JP3025119B2 - Method for manufacturing liquid jet recording head - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は吐出口よりインク等の記
録用液体の小滴を吐出させ、それを紙等の記録媒体に付
着させて記録を行う液体噴射記録装置の記録ヘッドの製
造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a recording head of a liquid jet recording apparatus for recording by discharging small droplets of a recording liquid such as ink from a discharge port and attaching the droplets to a recording medium such as paper. About.

【０００２】[0002]

【従来の技術】インクジェット記録方式（液体噴射記録
方式）に適用される液体噴射記録ヘッドは一般には微細
な記録液吐出口（オリフィス）、液体流路および液体流
路の一部に設けられる液体吐出エネルギー発生部を備え
ている。従来このような液体噴射記録ヘッドを作成する
方法としては、例えば特開昭６１−１５４９４７、特開
昭６２−２５３４５７に記載された次のような工程が知
られている。2. Description of the Related Art In general, a liquid jet recording head applied to an ink jet recording system (liquid jet recording system) is provided with a fine recording liquid discharge port (orifice), a liquid flow path and a liquid discharge provided in a part of the liquid flow path. It has an energy generator. Conventionally, as a method for producing such a liquid jet recording head, the following steps described in, for example, JP-A-61-154947 and JP-A-62-253457 are known.

【０００３】その基本的工程を図１を用いて説明する。
最初に、基板１の上に感光性樹脂層２（ポジ型フォトレ
ジスト）を形成する（（ａ））。基板はガラス、セラミ
ックス、プラスチックあるいは金属等からなっていて、
その上の所望の位置に電気熱変換体あるいは圧電素子な
どの液体吐出エネルギー発生素子が所望の個数あらかじ
め配設されており、またこれらの素子は素子を動作させ
るための制御信号入力用電極と接続する配線を有してい
る。次いで基板上に形成された感光樹脂層をマスク３を
介して露光し（（ｂ））、現像処理を行って感光性樹脂
をパターニングし、基板上に固体層を形成する
（（ｃ））。その後に、パターニングされた固体層上に
活性エネルギー線硬化型の液流路形成用材料５を被覆し
（（ｄ））、活性エネルギー線照射により上記活性エネ
ルギー線硬化型の液流路形成用材料を硬化させる
（（ｅ））。更に上記パターニングされた固体層をハロ
ゲン化炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコ
ール等の有機溶媒あるいは水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム等のアルカリ水溶液を用いて溶解除去し、液流路
６を形成する（（ｆ））。The basic steps will be described with reference to FIG.
First, a photosensitive resin layer 2 (positive photoresist) is formed on a substrate 1 ((a)). The substrate is made of glass, ceramics, plastic or metal, etc.
A desired number of liquid ejection energy generating elements such as an electrothermal transducer or a piezoelectric element are provided in a desired position on the element in advance, and these elements are connected to control signal input electrodes for operating the elements. Wiring. Next, the photosensitive resin layer formed on the substrate is exposed through the mask 3 ((b)), and a developing process is performed to pattern the photosensitive resin to form a solid layer on the substrate ((c)). Then, the active energy ray-curable liquid flow path forming material 5 is coated on the patterned solid layer ((d)), and the active energy ray-curable liquid flow path forming material is irradiated with active energy rays. Is cured ((e)). Further, the patterned solid layer is dissolved and removed using an organic solvent such as halogenated hydrocarbons, ketones, esters, ethers and alcohols or an aqueous alkali solution such as sodium hydroxide and potassium hydroxide to form a liquid flow path 6. ((F)).

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前述の工程において、
固体層を形成するための感光性樹脂材料としては、一般
にナフトキノンジアジド誘導体を含有するポジ型フォト
レジストが用いられている。ここで用いられるポジ型フ
ォトレジスト中に含まれるナフトキノンジアジド誘導体
は室温、空気中で光照射により次のような反応を起こし
て窒素ガスを発生することが知られている。In the above-mentioned process,
As a photosensitive resin material for forming a solid layer, a positive photoresist containing a naphthoquinonediazide derivative is generally used. It is known that the naphthoquinonediazide derivative contained in the positive photoresist used here undergoes the following reaction by light irradiation in air at room temperature to generate nitrogen gas.

【０００５】[0005]

【化１】 上気反応によって生成されたインデンカルボン酸はアル
カリ水溶液に易溶性であるために露光部分をアルカリ水
溶液を用いて容易に溶解除去し、パターニングすること
ができる。Embedded image Since the indene carboxylic acid generated by the upper air reaction is easily soluble in an aqueous alkali solution, the exposed portion can be easily dissolved and removed using an aqueous alkali solution and patterned.

