JP3068289B2 - 熱間連続仕上圧延機の入側温度制御方法 - Google Patents
熱間連続仕上圧延機の入側温度制御方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、帯鋼を熱間連続圧延
する際の被圧延材の温度制御方法に係わり、特に仕上圧
延機に供給する被圧延材の温度を所定の目標温度に維持
しながら、仕上圧延機の入側における待機時間をできる
だけ短くすることができる温度制御方法に関するもので
ある。
する際の被圧延材の温度制御方法に係わり、特に仕上圧
延機に供給する被圧延材の温度を所定の目標温度に維持
しながら、仕上圧延機の入側における待機時間をできる
だけ短くすることができる温度制御方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】熱間連続仕上圧延機（以下単に仕上圧延
機と称する）に供給する被圧延材は、先行圧延材の尾端
と衝突しないための、いわゆるミルペーシング制御の規
制に基づく仕上圧延機入側待機時間（以下ＭＰＣ待機時
間）と、要求される材質を得るとともに二次スケールの
発生を抑制するために定められた仕上圧延機入側目標温
度の規制に基づく待機時間（ＦＥＴ待機時間）とによっ
て制約を受け、いずれか長い方の時間、仕上圧延機入側
のディレーテーブル上で待機させる必要がある。
機と称する）に供給する被圧延材は、先行圧延材の尾端
と衝突しないための、いわゆるミルペーシング制御の規
制に基づく仕上圧延機入側待機時間（以下ＭＰＣ待機時
間）と、要求される材質を得るとともに二次スケールの
発生を抑制するために定められた仕上圧延機入側目標温
度の規制に基づく待機時間（ＦＥＴ待機時間）とによっ
て制約を受け、いずれか長い方の時間、仕上圧延機入側
のディレーテーブル上で待機させる必要がある。
【０００３】従来は、例えば特開昭62−289308号公報等
に示す如く、前記ＦＥＴ待機時間はＭＰＣの一条件とし
て扱われ、特にＦＥＴ待機時間を制御することはなかっ
た。
に示す如く、前記ＦＥＴ待機時間はＭＰＣの一条件とし
て扱われ、特にＦＥＴ待機時間を制御することはなかっ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記ＭＰＣ待機時間は
仕上圧延機により相前後して圧延される被圧延材のパス
スケジュールやミル能力等によって必然的に決まり、こ
れは避けることができないものであるが、ＦＥＴ待機時
間はその目標温度さえ得られるのであれば短縮すること
が可能であるにもかかわらず、ディレーテーブル上で被
圧延材を放冷により冷却して目標温度まで低下するのを
待っていた。
仕上圧延機により相前後して圧延される被圧延材のパス
スケジュールやミル能力等によって必然的に決まり、こ
れは避けることができないものであるが、ＦＥＴ待機時
間はその目標温度さえ得られるのであれば短縮すること
が可能であるにもかかわらず、ディレーテーブル上で被
圧延材を放冷により冷却して目標温度まで低下するのを
待っていた。
【０００５】通常の圧延の場合、ＦＥＴ確保の必要上粗
圧延機では高温側で圧延されるため、ＦＥＴ待機時間が
ＭＰＣ待機時間より長くなることが多い。従って仕上圧
延機ではＦＥＴ待機時間によって圧延ピッチが左右さ
れ、生産性が阻害されることになる。特に被圧延材の先
端部は加熱炉内で炉壁からの輻射熱の影響を受けるため
に中央部より高温となっており、自動板厚制御のための
ロックオン板厚やロックオン荷重を正確に得るために
も、また、先端のテーブルローラ間への突込を防止する
ためにもＦＥＴは正しく管理する必要がある。
圧延機では高温側で圧延されるため、ＦＥＴ待機時間が
ＭＰＣ待機時間より長くなることが多い。従って仕上圧
延機ではＦＥＴ待機時間によって圧延ピッチが左右さ
れ、生産性が阻害されることになる。特に被圧延材の先
端部は加熱炉内で炉壁からの輻射熱の影響を受けるため
に中央部より高温となっており、自動板厚制御のための
