JP3045574B2 - アミノ化合物の製造法 - Google Patents
アミノ化合物の製造法Info
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、抗菌性化合物の製造中
間体の製法に関する。
間体の製法に関する。
【０００２】
【従来技術】（Ｓ）−７−アミノ−５−アザスピロ
［２．４］ヘプタンを置換基として有するフルオロキノ
リン化合物は優れた抗菌性物質として有用である（例え
ば特開平２−２３１４７５号公報参照）。７−アミノ−
５−（置換または非置換）−５−アザスピロ［２．４］
ヘプタンまたはその４−オキソ体は、５−（置換または
非置換）−５−アザスピロ［２．４］ヘプタン−７−オ
ンまたはその４−オキソ体の７−オキソ基をヒドロキシ
イミノ基に変え、次いでこれを還元してアミノ基として
製造されていた
［２．４］ヘプタンを置換基として有するフルオロキノ
リン化合物は優れた抗菌性物質として有用である（例え
ば特開平２−２３１４７５号公報参照）。７−アミノ−
５−（置換または非置換）−５−アザスピロ［２．４］
ヘプタンまたはその４−オキソ体は、５−（置換または
非置換）−５−アザスピロ［２．４］ヘプタン−７−オ
ンまたはその４−オキソ体の７−オキソ基をヒドロキシ
イミノ基に変え、次いでこれを還元してアミノ基として
製造されていた
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者は、種々検討の
結果、７位にオキソ基のある５−（置換または非置換）
−５−アザスピロ［２．４］ヘプタンまたはその４−オ
キソ体を一工程で７位アミノ基の化合物、すなわち、７
−アミノ−５−（置換または非置換）−５−アザスピロ
［２．４］ヘプタンまたはその４−オキソ体に導くこと
を見出し、同様に８−アミノ−６−アザスピロ［３．
４］オクタン等も得られることを見出して本発明を完成
した。
結果、７位にオキソ基のある５−（置換または非置換）
−５−アザスピロ［２．４］ヘプタンまたはその４−オ
キソ体を一工程で７位アミノ基の化合物、すなわち、７
−アミノ−５−（置換または非置換）−５−アザスピロ
［２．４］ヘプタンまたはその４−オキソ体に導くこと
を見出し、同様に８−アミノ−６−アザスピロ［３．
４］オクタン等も得られることを見出して本発明を完成
した。
【０００４】
【発明の構成】本発明は、一般式Ｉ （式中、Ｑは−ＣＨ２−または−ＣＯ−を意味し、Ｒ１
およびＲ２はそれぞれ炭素数１乃至５のアルキル基を意
味するか、両者で炭素数２乃至５のアルキレン鎖を形成
する。Ｒ３はフェニル基上にニトロ、アルコキシもしく
はハロゲンが置換することもあるフェニルアルキル基、
トリチル基、ベンズヒドリル基をまたは低級アルキル基
を意味する。）で表わされる化合物を、水素および触媒
の存在下アンモニアと処理して一般式ＩＩ （式中Ｑ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は前記に同じ。）で表
わされる化合物を製造する方法に関する。一般式ＩＩで
表わされる化合物は置換基Ｒ１と置換基Ｒ２の結合する
炭素が不斉炭素でなく、かつＲ３に不斉炭素がなければ
ラセミ体である
およびＲ２はそれぞれ炭素数１乃至５のアルキル基を意
味するか、両者で炭素数２乃至５のアルキレン鎖を形成
する。Ｒ３はフェニル基上にニトロ、アルコキシもしく
はハロゲンが置換することもあるフェニルアルキル基、
トリチル基、ベンズヒドリル基をまたは低級アルキル基
を意味する。）で表わされる化合物を、水素および触媒
の存在下アンモニアと処理して一般式ＩＩ （式中Ｑ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は前記に同じ。）で表
わされる化合物を製造する方法に関する。一般式ＩＩで
表わされる化合物は置換基Ｒ１と置換基Ｒ２の結合する
炭素が不斉炭素でなく、かつＲ３に不斉炭素がなければ
ラセミ体である
【０００５】一般式Ｉの化合物および一般式ＩＩの化合
物の環を形成する窒素原子上の置換基Ｒ３としては、ベ
ンジル基が最も適当であるが、その他にも、低級アルキ
ル基、トリチル基およびベンズヒドリル基を例示するこ
とができる。ニトロ、メトキシやエトキシのようなアル
コキシもしくはハロゲンが置換したベンジル基も適当で
あり、さらに、不斉炭素原子を有することもあるフェニ
ルアルキル基、例えば、（Ｒ）−α−フェニルエチル
基、（Ｓ）−α−フェニルエチル基またはラセミ体のα
−フェニルエチル基を挙げることができる。置換基Ｒ１
およびＲ２の代表例としては、メチル基を、および両者
