JP3045372B2 - 誘導加熱調理兼用電子レンジ - Google Patents
誘導加熱調理兼用電子レンジInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、誘導加熱調理兼用
電子レンジに係り、特に、電子レンジの加熱室の底面に
遮蔽板を設置し、該遮蔽板の下部に誘導コイルを設置し
て、マイクロウェーブ調理時に発生するマイクロウェー
ブの加熱室外への損失は遮断し誘導加熱調理時に発生す
る高周波磁界は透過して誘導加熱調理及びマイクロウェ
ーブ調理を効率的に行い得るようにした誘導加熱調理兼
用電子レンジに関するものである。
電子レンジに係り、特に、電子レンジの加熱室の底面に
遮蔽板を設置し、該遮蔽板の下部に誘導コイルを設置し
て、マイクロウェーブ調理時に発生するマイクロウェー
ブの加熱室外への損失は遮断し誘導加熱調理時に発生す
る高周波磁界は透過して誘導加熱調理及びマイクロウェ
ーブ調理を効率的に行い得るようにした誘導加熱調理兼
用電子レンジに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来誘導加熱調理兼用電子レンジにおい
ては、図３に示すように、使用者の選択により電子レン
ジの各動作を制御する制御部１と、外部の交流電源を整
流及び平滑し電子レンジの内部に供給する電源供給部２
と、前記制御部１の制御によりスイッチングされ前記電
源供給部２から供給される電源を出力するリレースイッ
チ３ａ，３ｂと、該リレースイッチ３ａ，３ｂを通って
出力された電源を誘導加熱調理用高周波磁界に発生する
誘導コイル４と、前記リレースイッチ３ａ，３ｂを通っ
て出力された電源を高電圧に変換させる変圧器５と、該
変圧器５で変換された高電圧によりマイクロウェーブを
発生するマグネトロン６と、該マグネトロン６で発生さ
れたマイクロウェーブを加熱室７に供給するウェーブガ
イド８と、該加熱室７の底面上に配置され前記誘導コイ
ル４から発生する高周波磁界は透過して前記加熱室７に
供給し、前記ウェーブガイド８を介し加熱室７に供給さ
れるマイクロウェーブの加熱室７下方への損失は遮断す
る非磁性金属網９と、前記制御部１の制御により前記加
熱室内のターンテーブル１０を駆動するターンテーブル
モーター１１と、前記ターンテーブル１０上に載置され
調理物１２を調理するフライドパン１３と、から構成さ
れていた。
ては、図３に示すように、使用者の選択により電子レン
ジの各動作を制御する制御部１と、外部の交流電源を整
流及び平滑し電子レンジの内部に供給する電源供給部２
と、前記制御部１の制御によりスイッチングされ前記電
源供給部２から供給される電源を出力するリレースイッ
チ３ａ，３ｂと、該リレースイッチ３ａ，３ｂを通って
出力された電源を誘導加熱調理用高周波磁界に発生する
誘導コイル４と、前記リレースイッチ３ａ，３ｂを通っ
て出力された電源を高電圧に変換させる変圧器５と、該
変圧器５で変換された高電圧によりマイクロウェーブを
発生するマグネトロン６と、該マグネトロン６で発生さ
れたマイクロウェーブを加熱室７に供給するウェーブガ
イド８と、該加熱室７の底面上に配置され前記誘導コイ
ル４から発生する高周波磁界は透過して前記加熱室７に
供給し、前記ウェーブガイド８を介し加熱室７に供給さ
れるマイクロウェーブの加熱室７下方への損失は遮断す
る非磁性金属網９と、前記制御部１の制御により前記加
熱室内のターンテーブル１０を駆動するターンテーブル
モーター１１と、前記ターンテーブル１０上に載置され
調理物１２を調理するフライドパン１３と、から構成さ
れていた。
【０００３】且つ、前記非磁性金属網９は薄型ステンレ
ス鋼線材（ｔｈｉｎ ｓｔａｉｎｌｅｓｓ ｓｔｅｅｌ
ｗｉｒｅ）を用い網状に形成されていた。又、該非磁
性金属網９は、前記ウェーブガイド８を介し加熱室７に
供給されるマイクロウェーブを許容範囲内で遮断するた
め、最小１０個以上の薄型ステンレス網線材により網状
に形成され、誘導加熱調理用高周波磁界の加熱損失を数
