JP3056068B2 - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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Description
半導体ウェハや磁気ディスク等の被洗浄基板を洗浄する
ための装置に関する。
磁気ディスク等の被洗浄基板を洗浄する装置は、被洗浄
基板を保持する保持台と、この保持台を回転させるため
の回転手段と、前記保持台に周囲に配置され、装置の外
に洗浄液が飛散するのを防ぐための円筒状壁部を有する
遮蔽部材と、前記保持台上に保持された被洗浄基板に洗
浄液を噴射する洗浄液噴射手段とから構成されている。
このような洗浄装置により被洗浄基板、例えば半導体ウ
ェハを洗浄するには前記保持台上に前記ウェハを水平に
保持し、前記保持部材を回転させながら、前記洗浄液噴
射手段から洗浄液を前記ウェハ表面に噴射することによ
りなされる。
おいて洗浄時に前記ウェハ表面で飛散した洗浄液、特に
水平方向に飛散した洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状壁部
に衝突するため、その飛沫が前記ウェハ表面に戻って付
着される。洗浄液の飛沫中には、前記遮蔽部材表面に付
着されたパーティクル等の汚染物を含むため、結果的に
はウェハの再汚染を招く。
被洗浄基板の再汚染を防止するために前記保持部材と前
記遮蔽部材との距離を十分に離すことが考えられるが、
装置が大型化するという問題があった。
散による被洗浄基板の再汚染を防止し、かつ小型化が可
能な洗浄装置を提供しようとするものである。
は、被洗浄基板を水平な状態で保持する保持手段; 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材; 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段;前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管とからなる 差
圧発生部材; 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段と、を具備したことを特徴
とするものである。
ば、半導体ウェハのような被洗浄基板を保持手段に保持
し、前記保持手段およびこの保持手段の周辺空間を閉塞
するための円筒状壁部を有する遮蔽部材を回転手段によ
り一体的(同期して)回転させながら、前記洗浄液噴射
手段から洗浄液、例えば純水を前記回転する被洗浄基板
に噴射することによって、前記被洗浄基板の表面を良好
に洗浄することができる。
前記有底円筒状の遮蔽部材とを一体的に回転させると、
前記保持手段の周辺空間を閉塞するための前記遮蔽部材
の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周ピッチで開孔
された複数の開口部を有する差圧発生部材を設けられて
いるため、有底円筒状の前記遮蔽部材内の空気が前記複
数の開口部を通して排気され、回転する前記被洗浄基板
の中心からその周縁に向かう気流が発生する。特に、差
圧発生部材を前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近
の側壁に等周ピッチで開孔された複数の開口部と、これ
ら開口部にそれぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回
転方向に対して背を向けるように開口を形成した差圧管
とから構成することによって、前記遮蔽部材に回転にお
いて前記差圧管近傍の気圧が下がり、その下端開口から
前記有底円筒状の遮蔽部材内の空気が吸気されて排気さ
れるため、回転する前記被洗浄基板の中心からその周縁
に向かう強い気流が発生される。その結果、前記被洗浄
基板に洗浄液を噴射することによりその表面で飛散され
た洗浄液は前記遮蔽部材の円筒状側壁の内面に殆ど到達
することなく、前記差圧発生部材による前記被洗浄基板
表面の中心からその周縁に向かう気流に乗って前記差圧
発生部材の複数の開口部に向けて強制的に排出される。
しかも、前記被洗浄基板の表面で洗浄液が一部飛散し、
特に前記基板の回転軌跡の接線方向にように水平方向に
飛散された洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状壁部の内面に
衝突しても、前述したように前記遮蔽部材は前記被洗浄
基板を保持する保持手段と一体的に回転されているた
め、前記洗浄液の衝突を緩和するように働き、洗浄液の
飛沫が前記被洗浄基板に戻るのを防止することができ
る。
との一体的な回転および前記遮蔽部材への差圧発生部材
の配設により、洗浄後の洗浄液が被洗浄基板に再付着し
て汚染するのをより効果的に防止することができる。
板を水平な状態で保持する保持手段; 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材; 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段; 前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管を有する第1
差圧発生部材; 前記遮蔽部材の底部中心付近に等周ピッチで開孔された
複数の開口部と、これら開口部にそれぞれ連通され、下
端に前記遮蔽部材の回転方向と対向するように開口を形
成したした差圧管を有する第2差圧発生部材; 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段; を具備したことを特徴とするものである。
よれば、ウェハのような被洗浄基板を保持手段に保持
し、前記保持手段およびこの保持手段の周辺空間を閉塞
するための円筒状壁部を有する遮蔽部材を回転手段によ
り一体的(同期して)回転させながら、前記洗浄液噴射
手段から洗浄液、例えば純水を前記回転する被洗浄基板
に噴射することによって、前記被洗浄基板の表面を良好
に洗浄することができる。
前記有底円筒状の遮蔽部材とを一体的に回転させると、
前記保持手段の周辺空間を閉塞するための前記遮蔽部材
の底部周縁もしくは底部付近の側壁に第1差圧発生部材
を設けているため、前記遮蔽部材に回転において下端に
前記遮蔽部材の回転方向に対して背を向けるように開口
を形成した差圧管近傍の気圧が下がり、前記差圧管の下
端開口から前記有底円筒状の遮蔽部材内の空気が吸気さ
れて排気される。このため、回転する前記被洗浄基板表
面の中心からその周縁に向かう強い気流が発生される。
さらに前記回転手段により前記保持手段と前記遮蔽部材
とを一体的に回転させると、前記遮蔽部材の底部中心付
近に第2差圧発生部材を設けているため、前記遮蔽部材
の回転において前記第2差圧発生部材の差圧管の下端に
形成された前記遮蔽部材の回転方向と対向する開口付近
の気圧が高くなる、つまり前記遮蔽部材内部の気圧より
高い気圧になり、前記差圧管および前記開口部を通して
空気が前記遮蔽部材内に流入される。このため、回転す
る前記被洗浄基板の裏面の中心付近からその周縁を通し
て前記第1差圧発生部材の複数の開口部に向かう強い気
流が発生される。その結果、前記被洗浄基板に洗浄液を
噴射することによりその表面で飛散された洗浄液は前記
遮蔽部材の円筒状側壁の内面に殆ど到達することなく、
前記第1差圧発生部材による前記被洗浄基板表面の中心
からその周縁に向かう気流に乗って前記第1差圧発生部
材の複数の開口部に向けて強制的に排出される。同時
に、前記第2差圧発生部材による前記基板裏面の中心付
近からその周縁に向かう気流により前記飛散された洗浄
液が前記基板裏面に回り込むのを防止することができ
る。
一部飛散し、特に前記基板の回転軌跡の接線方向によう
に水平方向に飛散された洗浄液が前記遮蔽部材の円筒状
壁部の内面に衝突しても、前述したように前記遮蔽部材
は前記被洗浄基板を保持する保持手段と一体的に回転さ
れているため、前記洗浄液の衝突を緩和するように働
き、洗浄液の飛沫が前記被洗浄基板に戻るのを防止する
ことができる。
との一体的な回転および前記遮蔽部材への第1、第2の
差圧発生部材の配設により、洗浄後の洗浄液が被洗浄基
板に再付着して汚染するのを防止することができる。
洗浄液噴射手段としては、例えばシャワーノズル、高周
波振動ノズル等を用いることができる。特に、洗浄液噴
射手段としてノズル本体内にその吐出口と対向するよう
に振動子を内蔵し、洗浄液の供給管を通して洗浄液を前
記本体内に供給し、高周波音波に乗った洗浄液を回転す
る前記被洗浄基板に噴射することによって、前記被洗浄
基板表面を精密に洗浄することが可能になる。
持された被洗浄基板の中心と周辺との間を往復動作させ
ることを許容する。このように洗浄液噴射手段を往復動
作させることにより、被洗浄基板の表面全体を良好に洗
浄することが可能になる。
に説明する。 (実施例1)図1は、実施例1の洗浄装置を示す断面
図、図2は図1の上面図である。
し、かつ底部に2つの***3を有する有底矩形筒状の洗
浄液受槽である。2本の吸引管4は、前記受槽1の底部
に前記***3とそれぞれ連通するように連結されてい
る。軸方向に吸引孔(図示せず)が穿設された回転軸5
は、前記受槽1底部の中心を貫通し、図示しない軸受け
により軸支されている。なお、前記回転軸5の吸引孔は
図示しない吸引装置に連通されている。被洗浄基板を真
空チャックする円板状の保持台6は、前記回転軸5の上
端に取り付けられている。前記保持台6の上面には、前
記回転軸5に形成された吸引孔と連通する環状溝7が設
けられている。
配置されている。前記遮蔽部材8は、上端が前記受槽1
の開口穴2内に前記受槽1上面と面一になるように配置
された円筒状側壁9と、前記回転軸5に嵌着された連結
リング10と、この連結リング10に一端が水平方向に
向けて放射状に連結され、他端が前記円筒状壁部9の下
端に一体的に取り付けられた4本の支持板11とから構
成されている。円筒型高周波振動ノズル12は、前記受
槽1の上方に配置され、駆動腕13により前記保持台6
に保持された被洗浄基板の半径方向(矢印方向)に往復
動作される。前記高周波振動ノズル12は、先端に吐出
口14を有するノズル本体15と、このノズル本体15
内に前記吐出口14と対向するように内蔵された振動子
(図示せず)と、前記ノズル本体15の外部に配置さ
れ、前記振動子を振動させるための高周波発振器(図示
せず)と、前記本体15に連結された洗浄液を供給する
ための供給管(図示せず)とを具備した構造を有する。
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ16を前
記保持台6に載置し、図示しない吸引装置を作動して前
記回転軸5の吸引孔を通して前記保持台6に形成した環
状溝7を吸引することにより前記ウェハ16を前記保持
台6上に真空チャックする。この状態で回転軸5を図示
しないモータにより回転させると、前記保持台6に真空
チャックされたウェハ16および前記遮蔽部材8が一体
的に例えば時計回り方向に回転される。このようなウェ
ハ16の回転において、前記円筒型高周波振動ノズル1
2のノズル本体15に内蔵された振動子(図示せず)を
高周波発振器で振動させながら洗浄液、例えば純水を供
給管(図示せず)を通して前記本体15内に供給するこ
とにより、高周波音波に乗った純水が前記吐出口14か
ら噴射される。同時に、駆動腕13により前記高周波振
動ノズル12を回転する前記ウェハ16の半径方向に往
復動作させることにより、高周波音波に乗った純水が前
記ウェハ16の全面に亘って噴射されてウェハ16表面
が洗浄される。
2から純水を噴射すると、前記ウェハ16表面で純水が
飛散し、特にウェハ16の回転軌跡の接線方向のように
水平方向に飛散された純水は前記ウェハ16周囲の前記
遮蔽部材8の円筒状側壁9の内面に衝突する。このよう
に純水が前記遮蔽部材8の円筒状側壁9内面に衝突する
際、前記遮蔽部材8は前記ウェハ16を保持する保持台
6と一体的に回転され、前記円筒状側壁9の内面に向か
う飛散した純水をその面に沿って流延させて前記純水の
衝突を緩和するように働くため、洗浄後の純水の飛沫が
前記ウェハ16表面に戻るのを防止することができる。
なお、前記円筒状側壁9の内面に沿って流延した洗浄後
の純水は前記遮蔽部材8の複数の支持板11の間を通っ
て前記受槽1の底部に落下し、***3および吸引管4を
通して外部に排出される。
8の一体的な回転により、前記ウェハ16と前記遮蔽部
材8との距離を近付けても洗浄後の純水が前記ウェハ1
6表面に再付着して汚染するのを防止できるため、高清
浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装置を実現できる。
を示す断面図である。図中の21は、上面に円形の開口
穴22を有し、かつ底部に2つの***23を有する有底
矩形筒状の洗浄液受槽である。2本の吸引管24は、前
記受槽21の底部に前記***23とそれぞれ連通するよ
うに連結されている。軸方向に吸引孔(図示せず)が穿
設された回転軸25は、前記受槽21底部の中心を貫通
し、図示しない軸受けにより軸支されている。なお、前
記回転軸25の吸引孔は図示しない吸引装置に連通され
ている。被洗浄基板を真空チャックする円板状の保持台
26は、前記回転軸25の上端に取り付けられている。
前記保持台26の上面には、前記回転軸25に形成され
た吸引孔と連通する環状溝(図示せず)が設けられてい
る。
に張り付けられ、かつ底部周縁に8つの開口部28が等
周ピッチで開孔された有底円筒状の遮蔽部材29は、中
心部に前記回転軸25が挿着された状態で前記受槽21
内に配置されている。前記遮蔽部材29は、上端が前記
受槽21の開口穴22内に前記受槽21上面と面一にな
るように配置されている。円筒パイプの下端を斜め方向
に切断した形状を有する例えば8本の差圧管30は、前
記遮蔽部材29の底面に前記開口部28とそれぞれ連通
するように連結されている。前記各差圧管30は、下端
の開口31が前記有底円筒状の遮蔽部材29の接線方向
に向き、かつ前記開口31は前記遮蔽部材29の回転方
向に対して背を向けるように位置している。前記開口部
28および前記差圧管30とにより差圧発生部材を構成
している。
21の上方に配置され、駆動腕33により前記保持台2
6に保持された被洗浄基板の半径方向に往復動作され
る。前記高周波振動ノズル32は、先端に吐出口34を
有するノズル本体35と、このノズル本体35内に前記
吐出口34と対向するように内蔵された振動子(図示せ
ず)と、前記ノズル本体35の外部に配置され、前記振
動子を振動させるための高周波発振器(図示せず)と、
前記本体34に連結された洗浄液を供給するための供給
管(図示せず)とを具備した構造を有する。
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ36を前
記保持台26に載置し、図示しない吸引装置を作動して
前記回転軸25の吸引孔を通して前記保持台26に形成
した環状溝(図示せず)を吸引することにより前記ウェ
ハ36を前記保持台26上に真空チャックする。この状
態で回転軸25を図示しないモータにより回転させる
と、前記保持台26に真空チャックされたウェハ36お
よび前記遮蔽部材29が一体的に例えば時計回り方向に
回転される。このようなウェハ36の回転において、前
記円筒型高周波振動ノズル32のノズル本体35に内蔵
された振動子(図示せず)を高周波発振器で振動させな
がら洗浄液、例えば純水を供給管(図示せず)を通して
前記本体35内に供給することにより、高周波音波に乗
った純水が前記吐出口34から噴射される。同時に、駆
動腕33により前記高周波振動ノズル32を回転する前
記ウェハ36の半径方向に往復動作させることにより、
高周波音波に乗った純水が前記ウェハ36の全面に亘っ
て噴射されてウェハ36表面が洗浄される。
6と前記有底円筒状の遮蔽部材29とを一体的に回転さ
せると、前記保持台26の周辺空間を閉塞するための前
記遮蔽部材29にはその底部周縁に等周ピッチで開孔さ
れた複数の開口部28と、これら開口部28にそれぞれ
連通され、下端に前記遮蔽部材29の回転方向に対して
背を向けるように開口31を形成した差圧管30とから
構成される差圧発生部材が設けられているため、前記遮
蔽部材29に回転において前記各差圧管30近傍の気圧
が下がり、それらの下端の開口31から前記有底円筒状
の遮蔽部材29内の空気が吸気されて排気される。この
ため、矢印に示すように回転する前記ウェハ36の中心
からその周縁に向かう強い気流が発生する。その結果、
前記ウェハ36に純水を噴射することによりその表面で
飛散された純水は、前記遮蔽部材29の円筒状側壁内面
に殆ど到達することなく、前記差圧発生部材による前記
ウェハ36表面の中心からその周縁に向かう気流に乗っ
て前記差圧発生部材の複数の開口部28に向けて強制的
に排出される。
ノズル32から純水を噴射する際、前記ウェハ36表面
で飛散した純水の一部が前記遮蔽部材29の円筒状側壁
内面にしたとしても、前記遮蔽部材29は前記ウェハ3
6を保持する保持台26と一体的に回転され、前記円筒
状側壁内面に向かう飛散した純水をその面に沿って流延
させて前記純水の衝突を緩和するように働くため、洗浄
後の純水の飛沫が前記遮蔽部材29の円筒状側壁内面か
ら前記ウェハ36表面に戻るのを防止することができ
る。
び差圧管31を通して排出された洗浄後の純水と前記遮
蔽部材29の円筒状側壁内面に沿って流延した洗浄後の
純水は、前記受槽21の底部に落下し、***23および
吸引管24を通して外部に排出される。
一体的な回転および前記遮蔽部材29への前記差圧発生
部材の配設により、前記ウェハ36と前記遮蔽部材29
との距離を近付けても洗浄後の純水が前記ウェハ36表
面に再付着して汚染するのをより確実にに防止できるた
め、高清浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装置を実現でき
る。
を示す断面図である。なお、前述した実施例2で説明し
た図3と同様な部材は同符号を付して説明を省略する。
は、環状突起部37が差圧発生部材(第1差圧発生部
材)の複数の差圧管30の内側に位置する有底円筒状の
遮蔽部材29の底面部分に近接するように形成されてい
る。回転軸25と前記環状突起部37との間に位置する
前記遮蔽部材29の底部部分には、例えば4つの開口部
38が等周ピッチで開孔されている。円筒パイプの下端
を斜め方向に切断した形状を有する例えば4本の差圧管
39は、前記遮蔽部材29の底面に前記開口部37とそ
れぞれ連通するように連結されている。前記各差圧管3
9は、下端の開口40が前記有底円筒状の遮蔽部材29
の接線方向に向き、かつ前記遮蔽部材29の回転方向と
対向するように位置している。前記開口部38および前
記差圧管39とにより第2差圧発生部材を構成してい
る。
を説明する。被洗浄基板、例えば半導体ウェハ36を前
記保持台26に載置し、図示しない吸引装置を作動して
前記回転軸25の吸引孔を通して前記保持台26に形成
した環状溝(図示せず)を吸引することにより前記ウェ
ハ36を前記保持台26上に真空チャックする。この状
態で回転軸25を図示しないモータにより回転させる
と、前記保持台26に真空チャックされたウェハ36お
よび前記遮蔽部材29が一体的に例えば時計回り方向に
回転される。このようなウェハ36の回転において、前
記円筒型高周波振動ノズル32のノズル本体35に内蔵
された振動子(図示せず)を高周波発振器で振動させな
がら洗浄液、例えば純水を供給管(図示せず)を通して
前記本体35内に供給することにより、高周波音波に乗
った純水が前記吐出口34から噴射される。同時に、駆
動腕33により前記高周波振動ノズル32を回転する前
記ウェハ36の半径方向に往復動作させることにより、
高周波音波に乗った純水が前記ウェハ36の全面に亘っ
て噴射されてウェハ36表面が洗浄される。
6と前記有底円筒状の遮蔽部材29とを一体的に回転さ
せると、前記保持台26の周辺空間を閉塞するための前
記遮蔽部材29にはその底部周縁に等周ピッチで開孔さ
れた複数の開口部28と、これら開口部28にそれぞれ
連通され、下端に前記遮蔽部材29の回転方向に対して
背を向けるように開口31を形成した差圧管30とから
構成される差圧発生部材(第1差圧発生部材)が設けら
れているため、前記遮蔽部材29に回転において前記各
差圧管30近傍の気圧が下がり、それらの下端の開口3
1から前記有底円筒状の遮蔽部材29内の空気が吸気さ
れて排気される。このため、矢印に示すように回転する
前記ウェハ36の中心からその周縁に向かう強い気流が
発生する。
6と前記遮蔽部材29とを一体的に回転させると、前記
回転軸25と前記環状突起部37とで囲まれた前記遮蔽
部材29の底部中心付近に等周ピッチで開孔された複数
の開口部38と、これら開口部38にそれぞれ連通さ
れ、下端に前記遮蔽部材29の回転方向と対向するよう
に開口40を形成した差圧管39とから構成される第2
差圧発生部材を設けているため、前記遮蔽部材29に回
転において前記第2差圧発生部材の差圧管39の下端に
形成された開口40付近の気圧が高くなる、つまり前記
遮蔽部材29内部の気圧より高い気圧になり、前記回転
軸25、前記環状突起部37および前記遮蔽部材29底
部で区画された空間内の空気が前記差圧管39および前
記開口部38を通して前記遮蔽部材29内に流入され
る。このため、矢印に示すように回転する前記ウェハ3
6の裏面の中心付近からその周縁を通して前記第1差圧
発生部材の複数の開口部28に向かう強い気流が発生さ
れる。
ることによりその表面で飛散された純水は、前記遮蔽部
材29の円筒状側壁内面に殆ど到達することなく前記第
1差圧発生部材による前記ウェハ36表面の中心からそ
の周縁に向かう気流に乗って前記第1差圧発生部材の複
数の開口部28に向けて強制的に排出される。同時に、
前記第2差圧発生部材による前記ウェハ36裏面の中心
付近からその周縁に向かう気流により前記飛散された純
水が前記ウェハ36裏面に回り込むのを防止することが
できる。
振動ノズル32から純水を噴射する際、前記ウェハ36
表面で飛散した純水の一部が前記遮蔽部材29の円筒状
側壁内面にしたとしても、前記遮蔽部材29は前記ウェ
ハ36を保持する保持台26と一体的に回転され、前記
円筒状側壁内面に向かう純水をその面に沿って流延させ
て前記純水の衝突を緩和するように働くため、洗浄後の
純水の飛沫が前記遮蔽部材29の円筒状側壁内面から前
記ウェハ36表面に戻るのを防止することができる。
生部材の複数の開口部28および差圧管31を通して排
出された洗浄後の純水と、前記遮蔽部材29の円筒状側
壁内面に沿って流延した洗浄後の純水は前記受槽21の
底部に落下し、***23および吸引管24を通して外部
に排出される。
一体的な回転および前記遮蔽部材29への前記第1、第
2の差圧発生部材の配設により、前記ウェハ36と前記
遮蔽部材29との距離を近付けても洗浄後の純水が前記
ウェハ36表面に再付着して汚染するのを一層確実にに
防止できるため、高清浄度の洗浄が可能な小型の洗浄装
置を実現できる。
ズルとして円筒型のものを用い、被洗浄基板(例えば半
導体ウェハ)の半径の範囲内で掃引させるようにした
が、前記円筒型高周波振動ノズルの代わりに洗浄液の吐
出口が細長状のバー型高周波振動ノズルを用いても同様
な効果を奏する。
用いたが、純水の代わりに他の薬液を洗浄液として用い
てもよい。前記実施例では被洗浄基板として半導体ウェ
ハを用いたが、液晶ガラス基板、半導体ウェハや磁気デ
ィスク等にも同様に適用することができる。
浄装置によれば、被洗浄基板と遮蔽部材との距離を近付
けても、洗浄液の飛散による前記被洗浄基板の再汚染を
防止でき、ひいては小型化を達成できると共に高清浄度
の洗浄が要求される微細かつ高密度の半導体装置、液晶
ガラス基板や磁気ディスクの製造等に有効に利用できる
等顕著な効果を奏する。
Claims (3)
- 【請求項1】 被洗浄基板を水平な状態で保持する保持
手段; 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材; 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段;前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管とからなる 差
圧発生部材; 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段と、 を具備したことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項2】 被洗浄基板を水平な状態で保持する保持
手段; 前記保持手段の周辺空間を閉塞するための有底円筒状の
遮蔽部材; 前記保持手段と前記遮蔽部材とを一体的に回転させるた
めの回転手段; 前記遮蔽部材の底部周縁もしくは底部付近の側壁に等周
ピッチで開孔された複数の開口部と、これら開口部にそ
れぞれ連通され、下端に前記遮蔽部材の回転方向に対し
て背を向けるように開口を形成した差圧管を有する第1
差圧発生部材; 前記遮蔽部材の底部中心付近に等周ピッチで開孔された
複数の開口部と、これら開口部にそれぞれ連通され、下
端に前記遮蔽部材の回転方向と対向するように開口を形
成した差圧管を有する第2差圧発生部材; 前記保持手段で保持された被洗浄基板の表面に洗浄液を
噴射するため洗浄液噴射手段; を具備したことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項3】 前記洗浄液噴射手段は、高周波振動ノズ
ルであることを特徴とする請求項1または2記載の洗浄
装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8086808A JP3056068B2 (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 洗浄装置 |
TW086101967A TW434052B (en) | 1996-02-20 | 1997-02-19 | Washing device of disk to be washed |
US08/802,606 US5927305A (en) | 1996-02-20 | 1997-02-19 | Cleaning apparatus |
KR1019970005481A KR970072150A (ko) | 1996-02-20 | 1997-02-20 | 세정장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8086808A JP3056068B2 (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09271725A JPH09271725A (ja) | 1997-10-21 |
JP3056068B2 true JP3056068B2 (ja) | 2000-06-26 |
Family
ID=13897119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8086808A Expired - Lifetime JP3056068B2 (ja) | 1996-02-20 | 1996-04-09 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3056068B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109226026B (zh) * | 2018-10-31 | 2021-10-01 | 马鞍山市新桥工业设计有限公司 | 一种矿石机械加工设备用的清洗装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0886808A (ja) * | 1994-07-20 | 1996-04-02 | Sony Tektronix Corp | 高電圧プローブ |
-
1996
- 1996-04-09 JP JP8086808A patent/JP3056068B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09271725A (ja) | 1997-10-21 |
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