JP3069692B2 - アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法 - Google Patents
アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法Info
- Publication number
- JP3069692B2 JP3069692B2 JP10364341A JP36434198A JP3069692B2 JP 3069692 B2 JP3069692 B2 JP 3069692B2 JP 10364341 A JP10364341 A JP 10364341A JP 36434198 A JP36434198 A JP 36434198A JP 3069692 B2 JP3069692 B2 JP 3069692B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alkynylmethyl
- protected
- carboxyl
- hydroxyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アルキニルメチル
基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法
に関する。
基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】多数の水酸基やカルボキシル基を有する
複雑な化合物を化学合成することは、それらの新たな機
能の発見に極めて重要である。合成を進める上で、種々
の化学変換や結合の形成反応を行う場合に、反応部位以
外の水酸基やカルボキシル基は、その過程で変化しない
ように、適当な保護基によって「保護」しておく必要が
ある。しかし、その後の合成段階において、その中の特
定の水酸基やカルボキシル基に結合を形成する必要が生
じた場合には、それらに結合した保護基を選択的、効率
的に除去して「脱保護」する必要がある。これらの保
護、脱保護を自由に、選択的に行って、複雑な化合物を
合成するには、独立に導入できて、必要に応じて温和な
条件で互いに独立に除去できる多種類の保護基が必要で
ある。しかしながら、この目的に適う十分な方法は得ら
れていない。
複雑な化合物を化学合成することは、それらの新たな機
能の発見に極めて重要である。合成を進める上で、種々
の化学変換や結合の形成反応を行う場合に、反応部位以
外の水酸基やカルボキシル基は、その過程で変化しない
ように、適当な保護基によって「保護」しておく必要が
ある。しかし、その後の合成段階において、その中の特
定の水酸基やカルボキシル基に結合を形成する必要が生
じた場合には、それらに結合した保護基を選択的、効率
的に除去して「脱保護」する必要がある。これらの保
護、脱保護を自由に、選択的に行って、複雑な化合物を
合成するには、独立に導入できて、必要に応じて温和な
条件で互いに独立に除去できる多種類の保護基が必要で
ある。しかしながら、この目的に適う十分な方法は得ら
れていない。
【０００３】
【発明が解決しようする課題】そこで、本発明は、水酸
基やカルボキシル基の新規な脱保護方法を提供し、これ
によって、従来は難しかった多くの水酸基やカルボキシ
ル基を有する化合物の効率的な合成等を可能にすること
を目的とする。
基やカルボキシル基の新規な脱保護方法を提供し、これ
によって、従来は難しかった多くの水酸基やカルボキシ
ル基を有する化合物の効率的な合成等を可能にすること
を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明者らは、鋭意研究を行った結果、アルキニル
メチル誘導体を使用することにより、以下の構成の本発
明を完成した。 （１）アルキニルメチル基をカルボキシル基あるいは水
酸基に結合させて「保護」した後、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 等
の金属錯体あるいは金属の存在下で、トリフルオロ酢酸
等の強酸を作用させることにより、カルボキシル基ある
いは水酸基を遊離させて「脱保護」することを特徴とす
る。 （２）「脱保護」に際して、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 を使用し
た場合には、アルキンコバルト錯体の形成を介してカル
ボキシル基あるいは水酸基が遊離されることを特徴とす
る。 （３）「脱保護」に際して、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 をＣＨ2
Ｃｌ2 等の非プロトン性溶媒に溶解させて作用させるこ
とを特徴とする。 （４）「保護」に際して、アルキニルメチル基がプロパ
ルギル基であると好ましい。 （５）上記の場合において、プロパルギルアルコールを
