面部とは
   異なる光学的反射特性を有する第２表面部とを備え、 上記第２表面部に対応する位置に形成された感光層の最
   大表面粗さが2.5 μｍ以下であり、かつ、 第１表面部の光学的反射率に対する第２表面部の光学的
   反射率の比が、0.3 〜0.7 の範囲内にあることを特徴と
   する電子写真用感光体。
2. 【請求項２】導電性基体上に、感光層が形成されてなる
   電子写真用感光体において、 上記導電性基体は、第１表面部と、上記第１表面部とは
   異なる光学的反射特性を有する第２表面部とを備え、 上記導電性基体における第２表面部の最大表面粗さが1
   2.7μｍ以下であると共に、 上記第２表面部に対応する位置に形成された感光層の最
   大表面粗さが2.5 μｍ以下であり、かつ、 第１表面部の光学的反射率に対する第２表面部の光学的
   反射率の比が、0.3 〜0.7 の範囲内にあることを特徴と
   する電子写真用感光体。
3. 【請求項３】導電性基体上に、感光層が形成されてなる
   電子写真用感光体において、 上記感光層の膜厚が25μｍ以下である一方、 上記導電性基体は、第１表面部と、上記第１表面部とは
   異なる光学的反射特性を有する第２表面部とを備え、 上記導電性基体における第２表面部の最大表面粗さが1
   2.7μｍ以下であると共に、 上記第２表面部に対応する位置に形成された感光層の最
   大表面粗さが2.5 μｍ以下であり、かつ、 第１表面部の光学的反射率に対する第２表面部の光学的
   反射率の比が、0.3 〜0.7 の範囲内にあることを特徴と
   する電子写真用感光体。
4. 【請求項４】上記感光層は、ガラス転移点近傍の温度で
   アニーリングすることにより表面処理されてなることを
   特徴とする請求項１記載の電子写真用感光体。
5. 【請求項５】第１表面部と、上記第１表面部とは異なる
   光学的反射特性を有する第２表面部とを備えた導電性基
   体上に、感光液を塗布することにより感光層を形成する
   電子写真用感光体の製造方法において、 上記導電性基体を、上記第２表面部の上縁部が重力方向
   に対して垂直とならない状態に保持し、上記感光液を塗
   布することを特徴とする電子写真用感光体の製造方法。
6. 【請求項６】第１表面部を備えた導電性基体上に、上記
   第１表面部とは異なる光学的反射特性を有するように第
   ２表面部を形成し、洗浄後、この導電性基体上に感光液
   を塗布することにより感光層を形成する電子写真用感光
   体の製造方法において、 洗浄および塗布の少なくとも一方を行うに際して、上記
   導電性基体を、第２表面部が重量方向に関して画像形成
   域より下側になるように保持することを特徴とする電子
   写真用感光体の製造方法。
7. 【請求項７】第１表面部を備えた導電性基体上に、上記
   第１表面部とは異なる光学的反射特性を有するように第
   ２表面部を形成し、洗浄後、この導電性基体上に感光液
   を塗布することにより感光層を形成する電子写真用感光
   体の製造方法において、 浸漬洗浄または浸漬塗布する際の導電性基体の引上げ方
   向に対して垂直とはならない方向に連続する未加工部分
   を有するように上記第２表面部を形成することを特徴と
   する電子写真用感光体の製造方法。
8. 【請求項８】第１表面部を備えた導電性基体上に、上記
   第１表面部とは異なる光学的反射特性を有するように第
   ２表面部を形成し、この導電性基体上に感光液を塗布す
   ることにより感光層を形成する電子写真用感光体の製造
   方法において、 上記第２表面部に、感光層形成時の導電性基体の重力方
   向に直行する方向に第１溝部を形成することを特徴とす
   る電子写真用感光体の製造方法。
9. 【請求項９】上記第１溝部に第２溝部を導電性基体の端
   縁まで繋げて設けることを特徴とする請求項８記載の電
   子写真用感光体の製造方法。
10. 【請求項１０】上記請求項５ないし９のいずれか１項に
    記載の電子写真用感光体製造方法によって形成されるこ
    とを特徴とする電子写真用感光体。