ロックオン板厚やロックオン荷重を正確に得るために
も、また、先端のテーブルローラ間への突込を防止する
ためにもＦＥＴは正しく管理する必要がある。
【０００６】この発明は、仕上圧延機入側スケールブレ
ーカを利用することにより、上述従来の技術における課
題を解決したもので、ＦＥＴ待機時間をできるだけＭＰ
Ｃ待機時間に近づけることにより生産性の阻害を極力防
止できる仕上圧延機の入側温度制御方法を提供すること
を目的とするものである。
ーカを利用することにより、上述従来の技術における課
題を解決したもので、ＦＥＴ待機時間をできるだけＭＰ
Ｃ待機時間に近づけることにより生産性の阻害を極力防
止できる仕上圧延機の入側温度制御方法を提供すること
を目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、熱間連続仕
上圧延機の入側温度制御方法であって、仕上圧延機の入
側に複数本数の高圧水噴射用デスケーリングヘッダを選
択使用可能に設置するとともに、このデスケーリングヘ
ッダのさらに入側で被圧延材の温度を測定し、この測定
温度と仕上圧延機入側目標温度とから温度規制に基づく
仕上圧延機入側待機時間をミルペーシング制御の規制に
基づく仕上圧延機入側待機時間に近づけるために必要な
冷却能力が得られる前記デスケーリングヘッダの組合せ
を選択し、この選択したデスケーリングヘッダを用いて
高圧水を噴射しながら被圧延材を通板させることによ
り、前述従来の技術の課題を克服し、さらに、測定温度
が被圧延材先端部の温度であり、かつ、デスケーリング
ヘッダの組合せを選択して高圧水を噴射するとともに、
被圧延材先端部ではその搬送速度を調整して通板させる
ようにして仕上圧延機へ供給する被圧延材の待機時間を
ミルペーシング制御の規制に基づく待機時間に一層近づ
けることができたものである。
上圧延機の入側温度制御方法であって、仕上圧延機の入
側に複数本数の高圧水噴射用デスケーリングヘッダを選
択使用可能に設置するとともに、このデスケーリングヘ
ッダのさらに入側で被圧延材の温度を測定し、この測定
温度と仕上圧延機入側目標温度とから温度規制に基づく
仕上圧延機入側待機時間をミルペーシング制御の規制に
基づく仕上圧延機入側待機時間に近づけるために必要な
冷却能力が得られる前記デスケーリングヘッダの組合せ
を選択し、この選択したデスケーリングヘッダを用いて
高圧水を噴射しながら被圧延材を通板させることによ
り、前述従来の技術の課題を克服し、さらに、測定温度
が被圧延材先端部の温度であり、かつ、デスケーリング
ヘッダの組合せを選択して高圧水を噴射するとともに、
被圧延材先端部ではその搬送速度を調整して通板させる
ようにして仕上圧延機へ供給する被圧延材の待機時間を
ミルペーシング制御の規制に基づく待機時間に一層近づ
けることができたものである。
【０００８】
【作用】仕上圧延機の入側に設置した複数本数のデスケ
ーリングヘッダは、上下１組または複数本数を組合せて
選択使用が可能なようにし、デスケーリングと同時に被
圧延材を広範囲な冷却能力の選択の下に必要な冷却が実
施できるようにしてある。そして、デスケーリングヘッ
ダのさらに入側で被圧延材の温度を測定する。この温度
測定位置は被圧延材の先端部であることが望ましい。こ
れは前述の如く先端部の温度が高いこと、自動板厚制御
のためのロックオン板厚やロックオン荷重を正確に得ら
れること、先端のテーブルローラ間への突込を防止する
こと等の理由による。
ーリングヘッダは、上下１組または複数本数を組合せて
選択使用が可能なようにし、デスケーリングと同時に被
圧延材を広範囲な冷却能力の選択の下に必要な冷却が実
施できるようにしてある。そして、デスケーリングヘッ
ダのさらに入側で被圧延材の温度を測定する。この温度
測定位置は被圧延材の先端部であることが望ましい。こ
れは前述の如く先端部の温度が高いこと、自動板厚制御
のためのロックオン板厚やロックオン荷重を正確に得ら
れること、先端のテーブルローラ間への突込を防止する
こと等の理由による。