作用させることにより、これに結合しているプロパルギ
ル基を使用することを特徴とする。
め、本発明者らは、鋭意研究を行った結果、アルキニル
メチル誘導体を使用することにより、以下の構成の本発
明を完成した。 （１）アルキニルメチル基をカルボキシル基あるいは水
酸基に結合させて「保護」した後、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 等
の金属錯体あるいは金属の存在下で、トリフルオロ酢酸
等の強酸を作用させることにより、カルボキシル基ある
いは水酸基を遊離させて「脱保護」することを特徴とす
る。 （２）「脱保護」に際して、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 を使用し
た場合には、アルキンコバルト錯体の形成を介してカル
ボキシル基あるいは水酸基が遊離されることを特徴とす
る。 （３）「脱保護」に際して、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 をＣＨ2
Ｃｌ2 等の非プロトン性溶媒に溶解させて作用させるこ
とを特徴とする。 （４）「保護」に際して、アルキニルメチル基がプロパ
ルギル基であると好ましい。 （５）上記の場合において、プロパルギルアルコールを
作用させることにより、これに結合しているプロパルギ
ル基を使用することを特徴とする。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
下記の構造１で表されるアルキニルメチルアルコールを
カルボン酸２ａまたはアルコール２ｂと反応させると、
相当するアルキニルメチル誘導体３ａまたは３ｂとなっ
て、それぞれのカルボキシル基または水酸基が保護され
る。３ａ、３ｂはトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）を始め種
々の反応条件に安定であるが、コバルトカルボニル錯体
の存在下にＴＦＡを作用させると、迅速かつ効率よく脱
保護され、元のカルボン酸２ａまたはアルコール２ｂが
再生される。
下記の構造１で表されるアルキニルメチルアルコールを
カルボン酸２ａまたはアルコール２ｂと反応させると、
相当するアルキニルメチル誘導体３ａまたは３ｂとなっ
て、それぞれのカルボキシル基または水酸基が保護され
る。３ａ、３ｂはトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）を始め種
々の反応条件に安定であるが、コバルトカルボニル錯体
の存在下にＴＦＡを作用させると、迅速かつ効率よく脱
保護され、元のカルボン酸２ａまたはアルコール２ｂが
再生される。
【０００６】
【化１】
【０００７】なお、化学式中、Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 は、特に
制限されない。好ましくは、Ｒは、水素、アルキル基、
フェニル基、トリメチルシリル基等である。また、許容
されるアルキニルメチル基含有化合物を例示すると、塩
化アルキニルメチルの他、アルキニルメチルアルコール
等を挙げることができる。さらに、便宜上、２ａ、２ｂ
で示すカルボン酸、アルコールは一価としたが、一価に
限られず、多価であってもよい。例えば、Ｒ1 およびＲ
2 は、アルキル基等、飽和、不飽和、直鎖、分岐鎖、環
式の炭化水素、およびこれらの誘導体を包含する。
制限されない。好ましくは、Ｒは、水素、アルキル基、
フェニル基、トリメチルシリル基等である。また、許容
されるアルキニルメチル基含有化合物を例示すると、塩
化アルキニルメチルの他、アルキニルメチルアルコール
等を挙げることができる。さらに、便宜上、２ａ、２ｂ
で示すカルボン酸、アルコールは一価としたが、一価に
限られず、多価であってもよい。例えば、Ｒ1 およびＲ
2 は、アルキル基等、飽和、不飽和、直鎖、分岐鎖、環
式の炭化水素、およびこれらの誘導体を包含する。
【０００８】また、アルキニルメチル基の導入は、常法
により容易に行えるが、好ましくは、出発化合物をアル
キニルメチルアルコールに溶かし、酸を作用させるか、
出発化合物のカルボン酸を活性化した後、アルキニルメ
チルアルコールを作用させることで容易に行える。
により容易に行えるが、好ましくは、出発化合物をアル
キニルメチルアルコールに溶かし、酸を作用させるか、
出発化合物のカルボン酸を活性化した後、アルキニルメ
チルアルコールを作用させることで容易に行える。
【０００９】さらに、アルキニルメチル基を脱離させ
て、遊離のカルボキシル基あるいは水酸基を得るには、
ＣＨ2 Ｃｌ2 等の非プロトン性の溶媒に溶解したＣｏ2
（ＣＯ）8 等の金属錯体あるいは金属の存在下で、ＴＦ
Ａ等の強酸を作用させるが、金属あるいは金属錯体とし
ては、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 の他、酢酸亜鉛、酢酸銅亜鉛