【０００６】しかし、パターニングされた固体層上に被
覆する液流路形成用材料として光硬化型材料を用いた場
合には、この材料を光硬化させるために全面露光を行う
必要があり、この露光の際に光はパターニングされたポ
ジ型フォトレジスト上にも照射される。そのためパター
ニングされたポジ型フォトレジスト中で上記の反応が起
こって窒素ガスが発生する。一般的にポジ型フォトレジ
ストの方が光硬化型材料よりも光に対する感度が高いた
め、ポジ型フォトレジストより発生した窒素ガスがパタ
ーン上に被覆された液流路形成用材料中に侵入し、気泡
として残ったまま該液流路形成用材料が硬化してしまう
ことを発見した。このためにパターニングされたポジ型
フォトレジストの溶解除去により最終的に形成された液
流路に変形を生じるという問題や、記録ヘッドの強度が
低下し、破損等の問題を生じることがあった。However, when a photocurable material is used as a material for forming a liquid flow path that covers the patterned solid layer, it is necessary to perform overall exposure to photocur the material. At this time, light is also irradiated on the patterned positive photoresist. Therefore, the above reaction occurs in the patterned positive photoresist, and nitrogen gas is generated. In general, the positive photoresist has higher sensitivity to light than the photocurable material, so nitrogen gas generated from the positive photoresist penetrates into the liquid flow path forming material coated on the pattern, It has been discovered that the liquid channel forming material is cured while remaining as bubbles. For this reason, the solution flow path finally formed by the dissolution and removal of the patterned positive-type photoresist may be deformed, and the strength of the recording head may be reduced, causing problems such as breakage.

【０００７】本発明の主なる目的はポジ型フォトレジス
トにナフトキノンジアジド誘導体を含有する材料を用い
た場合でも液流路形成用材料中に気泡が混入することの
ない信頼性の高い液体噴射記録ヘッドの製造方法を提供
することにある。A main object of the present invention is to provide a highly reliable liquid jet recording head in which air bubbles are not mixed into a liquid flow path forming material even when a material containing a naphthoquinonediazide derivative is used for a positive photoresist. It is to provide a manufacturing method of.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、前述の問題を
考慮して成された発明であって、液体吐出エネルギー発
生部が配設されている基板の上にナフトキノンジアジド
誘導体を含有するポジ型フォトレジストからなる感光層
を形成し、所要の露光、現像処理を行ってこのレジスト
をパターニングする工程、レジストパターン及び基板上
に光硬化型の液流路形成用材料を被覆し、続いて全面露
光を行って液流路形成用材料を硬化させる工程、パター
ニング処理されたポジ型フォトレジストを溶解除去する
ことによって液流路を形成する工程を有する液体噴射記
録ヘッドの製造方法において、前記ポジ型フォトレジス
トのレジストパターン上に全面露光を行い、低圧条件下
に置くことにより脱気処理を行ってレジストパターン中
の気泡を排出した後に、レジストパターン及び基板上に
光硬化型の液流路形成用材料を被覆することを特徴とす
る液体噴射記録ヘッドの製造方法に関する。また本発明
は、液体吐出エネルギー発生部が配設されている基板の
上にナフトキノンジアジド誘導体を含有するポジ型フォ
トレジストからなる感光層を形成し、所要の露光、現像
処理を行ってこのレジストをパターニングする工程、レ
ジストパターン及び基板上に光硬化型の液流路形成用材
料を被覆し、続いて全面露光を行って液流路形成用材料
を硬化させる工程、パターニング処理されたポジ型フォ
トレジストを溶解除去することによって液流路を形成す
る工程を有する液体噴射記録ヘッドの製造方法におい
て、前記ポジ型フォトレジストのレジストパターンに加
熱処理、全面露光、さらに低圧条件下に置くことによる
脱気処理を行う工程を数回繰り返した後に、レジストパ
ターン及び基板上に光硬化型の液流路形成用材料を被覆
することを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法に
関する。Means for Solving the Problems The present invention, positive containing an invention has been made in view of the foregoing problems, naphthoquinone diazide derivative on a substrate a liquid discharge energy generating portion is arranged to form a photosensitive layer made of the mold photoresist, covering the required exposure, the step of patterning the resist by performing a developing process, the resist pattern and the photocurable liquid flow path forming material on a substrate, followed by the entire surface The method of manufacturing a liquid jet recording head according to claim 1, further comprising a step of performing exposure to harden the material for forming the liquid flow path, and a step of forming a liquid flow path by dissolving and removing the patterned positive photoresist. Type photo resist
Performed over the entire surface exposure on the door of the resist pattern, low pressure conditions
In the resist pattern
The present invention relates to a method for manufacturing a liquid jet recording head, which comprises coating a photo-curable liquid flow path forming material on a resist pattern and a substrate after discharging air bubbles . The present invention
Of the substrate on which the liquid ejection energy generator is
A positive type resin containing a naphthoquinonediazide derivative
Form a photosensitive layer made of photoresist, and expose and develop as required
Process of patterning this resist by performing
Light-curing type liquid flow path forming material on distaste pattern and substrate
Material, and then perform overall exposure to obtain a liquid channel forming material.
Hardening process, patterned positive
Forming a liquid flow path by dissolving and removing the photoresist
Method for manufacturing a liquid jet recording head having a process
To the resist pattern of the positive photoresist.
By heat treatment, overall exposure, and even under low pressure conditions
After repeating the deaeration process several times, the resist
Light-curable liquid flow path forming material coated on turns and substrates
The method for manufacturing a liquid jet recording head.
Related .