【０００９】このようにして測定した温度から、その後
の被圧延材の搬送中の放冷ならびに通常のデスケーリン
グによる冷却を考慮して所定のＦＥＴが得られるＦＥＴ
待機時間を求める。そしてこのＦＥＴ待機時間を可能な
限りＭＰＣ待機時間に近づけることができるような冷却
能力が得られるデスケーリングヘッダの組合せを選択す
る。この場合、ＦＥＴ待機時間の代りに前記測定温度と
この被圧延材のＭＰＣ待機時間から仕上圧延機入側での
温度を推定し、この推定温度をＦＥＴに近づけるに必要
な冷却能力からデスケーリングヘッダの組合せを選択し
ても全く同じことである。このようにして選択したデス
ケーリングヘッダを用いて高圧水を噴射しながら被圧延
材を通板させることにより、ＦＥＴ待機時間を極力ＭＰ
Ｃ待機時間に近づけることが可能となる。
の被圧延材の搬送中の放冷ならびに通常のデスケーリン
グによる冷却を考慮して所定のＦＥＴが得られるＦＥＴ
待機時間を求める。そしてこのＦＥＴ待機時間を可能な
限りＭＰＣ待機時間に近づけることができるような冷却
能力が得られるデスケーリングヘッダの組合せを選択す
る。この場合、ＦＥＴ待機時間の代りに前記測定温度と
この被圧延材のＭＰＣ待機時間から仕上圧延機入側での
温度を推定し、この推定温度をＦＥＴに近づけるに必要
な冷却能力からデスケーリングヘッダの組合せを選択し
ても全く同じことである。このようにして選択したデス
ケーリングヘッダを用いて高圧水を噴射しながら被圧延
材を通板させることにより、ＦＥＴ待機時間を極力ＭＰ
Ｃ待機時間に近づけることが可能となる。
【００１０】さらに細かく温度制御を行う場合には、上
述の如くデスケーリングヘッダの組合せを選択した上
で、デスケーリング中の冷却を調整するために被圧延材
先端部がデスケーリングヘッダの位置を通過する際にロ
ーラテーブルの搬送速度を調整する。例えば、選択した
デスケーリングヘッダの組合せでは若干過冷却になる場
合はローラテーブルの搬送速度を速く、冷却不足の場合
は遅くして噴射されている高圧水の中を通板させること
により、前記ＭＰＣ待機時間にほぼ等しいか、または少
し長い待機時間として精度のよいＦＥＴが得られる。
述の如くデスケーリングヘッダの組合せを選択した上
で、デスケーリング中の冷却を調整するために被圧延材
先端部がデスケーリングヘッダの位置を通過する際にロ
ーラテーブルの搬送速度を調整する。例えば、選択した
デスケーリングヘッダの組合せでは若干過冷却になる場
合はローラテーブルの搬送速度を速く、冷却不足の場合
は遅くして噴射されている高圧水の中を通板させること
により、前記ＭＰＣ待機時間にほぼ等しいか、または少
し長い待機時間として精度のよいＦＥＴが得られる。
【００１１】なお、被圧延材の先端部以外ではそれほど
正確にＦＥＴが要求されないので、先端部のみの測定温
度で代表させることもできるし、必要に応じてサンプリ
ング的に測温してデスケーリングヘッダの使用組合せを
変更することもでき、また、先端部以外では上乗り水の
ために冷却され易いので、先端部の通過後上下１〜２組
のデスケーリングヘッダからの高圧水の噴射を自動停止
させるようにしてもよい。但し、搬送速度については被
圧延材の先端がすでに仕上圧延機に噛込まれているの
で、圧延速度に依存することは勿論である。
正確にＦＥＴが要求されないので、先端部のみの測定温
度で代表させることもできるし、必要に応じてサンプリ
ング的に測温してデスケーリングヘッダの使用組合せを
変更することもでき、また、先端部以外では上乗り水の
ために冷却され易いので、先端部の通過後上下１〜２組
のデスケーリングヘッダからの高圧水の噴射を自動停止
させるようにしてもよい。但し、搬送速度については被
圧延材の先端がすでに仕上圧延機に噛込まれているの
で、圧延速度に依存することは勿論である。
【００１２】ここで、先端部の測温位置は被圧延材先端
から約１〜２ｍの位置で特に厳密なものではなく、また
先端部の長さは仕上圧延機を出たときの長さに換算して
約40〜 100ｍに相当する長さである。