（共に、酢酸溶媒中で亜鉛あるいは銅亜鉛として存在）
を使用でき、非プロトン性の溶媒としては、ＣＨ2 Ｃｌ
2 の他、ＴＨＦ等も使用でき、強酸としては、ＴＦＡの
他には、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＣＦ3 ＳＯ3 Ｈ等の強酸を使
用できる。
て、遊離のカルボキシル基あるいは水酸基を得るには、
ＣＨ2 Ｃｌ2 等の非プロトン性の溶媒に溶解したＣｏ2
（ＣＯ）8 等の金属錯体あるいは金属の存在下で、ＴＦ
Ａ等の強酸を作用させるが、金属あるいは金属錯体とし
ては、Ｃｏ2 （ＣＯ）8 の他、酢酸亜鉛、酢酸銅亜鉛
（共に、酢酸溶媒中で亜鉛あるいは銅亜鉛として存在）
を使用でき、非プロトン性の溶媒としては、ＣＨ2 Ｃｌ
2 の他、ＴＨＦ等も使用でき、強酸としては、ＴＦＡの
他には、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＣＦ3 ＳＯ3 Ｈ等の強酸を使
用できる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説
明する。実施例１において、プロパルギルアルコール３
（３１０μｌ、５．３２ｍｍｏｌ）をＤＣＣ（ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド）（１．４３ｇ、６．９３ｍｍ
ｏｌ）、ＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）（８
５．０ｍｇ、０．６９６ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン
（１５．０ｍｌ、２３４ｍｍｏｌ）に溶解し、これを表
１に示す出発化合物１（６５７ｍｇ、３．４８ｍｍｏ
ｌ）に、氷冷下で混合し、窒素雰囲気下、氷冷下、２時
間攪拌し、生成物４を１００％の収率で得た。なお、生
成物の精製は、中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより行った。実施例２において、出発化合物２
（５．２６ｇ、２０ｍｍｏｌ）をプロパルギルアルコー
ル３（５０ｍｌ、１６０ｍｍｏｌ）に溶解し、これに酸
として塩化トリメチルシリル（５．４３ｇ、１００ｍｍ
ｏｌ）を加え、室温で５時間攪拌し、減圧濃縮した。残
渣を塩化メチレンから再結晶して、生成物５を収率５７
％で得た。
明する。実施例１において、プロパルギルアルコール３
（３１０μｌ、５．３２ｍｍｏｌ）をＤＣＣ（ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド）（１．４３ｇ、６．９３ｍｍ
ｏｌ）、ＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）（８
５．０ｍｇ、０．６９６ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン
（１５．０ｍｌ、２３４ｍｍｏｌ）に溶解し、これを表
１に示す出発化合物１（６５７ｍｇ、３．４８ｍｍｏ
ｌ）に、氷冷下で混合し、窒素雰囲気下、氷冷下、２時
間攪拌し、生成物４を１００％の収率で得た。なお、生
成物の精製は、中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより行った。実施例２において、出発化合物２
（５．２６ｇ、２０ｍｍｏｌ）をプロパルギルアルコー
ル３（５０ｍｌ、１６０ｍｍｏｌ）に溶解し、これに酸
として塩化トリメチルシリル（５．４３ｇ、１００ｍｍ
ｏｌ）を加え、室温で５時間攪拌し、減圧濃縮した。残
渣を塩化メチレンから再結晶して、生成物５を収率５７
％で得た。
【００１１】実施例１の生成物４を出発化合物４とし
て、実施例３において、表２記載の条件で反応させ、カ
ルボキシル基を遊離させた。具体的には、次のとおりで
ある。７％のＴＦＡを含んだＣＨ2 Ｃｌ2 中に出発化合
物４（５０．４ｍｇ、２２２μｍｏｌ）を溶解し、これ
に窒素雰囲気下でＣｏ2 （ＣＯ）8 （８０．０ｍｇ、２
３４μｍｏｌ）を添加する。これを室温で３０分間攪拌
した後、ＮａＨＣＯ3 の飽和水溶液と酢酸エチルを添加
した。有機層をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥
し、真空中で濃縮し、生成物１（４３．８ｍｇ、収率９
９％）を得た。ここで、ＴＦＡとＣｏ2 （ＣＯ）8 の添
加順序を逆にすると、副生成物を生じ、好ましくない。
なお、開裂したアルキンコバルト錯体は真空排気によっ
て除去した。
て、実施例３において、表２記載の条件で反応させ、カ
ルボキシル基を遊離させた。具体的には、次のとおりで
ある。７％のＴＦＡを含んだＣＨ2 Ｃｌ2 中に出発化合
物４（５０．４ｍｇ、２２２μｍｏｌ）を溶解し、これ
に窒素雰囲気下でＣｏ2 （ＣＯ）8 （８０．０ｍｇ、２
３４μｍｏｌ）を添加する。これを室温で３０分間攪拌