でエチレン基またはプロピレン基を表わしてスピロ環構
造をとる場合を挙げることができる。このとき、アザス
ピロヘプタン、アザスピロオクタンを形成する。
物の環を形成する窒素原子上の置換基Ｒ３としては、ベ
ンジル基が最も適当であるが、その他にも、低級アルキ
ル基、トリチル基およびベンズヒドリル基を例示するこ
とができる。ニトロ、メトキシやエトキシのようなアル
コキシもしくはハロゲンが置換したベンジル基も適当で
あり、さらに、不斉炭素原子を有することもあるフェニ
ルアルキル基、例えば、（Ｒ）−α−フェニルエチル
基、（Ｓ）−α−フェニルエチル基またはラセミ体のα
−フェニルエチル基を挙げることができる。置換基Ｒ１
およびＲ２の代表例としては、メチル基を、および両者
でエチレン基またはプロピレン基を表わしてスピロ環構
造をとる場合を挙げることができる。このとき、アザス
ピロヘプタン、アザスピロオクタンを形成する。
【０００６】アンモニアは液体アンモニアを溶媒を兼ね
て用いても良いし、アンモニアガスを溶媒に溶解したも
のを用いても良い。勿論、液体アンモニアまたはアンモ
ニア水を加えて使用しても良い。この反応は水素の存在
下、例えば１気圧乃至３００気圧に加圧下で行なうのが
適当である。また、この反応は触媒、特にラネーコバル
ト、ラネーニッケル等のラネー触媒の存在下行なうのが
適当であり、反応は常温乃至２００℃の温度で行なうの
が一般的である。
て用いても良いし、アンモニアガスを溶媒に溶解したも
のを用いても良い。勿論、液体アンモニアまたはアンモ
ニア水を加えて使用しても良い。この反応は水素の存在
下、例えば１気圧乃至３００気圧に加圧下で行なうのが
適当である。また、この反応は触媒、特にラネーコバル
ト、ラネーニッケル等のラネー触媒の存在下行なうのが
適当であり、反応は常温乃至２００℃の温度で行なうの
が一般的である。
【０００７】この反応には溶媒を用いるのが好ましく、
例えば、次に示すものおよびそれらの混合溶媒を使用す
ることができる。 エーテル系：ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、 アルコール系：メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ｔ−ブタノール等 ハロゲン化炭化水素系：クロロホルム、メチレンクロリ
ド、エチレンクロリド等 アミド系：ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチル
アセトアミド（ＤＭＡｃ） その他：水、アセトン、アセトニトリル、酢酸、酢酸エ
ステル類、液体アンモニア等
例えば、次に示すものおよびそれらの混合溶媒を使用す
ることができる。 エーテル系：ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、 アルコール系：メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ｔ−ブタノール等 ハロゲン化炭化水素系：クロロホルム、メチレンクロリ
ド、エチレンクロリド等 アミド系：ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチル
アセトアミド（ＤＭＡｃ） その他：水、アセトン、アセトニトリル、酢酸、酢酸エ
ステル類、液体アンモニア等
【０００８】またこの反応は、酢酸アンモニウム、炭酸
アンモニウム、硫酸アンモニウム等のアンモニウム塩や
無機酸、有機酸、無機塩等を加えることによって収率が
向上することがある。
アンモニウム、硫酸アンモニウム等のアンモニウム塩や
無機酸、有機酸、無機塩等を加えることによって収率が
向上することがある。
【０００９】
【実施例１】７−アミノ−５−ベンジル−５−アザスピ
ロ［２．４］ヘプタン ５−ベンジル−７−オキソ−５−アザスピロ［２．４］
ヘプタン１．０ｇ、ラネーコバルト０．５ｍｌ、アンモ
ニア−メタノール溶液（約３５％）２２ｍｌおよび酢酸
アンモニウム２．５ｇを、１００ｍｌのオートクレーブ
に入れ、加温および水素加圧下７時間攪拌した（７０
℃、２０気圧）。放冷し、触媒を瀘去後、濃縮した。こ
れに水５０ｍｌを加えてセライト濾過を行ない、クロロ
ホルム５０ｍｌで三回抽出した。有機層を合わせて硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮して標題化合物の無色油状物
０．８８ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．２６〜０．９６（４Ｈ，
ｍ）、２．２０〜３．１６（５Ｈ，ｍ）、３．６１（２
Ｈ，ｓ）、７．３３（５Ｈ，ｂｓ）
ロ［２．４］ヘプタン ５−ベンジル−７−オキソ−５−アザスピロ［２．４］
ヘプタン１．０ｇ、ラネーコバルト０．５ｍｌ、アンモ
ニア−メタノール溶液（約３５％）２２ｍｌおよび酢酸
アンモニウム２．５ｇを、１００ｍｌのオートクレーブ
に入れ、加温および水素加圧下７時間攪拌した（７０
℃、２０気圧）。放冷し、触媒を瀘去後、濃縮した。こ
れに水５０ｍｌを加えてセライト濾過を行ない、クロロ
ホルム５０ｍｌで三回抽出した。有機層を合わせて硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮して標題化合物の無色油状物
０．８８ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．２６〜０．９６（４Ｈ，
ｍ）、２．２０〜３．１６（５Ｈ，ｍ）、３．６１（２
Ｈ，ｓ）、７．３３（５Ｈ，ｂｓ）
【００１０】
【実施例２】７−アミノ−５−ベンジル−４−オキソ−
５−アザスピロ［２．４］ヘプタン ５−ベンジル−４，７−ジオキソ−５−アザスピロ
［２．４］ヘプタン１．０ｇ、ラネーコバルト０．５ｍ
ｌ、アンモニア−メタノール溶液（約３５％）および酢
酸アンモニウム２．５ｇを、１００ｍｌのオートクレー
ブに入れ、加温および水素加圧下７時間攪拌した（７０
℃、２０気圧）。放冷し、触媒を瀘去後、濃縮した。こ
れに水５０ｍｌを加えてセライト濾過を行ない、クロロ
ホルム５０ｍｌで三回抽出した。有機層を合わせて硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮して標題化合物の無色油状物
０．６５ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．６０〜１．３６（４Ｈ，
ｍ）、１．１５（２Ｈ，ｂｓ）、２．９６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝３．５ ａｎｄ ９Ｈｚ）、３．３６（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．５ ａｎｄ ７Ｈｚ）、３．６０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７ ａｎｄ ３．５Ｈｚ）、４．５１
（２Ｈ，ｓ）、７．１８〜７．５２（５Ｈ，ｍ）
５−アザスピロ［２．４］ヘプタン ５−ベンジル−４，７−ジオキソ−５−アザスピロ
［２．４］ヘプタン１．０ｇ、ラネーコバルト０．５ｍ
ｌ、アンモニア−メタノール溶液（約３５％）および酢
酸アンモニウム２．５ｇを、１００ｍｌのオートクレー
ブに入れ、加温および水素加圧下７時間攪拌した（７０
℃、２０気圧）。放冷し、触媒を瀘去後、濃縮した。こ
れに水５０ｍｌを加えてセライト濾過を行ない、クロロ
ホルム５０ｍｌで三回抽出した。有機層を合わせて硫酸
ナトリウムで乾燥し、濃縮して標題化合物の無色油状物
０．６５ｇを得た。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．６０〜１．３６（４Ｈ，
ｍ）、１．１５（２Ｈ，ｂｓ）、２．９６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝３．５ ａｎｄ ９Ｈｚ）、３．３６（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝３．５ ａｎｄ ７Ｈｚ）、３．６０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７ ａｎｄ ３．５Ｈｚ）、４．５１
（２Ｈ，ｓ）、７．１８〜７．５２（５Ｈ，ｍ）
【００１１】
【実施例３】実施例１の５−ベンジル−７−オキソ−５
−アザスピロ［２．４］ヘプタンに代えて６−ベンジル
−８−オキソ−６−アザスピロ［３．４］オクタンを用
いて８−アミノ−６−ベンジル−６−アザスピロ［３．
４］オクタンを得る。
−アザスピロ［２．４］ヘプタンに代えて６−ベンジル
−８−オキソ−６−アザスピロ［３．４］オクタンを用
いて８−アミノ−６−ベンジル−６−アザスピロ［３．
４］オクタンを得る。
【００１２】
【実施例４】実施例２の５−ベンジル−４，７−ジオキ
ソ−５−アザスピロ［２．４］ヘプタンに代えて６−ベ
ンジル−５，８−ジオキソ−６−アザスピロ［３．４］
オクタンを用いて８−アミノ−６−ベンジル−５−オキ
ソ−６−アザスピロ［３．４］オクタンを得る。
ソ−５−アザスピロ［２．４］ヘプタンに代えて６−ベ
ンジル−５，８−ジオキソ−６−アザスピロ［３．４］