【０００９】本発明に用いられるインクジェットの代表
的な構成を図２を用いて説明する。図２に示す記録ヘッ
ドでは基板１０１上に熱エネルギーを発生するための電
気熱変換体１０８やこれに電力を供給するための電極配
線（図示されていない）等が形成される。これら電気熱
変換体等が形成される面上に液流路用凹部等を形成する
ための凹部形成層１０３が積層される。すなわち、この
凹部形成層が基板上に積層されることにより、各電気熱
変換体に対応した吐出口１０４およびこれに連通した電
気熱変換体が配設される液流路１０５、さらにはこれら
液流路に共通に連通し、一時的にインクを貯留するため
の共通液室１０６が形成される。各液流路は凹部形成層
の一部である隔壁１０３ａによってそれぞれ隔てられて
いる。図３は本発明の液体噴射記録ヘッドを搭載したイ
ンクジェット記録装置の一例の概要を示す外観斜視図で
ある。この図においてはインクジェットヘッドカートリ
ッジ（ＩＪＣ）５０１はプラテン５０７上に送紙されて
きた記録紙の記録面に対向してインク吐出を行うノズル
群を備えており、保持キャリッジ（ＨＣ）５０２はＩＪ
Ｃ５０１を保持しており、また駆動モータ５０４の駆動
力を伝達する駆動ベルト５０３の一部と連結しており、
互いに平行に配設された２本のガイドシャフト５０５及
び５０６と摺導可能にすることにより、ＩＪＣの記録紙
の全幅にわたる往復移動が可能となっている。A typical structure of the ink jet used in the present invention will be described with reference to FIG. In the recording head shown in FIG. 2, an electrothermal converter 108 for generating thermal energy, an electrode wiring (not shown) for supplying electric power thereto, and the like are formed on a substrate 101. A concave portion forming layer 103 for forming a liquid flow channel concave portion and the like is laminated on a surface on which the electrothermal transducers and the like are formed. That is, by stacking the concave portion forming layer on the substrate, the discharge port 104 corresponding to each electrothermal converter and the liquid flow path 105 in which the electrothermal converter connected to the outlet are disposed, and further, these liquids A common liquid chamber 106 is formed in common with the flow path for temporarily storing ink. The liquid flow paths are separated from each other by partition walls 103a which are a part of the concave part forming layer. FIG. 3 is an external perspective view showing an outline of an example of an ink jet recording apparatus equipped with the liquid jet recording head of the present invention. In this figure, an ink-jet head cartridge (IJC) 501 includes a group of nozzles for discharging ink in opposition to the recording surface of a recording sheet sent on a platen 507, and a holding carriage (HC) 502 includes an IJC.
C501, and is connected to a part of the drive belt 503 that transmits the driving force of the drive motor 504.
By allowing the two guide shafts 505 and 506 arranged in parallel with each other to slide, it is possible to reciprocate the IJC recording paper over the entire width.

【００１０】ヘッド回復装置５０８はＩＪＣの移動経路
の一端、例えばホームポジションと対向する位置に配設
される。伝動機構５０９を介したモーター５１０の駆動
力によって、ヘッド回復装置を動作させてＩＪＣのキャ
ッピングを行う。このヘッド回復装置のキャップ部５１
１によるＩＪＣへのキャッピングに関連させて、ヘッド
回復装置内に設けた適宜の吸引手段によるインク吸引も
しくはＩＪＣへのインク供給経路に設けた適宜の加圧手
段によるインク圧送を行い、インクを吐出口より強制的
に吐出させることによりノズル内の増粘インクを除去す
る等の吐出回復処理を行う。また、記録終了時等にキャ
ッピングをすることにより記録ヘッドが保護される。[0010] The head recovery device 508 is provided at one end of the movement path of the IJC, for example, at a position facing the home position. The head recovery device is operated by the driving force of the motor 510 via the transmission mechanism 509 to cap the IJC. The cap portion 51 of this head recovery device
In connection with the capping of the IJC by I.1, the ink is sucked by an appropriate suction means provided in the head recovery device or the ink is pressure-fed by an appropriate pressurizing means provided in the ink supply path to the IJC to discharge the ink. An ejection recovery process such as removing the thickened ink in the nozzles by forcibly ejecting is performed. In addition, the recording head is protected by capping at the end of recording or the like.