から約１〜２ｍの位置で特に厳密なものではなく、また
先端部の長さは仕上圧延機を出たときの長さに換算して
約40〜 100ｍに相当する長さである。
【００１３】
【実施例】図１にこの発明を実施するための仕上圧延機
入側設備の配置例を示し、図２にデスケーリングヘッダ
の選択例を、また図３にはさらに被圧延材先端部の搬送
速度調整を追加した場合の例を示す。図１において、Ｆ
は仕上圧延機でありＦ1 は第１スタンド，Ｆ2 は第２ス
タンドでその後段の各スタンドは図示を省略してある。
またＦＳはフライングシヤであり被圧延材Ｓ先端のクロ
ップを切断除去する。このような仕上圧延機Ｆの入側
に、この例では仕上入側スケールブレーカＦＳＢとして
上下４組のデスケーリングヘッダ21〜24を設置し、それ
ぞれの管路31〜34に遮断弁41〜44を設置して４組のデス
ケーリングヘッダ21〜24を１組または複数組の組合せで
選択的に使用可能にしてある。10はデスケーリングヘッ
ダ21〜24のさらに入側に設けた放射温度計であり、次に
仕上圧延機Ｆに供給される被圧延材Ｓ2 の測温を行いこ
の測温結果を演算機11へ伝送する。演算機11ではこの演
算機かまたはさらに上位の演算機で圧延スケジュールか
ら求めたＭＰＣ待機時間ＴＭと、ＦＥＴを記憶させてあ
り、一方、デスケーリングヘッダの各組合せによる冷却
能力ＳＢが例えば下記の如くに入力されている。従っ
て、この被圧延材の板厚，温度，通板速度等からそのと
きの冷却能力は容易に算出可能である。
入側設備の配置例を示し、図２にデスケーリングヘッダ
の選択例を、また図３にはさらに被圧延材先端部の搬送
速度調整を追加した場合の例を示す。図１において、Ｆ
は仕上圧延機でありＦ1 は第１スタンド，Ｆ2 は第２ス
タンドでその後段の各スタンドは図示を省略してある。
またＦＳはフライングシヤであり被圧延材Ｓ先端のクロ
ップを切断除去する。このような仕上圧延機Ｆの入側
に、この例では仕上入側スケールブレーカＦＳＢとして
上下４組のデスケーリングヘッダ21〜24を設置し、それ
ぞれの管路31〜34に遮断弁41〜44を設置して４組のデス
ケーリングヘッダ21〜24を１組または複数組の組合せで
選択的に使用可能にしてある。10はデスケーリングヘッ
ダ21〜24のさらに入側に設けた放射温度計であり、次に
仕上圧延機Ｆに供給される被圧延材Ｓ2 の測温を行いこ
の測温結果を演算機11へ伝送する。演算機11ではこの演
算機かまたはさらに上位の演算機で圧延スケジュールか
ら求めたＭＰＣ待機時間ＴＭと、ＦＥＴを記憶させてあ
り、一方、デスケーリングヘッダの各組合せによる冷却
能力ＳＢが例えば下記の如くに入力されている。従っ
て、この被圧延材の板厚，温度，通板速度等からそのと
きの冷却能力は容易に算出可能である。
【００１４】(1) ＳＢ1 ＝24のみを使用したとき (2) ＳＢ2 ＝24と22とを使用したとき (3) ＳＢ3 ＝24と23とを使用したとき (4) ＳＢ4 ＝24と22と23とを使用したとき (5) ＳＢ5 ＝全てのデスケーリングヘッダを使用したと
き そして演算機11では、温度計10の測定温度とＦＥＴから
通常使用するデスケーリングヘッダ（この例では(1) ）
を使用してデスケーリングを行いながら搬送した場合の
ＦＥＴ待機時間Ｔを求め、このＴが先行圧延材Ｓ1 と衝
突しないためのＭＰＣ待機時間にできるだけ近づけるよ
うに、前記デスケーリングヘッダの組合せを選択する。
この場合の例を図２に示す。図２において、前記したよ
うにデスケーリングヘッダ24のみを使用した(1) のとき
の冷却能力はＳＢ1 で、この場合のＦＥＴ待機時間はＴ
1 となり、ＭＰＣ待機時間ＴＭよりＴｄだけ長くなって
いる。そこで演算機11は、デスケーリングヘッダの組合
せの中からＴＭよりも長くて最も近い待機時間が得られ
る冷却能力ＳＢ3 である組合せ(3)を選択する。すなわ
ち、待機時間はＴ3 となりＴｄ′の時間節約ができるこ
とになる。なお、以上の説明はＦＥＴ待機時間Ｔ1 を求
めてこれをＴＭに近づけた場合について行ったが、所定
のＴＭにより待機させた場合の被圧延材の温度を推定し
て、この温度がＦＥＴとなるようにデスケーリングヘッ
ダの組合せを選択しても同様な結果が得られることは前
述のとおりである。
き そして演算機11では、温度計10の測定温度とＦＥＴから
通常使用するデスケーリングヘッダ（この例では(1) ）
を使用してデスケーリングを行いながら搬送した場合の
ＦＥＴ待機時間Ｔを求め、このＴが先行圧延材Ｓ1 と衝
突しないためのＭＰＣ待機時間にできるだけ近づけるよ
うに、前記デスケーリングヘッダの組合せを選択する。
この場合の例を図２に示す。図２において、前記したよ
うにデスケーリングヘッダ24のみを使用した(1) のとき
の冷却能力はＳＢ1 で、この場合のＦＥＴ待機時間はＴ
1 となり、ＭＰＣ待機時間ＴＭよりＴｄだけ長くなって
いる。そこで演算機11は、デスケーリングヘッダの組合
せの中からＴＭよりも長くて最も近い待機時間が得られ
る冷却能力ＳＢ3 である組合せ(3)を選択する。すなわ
ち、待機時間はＴ3 となりＴｄ′の時間節約ができるこ
とになる。なお、以上の説明はＦＥＴ待機時間Ｔ1 を求
めてこれをＴＭに近づけた場合について行ったが、所定
のＴＭにより待機させた場合の被圧延材の温度を推定し
て、この温度がＦＥＴとなるようにデスケーリングヘッ
ダの組合せを選択しても同様な結果が得られることは前
述のとおりである。
【００１５】次に、さらに細かく温度制御をする場合の
例を図３により説明する。図２に示した場合にはＳＢ3
である組合せ(3) を選択したが、図３の場合には被圧延
材Ｓ 2 の搬送速度を遅くしてその先端部がデスケーリン
グヘッダ21〜24の位置を通過するときの冷却能力がＳＢ
3 ′となるようにした。そのため待機時間Ｔ3 はＴ3 ′
となり図２の場合よりさらにＴａの時間節約ができ全体
としてはＴｄ″の時間短縮が可能となった。
例を図３により説明する。図２に示した場合にはＳＢ3
である組合せ(3) を選択したが、図３の場合には被圧延
材Ｓ 2 の搬送速度を遅くしてその先端部がデスケーリン
グヘッダ21〜24の位置を通過するときの冷却能力がＳＢ
3 ′となるようにした。そのため待機時間Ｔ3 はＴ3 ′
となり図２の場合よりさらにＴａの時間節約ができ全体
としてはＴｄ″の時間短縮が可能となった。
【００１６】なお、高圧水の管路31〜34に流量調整弁を
設置することも考えられるが保守上の問題があるため好
ましくない。図３に示したこの発明による仕上圧延機の
入側温度制御方法を、平均コイル重量20ｔの熱間連続仕
上圧延機で実施したところ、従来仕上圧延機入側でのＦ
ＥＴ規制に基づく待機時間が23.7時間／月であったもの
を16.4時間／月に、約30％減少させることができた。
設置することも考えられるが保守上の問題があるため好
ましくない。図３に示したこの発明による仕上圧延機の
入側温度制御方法を、平均コイル重量20ｔの熱間連続仕
上圧延機で実施したところ、従来仕上圧延機入側でのＦ
ＥＴ規制に基づく待機時間が23.7時間／月であったもの
を16.4時間／月に、約30％減少させることができた。
【００１７】
【発明の効果】この発明を実施することにより、仕上圧
延機入側での被圧延材の待機時間を大幅に減少させるこ
とができるため、生産性が向上するのみならず、稼働率
の向上がもたらす経済的効果は甚だ大きいものである。
延機入側での被圧延材の待機時間を大幅に減少させるこ
とができるため、生産性が向上するのみならず、稼働率
の向上がもたらす経済的効果は甚だ大きいものである。
【図１】この発明を実施するための仕上圧延機入側設備
の配置例を示す説明図である。
の配置例を示す説明図である。
【図２】この発明によるデスケーリングヘッダの選択例
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図３】図２の例にさらに被圧延材先端部の搬送速度調
整を追加した場合の説明図である。
整を追加した場合の説明図である。