オクタンを用いて８−アミノ−６−ベンジル−５−オキ
ソ−６−アザスピロ［３．４］オクタンを得る。
【００１３】
【実施例５】実施例１の５−ベンジル−７−オキソ−５
−アザスピロ［２．４］ヘプタンに代えて１−ベンジル
−３−オキソ−４，４−ジメチルピロリジンを用いて３
−アミノ−１−ベンジル−４，４−ジメチルピロリジン
を得る。
−アザスピロ［２．４］ヘプタンに代えて１−ベンジル
−３−オキソ−４，４−ジメチルピロリジンを用いて３
−アミノ−１−ベンジル−４，４−ジメチルピロリジン
を得る。
【００１４】
【参考例１】Ａ．１−ベンジルアミノカルボニル−１−
（１，１−エチレンジオキシエチル）シクロプロパン １−アセチル−１−ベンジルアミノカルボニルシクロプ
ロパン１９．４７ｇ、エチレングリコール２８．２０ｇ
およびｐ−トルエンスルホン酸・１水和物１．０ｇをベ
ンゼン１５０ｍｌに加え、ディーンスタークの脱水装置
をつけて、１４時間加熱還流した。反応後、ベンゼン５
０ｍｌを追加し、有機層を飽和重曹水および水で洗い、
乾燥（ＭｇＳＯ４）後溶媒を留去した。得た残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィに付し、クロロホルム−酢酸エ
チル（５：１）流分より標題化合物２３．３５ｇを得
た。油状化合物。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．８０〜０．９５，１．０
５〜１．２０（各２Ｈ，ｍ）、１．５０（３Ｈ，ｓ）、
３．９４（４Ｈ，ｓ）、４．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、７．３３（５Ｈ，ｂｓ）
（１，１−エチレンジオキシエチル）シクロプロパン １−アセチル−１−ベンジルアミノカルボニルシクロプ
ロパン１９．４７ｇ、エチレングリコール２８．２０ｇ
およびｐ−トルエンスルホン酸・１水和物１．０ｇをベ
ンゼン１５０ｍｌに加え、ディーンスタークの脱水装置
をつけて、１４時間加熱還流した。反応後、ベンゼン５
０ｍｌを追加し、有機層を飽和重曹水および水で洗い、
乾燥（ＭｇＳＯ４）後溶媒を留去した。得た残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィに付し、クロロホルム−酢酸エ
チル（５：１）流分より標題化合物２３．３５ｇを得
た。油状化合物。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．８０〜０．９５，１．０
５〜１．２０（各２Ｈ，ｍ）、１．５０（３Ｈ，ｓ）、
３．９４（４Ｈ，ｓ）、４．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、７．３３（５Ｈ，ｂｓ）
【００１５】Ｂ．１−ベンジルアミノカルボニル−１−
（２−ブロモ−１，１−エチレンジオキシエチル）シク
ロプロパン １−ベンジルアミノカルボニル−１−（１，１−エチレ
ンジオキシエチル）シクロプロパン２２．６４ｇを無水
ジオキサン２５０ｍｌに溶解し、臭素１３．８５ｇを加
えて室温で４．５時間撹拌した。ジオキサンを留去し、
残渣をクロロホルムに溶解して、クロロホルム層を２．
５％チオ硫酸ナトリウム水溶液および水で洗い、乾燥
（Ｎａ２ＳＯ４）後、クロロホルムを留去して標題化合
物２９．０４ｇを得た。油状物質 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．８４〜０．９９，１．１
１〜１．２７（各２Ｈ，ｍ）、３．６８（４Ｈ，ｓ）、
３．９９〜４．２４（２Ｈ，ｍ）、４．４６（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、７．３２（５Ｈ，ｂｓ）
（２−ブロモ−１，１−エチレンジオキシエチル）シク
ロプロパン １−ベンジルアミノカルボニル−１−（１，１−エチレ
ンジオキシエチル）シクロプロパン２２．６４ｇを無水
ジオキサン２５０ｍｌに溶解し、臭素１３．８５ｇを加
えて室温で４．５時間撹拌した。ジオキサンを留去し、
残渣をクロロホルムに溶解して、クロロホルム層を２．
５％チオ硫酸ナトリウム水溶液および水で洗い、乾燥
（Ｎａ２ＳＯ４）後、クロロホルムを留去して標題化合
物２９．０４ｇを得た。油状物質 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．８４〜０．９９，１．１
１〜１．２７（各２Ｈ，ｍ）、３．６８（４Ｈ，ｓ）、
３．９９〜４．２４（２Ｈ，ｍ）、４．４６（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝６Ｈｚ）、７．３２（５Ｈ，ｂｓ）
【００１６】Ｃ．５−ベンジル−７，７−エチレンジオ
キシ−４−オキソ−５−アザスピロ［２．４］ヘプタン １−ベンジルアミノカルボニル−１−（２−ブロモ−
１，１−エチレンジオキシエチル）シクロプロパン２
９．０４ｇを無水ＤＭＦ２０５ｍｌに溶解し、氷冷撹拌
下に水素化ナトリウム（６０％）３．７６ｇを徐々に加
えた。この時、内温を１０℃以下に保った。氷冷下１時
間撹拌後、反応混合物を氷水１．５ｌに加え、さらに１
５％食塩水１２０ｍｌを追加し、酢酸エチル４２０ｍｌ
で４回抽出した。有機層を１５％食塩水で洗い、乾燥
（ＭｇＳＯ４）後、溶媒を留去して得た残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィに付し、ベンゼン−酢酸エチル
（５：１）流分より標題化合物１５．８３ｇを得た。油
状化合物。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：１．０７〜１．２３（４Ｈ，
ｍ）、３．３６（２Ｈ，ｓ）、３．８５（４Ｈ，ｓ）、
４．５５（２Ｈ，ｓ）、７．１９〜７．４４（５Ｈ，
ｍ）
キシ−４−オキソ−５−アザスピロ［２．４］ヘプタン １−ベンジルアミノカルボニル−１−（２−ブロモ−
１，１−エチレンジオキシエチル）シクロプロパン２
９．０４ｇを無水ＤＭＦ２０５ｍｌに溶解し、氷冷撹拌
下に水素化ナトリウム（６０％）３．７６ｇを徐々に加
えた。この時、内温を１０℃以下に保った。氷冷下１時
間撹拌後、反応混合物を氷水１．５ｌに加え、さらに１
５％食塩水１２０ｍｌを追加し、酢酸エチル４２０ｍｌ
で４回抽出した。有機層を１５％食塩水で洗い、乾燥
（ＭｇＳＯ４）後、溶媒を留去して得た残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィに付し、ベンゼン−酢酸エチル
（５：１）流分より標題化合物１５．８３ｇを得た。油
状化合物。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：１．０７〜１．２３（４Ｈ，
ｍ）、３．３６（２Ｈ，ｓ）、３．８５（４Ｈ，ｓ）、
４．５５（２Ｈ，ｓ）、７．１９〜７．４４（５Ｈ，
ｍ）
【００１７】Ｄ．５−ベンジル−４，７−ジオキソ−５
−アザスピロ−［２．４］ヘプタン ５−ベンジル−７，７−エチレンジオキシ−４−オキソ
−５−アザスピロ［２．４］ヘプタン１５．６１ｇをア
セトン１５０ｍｌに溶解し、１規定塩酸４０ｍｌを加
え、３．５時間加熱還流した。反応後アセトンをほぼ留
去し、残渣にクロロホルムを加え、有機層を２回水洗し
た。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去して
得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、
ベンゼン−酢酸エチル（１０：１）流分より標題化合物
１５．８３ｇを得た。融点 ８７℃ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：１．５１〜１．８２（４Ｈ，
ｍ）、３．７９（２Ｈ，ｓ）、４．６８（２Ｈ，ｓ）、
７．１９〜７．４１（５Ｈ，ｍ）
−アザスピロ−［２．４］ヘプタン ５−ベンジル−７，７−エチレンジオキシ−４−オキソ
−５−アザスピロ［２．４］ヘプタン１５．６１ｇをア
セトン１５０ｍｌに溶解し、１規定塩酸４０ｍｌを加
え、３．５時間加熱還流した。反応後アセトンをほぼ留
去し、残渣にクロロホルムを加え、有機層を２回水洗し
た。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去して
得た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィに付し、
ベンゼン−酢酸エチル（１０：１）流分より標題化合物
１５．８３ｇを得た。融点 ８７℃ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：１．５１〜１．８２（４Ｈ，
ｍ）、３．７９（２Ｈ，ｓ）、４．６８（２Ｈ，ｓ）、
７．１９〜７．４１（５Ｈ，ｍ）
【００１８】
【参考例２】Ａ．５−ベンジル−７，７−エチレンジオ
キシ−５−アザスピロ［２．４］ヘプタン 無水ＴＨＦ１２００ｍｌにリチウムアルミニウムハイド
ライド２６．１０ｇを懸濁させ、氷冷撹拌下５−ベンジ
ル−７，７−エチレンジオキシ−４−オキソ−５−アザ
スピロ［２．４］ヘプタン４７．８７ｇを無水ＴＨＦ４
０ｍｌに溶解して徐々に滴下した。滴下終了後、室温で
４０分間、加熱還流しながら４時間撹拌した。反応終了
後再度氷冷し、水２６．１ｍｌ、１５％水酸化ナトリウ
ム水溶液２６．１ｍｌおよび水７８．３ｍｌを順次滴下
し、室温で２０分間撹拌して不溶物を濾去した。濾液よ
りＴＨＦを留去し、残渣にクロロホルムを加えて硫酸ナ
トリウムで乾燥後、クロロホルムを留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィに付し、クロロホルム
〜クロロホルム−酢酸エチル（１０：１）流分より、標
題化合物４１．７５ｇを得た。融点６７〜６８℃（６３
℃で湿潤） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．４４〜０．９４（４Ｈ，
ｍ）、２．６４ ａｎｄ２．７７（各２Ｈ，ｓ）、３．
６１（２Ｈ，ｓ）、３．７６（４Ｈ，ｓ）、７．２０〜
７．３３（５Ｈ，ｍ）
キシ−５−アザスピロ［２．４］ヘプタン 無水ＴＨＦ１２００ｍｌにリチウムアルミニウムハイド
ライド２６．１０ｇを懸濁させ、氷冷撹拌下５−ベンジ
ル−７，７−エチレンジオキシ−４−オキソ−５−アザ
スピロ［２．４］ヘプタン４７．８７ｇを無水ＴＨＦ４
０ｍｌに溶解して徐々に滴下した。滴下終了後、室温で
４０分間、加熱還流しながら４時間撹拌した。反応終了
後再度氷冷し、水２６．１ｍｌ、１５％水酸化ナトリウ
ム水溶液２６．１ｍｌおよび水７８．３ｍｌを順次滴下
し、室温で２０分間撹拌して不溶物を濾去した。濾液よ
りＴＨＦを留去し、残渣にクロロホルムを加えて硫酸ナ
トリウムで乾燥後、クロロホルムを留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィに付し、クロロホルム
〜クロロホルム−酢酸エチル（１０：１）流分より、標
題化合物４１．７５ｇを得た。融点６７〜６８℃（６３
℃で湿潤） ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．４４〜０．９４（４Ｈ，
ｍ）、２．６４ ａｎｄ２．７７（各２Ｈ，ｓ）、３．
６１（２Ｈ，ｓ）、３．７６（４Ｈ，ｓ）、７．２０〜
７．３３（５Ｈ，ｍ）
【００１９】Ｂ．５−ベンジル−７−オキソ−５−アザ
スピロ［２．４］ヘプタン ５−ベンジル−７，７−エチレンジオキシ−５−アザス
ピロ［２．４］ヘプタン１０ｇをアセトン４５０ｍｌに
溶解し、１規定塩酸１２０ｍｌを加えて１５時間加熱還
流した。反応後、アセトンを留去し、残渣に氷水４００
ｍｌを加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
てアルカリ性とし、クロロホルム２００ｍｌで３回抽出
した。有機層を合せ水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥（Ｎ
ａ２ＳＯ４）後、溶媒を留去して標題化合物７．６４ｇ
を得た。油状化合物 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．８９〜１．３３（４Ｈ，
ｍ）、２．９６ ａｎｄ３．１８（各２Ｈ，ｓ）、３．
７５（２Ｈ，ｓ）、７．２６〜７．４０（５Ｈ，ｍ）
スピロ［２．４］ヘプタン ５−ベンジル−７，７−エチレンジオキシ−５−アザス
ピロ［２．４］ヘプタン１０ｇをアセトン４５０ｍｌに
溶解し、１規定塩酸１２０ｍｌを加えて１５時間加熱還
流した。反応後、アセトンを留去し、残渣に氷水４００
ｍｌを加えた後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
てアルカリ性とし、クロロホルム２００ｍｌで３回抽出
した。有機層を合せ水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥（Ｎ
ａ２ＳＯ４）後、溶媒を留去して標題化合物７．６４ｇ
を得た。油状化合物 ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：０．８９〜１．３３（４Ｈ，
ｍ）、２．９６ ａｎｄ３．１８（各２Ｈ，ｓ）、３．
７５（２Ｈ，ｓ）、７．２６〜７．４０（５Ｈ，ｍ）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−231475（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−95176（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 207/14 C07D 209/54 B01J 25/00 C07B 61/00 300 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (6)
- 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｑは−ＣＨ2−または−ＣＯ−を意味し、Ｒ1よ
びＲ2はそれぞれ炭素数１乃至５のアルキル基を意味す
るか、両者で炭素数２乃至５のアルキレン鎖を形成す
る。Ｒ3はフェニル基上にニトロ、アルコキシもしくは
ハロゲンが置換することもあるフェニルアルキル基、ト
リチル基、ベンズヒドリル基をまたは低級アルキル基を
意味する。）で表される化合物を、所望によりアンモニ
ウム塩の存在下で、水素およびラネーＣｏ触媒の存在下
にアンモニアと処理することを特徴とする一般式（２） （式中、Ｑ，Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は前記に同じ。）で表
される化合物の製法。 - 【請求項２】一般式（１） （式中、Ｑ，Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は請求項１に同じ。）
で表される化合物を、アンモニウム塩、水素およびラネ
ーＣｏ触媒の存在下アンモニアと処理することを特徴と
する一般式（２） （式中、Ｑ，Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は前記に同じ。）で表
される化合物の製法。 - 【請求項３】アンモニウム塩が酢酸アンモニウム、炭酸
アンモニウム、硫酸アンモニウムから選ばれるアンモニ
ウム塩である請求項２の製法 - 【請求項４】アンモニウム塩が酢酸アンモニウムである
請求項２の製法 - 【請求項５】Ｒ1およびＲ2でエチレン鎖を形成する化合
物（１）を用いることを特徴とする、請求項１または請
求項２の製法 - 【請求項６】Ｒ3がベンジル基である請求項１または請
求項２の製法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3210526A JP3045574B2 (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | アミノ化合物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3210526A JP3045574B2 (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | アミノ化合物の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04342564A JPH04342564A (ja) | 1992-11-30 |
| JP3045574B2 true JP3045574B2 (ja) | 2000-05-29 |
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ID=16590826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3210526A Expired - Fee Related JP3045574B2 (ja) | 1991-05-17 | 1991-05-17 | アミノ化合物の製造法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3045574B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0829473B1 (en) * | 1995-05-26 | 2002-08-07 | Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd. | Processes for preparing cyclic compounds |
| US7977346B2 (en) | 2006-01-17 | 2011-07-12 | Guoqing Paul Chen | Spiro compounds and methods of use |
-
1991
- 1991-05-17 JP JP3210526A patent/JP3045574B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04342564A (ja) | 1992-11-30 |
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