した後、ＮａＨＣＯ3 の飽和水溶液と酢酸エチルを添加
した。有機層をブラインで洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥
し、真空中で濃縮し、生成物１（４３．８ｍｇ、収率９
９％）を得た。ここで、ＴＦＡとＣｏ2 （ＣＯ）8 の添
加順序を逆にすると、副生成物を生じ、好ましくない。
なお、開裂したアルキンコバルト錯体は真空排気によっ
て除去した。
【００１２】実施例４は、出発化合物５（０．２６ｇ、
１ｍｍｏｌ）を用いた他は、実施例３と同様にして、水
酸基を遊離させた。一方、本発明にかかる保護状態にお
いて、両化合物４、５は、室温で４８時間、単独のＴＦ
Ａに対して安定であった。また、他の保護基は、本発明
にかかる保護、脱保護の条件下で、安定であった。
１ｍｍｏｌ）を用いた他は、実施例３と同様にして、水
酸基を遊離させた。一方、本発明にかかる保護状態にお
いて、両化合物４、５は、室温で４８時間、単独のＴＦ
Ａに対して安定であった。また、他の保護基は、本発明
にかかる保護、脱保護の条件下で、安定であった。
【００１３】
【表１】
【００１４】
【表２】
【００１５】このように、プロパルギル基は、カルボキ
シル基および水酸基の保護基として優れていることがか
わる。なお、本発明の保護基により保護されている状態
では、種々のルイス酸、ｍ−クロロ過安息香酸による酸
化反応、ＢＨ3 ・ＨＮＭｅ2 −ＢＦ3 −Ｅｔ2 Ｏを用い
る還元反応、ＨＣｌ等に対して安定である。
シル基および水酸基の保護基として優れていることがか
わる。なお、本発明の保護基により保護されている状態
では、種々のルイス酸、ｍ−クロロ過安息香酸による酸
化反応、ＢＨ3 ・ＨＮＭｅ2 −ＢＦ3 −Ｅｔ2 Ｏを用い
る還元反応、ＨＣｌ等に対して安定である。
【００１６】
【発明の効果】従来から知られていたｔ−ブトキシカル
ボニル基等は、保護基として使用でき、ＴＦＡの作用で
迅速かつ効率よく除去できるが、本発明のアルキルメチ
ル基は、そのままではＴＦＡ等に対して安定で、酸性条
件下での変換反応に対して、カルボキシル基や水酸基を
保護することができるにもかかわらず、必要に応じてコ
バルトカルボニル錯体等を作用させれば、同じＴＦＡ等
によって容易に除去して、カルボキシル基や水酸基を再
生することができる。この保護基を使用することによっ
て、糖質などの複雑な化合物の合成経路設計が大幅に自
由になる。
ボニル基等は、保護基として使用でき、ＴＦＡの作用で
迅速かつ効率よく除去できるが、本発明のアルキルメチ
ル基は、そのままではＴＦＡ等に対して安定で、酸性条
件下での変換反応に対して、カルボキシル基や水酸基を
保護することができるにもかかわらず、必要に応じてコ
バルトカルボニル錯体等を作用させれば、同じＴＦＡ等
によって容易に除去して、カルボキシル基や水酸基を再
生することができる。この保護基を使用することによっ
て、糖質などの複雑な化合物の合成経路設計が大幅に自
由になる。
Claims (7)
- 【請求項１】 アルキニルメチル基をカルボキシル基あ
るいは水酸基に結合させた後、金属または金属錯体の存
在下で、強酸を作用させることにより、カルボキシル基
あるいは水酸基を遊離させることを特徴とするアルキニ
ルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱
保護方法。 - 【請求項２】 前記金属錯体がＣｏ2 （ＣＯ）8 であ
り、前記強酸がトリフルオロ酢酸であることを特徴とす
る請求項１記載のアルキニルメチル基で保護したカルボ
キシル基および水酸基の脱保護方法。 - 【請求項３】 アルキンコバルト錯体の形成を介してカ
ルボキシル基あるいは水酸基が遊離されることを特徴と
する請求項２記載のアルキニルメチル基で保護したカル
ボキシル基および水酸基の脱保護方法。 - 【請求項４】 Ｃｏ2 （ＣＯ）8 を、非プロトン性溶媒
の溶液として使用することを特徴とする請求項２または
３記載のアルキニルメチル基で保護したカルボキシル基
および水酸基の脱保護方法。 - 【請求項５】 前記非プロトン性溶媒がＣＨ2 Ｃｌ2 で
あることを特徴とする請求項４記載のアルキニルメチル
基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方
法。 - 【請求項６】 アルキニルメチル基がプロパルギル基で
あることを特徴とする請求項１〜５のうちいずれか１項
に記載のアルキニルメチル基で保護したカルボキシル基
および水酸基の脱保護方法。 - 【請求項７】 プロパルギル基を、プロパルギルアルコ
ールから得ることを特徴とする請求項６記載のアルキニ
ルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱
保護方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10364341A JP3069692B2 (ja) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10364341A JP3069692B2 (ja) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000186050A JP2000186050A (ja) | 2000-07-04 |
| JP3069692B2 true JP3069692B2 (ja) | 2000-07-24 |
Family
ID=18481584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10364341A Expired - Lifetime JP3069692B2 (ja) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3069692B2 (ja) |
-
1998
- 1998-12-22 JP JP10364341A patent/JP3069692B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000186050A (ja) | 2000-07-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03176495A (ja) | ドーパミン及びドーパミン誘導体の４―０―リン酸エステルの製造方法 | |
| JP2979139B2 (ja) | Ｌ−パラボロノフェニルアラニンの製造方法 | |
| JP3069692B2 (ja) | アルキニルメチル基で保護したカルボキシル基および水酸基の脱保護方法 | |
| WO2003016246A1 (en) | Fluorous nucleophilic substitution of alcohols and reagents for use therein | |
| JPS62265240A (ja) | カルボン酸の還元方法 | |
| JP3054704B1 (ja) | アルキニルメチルオキシカルボニル基で保護したアミノ基および水酸基の脱保護方法 | |
| EP0769003B1 (en) | Amino acid-derived diaminopropanols | |
| JP3193597B2 (ja) | グリシン誘導体の製造方法 | |
| JP4362270B2 (ja) | トリオルガノシリル不飽和カルボキシレートの製造法 | |
| KR100407720B1 (ko) | Ｎ-[3-｛3-（1-피페리디닐메틸）페녹시｝프로필]아세톡시아세트아미드의 제조방법 | |
| JP4163113B2 (ja) | 新規化合物及びその製造方法 | |
| JP4534024B2 (ja) | 化合物の分離用担体および化合物の分離方法 | |
| JP3503994B2 (ja) | Ｎ−モノ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアルキレンジアミンの精製法 | |
| JP2013512883A (ja) | コンブレタスタチン誘導体調製方法 | |
| JP2770357B2 (ja) | ヌクレオシド誘導体の製造方法 | |
| JPH08245612A (ja) | ２−デオキシ−２，２−ジフルオロ−β−Ｄ−リボ−ペントピラノースの製造法 | |
| JP2010031004A (ja) | 新規イミダゾール誘導体及びその製造方法並びに該イミダゾール誘導体を利用したヒスチジンアミド誘導体の製造方法 | |
| KR100601192B1 (ko) | 알라세프릴의 신규한 제조 방법 | |
| JP2797559B2 (ja) | ニトロン化合物およびその製造法 | |
| JP2004277317A (ja) | ニコチアナミンの製造方法 | |
| JP2617017B2 (ja) | ソルビン酸の還元方法 | |
| JP2022035954A (ja) | Ｎ－Ｂｏｃ－ラクタム誘導体及びその製造方法、並びに、環状アミン誘導体の製造方法 | |
| JP3013760B2 (ja) | ４−ヒドロキシ−２−ピロリドンの製法 | |
| JPS6351146B2 (ja) | ||
| JPH06135856A (ja) | 芳香族フロル化合物の新しい製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000418 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S631 | Written request for registration of reclamation of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |