JP3056068B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ガラス基板、
半導体ウェハや磁気ディスク等の被洗浄基板を洗浄する
ための装置に関する。
半導体ウェハや磁気ディスク等の被洗浄基板を洗浄する
ための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶ガラス基板、半導体ウェハ、
磁気ディスク等の被洗浄基板を洗浄する装置は、被洗浄
基板を保持する保持台と、この保持台を回転させるため
の回転手段と、前記保持台に周囲に配置され、装置の外
に洗浄液が飛散するのを防ぐための円筒状壁部を有する
遮蔽部材と、前記保持台上に保持された被洗浄基板に洗
浄液を噴射する洗浄液噴射手段とから構成されている。
このような洗浄装置により被洗浄基板、例えば半導体ウ
ェハを洗浄するには前記保持台上に前記ウェハを水平に
保持し、前記保持部材を回転させながら、前記洗浄液噴
射手段から洗浄液を前記ウェハ表面に噴射することによ
りなされる。
磁気ディスク等の被洗浄基板を洗浄する装置は、被洗浄
基板を保持する保持台と、この保持台を回転させるため
の回転手段と、前記保持台に周囲に配置され、装置の外
に洗浄液が飛散するのを防ぐための円筒状壁部を有する
遮蔽部材と、前記保持台上に保持された被洗浄基板に洗
浄液を噴射する洗浄液噴射手段とから構成されている。
このような洗浄装置により被洗浄基板、例えば半導体ウ
ェハを洗浄するには前記保持台上に前記ウェハを水平に
保持し、前記保持部材を回転させながら、前記洗浄液噴
射手段から洗浄液を前記ウェハ表面に噴射することによ
りなされる。
【０００３】しかしながら、前述した構成の洗浄装置に
おいて洗浄時に前記ウェハ表面で飛散した洗浄液、特に
水平方向に飛散した洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状壁部
に衝突するため、その飛沫が前記ウェハ表面に戻って付
着される。洗浄液の飛沫中には、前記遮蔽部材表面に付
着されたパーティクル等の汚染物を含むため、結果的に
はウェハの再汚染を招く。
おいて洗浄時に前記ウェハ表面で飛散した洗浄液、特に
水平方向に飛散した洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状壁部
に衝突するため、その飛沫が前記ウェハ表面に戻って付
着される。洗浄液の飛沫中には、前記遮蔽部材表面に付
着されたパーティクル等の汚染物を含むため、結果的に
はウェハの再汚染を招く。
【０００４】このような遮蔽部材による洗浄液の飛散、
被洗浄基板の再汚染を防止するために前記保持部材と前
記遮蔽部材との距離を十分に離すことが考えられるが、
装置が大型化するという問題があった。
被洗浄基板の再汚染を防止するために前記保持部材と前
記遮蔽部材との距離を十分に離すことが考えられるが、
装置が大型化するという問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄液の飛
散による被洗浄基板の再汚染を防止し、かつ小型化が可
能な洗浄装置を提供しようとするものである。
散による被洗浄基板の再汚染を防止し、かつ小型化が可
能な洗浄装置を提供しようとするものである。
【０００６】
【０００７】
【０００８】
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係わる洗浄装置
は、被洗浄基板を水平な状態で保持する保持手段； 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材； 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段；前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管とからなる 差
圧発生部材； 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段と、を具備したことを特徴
とするものである。
は、被洗浄基板を水平な状態で保持する保持手段； 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材； 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段；前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管とからなる 差
圧発生部材； 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段と、を具備したことを特徴
とするものである。
【００１０】
【００１１】このような本発明に係わる洗浄装置によれ
ば、半導体ウェハのような被洗浄基板を保持手段に保持
し、前記保持手段およびこの保持手段の周辺空間を閉塞
するための円筒状壁部を有する遮蔽部材を回転手段によ
り一体的（同期して）回転させながら、前記洗浄液噴射
手段から洗浄液、例えば純水を前記回転する被洗浄基板
に噴射することによって、前記被洗浄基板の表面を良好
に洗浄することができる。
ば、半導体ウェハのような被洗浄基板を保持手段に保持
し、前記保持手段およびこの保持手段の周辺空間を閉塞
するための円筒状壁部を有する遮蔽部材を回転手段によ
り一体的（同期して）回転させながら、前記洗浄液噴射
手段から洗浄液、例えば純水を前記回転する被洗浄基板
に噴射することによって、前記被洗浄基板の表面を良好
に洗浄することができる。
【００１２】また、前記回転手段により前記保持手段と
前記有底円筒状の遮蔽部材とを一体的に回転させると、
前記保持手段の周辺空間を閉塞するための前記遮蔽部材
の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周ピッチで開孔
された複数の開口部を有する差圧発生部材を設けられて
いるため、有底円筒状の前記遮蔽部材内の空気が前記複
数の開口部を通して排気され、回転する前記被洗浄基板
の中心からその周縁に向かう気流が発生する。特に、差
圧発生部材を前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近
の側壁に等周ピッチで開孔された複数の開口部と、これ
ら開口部にそれぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回
転方向に対して背を向けるように開口を形成した差圧管
とから構成することによって、前記遮蔽部材に回転にお
いて前記差圧管近傍の気圧が下がり、その下端開口から
前記有底円筒状の遮蔽部材内の空気が吸気されて排気さ
れるため、回転する前記被洗浄基板の中心からその周縁
に向かう強い気流が発生される。その結果、前記被洗浄
基板に洗浄液を噴射することによりその表面で飛散され
た洗浄液は前記遮蔽部材の円筒状側壁の内面に殆ど到達
することなく、前記差圧発生部材による前記被洗浄基板
表面の中心からその周縁に向かう気流に乗って前記差圧
発生部材の複数の開口部に向けて強制的に排出される。
しかも、前記被洗浄基板の表面で洗浄液が一部飛散し、
特に前記基板の回転軌跡の接線方向にように水平方向に
飛散された洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状壁部の内面に
衝突しても、前述したように前記遮蔽部材は前記被洗浄
基板を保持する保持手段と一体的に回転されているた
め、前記洗浄液の衝突を緩和するように働き、洗浄液の
飛沫が前記被洗浄基板に戻るのを防止することができ
る。
前記有底円筒状の遮蔽部材とを一体的に回転させると、
前記保持手段の周辺空間を閉塞するための前記遮蔽部材
の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周ピッチで開孔
された複数の開口部を有する差圧発生部材を設けられて
いるため、有底円筒状の前記遮蔽部材内の空気が前記複
数の開口部を通して排気され、回転する前記被洗浄基板
の中心からその周縁に向かう気流が発生する。特に、差
圧発生部材を前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近
の側壁に等周ピッチで開孔された複数の開口部と、これ
ら開口部にそれぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回
転方向に対して背を向けるように開口を形成した差圧管
とから構成することによって、前記遮蔽部材に回転にお
いて前記差圧管近傍の気圧が下がり、その下端開口から
前記有底円筒状の遮蔽部材内の空気が吸気されて排気さ
れるため、回転する前記被洗浄基板の中心からその周縁
に向かう強い気流が発生される。その結果、前記被洗浄
基板に洗浄液を噴射することによりその表面で飛散され
た洗浄液は前記遮蔽部材の円筒状側壁の内面に殆ど到達
することなく、前記差圧発生部材による前記被洗浄基板
表面の中心からその周縁に向かう気流に乗って前記差圧
発生部材の複数の開口部に向けて強制的に排出される。
しかも、前記被洗浄基板の表面で洗浄液が一部飛散し、
特に前記基板の回転軌跡の接線方向にように水平方向に
飛散された洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状壁部の内面に
衝突しても、前述したように前記遮蔽部材は前記被洗浄
基板を保持する保持手段と一体的に回転されているた
め、前記洗浄液の衝突を緩和するように働き、洗浄液の
飛沫が前記被洗浄基板に戻るのを防止することができ
る。
【００１３】したがって、前記保持手段と前記遮蔽部材
との一体的な回転および前記遮蔽部材への差圧発生部材
の配設により、洗浄後の洗浄液が被洗浄基板に再付着し
て汚染するのをより効果的に防止することができる。
との一体的な回転および前記遮蔽部材への差圧発生部材
の配設により、洗浄後の洗浄液が被洗浄基板に再付着し
て汚染するのをより効果的に防止することができる。
【００１４】本発明に係わる別の洗浄装置は、被洗浄基
板を水平な状態で保持する保持手段； 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材； 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段； 前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管を有する第１
差圧発生部材； 前記遮蔽部材の底部中心付近に等周ピッチで開孔された
複数の開口部と、これら開口部にそれぞれ連通され、下
端に前記遮蔽部材の回転方向と対向するように開口を形
成したした差圧管を有する第２差圧発生部材； 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段； を具備したことを特徴とするものである。
板を水平な状態で保持する保持手段； 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材； 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段； 前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管を有する第１
差圧発生部材； 前記遮蔽部材の底部中心付近に等周ピッチで開孔された
複数の開口部と、これら開口部にそれぞれ連通され、下
端に前記遮蔽部材の回転方向と対向するように開口を形
成したした差圧管を有する第２差圧発生部材； 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段； を具備したことを特徴とするものである。
【００１５】このような本発明に係わる別の洗浄装置に
よれば、ウェハのような被洗浄基板を保持手段に保持
し、前記保持手段およびこの保持手段の周辺空間を閉塞
するための円筒状壁部を有する遮蔽部材を回転手段によ
り一体的（同期して）回転させながら、前記洗浄液噴射
手段から洗浄液、例えば純水を前記回転する被洗浄基板
に噴射することによって、前記被洗浄基板の表面を良好
に洗浄することができる。
よれば、ウェハのような被洗浄基板を保持手段に保持
し、前記保持手段およびこの保持手段の周辺空間を閉塞
するための円筒状壁部を有する遮蔽部材を回転手段によ
り一体的（同期して）回転させながら、前記洗浄液噴射
手段から洗浄液、例えば純水を前記回転する被洗浄基板
に噴射することによって、前記被洗浄基板の表面を良好
に洗浄することができる。
【００１６】また、前記回転手段により前記保持手段と
前記有底円筒状の遮蔽部材とを一体的に回転させると、
前記保持手段の周辺空間を閉塞するための前記遮蔽部材
の底部周縁もしくは底部付近の側壁に第１差圧発生部材
を設けているため、前記遮蔽部材に回転において下端に
前記遮蔽部材の回転方向に対して背を向けるように開口
を形成した差圧管近傍の気圧が下がり、前記差圧管の下
端開口から前記有底円筒状の遮蔽部材内の空気が吸気さ
れて排気される。このため、回転する前記被洗浄基板表
面の中心からその周縁に向かう強い気流が発生される。
さらに前記回転手段により前記保持手段と前記遮蔽部材
とを一体的に回転させると、前記遮蔽部材の底部中心付
近に第２差圧発生部材を設けているため、前記遮蔽部材
の回転において前記第２差圧発生部材の差圧管の下端に
形成された前記遮蔽部材の回転方向と対向する開口付近
の気圧が高くなる、つまり前記遮蔽部材内部の気圧より
高い気圧になり、前記差圧管および前記開口部を通して
空気が前記遮蔽部材内に流入される。このため、回転す
る前記被洗浄基板の裏面の中心付近からその周縁を通し
て前記第１差圧発生部材の複数の開口部に向かう強い気
流が発生される。その結果、前記被洗浄基板に洗浄液を
噴射することによりその表面で飛散された洗浄液は前記
遮蔽部材の円筒状側壁の内面に殆ど到達することなく、
前記第１差圧発生部材による前記被洗浄基板表面の中心
からその周縁に向かう気流に乗って前記第１差圧発生部
材の複数の開口部に向けて強制的に排出される。同時
に、前記第２差圧発生部材による前記基板裏面の中心付
近からその周縁に向かう気流により前記飛散された洗浄
液が前記基板裏面に回り込むのを防止することができ
る。
前記有底円筒状の遮蔽部材とを一体的に回転させると、
前記保持手段の周辺空間を閉塞するための前記遮蔽部材
の底部周縁もしくは底部付近の側壁に第１差圧発生部材
を設けているため、前記遮蔽部材に回転において下端に
前記遮蔽部材の回転方向に対して背を向けるように開口
を形成した差圧管近傍の気圧が下がり、前記差圧管の下
端開口から前記有底円筒状の遮蔽部材内の空気が吸気さ
れて排気される。このため、回転する前記被洗浄基板表
面の中心からその周縁に向かう強い気流が発生される。
さらに前記回転手段により前記保持手段と前記遮蔽部材
とを一体的に回転させると、前記遮蔽部材の底部中心付
近に第２差圧発生部材を設けているため、前記遮蔽部材
の回転において前記第２差圧発生部材の差圧管の下端に
形成された前記遮蔽部材の回転方向と対向する開口付近
の気圧が高くなる、つまり前記遮蔽部材内部の気圧より
高い気圧になり、前記差圧管および前記開口部を通して
空気が前記遮蔽部材内に流入される。このため、回転す
る前記被洗浄基板の裏面の中心付近からその周縁を通し
て前記第１差圧発生部材の複数の開口部に向かう強い気
流が発生される。その結果、前記被洗浄基板に洗浄液を
噴射することによりその表面で飛散された洗浄液は前記
遮蔽部材の円筒状側壁の内面に殆ど到達することなく、
前記第１差圧発生部材による前記被洗浄基板表面の中心
からその周縁に向かう気流に乗って前記第１差圧発生部
材の複数の開口部に向けて強制的に排出される。同時
に、前記第２差圧発生部材による前記基板裏面の中心付
近からその周縁に向かう気流により前記飛散された洗浄
液が前記基板裏面に回り込むのを防止することができ
る。
【００１７】さらに、前記被洗浄基板の表面で洗浄液が
一部飛散し、特に前記基板の回転軌跡の接線方向によう
に水平方向に飛散された洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状
壁部の内面に衝突しても、前述したように前記遮蔽部材
は前記被洗浄基板を保持する保持手段と一体的に回転さ
れているため、前記洗浄液の衝突を緩和するように働
き、洗浄液の飛沫が前記被洗浄基板に戻るのを防止する
ことができる。
一部飛散し、特に前記基板の回転軌跡の接線方向によう
に水平方向に飛散された洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状
壁部の内面に衝突しても、前述したように前記遮蔽部材
は前記被洗浄基板を保持する保持手段と一体的に回転さ
れているため、前記洗浄液の衝突を緩和するように働
き、洗浄液の飛沫が前記被洗浄基板に戻るのを防止する
ことができる。
【００１８】したがって、前記保持手段と前記遮蔽部材
との一体的な回転および前記遮蔽部材への第１、第２の
差圧発生部材の配設により、洗浄後の洗浄液が被洗浄基
板に再付着して汚染するのを防止することができる。
との一体的な回転および前記遮蔽部材への第１、第２の
差圧発生部材の配設により、洗浄後の洗浄液が被洗浄基
板に再付着して汚染するのを防止することができる。
【００１９】本発明に係わる洗浄装置に用いられる前記
洗浄液噴射手段としては、例えばシャワーノズル、高周
波振動ノズル等を用いることができる。特に、洗浄液噴
射手段としてノズル本体内にその吐出口と対向するよう
に振動子を内蔵し、洗浄液の供給管を通して洗浄液を前
記本体内に供給し、高周波音波に乗った洗浄液を回転す
る前記被洗浄基板に噴射することによって、前記被洗浄
基板表面を精密に洗浄することが可能になる。
洗浄液噴射手段としては、例えばシャワーノズル、高周
波振動ノズル等を用いることができる。特に、洗浄液噴
射手段としてノズル本体内にその吐出口と対向するよう
に振動子を内蔵し、洗浄液の供給管を通して洗浄液を前
記本体内に供給し、高周波音波に乗った洗浄液を回転す
る前記被洗浄基板に噴射することによって、前記被洗浄
基板表面を精密に洗浄することが可能になる。
【００２０】前記洗浄液噴射手段は、前記保持手段に保
持された被洗浄基板の中心と周辺との間を往復動作させ
ることを許容する。このように洗浄液噴射手段を往復動
作させることにより、被洗浄基板の表面全体を良好に洗
浄することが可能になる。
持された被洗浄基板の中心と周辺との間を往復動作させ
ることを許容する。このように洗浄液噴射手段を往復動
作させることにより、被洗浄基板の表面全体を良好に洗
浄することが可能になる。
【００２１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。 （実施例１）図１は、実施例１の洗浄装置を示す断面
図、図２は図１の上面図である。
に説明する。 （実施例１）図１は、実施例１の洗浄装置を示す断面
図、図２は図１の上面図である。
【００２２】図中の１は、上面に円形の開口穴２を有
し、かつ底部に２つの***３を有する有底矩形筒状の洗
浄液受槽である。２本の吸引管４は、前記受槽１の底部
に前記***３とそれぞれ連通するように連結されてい
る。軸方向に吸引孔（図示せず）が穿設された回転軸５
は、前記受槽１底部の中心を貫通し、図示しない軸受け
により軸支されている。なお、前記回転軸５の吸引孔は
図示しない吸引装置に連通されている。被洗浄基板を真
空チャックする円板状の保持台６は、前記回転軸５の上
端に取り付けられている。前記保持台６の上面には、前
記回転軸５に形成された吸引孔と連通する環状溝７が設
けられている。
し、かつ底部に２つの***３を有する有底矩形筒状の洗
浄液受槽である。２本の吸引管４は、前記受槽１の底部
に前記***３とそれぞれ連通するように連結されてい
る。軸方向に吸引孔（図示せず）が穿設された回転軸５
は、前記受槽１底部の中心を貫通し、図示しない軸受け
により軸支されている。なお、前記回転軸５の吸引孔は
図示しない吸引装置に連通されている。被洗浄基板を真
空チャックする円板状の保持台６は、前記回転軸５の上
端に取り付けられている。前記保持台６の上面には、前
記回転軸５に形成された吸引孔と連通する環状溝７が設
けられている。
【００２３】遮蔽部材８は、前記受槽１内に回転自在に
配置されている。前記遮蔽部材８は、上端が前記受槽１
の開口穴２内に前記受槽１上面と面一になるように配置
された円筒状側壁９と、前記回転軸５に嵌着された連結
リング１０と、この連結リング１０に一端が水平方向に
向けて放射状に連結され、他端が前記円筒状壁部９の下
端に一体的に取り付けられた４本の支持板１１とから構
成されている。円筒型高周波振動ノズル１２は、前記受
槽１の上方に配置され、駆動腕１３により前記保持台６
に保持された被洗浄基板の半径方向（矢印方向）に往復
動作される。前記高周波振動ノズル１２は、先端に吐出
口１４を有するノズル本体１５と、このノズル本体１５
内に前記吐出口１４と対向するように内蔵された振動子
（図示せず）と、前記ノズル本体１５の外部に配置さ
れ、前記振動子を振動させるための高周波発振器（図示
せず）と、前記本体１５に連結された洗浄液を供給する
ための供給管（図示せず）とを具備した構造を有する。
配置されている。前記遮蔽部材８は、上端が前記受槽１
の開口穴２内に前記受槽１上面と面一になるように配置
された円筒状側壁９と、前記回転軸５に嵌着された連結
リング１０と、この連結リング１０に一端が水平方向に
向けて放射状に連結され、他端が前記円筒状壁部９の下
端に一体的に取り付けられた４本の支持板１１とから構
成されている。円筒型高周波振動ノズル１２は、前記受
槽１の上方に配置され、駆動腕１３により前記保持台６
に保持された被洗浄基板の半径方向（矢印方向）に往復
動作される。前記高周波振動ノズル１２は、先端に吐出
口１４を有するノズル本体１５と、このノズル本体１５
内に前記吐出口１４と対向するように内蔵された振動子
（図示せず）と、前記ノズル本体１５の外部に配置さ
れ、前記振動子を振動させるための高周波発振器（図示
せず）と、前記本体１５に連結された洗浄液を供給する
ための供給管（図示せず）とを具備した構造を有する。
【００２４】次に、前述した実施例１の洗浄装置の作用
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ１６を前
記保持台６に載置し、図示しない吸引装置を作動して前
記回転軸５の吸引孔を通して前記保持台６に形成した環
状溝７を吸引することにより前記ウェハ１６を前記保持
台６上に真空チャックする。この状態で回転軸５を図示
しないモータにより回転させると、前記保持台６に真空
チャックされたウェハ１６および前記遮蔽部材８が一体
的に例えば時計回り方向に回転される。このようなウェ
ハ１６の回転において、前記円筒型高周波振動ノズル１
２のノズル本体１５に内蔵された振動子（図示せず）を
高周波発振器で振動させながら洗浄液、例えば純水を供
給管（図示せず）を通して前記本体１５内に供給するこ
とにより、高周波音波に乗った純水が前記吐出口１４か
ら噴射される。同時に、駆動腕１３により前記高周波振
動ノズル１２を回転する前記ウェハ１６の半径方向に往
復動作させることにより、高周波音波に乗った純水が前
記ウェハ１６の全面に亘って噴射されてウェハ１６表面
が洗浄される。
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ１６を前
記保持台６に載置し、図示しない吸引装置を作動して前
記回転軸５の吸引孔を通して前記保持台６に形成した環
状溝７を吸引することにより前記ウェハ１６を前記保持
台６上に真空チャックする。この状態で回転軸５を図示
しないモータにより回転させると、前記保持台６に真空
チャックされたウェハ１６および前記遮蔽部材８が一体
的に例えば時計回り方向に回転される。このようなウェ
ハ１６の回転において、前記円筒型高周波振動ノズル１
２のノズル本体１５に内蔵された振動子（図示せず）を
高周波発振器で振動させながら洗浄液、例えば純水を供
給管（図示せず）を通して前記本体１５内に供給するこ
とにより、高周波音波に乗った純水が前記吐出口１４か
ら噴射される。同時に、駆動腕１３により前記高周波振
動ノズル１２を回転する前記ウェハ１６の半径方向に往
復動作させることにより、高周波音波に乗った純水が前
記ウェハ１６の全面に亘って噴射されてウェハ１６表面
が洗浄される。
【００２５】前記ウェハ１６に前記高周波振動ノズル１
２から純水を噴射すると、前記ウェハ１６表面で純水が
飛散し、特にウェハ１６の回転軌跡の接線方向のように
水平方向に飛散された純水は前記ウェハ１６周囲の前記
遮蔽部材８の円筒状側壁９の内面に衝突する。このよう
に純水が前記遮蔽部材８の円筒状側壁９内面に衝突する
際、前記遮蔽部材８は前記ウェハ１６を保持する保持台
６と一体的に回転され、前記円筒状側壁９の内面に向か
う飛散した純水をその面に沿って流延させて前記純水の
衝突を緩和するように働くため、洗浄後の純水の飛沫が
前記ウェハ１６表面に戻るのを防止することができる。
なお、前記円筒状側壁９の内面に沿って流延した洗浄後
の純水は前記遮蔽部材８の複数の支持板１１の間を通っ
て前記受槽１の底部に落下し、***３および吸引管４を
通して外部に排出される。
２から純水を噴射すると、前記ウェハ１６表面で純水が
飛散し、特にウェハ１６の回転軌跡の接線方向のように
水平方向に飛散された純水は前記ウェハ１６周囲の前記
遮蔽部材８の円筒状側壁９の内面に衝突する。このよう
に純水が前記遮蔽部材８の円筒状側壁９内面に衝突する
際、前記遮蔽部材８は前記ウェハ１６を保持する保持台
６と一体的に回転され、前記円筒状側壁９の内面に向か
う飛散した純水をその面に沿って流延させて前記純水の
衝突を緩和するように働くため、洗浄後の純水の飛沫が
前記ウェハ１６表面に戻るのを防止することができる。
なお、前記円筒状側壁９の内面に沿って流延した洗浄後
の純水は前記遮蔽部材８の複数の支持板１１の間を通っ
て前記受槽１の底部に落下し、***３および吸引管４を
通して外部に排出される。
【００２６】したがって、前記保持台６と前記遮蔽部材
８の一体的な回転により、前記ウェハ１６と前記遮蔽部
材８との距離を近付けても洗浄後の純水が前記ウェハ１
６表面に再付着して汚染するのを防止できるため、高清
浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装置を実現できる。
８の一体的な回転により、前記ウェハ１６と前記遮蔽部
材８との距離を近付けても洗浄後の純水が前記ウェハ１
６表面に再付着して汚染するのを防止できるため、高清
浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装置を実現できる。
【００２７】（実施例２）図３は、実施例２の洗浄装置
を示す断面図である。図中の２１は、上面に円形の開口
穴２２を有し、かつ底部に２つの***２３を有する有底
矩形筒状の洗浄液受槽である。２本の吸引管２４は、前
記受槽２１の底部に前記***２３とそれぞれ連通するよ
うに連結されている。軸方向に吸引孔（図示せず）が穿
設された回転軸２５は、前記受槽２１底部の中心を貫通
し、図示しない軸受けにより軸支されている。なお、前
記回転軸２５の吸引孔は図示しない吸引装置に連通され
ている。被洗浄基板を真空チャックする円板状の保持台
２６は、前記回転軸２５の上端に取り付けられている。
前記保持台２６の上面には、前記回転軸２５に形成され
た吸引孔と連通する環状溝（図示せず）が設けられてい
る。
を示す断面図である。図中の２１は、上面に円形の開口
穴２２を有し、かつ底部に２つの***２３を有する有底
矩形筒状の洗浄液受槽である。２本の吸引管２４は、前
記受槽２１の底部に前記***２３とそれぞれ連通するよ
うに連結されている。軸方向に吸引孔（図示せず）が穿
設された回転軸２５は、前記受槽２１底部の中心を貫通
し、図示しない軸受けにより軸支されている。なお、前
記回転軸２５の吸引孔は図示しない吸引装置に連通され
ている。被洗浄基板を真空チャックする円板状の保持台
２６は、前記回転軸２５の上端に取り付けられている。
前記保持台２６の上面には、前記回転軸２５に形成され
た吸引孔と連通する環状溝（図示せず）が設けられてい
る。
【００２８】円錐台形状の扁平ガイド板２７が底部内面
に張り付けられ、かつ底部周縁に８つの開口部２８が等
周ピッチで開孔された有底円筒状の遮蔽部材２９は、中
心部に前記回転軸２５が挿着された状態で前記受槽２１
内に配置されている。前記遮蔽部材２９は、上端が前記
受槽２１の開口穴２２内に前記受槽２１上面と面一にな
るように配置されている。円筒パイプの下端を斜め方向
に切断した形状を有する例えば８本の差圧管３０は、前
記遮蔽部材２９の底面に前記開口部２８とそれぞれ連通
するように連結されている。前記各差圧管３０は、下端
の開口３１が前記有底円筒状の遮蔽部材２９の接線方向
に向き、かつ前記開口３１は前記遮蔽部材２９の回転方
向に対して背を向けるように位置している。前記開口部
２８および前記差圧管３０とにより差圧発生部材を構成
している。
に張り付けられ、かつ底部周縁に８つの開口部２８が等
周ピッチで開孔された有底円筒状の遮蔽部材２９は、中
心部に前記回転軸２５が挿着された状態で前記受槽２１
内に配置されている。前記遮蔽部材２９は、上端が前記
受槽２１の開口穴２２内に前記受槽２１上面と面一にな
るように配置されている。円筒パイプの下端を斜め方向
に切断した形状を有する例えば８本の差圧管３０は、前
記遮蔽部材２９の底面に前記開口部２８とそれぞれ連通
するように連結されている。前記各差圧管３０は、下端
の開口３１が前記有底円筒状の遮蔽部材２９の接線方向
に向き、かつ前記開口３１は前記遮蔽部材２９の回転方
向に対して背を向けるように位置している。前記開口部
２８および前記差圧管３０とにより差圧発生部材を構成
している。
【００２９】円筒型高周波振動ノズル３２は、前記受槽
２１の上方に配置され、駆動腕３３により前記保持台２
６に保持された被洗浄基板の半径方向に往復動作され
る。前記高周波振動ノズル３２は、先端に吐出口３４を
有するノズル本体３５と、このノズル本体３５内に前記
吐出口３４と対向するように内蔵された振動子（図示せ
ず）と、前記ノズル本体３５の外部に配置され、前記振
動子を振動させるための高周波発振器（図示せず）と、
前記本体３４に連結された洗浄液を供給するための供給
管（図示せず）とを具備した構造を有する。
２１の上方に配置され、駆動腕３３により前記保持台２
６に保持された被洗浄基板の半径方向に往復動作され
る。前記高周波振動ノズル３２は、先端に吐出口３４を
有するノズル本体３５と、このノズル本体３５内に前記
吐出口３４と対向するように内蔵された振動子（図示せ
ず）と、前記ノズル本体３５の外部に配置され、前記振
動子を振動させるための高周波発振器（図示せず）と、
前記本体３４に連結された洗浄液を供給するための供給
管（図示せず）とを具備した構造を有する。
【００３０】次に、前述した実施例２の洗浄装置の作用
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ３６を前
記保持台２６に載置し、図示しない吸引装置を作動して
前記回転軸２５の吸引孔を通して前記保持台２６に形成
した環状溝（図示せず）を吸引することにより前記ウェ
ハ３６を前記保持台２６上に真空チャックする。この状
態で回転軸２５を図示しないモータにより回転させる
と、前記保持台２６に真空チャックされたウェハ３６お
よび前記遮蔽部材２９が一体的に例えば時計回り方向に
回転される。このようなウェハ３６の回転において、前
記円筒型高周波振動ノズル３２のノズル本体３５に内蔵
された振動子（図示せず）を高周波発振器で振動させな
がら洗浄液、例えば純水を供給管（図示せず）を通して
前記本体３５内に供給することにより、高周波音波に乗
った純水が前記吐出口３４から噴射される。同時に、駆
動腕３３により前記高周波振動ノズル３２を回転する前
記ウェハ３６の半径方向に往復動作させることにより、
高周波音波に乗った純水が前記ウェハ３６の全面に亘っ
て噴射されてウェハ３６表面が洗浄される。
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ３６を前
記保持台２６に載置し、図示しない吸引装置を作動して
前記回転軸２５の吸引孔を通して前記保持台２６に形成
した環状溝（図示せず）を吸引することにより前記ウェ
ハ３６を前記保持台２６上に真空チャックする。この状
態で回転軸２５を図示しないモータにより回転させる
と、前記保持台２６に真空チャックされたウェハ３６お
よび前記遮蔽部材２９が一体的に例えば時計回り方向に
回転される。このようなウェハ３６の回転において、前
記円筒型高周波振動ノズル３２のノズル本体３５に内蔵
された振動子（図示せず）を高周波発振器で振動させな
がら洗浄液、例えば純水を供給管（図示せず）を通して
前記本体３５内に供給することにより、高周波音波に乗
った純水が前記吐出口３４から噴射される。同時に、駆
動腕３３により前記高周波振動ノズル３２を回転する前
記ウェハ３６の半径方向に往復動作させることにより、
高周波音波に乗った純水が前記ウェハ３６の全面に亘っ
て噴射されてウェハ３６表面が洗浄される。
【００３１】また、前記回転軸２５により前記保持台２
６と前記有底円筒状の遮蔽部材２９とを一体的に回転さ
せると、前記保持台２６の周辺空間を閉塞するための前
記遮蔽部材２９にはその底部周縁に等周ピッチで開孔さ
れた複数の開口部２８と、これら開口部２８にそれぞれ
連通され、下端に前記遮蔽部材２９の回転方向に対して
背を向けるように開口３１を形成した差圧管３０とから
構成される差圧発生部材が設けられているため、前記遮
蔽部材２９に回転において前記各差圧管３０近傍の気圧
が下がり、それらの下端の開口３１から前記有底円筒状
の遮蔽部材２９内の空気が吸気されて排気される。この
ため、矢印に示すように回転する前記ウェハ３６の中心
からその周縁に向かう強い気流が発生する。その結果、
前記ウェハ３６に純水を噴射することによりその表面で
飛散された純水は、前記遮蔽部材２９の円筒状側壁内面
に殆ど到達することなく、前記差圧発生部材による前記
ウェハ３６表面の中心からその周縁に向かう気流に乗っ
て前記差圧発生部材の複数の開口部２８に向けて強制的
に排出される。
６と前記有底円筒状の遮蔽部材２９とを一体的に回転さ
せると、前記保持台２６の周辺空間を閉塞するための前
記遮蔽部材２９にはその底部周縁に等周ピッチで開孔さ
れた複数の開口部２８と、これら開口部２８にそれぞれ
連通され、下端に前記遮蔽部材２９の回転方向に対して
背を向けるように開口３１を形成した差圧管３０とから
構成される差圧発生部材が設けられているため、前記遮
蔽部材２９に回転において前記各差圧管３０近傍の気圧
が下がり、それらの下端の開口３１から前記有底円筒状
の遮蔽部材２９内の空気が吸気されて排気される。この
ため、矢印に示すように回転する前記ウェハ３６の中心
からその周縁に向かう強い気流が発生する。その結果、
前記ウェハ３６に純水を噴射することによりその表面で
飛散された純水は、前記遮蔽部材２９の円筒状側壁内面
に殆ど到達することなく、前記差圧発生部材による前記
ウェハ３６表面の中心からその周縁に向かう気流に乗っ
て前記差圧発生部材の複数の開口部２８に向けて強制的
に排出される。
【００３２】さらに、前記ウェハ３６に前記高周波振動
ノズル３２から純水を噴射する際、前記ウェハ３６表面
で飛散した純水の一部が前記遮蔽部材２９の円筒状側壁
内面にしたとしても、前記遮蔽部材２９は前記ウェハ３
６を保持する保持台２６と一体的に回転され、前記円筒
状側壁内面に向かう飛散した純水をその面に沿って流延
させて前記純水の衝突を緩和するように働くため、洗浄
後の純水の飛沫が前記遮蔽部材２９の円筒状側壁内面か
ら前記ウェハ３６表面に戻るのを防止することができ
る。
ノズル３２から純水を噴射する際、前記ウェハ３６表面
で飛散した純水の一部が前記遮蔽部材２９の円筒状側壁
内面にしたとしても、前記遮蔽部材２９は前記ウェハ３
６を保持する保持台２６と一体的に回転され、前記円筒
状側壁内面に向かう飛散した純水をその面に沿って流延
させて前記純水の衝突を緩和するように働くため、洗浄
後の純水の飛沫が前記遮蔽部材２９の円筒状側壁内面か
ら前記ウェハ３６表面に戻るのを防止することができ
る。
【００３３】前記遮蔽部材２９の複数の開口部２８およ
び差圧管３１を通して排出された洗浄後の純水と前記遮
蔽部材２９の円筒状側壁内面に沿って流延した洗浄後の
純水は、前記受槽２１の底部に落下し、***２３および
吸引管２４を通して外部に排出される。
び差圧管３１を通して排出された洗浄後の純水と前記遮
蔽部材２９の円筒状側壁内面に沿って流延した洗浄後の
純水は、前記受槽２１の底部に落下し、***２３および
吸引管２４を通して外部に排出される。
【００３４】したがって、保持台２６と遮蔽部材２９の
一体的な回転および前記遮蔽部材２９への前記差圧発生
部材の配設により、前記ウェハ３６と前記遮蔽部材２９
との距離を近付けても洗浄後の純水が前記ウェハ３６表
面に再付着して汚染するのをより確実にに防止できるた
め、高清浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装置を実現でき
る。
一体的な回転および前記遮蔽部材２９への前記差圧発生
部材の配設により、前記ウェハ３６と前記遮蔽部材２９
との距離を近付けても洗浄後の純水が前記ウェハ３６表
面に再付着して汚染するのをより確実にに防止できるた
め、高清浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装置を実現でき
る。
【００３５】（実施例３）図４は、実施例３の洗浄装置
を示す断面図である。なお、前述した実施例２で説明し
た図３と同様な部材は同符号を付して説明を省略する。
を示す断面図である。なお、前述した実施例２で説明し
た図３と同様な部材は同符号を付して説明を省略する。
【００３６】有底矩形筒状の洗浄液受槽２１の底部に
は、環状突起部３７が差圧発生部材（第１差圧発生部
材）の複数の差圧管３０の内側に位置する有底円筒状の
遮蔽部材２９の底面部分に近接するように形成されてい
る。回転軸２５と前記環状突起部３７との間に位置する
前記遮蔽部材２９の底部部分には、例えば４つの開口部
３８が等周ピッチで開孔されている。円筒パイプの下端
を斜め方向に切断した形状を有する例えば４本の差圧管
３９は、前記遮蔽部材２９の底面に前記開口部３７とそ
れぞれ連通するように連結されている。前記各差圧管３
９は、下端の開口４０が前記有底円筒状の遮蔽部材２９
の接線方向に向き、かつ前記遮蔽部材２９の回転方向と
対向するように位置している。前記開口部３８および前
記差圧管３９とにより第２差圧発生部材を構成してい
る。
は、環状突起部３７が差圧発生部材（第１差圧発生部
材）の複数の差圧管３０の内側に位置する有底円筒状の
遮蔽部材２９の底面部分に近接するように形成されてい
る。回転軸２５と前記環状突起部３７との間に位置する
前記遮蔽部材２９の底部部分には、例えば４つの開口部
３８が等周ピッチで開孔されている。円筒パイプの下端
を斜め方向に切断した形状を有する例えば４本の差圧管
３９は、前記遮蔽部材２９の底面に前記開口部３７とそ
れぞれ連通するように連結されている。前記各差圧管３
９は、下端の開口４０が前記有底円筒状の遮蔽部材２９
の接線方向に向き、かつ前記遮蔽部材２９の回転方向と
対向するように位置している。前記開口部３８および前
記差圧管３９とにより第２差圧発生部材を構成してい
る。
【００３７】次に、前述した実施例３の洗浄装置の作用
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ３６を前
記保持台２６に載置し、図示しない吸引装置を作動して
前記回転軸２５の吸引孔を通して前記保持台２６に形成
した環状溝（図示せず）を吸引することにより前記ウェ
ハ３６を前記保持台２６上に真空チャックする。この状
態で回転軸２５を図示しないモータにより回転させる
と、前記保持台２６に真空チャックされたウェハ３６お
よび前記遮蔽部材２９が一体的に例えば時計回り方向に
回転される。このようなウェハ３６の回転において、前
記円筒型高周波振動ノズル３２のノズル本体３５に内蔵
された振動子（図示せず）を高周波発振器で振動させな
がら洗浄液、例えば純水を供給管（図示せず）を通して
前記本体３５内に供給することにより、高周波音波に乗
った純水が前記吐出口３４から噴射される。同時に、駆
動腕３３により前記高周波振動ノズル３２を回転する前
記ウェハ３６の半径方向に往復動作させることにより、
高周波音波に乗った純水が前記ウェハ３６の全面に亘っ
て噴射されてウェハ３６表面が洗浄される。
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ３６を前
記保持台２６に載置し、図示しない吸引装置を作動して
前記回転軸２５の吸引孔を通して前記保持台２６に形成
した環状溝（図示せず）を吸引することにより前記ウェ
ハ３６を前記保持台２６上に真空チャックする。この状
態で回転軸２５を図示しないモータにより回転させる
と、前記保持台２６に真空チャックされたウェハ３６お
よび前記遮蔽部材２９が一体的に例えば時計回り方向に
回転される。このようなウェハ３６の回転において、前
記円筒型高周波振動ノズル３２のノズル本体３５に内蔵
された振動子（図示せず）を高周波発振器で振動させな
がら洗浄液、例えば純水を供給管（図示せず）を通して
前記本体３５内に供給することにより、高周波音波に乗
った純水が前記吐出口３４から噴射される。同時に、駆
動腕３３により前記高周波振動ノズル３２を回転する前
記ウェハ３６の半径方向に往復動作させることにより、
高周波音波に乗った純水が前記ウェハ３６の全面に亘っ
て噴射されてウェハ３６表面が洗浄される。
【００３８】また、前記回転軸２５により前記保持台２
６と前記有底円筒状の遮蔽部材２９とを一体的に回転さ
せると、前記保持台２６の周辺空間を閉塞するための前
記遮蔽部材２９にはその底部周縁に等周ピッチで開孔さ
れた複数の開口部２８と、これら開口部２８にそれぞれ
連通され、下端に前記遮蔽部材２９の回転方向に対して
背を向けるように開口３１を形成した差圧管３０とから
構成される差圧発生部材（第１差圧発生部材）が設けら
れているため、前記遮蔽部材２９に回転において前記各
差圧管３０近傍の気圧が下がり、それらの下端の開口３
１から前記有底円筒状の遮蔽部材２９内の空気が吸気さ
れて排気される。このため、矢印に示すように回転する
前記ウェハ３６の中心からその周縁に向かう強い気流が
発生する。
６と前記有底円筒状の遮蔽部材２９とを一体的に回転さ
せると、前記保持台２６の周辺空間を閉塞するための前
記遮蔽部材２９にはその底部周縁に等周ピッチで開孔さ
れた複数の開口部２８と、これら開口部２８にそれぞれ
連通され、下端に前記遮蔽部材２９の回転方向に対して
背を向けるように開口３１を形成した差圧管３０とから
構成される差圧発生部材（第１差圧発生部材）が設けら
れているため、前記遮蔽部材２９に回転において前記各
差圧管３０近傍の気圧が下がり、それらの下端の開口３
１から前記有底円筒状の遮蔽部材２９内の空気が吸気さ
れて排気される。このため、矢印に示すように回転する
前記ウェハ３６の中心からその周縁に向かう強い気流が
発生する。
【００３９】さらに前記回転軸２５により前記保持台２
６と前記遮蔽部材２９とを一体的に回転させると、前記
回転軸２５と前記環状突起部３７とで囲まれた前記遮蔽
部材２９の底部中心付近に等周ピッチで開孔された複数
の開口部３８と、これら開口部３８にそれぞれ連通さ
れ、下端に前記遮蔽部材２９の回転方向と対向するよう
に開口４０を形成した差圧管３９とから構成される第２
差圧発生部材を設けているため、前記遮蔽部材２９に回
転において前記第２差圧発生部材の差圧管３９の下端に
形成された開口４０付近の気圧が高くなる、つまり前記
遮蔽部材２９内部の気圧より高い気圧になり、前記回転
軸２５、前記環状突起部３７および前記遮蔽部材２９底
部で区画された空間内の空気が前記差圧管３９および前
記開口部３８を通して前記遮蔽部材２９内に流入され
る。このため、矢印に示すように回転する前記ウェハ３
６の裏面の中心付近からその周縁を通して前記第１差圧
発生部材の複数の開口部２８に向かう強い気流が発生さ
れる。
６と前記遮蔽部材２９とを一体的に回転させると、前記
回転軸２５と前記環状突起部３７とで囲まれた前記遮蔽
部材２９の底部中心付近に等周ピッチで開孔された複数
の開口部３８と、これら開口部３８にそれぞれ連通さ
れ、下端に前記遮蔽部材２９の回転方向と対向するよう
に開口４０を形成した差圧管３９とから構成される第２
差圧発生部材を設けているため、前記遮蔽部材２９に回
転において前記第２差圧発生部材の差圧管３９の下端に
形成された開口４０付近の気圧が高くなる、つまり前記
遮蔽部材２９内部の気圧より高い気圧になり、前記回転
軸２５、前記環状突起部３７および前記遮蔽部材２９底
部で区画された空間内の空気が前記差圧管３９および前
記開口部３８を通して前記遮蔽部材２９内に流入され
る。このため、矢印に示すように回転する前記ウェハ３
６の裏面の中心付近からその周縁を通して前記第１差圧
発生部材の複数の開口部２８に向かう強い気流が発生さ
れる。
【００４０】その結果、前記ウェハ３６に純水を噴射す
ることによりその表面で飛散された純水は、前記遮蔽部
材２９の円筒状側壁内面に殆ど到達することなく前記第
１差圧発生部材による前記ウェハ３６表面の中心からそ
の周縁に向かう気流に乗って前記第１差圧発生部材の複
数の開口部２８に向けて強制的に排出される。同時に、
前記第２差圧発生部材による前記ウェハ３６裏面の中心
付近からその周縁に向かう気流により前記飛散された純
水が前記ウェハ３６裏面に回り込むのを防止することが
できる。
ることによりその表面で飛散された純水は、前記遮蔽部
材２９の円筒状側壁内面に殆ど到達することなく前記第
１差圧発生部材による前記ウェハ３６表面の中心からそ
の周縁に向かう気流に乗って前記第１差圧発生部材の複
数の開口部２８に向けて強制的に排出される。同時に、
前記第２差圧発生部材による前記ウェハ３６裏面の中心
付近からその周縁に向かう気流により前記飛散された純
水が前記ウェハ３６裏面に回り込むのを防止することが
できる。
【００４１】さらにまた、前記ウェハ３６に前記高周波
振動ノズル３２から純水を噴射する際、前記ウェハ３６
表面で飛散した純水の一部が前記遮蔽部材２９の円筒状
側壁内面にしたとしても、前記遮蔽部材２９は前記ウェ
ハ３６を保持する保持台２６と一体的に回転され、前記
円筒状側壁内面に向かう純水をその面に沿って流延させ
て前記純水の衝突を緩和するように働くため、洗浄後の
純水の飛沫が前記遮蔽部材２９の円筒状側壁内面から前
記ウェハ３６表面に戻るのを防止することができる。
振動ノズル３２から純水を噴射する際、前記ウェハ３６
表面で飛散した純水の一部が前記遮蔽部材２９の円筒状
側壁内面にしたとしても、前記遮蔽部材２９は前記ウェ
ハ３６を保持する保持台２６と一体的に回転され、前記
円筒状側壁内面に向かう純水をその面に沿って流延させ
て前記純水の衝突を緩和するように働くため、洗浄後の
純水の飛沫が前記遮蔽部材２９の円筒状側壁内面から前
記ウェハ３６表面に戻るのを防止することができる。
【００４２】前記遮蔽部材２９に配設された第１差圧発
生部材の複数の開口部２８および差圧管３１を通して排
出された洗浄後の純水と、前記遮蔽部材２９の円筒状側
壁内面に沿って流延した洗浄後の純水は前記受槽２１の
底部に落下し、***２３および吸引管２４を通して外部
に排出される。
生部材の複数の開口部２８および差圧管３１を通して排
出された洗浄後の純水と、前記遮蔽部材２９の円筒状側
壁内面に沿って流延した洗浄後の純水は前記受槽２１の
底部に落下し、***２３および吸引管２４を通して外部
に排出される。
【００４３】したがって、保持台２６と遮蔽部材２９の
一体的な回転および前記遮蔽部材２９への前記第１、第
２の差圧発生部材の配設により、前記ウェハ３６と前記
遮蔽部材２９との距離を近付けても洗浄後の純水が前記
ウェハ３６表面に再付着して汚染するのを一層確実にに
防止できるため、高清浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装
置を実現できる。
一体的な回転および前記遮蔽部材２９への前記第１、第
２の差圧発生部材の配設により、前記ウェハ３６と前記
遮蔽部材２９との距離を近付けても洗浄後の純水が前記
ウェハ３６表面に再付着して汚染するのを一層確実にに
防止できるため、高清浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装
置を実現できる。
【００４４】なお、前記実施例１〜３では高周波振動ノ
ズルとして円筒型のものを用い、被洗浄基板（例えば半
導体ウェハ）の半径の範囲内で掃引させるようにした
が、前記円筒型高周波振動ノズルの代わりに洗浄液の吐
出口が細長状のバー型高周波振動ノズルを用いても同様
な効果を奏する。
ズルとして円筒型のものを用い、被洗浄基板（例えば半
導体ウェハ）の半径の範囲内で掃引させるようにした
が、前記円筒型高周波振動ノズルの代わりに洗浄液の吐
出口が細長状のバー型高周波振動ノズルを用いても同様
な効果を奏する。
【００４５】前記実施例１〜３では洗浄液として純水を
用いたが、純水の代わりに他の薬液を洗浄液として用い
てもよい。前記実施例では被洗浄基板として半導体ウェ
ハを用いたが、液晶ガラス基板、半導体ウェハや磁気デ
ィスク等にも同様に適用することができる。
用いたが、純水の代わりに他の薬液を洗浄液として用い
てもよい。前記実施例では被洗浄基板として半導体ウェ
ハを用いたが、液晶ガラス基板、半導体ウェハや磁気デ
ィスク等にも同様に適用することができる。
【００４６】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明に係わる洗
浄装置によれば、被洗浄基板と遮蔽部材との距離を近付
けても、洗浄液の飛散による前記被洗浄基板の再汚染を
防止でき、ひいては小型化を達成できると共に高清浄度
の洗浄が要求される微細かつ高密度の半導体装置、液晶
ガラス基板や磁気ディスクの製造等に有効に利用できる
等顕著な効果を奏する。
浄装置によれば、被洗浄基板と遮蔽部材との距離を近付
けても、洗浄液の飛散による前記被洗浄基板の再汚染を
防止でき、ひいては小型化を達成できると共に高清浄度
の洗浄が要求される微細かつ高密度の半導体装置、液晶
ガラス基板や磁気ディスクの製造等に有効に利用できる
等顕著な効果を奏する。
【図１】本発明の実施例１の洗浄装置を示す断面図。
【図２】図１の洗浄装置の平面図。
【図３】本発明の実施例２の洗浄装置を示す断面図。
【図４】本発明の実施例３の洗浄装置を示す断面図。
１、２１…受槽、 ４、２４…吸引管、 ５、２５…回転軸、 ６、２６…保持台、 ８、２９…遮蔽部材、 １２、３２…円筒型高周波振動ノズル、 １６、３６…半導体ウェハ、 ２８、３８…開口部、 ３０、３９…差圧管。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−106232（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−183266（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−66108（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−88168（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B08B 3/00 - 3/10 H01L 21/304
Claims (3)
- 【請求項１】 被洗浄基板を水平な状態で保持する保持
手段； 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材； 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段；前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管とからなる 差
圧発生部材； 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段と、 を具備したことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 被洗浄基板を水平な状態で保持する保持
手段； 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材； 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段； 前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管を有する第１
差圧発生部材； 前記遮蔽部材の底部中心付近に等周ピッチで開孔された
複数の開口部と、これら開口部にそれぞれ連通され、下
端に前記遮蔽部材の回転方向と対向するように開口を形
成した差圧管を有する第２差圧発生部材； 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段； を具備したことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項３】 前記洗浄液噴射手段は、高周波振動ノズ
ルであることを特徴とする請求項１または２記載の洗浄
装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8086808A JP3056068B2 (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 洗浄装置 |
| TW086101967A TW434052B (en) | 1996-02-20 | 1997-02-19 | Washing device of disk to be washed |
| US08/802,606 US5927305A (en) | 1996-02-20 | 1997-02-19 | Cleaning apparatus |
| KR1019970005481A KR970072150A (ko) | 1996-02-20 | 1997-02-20 | 세정장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8086808A JP3056068B2 (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09271725A JPH09271725A (ja) | 1997-10-21 |
| JP3056068B2 true JP3056068B2 (ja) | 2000-06-26 |
Family
ID=13897119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8086808A Expired - Lifetime JP3056068B2 (ja) | 1996-02-20 | 1996-04-09 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3056068B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109226026B (zh) * | 2018-10-31 | 2021-10-01 | 马鞍山市新桥工业设计有限公司 | 一种矿石机械加工设备用的清洗装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0886808A (ja) * | 1994-07-20 | 1996-04-02 | Sony Tektronix Corp | 高電圧プローブ |
-
1996
- 1996-04-09 JP JP8086808A patent/JP3056068B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09271725A (ja) | 1997-10-21 |
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