10 温度計 11 演算機 21〜24 デスケーリングヘッダ 31〜34 管路 41〜44 遮断弁 Ｆ 仕上圧延機 Ｓ 被圧延材
Claims (2)
- 【請求項１】 熱間連続仕上圧延機の入側温度制御方法
であって、仕上圧延機の入側に複数本数の高圧水噴射用
デスケーリングヘッダを選択使用可能に設置するととも
に、このデスケーリングヘッダのさらに入側で被圧延材
の温度を測定し、この測定温度と仕上圧延機入側目標温
度とから温度規制に基づく仕上圧延機入側待機時間をミ
ルペーシング制御に基づく仕上圧延機入側待機時間に近
づけるために必要な冷却能力が得られる前記デスケーリ
ングヘッダの組合せを選択し、この選択したデスケーリ
ングヘッダを用いて高圧水を噴射しながら被圧延材を通
板させることを特徴とする熱間連続仕上圧延機の入側温
度制御方法。 - 【請求項２】 測定温度が被圧延材の先端部の温度であ
り、かつ、デスケーリングヘッダの組合せを選択して高
圧水を噴射するとともに、被圧延材先端部ではその搬送
速度を調整して通板させることを特徴とする熱間連続仕
上圧延機の入側温度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3316825A JP3068289B2 (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 熱間連続仕上圧延機の入側温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3316825A JP3068289B2 (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 熱間連続仕上圧延機の入側温度制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05154528A JPH05154528A (ja) | 1993-06-22 |
| JP3068289B2 true JP3068289B2 (ja) | 2000-07-24 |
Family
ID=18081342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3316825A Expired - Fee Related JP3068289B2 (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | 熱間連続仕上圧延機の入側温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3068289B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5581600B2 (ja) * | 2009-03-06 | 2014-09-03 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 加熱炉抽出間隔決定方法 |
| JP2012206154A (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-25 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 間ピッチ制御方法、熱間圧延装置、および熱間圧延方法 |
| JP5862602B2 (ja) * | 2013-04-24 | 2016-02-16 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 鋼板の製造装置およびその制御方法 |
-
1991
- 1991-11-29 JP JP3316825A patent/JP3068289B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05154528A (ja) | 1993-06-22 |
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