％以下に減らすように最大２５個の網形状に形成されて
いた。
ス鋼線材（ｔｈｉｎ ｓｔａｉｎｌｅｓｓ ｓｔｅｅｌ
ｗｉｒｅ）を用い網状に形成されていた。又、該非磁
性金属網９は、前記ウェーブガイド８を介し加熱室７に
供給されるマイクロウェーブを許容範囲内で遮断するた
め、最小１０個以上の薄型ステンレス網線材により網状
に形成され、誘導加熱調理用高周波磁界の加熱損失を数
％以下に減らすように最大２５個の網形状に形成されて
いた。
【０００４】このように構成された従来の誘導加熱調理
兼用電子レンジの動作に対して説明する。先ず、使用者
がフライドパン１３上に調理物１２を置いた後、制御部
１のフライドパンキーを入力すると、リレースイッチ３
ａ，３ｂのスイッチング動作により流動端子Ａ，Ｂはタ
ーンオンし、電源供給部２で供給された電源は前記リレ
ースイッチ３ａ，３ｂを通って誘導コイル４に印加され
誘導加熱調理過程が行われる。次いで、前記誘導コイル
４に電流が流れて２０−３０KHz の高周波磁界が発生
し、該発生された高周波磁界は１０〜２５個の網形状の
非磁性金属網９を介してターンテーブル１０及びフライ
ドパン１３に順次伝達され、前記フライドパン１３の上
に置かれた調理物１２が調理される。
兼用電子レンジの動作に対して説明する。先ず、使用者
がフライドパン１３上に調理物１２を置いた後、制御部
１のフライドパンキーを入力すると、リレースイッチ３
ａ，３ｂのスイッチング動作により流動端子Ａ，Ｂはタ
ーンオンし、電源供給部２で供給された電源は前記リレ
ースイッチ３ａ，３ｂを通って誘導コイル４に印加され
誘導加熱調理過程が行われる。次いで、前記誘導コイル
４に電流が流れて２０−３０KHz の高周波磁界が発生
し、該発生された高周波磁界は１０〜２５個の網形状の
非磁性金属網９を介してターンテーブル１０及びフライ
ドパン１３に順次伝達され、前記フライドパン１３の上
に置かれた調理物１２が調理される。
【０００５】一方、使用者がマイクロウェーブ調理過程
を選択した場合は、前記リレースイッチ３ａ，３ｂのス
イッチング動作により流動端子Ｃ，Ｄがターンオンさ
れ、前記電源供給部２から供給された電源は前記リレー
スイッチ３ａ，３ｂを通って変圧器１５に供給され、該
変圧器５に供給された電源は高電圧に変換されてマグネ
トロン６に印加される。次いで、該マグネトロン６は前
記変圧器５から印加された高電圧により２．４５GHz の
マイクロウェーブを発生し、該発生されたマイクロウェ
ーブはウェーブガイド８を介して加熱室７に供給され
る。該加熱室７に供給されたマイクロウェーブは前記非
磁性金属網９により遮断されるため、前記フライドパン
１３の上の調理物１２はマイクロウェーブにより調理さ
れる。
を選択した場合は、前記リレースイッチ３ａ，３ｂのス
イッチング動作により流動端子Ｃ，Ｄがターンオンさ
れ、前記電源供給部２から供給された電源は前記リレー
スイッチ３ａ，３ｂを通って変圧器１５に供給され、該
変圧器５に供給された電源は高電圧に変換されてマグネ
トロン６に印加される。次いで、該マグネトロン６は前
記変圧器５から印加された高電圧により２．４５GHz の
マイクロウェーブを発生し、該発生されたマイクロウェ
ーブはウェーブガイド８を介して加熱室７に供給され
る。該加熱室７に供給されたマイクロウェーブは前記非
磁性金属網９により遮断されるため、前記フライドパン
１３の上の調理物１２はマイクロウェーブにより調理さ
れる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】然るに、このような従
来の誘導加熱調理兼用電子レンジは、非磁性金属網が１
０〜２５個の薄型ステンレス綱線材により網状に形成さ
れ、各金属網の各網目の縦辺長さ×横辺長さは、２５個
の金属網目が金属線に形成される場合、通常の電子レン
ジの底面の縦横両辺が３３０×３５０mmであるので、３
３０／５×３５０／５＝６６×７０mmとなる。且つ、非
磁性金属網を１２個の網目を有するように形成する場合
は各網目の縦横両辺は３３０／３×３５０／４＝１１０
×８７．５mmとなるが、この場合、マイクロウェーブを
遮断するためには各金属網の各網目の両辺の長さを約１
mm以下に細かく形成すべきであるので、前記非磁性金属
網はマイクロウェーブ遮断用としては不適であり、従っ
て飲食物の調理を効率的に行うことができないという不
都合な点があった。若し、前記マイクロウェーブを遮断
するための非磁性金属網の各網目の個数を２５個以上に
細かく形成するとしても、それら非磁性金属網が平面の
網状に形成されるため、平面に垂直な磁界に対して渦電
流の通路が形成され、薄膜ステンレス綱目の横辺と縦辺
との交差点では絶縁されなくなって誘導加熱損失が発生
し、誘導加熱調理時に、非正常な調理が行われるという
不都合な点があった。
来の誘導加熱調理兼用電子レンジは、非磁性金属網が１
０〜２５個の薄型ステンレス綱線材により網状に形成さ
れ、各金属網の各網目の縦辺長さ×横辺長さは、２５個
の金属網目が金属線に形成される場合、通常の電子レン
ジの底面の縦横両辺が３３０×３５０mmであるので、３
３０／５×３５０／５＝６６×７０mmとなる。且つ、非
磁性金属網を１２個の網目を有するように形成する場合
は各網目の縦横両辺は３３０／３×３５０／４＝１１０
×８７．５mmとなるが、この場合、マイクロウェーブを
遮断するためには各金属網の各網目の両辺の長さを約１
mm以下に細かく形成すべきであるので、前記非磁性金属
網はマイクロウェーブ遮断用としては不適であり、従っ
て飲食物の調理を効率的に行うことができないという不
都合な点があった。若し、前記マイクロウェーブを遮断
するための非磁性金属網の各網目の個数を２５個以上に
細かく形成するとしても、それら非磁性金属網が平面の
網状に形成されるため、平面に垂直な磁界に対して渦電
流の通路が形成され、薄膜ステンレス綱目の横辺と縦辺
との交差点では絶縁されなくなって誘導加熱損失が発生
し、誘導加熱調理時に、非正常な調理が行われるという
不都合な点があった。
【０００７】それで、本発明の目的は、電子レンジの加
熱室の底面に遮蔽板を設置し、該遮蔽板の下部に誘導コ
イルを設置してマイクロウェーブ調理時に発生するマイ
クロウェーブの下方への流出を遮断し、誘導加熱調理時
発生する高周波磁界は透過させて誘導加熱調理及びマイ
クロウェーブ調理を効率的に行い得る誘導加熱調理兼用
電子レンジを提供しようとするものである。
熱室の底面に遮蔽板を設置し、該遮蔽板の下部に誘導コ
イルを設置してマイクロウェーブ調理時に発生するマイ
クロウェーブの下方への流出を遮断し、誘導加熱調理時
発生する高周波磁界は透過させて誘導加熱調理及びマイ
クロウェーブ調理を効率的に行い得る誘導加熱調理兼用
電子レンジを提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そして、このような発明
の目的を達成するための誘導加熱調理兼用電子レンジ
は、複数本の副金属線が所定間隔を有して主金属線と交
叉して配列された第１金属線部と、０．５mm以下の所定
距離隔離され所定角度に対向交叉するように複数本の副
金属線が所定間隔を有して主金属線と交叉して配列され
た第２金属線部と、からなる２枚２組の遮蔽板が誘導コ
イル上方の加熱室底面上に配置され、マイクロウェ−ブ
調理時に発生するマイクロウェ−ブの加熱室の下方側へ
の損失は遮蔽し、誘導加熱調理時に発生する高周波磁界
は上方の加熱室内に透過させるように構成されている。
の目的を達成するための誘導加熱調理兼用電子レンジ
は、複数本の副金属線が所定間隔を有して主金属線と交
叉して配列された第１金属線部と、０．５mm以下の所定
距離隔離され所定角度に対向交叉するように複数本の副
金属線が所定間隔を有して主金属線と交叉して配列され
た第２金属線部と、からなる２枚２組の遮蔽板が誘導コ
イル上方の加熱室底面上に配置され、マイクロウェ−ブ
調理時に発生するマイクロウェ−ブの加熱室の下方側へ
の損失は遮蔽し、誘導加熱調理時に発生する高周波磁界
は上方の加熱室内に透過させるように構成されている。
【０００９】又、前記遮蔽板を複数個の副金属線が所定
間隔を有して主金属線に配列された第１金属線部と、該
第１金属線部の各配線と所定間隔を有し、縦横両方向交
番に所定間隔離れて交差されるようぬ単線又は所定間隔
を有する複数の副金属線が主金属線に配列された第２金
属線部と、により一枚の遮蔽板が形成され、このように
形成された遮蔽板を単数又は複数枚誘導コイル上方の加
熱室底面上に配置して構成することもできる。
間隔を有して主金属線に配列された第１金属線部と、該
第１金属線部の各配線と所定間隔を有し、縦横両方向交
番に所定間隔離れて交差されるようぬ単線又は所定間隔
を有する複数の副金属線が主金属線に配列された第２金
属線部と、により一枚の遮蔽板が形成され、このように
形成された遮蔽板を単数又は複数枚誘導コイル上方の加
熱室底面上に配置して構成することもできる。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下本発明に係る誘導加熱調理兼
用電子レンジの実施形態について図面を参照して説明す
る。本発明に係る誘導加熱調理兼用電子レンジにおいて
は、図１に示すように、加熱室底面に配置され供給する
電源により誘導加熱調理用の高周波磁界を発生する誘導
コイル１００と、該誘導コイル１００上部に配置され誘
導コイル１００で発生する誘導加熱調理用の高周波磁界
は加熱室内に透過し、マイクロウェーブ調理時発生する
マイクロウェーブの加熱室下方側への損失は遮断する遮
蔽板２００と、を備え、その外は従来と同様に構成され
ている。
用電子レンジの実施形態について図面を参照して説明す
る。本発明に係る誘導加熱調理兼用電子レンジにおいて
は、図１に示すように、加熱室底面に配置され供給する
電源により誘導加熱調理用の高周波磁界を発生する誘導
コイル１００と、該誘導コイル１００上部に配置され誘
導コイル１００で発生する誘導加熱調理用の高周波磁界
は加熱室内に透過し、マイクロウェーブ調理時発生する
マイクロウェーブの加熱室下方側への損失は遮断する遮
蔽板２００と、を備え、その外は従来と同様に構成され
ている。
【００１１】そして、前記遮蔽板２００は次のような多
様な形態に形成して使用することができる。即ち、該遮
蔽板２００の第１実施例２００ａとしては、図２（Ａ）
に示すように、複数の副金属線が所定間隔ｗを有して配
置された第１金属線部２０１と、マイクロウェーブを遮
断し得るように該第１金属線部２０１と所定距離ｄ隔離
され、所定角度に対向交差するように複数の副金属線が
所定間隔ｌを有して主金属線に配置された第２金属線部
２０２と、の２枚１組に板に構成される。この場合、そ
れら第１金属線部２０１と第２金属線部２０２の間の隙
間には加熱損失を低減するため絶縁材を挿入する。
様な形態に形成して使用することができる。即ち、該遮
蔽板２００の第１実施例２００ａとしては、図２（Ａ）
に示すように、複数の副金属線が所定間隔ｗを有して配
置された第１金属線部２０１と、マイクロウェーブを遮
断し得るように該第１金属線部２０１と所定距離ｄ隔離
され、所定角度に対向交差するように複数の副金属線が
所定間隔ｌを有して主金属線に配置された第２金属線部
２０２と、の２枚１組に板に構成される。この場合、そ
れら第１金属線部２０１と第２金属線部２０２の間の隙
間には加熱損失を低減するため絶縁材を挿入する。
【００１２】且つ、該２００の第２実施例２００ｂとし
ては、図２（Ｂ）及び図２（Ｂ）の拡大図である図４に
示したように、絶縁材の被覆された複数の副金属線２１
が所定間隔ｗを有して主金属線２０上に配列された第１
金属線部２０１’と、該第１金属線部２０１’の各金属
線と所定間隔ｄｌを有し、縦横両方向交番に所定間隔ｄ
ｘ離れて交差されるように絶縁材の被覆された副金属線
が主金属線上に配列された第２金属線部２０２’と、を
備えた一枚の板に形成される。
ては、図２（Ｂ）及び図２（Ｂ）の拡大図である図４に
示したように、絶縁材の被覆された複数の副金属線２１
が所定間隔ｗを有して主金属線２０上に配列された第１
金属線部２０１’と、該第１金属線部２０１’の各金属
線と所定間隔ｄｌを有し、縦横両方向交番に所定間隔ｄ
ｘ離れて交差されるように絶縁材の被覆された副金属線
が主金属線上に配列された第２金属線部２０２’と、を
備えた一枚の板に形成される。
【００１３】又、該遮蔽板２００の第３実施例２００ｃ
としては、図２（Ｃ）に示すように、絶縁材の被覆され
た複数の副金属線が所定間隔ｗを有して主金属線上に配
列された第１金属線部２０１”と、該第１金属線部２０
１”の各金属線と所定間隔ｌを有し、縦横両方向交番に
所定間隔ｄｘ離れて交差されるように所定間隔ｄ３を有
する複数の絶縁材被覆副金属線が主金属線上に配列され
た第２金属線部２０２”と、を備えた一枚の板に形成さ
れる。
としては、図２（Ｃ）に示すように、絶縁材の被覆され
た複数の副金属線が所定間隔ｗを有して主金属線上に配
列された第１金属線部２０１”と、該第１金属線部２０
１”の各金属線と所定間隔ｌを有し、縦横両方向交番に
所定間隔ｄｘ離れて交差されるように所定間隔ｄ３を有
する複数の絶縁材被覆副金属線が主金属線上に配列され
た第２金属線部２０２”と、を備えた一枚の板に形成さ
れる。
【００１４】更に、該遮蔽板２００の第４実施例２００
ｄとして、図２（Ｄ）に示すように、図２（Ａ）に示し
た第１実施例の所定組だけ積層して形成する。且つ、図
２（Ｂ）（Ｃ）に示した第２及び第３実施例の遮蔽板２
００ｂ，２００ｃを複数枚積層して形成することもでき
る。又、本発明に係る電磁レンジの加熱室にマイクロウ
ェーブが供給されるときマイクロウェーブを遮断する遮
蔽板２００の性能を計測するため、電子レンジの加熱室
の状態が無負荷の場合と１０００cc負荷の場合とにおい
て、前記遮蔽板２００により輻射される輻射エネルギを
測定した。この場合、図２（Ａ）（Ｂ）に示した第１及
び第２実施例と同様な遮蔽板を１５０mmの直径を有する
円板状に形成して加熱室底面上に配置し、該円板状の遮
蔽板周囲にはマイクロウェーブの透過を防止するアルミ
ニウム板を配置した。且つ、該直径１５０mmの遮蔽板の
第１金属線部の各配線間の間隔ｗは１．２mmに形成し、
第２金属部の各配線間の間隔ｄｌも１．２mmに形成し
た。又、それら第１金属線部２０１と第２金属線部２０
２間の離隔距離ｄは０．２mmとし、各金属線の径は０．
１２５mmに形成した。
ｄとして、図２（Ｄ）に示すように、図２（Ａ）に示し
た第１実施例の所定組だけ積層して形成する。且つ、図
２（Ｂ）（Ｃ）に示した第２及び第３実施例の遮蔽板２
００ｂ，２００ｃを複数枚積層して形成することもでき
る。又、本発明に係る電磁レンジの加熱室にマイクロウ
ェーブが供給されるときマイクロウェーブを遮断する遮
蔽板２００の性能を計測するため、電子レンジの加熱室
の状態が無負荷の場合と１０００cc負荷の場合とにおい
て、前記遮蔽板２００により輻射される輻射エネルギを
測定した。この場合、図２（Ａ）（Ｂ）に示した第１及
び第２実施例と同様な遮蔽板を１５０mmの直径を有する
円板状に形成して加熱室底面上に配置し、該円板状の遮
蔽板周囲にはマイクロウェーブの透過を防止するアルミ
ニウム板を配置した。且つ、該直径１５０mmの遮蔽板の
第１金属線部の各配線間の間隔ｗは１．２mmに形成し、
第２金属部の各配線間の間隔ｄｌも１．２mmに形成し
た。又、それら第１金属線部２０１と第２金属線部２０
２間の離隔距離ｄは０．２mmとし、各金属線の径は０．
１２５mmに形成した。
【００１５】このような状態で電子レンジにマイクロウ
ェーブを供給し電子レンジの加熱室から輻射されたエネ
ルギを測定した結果、電子レンジの加熱室が無負荷状態
である場合は３０mW以下の輻射エネルギが測定され、１
０００cc負荷の状態である場合は５mW以下の輻射エネル
ギが測定された。その結果、本発明に係る遮蔽板のマイ
クロウェーブの遮断性能は優秀であると認められた。従
って、前記遮蔽板の金属線の径、各線間の間隔Ｗ，ｌ，
ｄｌ，ｄ３及び金属線間の離隔距離ｄを夫々最適化する
と、マイクロウェーブの遮断性能を向上させることがで
きる。
ェーブを供給し電子レンジの加熱室から輻射されたエネ
ルギを測定した結果、電子レンジの加熱室が無負荷状態
である場合は３０mW以下の輻射エネルギが測定され、１
０００cc負荷の状態である場合は５mW以下の輻射エネル
ギが測定された。その結果、本発明に係る遮蔽板のマイ
クロウェーブの遮断性能は優秀であると認められた。従
って、前記遮蔽板の金属線の径、各線間の間隔Ｗ，ｌ，
ｄｌ，ｄ３及び金属線間の離隔距離ｄを夫々最適化する
と、マイクロウェーブの遮断性能を向上させることがで
きる。
【００１６】更に、誘導加熱調理時誘導コイル１００か
ら１００KHz 以下の高周波磁界が発生して前記遮蔽板２
００を透過する場合の遮蔽板２００の磁界透過性能を測
定するため、本発明に係る遮蔽板を配置せずに誘導加熱
調理器（ｉｎｄｕｃｔｉｏｎｈｅａｔｉｎｇ ｃｏｏｋ
ｅｒ）上の飲食物を調理する場合と、遮蔽板を配置して
飲食物を調理する場合とにおける熱効率を測定した。
ら１００KHz 以下の高周波磁界が発生して前記遮蔽板２
００を透過する場合の遮蔽板２００の磁界透過性能を測
定するため、本発明に係る遮蔽板を配置せずに誘導加熱
調理器（ｉｎｄｕｃｔｉｏｎｈｅａｔｉｎｇ ｃｏｏｋ
ｅｒ）上の飲食物を調理する場合と、遮蔽板を配置して
飲食物を調理する場合とにおける熱効率を測定した。
【００１７】この場合、前記遮蔽板の横辺の長さは１０
９．３mm、縦辺の長さは５４．６mm、各配線間の間隔
Ｗ，Ｌは夫々１．２mm、各金属線の径は０．１２５mmと
した。測定結果、前記遮蔽板を加熱室底面上に配置する
場合及び配置しない場合の熱効率は、下記式（１）によ
り計算し次の表に示した。 熱効率＝（２．４８６×ｔ×１００／投入電力量） （１）
９．３mm、縦辺の長さは５４．６mm、各配線間の間隔
Ｗ，Ｌは夫々１．２mm、各金属線の径は０．１２５mmと
した。測定結果、前記遮蔽板を加熱室底面上に配置する
場合及び配置しない場合の熱効率は、下記式（１）によ
り計算し次の表に示した。 熱効率＝（２．４８６×ｔ×１００／投入電力量） （１）
【００１８】
【表１】
【００１９】上記表に示したように、本発明に係る遮蔽
板を配置する場合と配置しない場合との熱効率は殆ど同
様であるため該遮蔽板の磁界透過効率は良好であると認
められた。
板を配置する場合と配置しない場合との熱効率は殆ど同
様であるため該遮蔽板の磁界透過効率は良好であると認
められた。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る誘導
加熱調理兼用電子レンジにおいては、複数の副金属線が
所定間隔を有して主金属線上に配置された第１金属線部
と、該第１金属線部と所定距離離れて所定角度に対向交
差するように複数の副金属線が所定間隔を有して主金属
線上に配置された第２金属線部と、を備えた２枚１組の
遮蔽板が誘導コイル上方加熱室底面上に配置されて構成
されるため、マイクロェーブ調理時の加熱室下方側での
マイクロェーブ損失を低減するとともに、誘導加熱調理
時の加熱室内への高周波磁界は良好に透過させて、効率
的に飲食物の加熱兼調理を行い得るという効果がある。
加熱調理兼用電子レンジにおいては、複数の副金属線が
所定間隔を有して主金属線上に配置された第１金属線部
と、該第１金属線部と所定距離離れて所定角度に対向交
差するように複数の副金属線が所定間隔を有して主金属
線上に配置された第２金属線部と、を備えた２枚１組の
遮蔽板が誘導コイル上方加熱室底面上に配置されて構成
されるため、マイクロェーブ調理時の加熱室下方側での
マイクロェーブ損失を低減するとともに、誘導加熱調理
時の加熱室内への高周波磁界は良好に透過させて、効率
的に飲食物の加熱兼調理を行い得るという効果がある。
【図１】本発明に係る誘導加熱調理兼用電子レンジの構
成を示した一部外視表示図である。
成を示した一部外視表示図である。
【図２】（Ａ）−（Ｄ）は本発明に係る遮蔽板の各実施
形態を示した一部斜視図である。
形態を示した一部斜視図である。
【図３】従来の誘導加熱調理兼用電子レンジの概略構成
図である。
図である。
【図４】図２（Ｂ）の拡大図である。
１００…誘導コイル ２００…遮蔽板 ２０１、２０１’、２０１”…第１金属線部 ２０２、２０２’、２０２”…第２金属線部
Claims (4)
- 【請求項１】 飲食物を加熱する加熱室と、該加熱室底
面下部に設置された誘導加熱用誘導コイルと、該加熱室
の側壁内に設置されたマグネトロンと、該加熱室の床面
に設置された遮蔽板と、を備えて誘導加熱調理及びマイ
クロウェーブ調理を選択的に行う誘導加熱調理兼用電子
レンジであって、前記遮蔽板は、 主金属線と、相互に並列に配置され前記主金属線に交叉
する複数の副金属線と、を有する第１金属線部と、 主金属線と、相互に並列に配置され前記主金属線に交叉
する複数の副金属線と、を有し、前記第１金属部と同一
の平面上に形成される第２金属線部と、 から構成され、 前記第１金属線部と前記第２金属線部とは相互に平行
に、かつ、前記第１金属線部の主金属線及び副金属線と
前記第２金属線部の主金属線及び副金属線は相互に接触
しないように配置され、 マイクロウェーブ調理時に発生
するマイクロウェーブの加熱室下方への漏洩を遮断し、
誘導加熱調理時に発生する高周波磁界は前記遮蔽板を通
して上方に通過させることを特徴とする誘導加熱調理兼
用電子レンジ。 - 【請求項２】 前記遮断板の第１金属線部と第２金属線
部とは夫々絶縁材のコーティングされた金属線により形
成される請求項１に記載の誘導加熱調理兼用電子レン
ジ。 - 【請求項３】 前記遮蔽板は、前記第１金属線部と第２
金属線部とからなる一枚の遮蔽板が複数枚積層されてな
る請求項１に記載の誘導加熱調理兼用電子レンジ。 - 【請求項４】 前記第１金属線部の各副金属線の方向
と、前記第２金属線部の各副金属線の方向とは相互交叉
するように配置されている請求項１に記載の誘導加熱調
理兼用電子レンジ。
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| JPH0812792B2 (ja) * | 1987-05-14 | 1996-02-07 | 松下電器産業株式会社 | 高周波加熱装置 |
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| JPH0465097A (ja) * | 1990-07-05 | 1992-03-02 | Mitsubishi Electric Home Appliance Co Ltd | 電磁誘導加熱器付高周波加熱調理器 |
| US5334800A (en) * | 1993-07-21 | 1994-08-02 | Parlex Corporation | Flexible shielded circuit board |
-
1995
- 1995-05-09 KR KR1019950011270A patent/KR0176773B1/ko not_active IP Right Cessation
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- 1995-11-23 EP EP95402646A patent/EP0742413B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-23 DE DE69523141T patent/DE69523141T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 1995-12-11 JP JP7321991A patent/JP3045372B2/ja not_active Expired - Fee Related
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