【００１１】本発明のクリーニングブレード５１２はヘ
ッド回復装置の側面に配設される。このブレードはブレ
ード保持部材５１３にカンチレバー形態で保持され、ヘ
ッド回復装置と同様にモーター及び伝動機構によって作
動し、ＩＪＣの吐出面との係合が可能となる。これによ
ってＩＪＣの記録動作中に適切なタイミングで、あるい
はヘッド回復装置を用いた吐出回復処理後に、ブレード
をＩＪＣの移動経路中に突出させ、ＩＪＣの移動動作に
伴ってその吐出面における結露、濡れあるいは塵埃等を
拭き取る装置である。The cleaning blade 512 of the present invention is provided on the side of the head recovery device. The blade is held in a cantilever form by a blade holding member 513, and is operated by a motor and a transmission mechanism in the same manner as the head recovery device, so that engagement with the ejection surface of the IJC is enabled. Thereby, at an appropriate timing during the recording operation of the IJC, or after the ejection recovery processing using the head recovery device, the blade is caused to protrude into the movement path of the IJC, and the dew condensation and wetness on the ejection surface are caused by the movement operation of the IJC. Alternatively, it is a device for wiping dust and the like.

【００１２】図４は本発明の一実施例によるインクジェ
ット記録ヘッドの製造工程を摸式的に示す断面図であ
る。FIG. 4 is a sectional view schematically showing a manufacturing process of an ink jet recording head according to one embodiment of the present invention.

【００１３】工程（ａ）に示すように、吐出エネルギー
発生素子としての電気熱変換体１０８が形成された基板
１０１上に、固体層１０５ａを形成する。基板として
は、ガラス、セラミックス、プラスチック、金属等、所
定の硬度を持つものならば何れの素材も用いることもで
きる。また、固体層としては前述したようにナフトキノ
ンジアジド誘導体含有のフォトレジストを用いる。この
ようなポジ型フォトレジストとしては、例えば東京応化
製ＰＭＥＲ Ｐ−Ｇ７０００シリーズ（商品名；以下同
様），ヘキスト社製 ＡＺシリーズ，シプレイ社製 Ｔ
Ｆ−２０，東レ−マクダミド製 ＵＬＴＲＡＭＡＣ Ｅ
Ｌ２０２５シリーズ等を用いることができる。感光性樹
脂材料の基板上への塗布はロール・コータ、スピンコー
タ、スプレー等の方法のいずれの方法を用いても良い。As shown in step (a), a solid layer 105a is formed on a substrate 101 on which an electrothermal transducer 108 as an ejection energy generating element is formed. As the substrate, any material having a predetermined hardness, such as glass, ceramics, plastic, and metal, can be used. As the solid layer, a photoresist containing a naphthoquinonediazide derivative is used as described above. Examples of such a positive photoresist include PMER P-G7000 series (trade name; the same applies hereinafter) manufactured by Tokyo Ohka, AZ series manufactured by Hoechst, and T manufactured by Shipley.
F-20, Toray-Macdamide ULTRAMACE
L2025 series or the like can be used. The application of the photosensitive resin material onto the substrate may be performed by any method such as a roll coater, a spin coater, and a spray.

【００１４】工程（ａ）のように塗布、ベーク、露光、
現像により固体層を設けた後に、図工程（ｂ）のように
露光を行う。このときにフォトレジスト中の気泡の排出
を促進するために加熱を同時に行っても良い。ただし、
加熱温度はフォトレジストが硬化しない程度にしなけれ
ばならない。その理由はフォトレジストが硬化すること
によって後に気泡の除去が困難になるためである。これ
らの工程により、前述のような反応によって固体層から
気体を発生させることができる。[0014] Coating, baking, exposure,
After forming the solid layer by development, exposure is performed as shown in FIG. At this time, heating may be performed at the same time to promote the discharge of air bubbles in the photoresist. However,
The heating temperature must be such that the photoresist does not cure. The reason is that the hardening of the photoresist makes it difficult to remove bubbles later. Through these steps, gas can be generated from the solid layer by the above-described reaction.

【００１５】このような活性光線の照射については、感
光剤としてＯ−ナフトキノンジアジドをふくむレジスト
膜を使用した場合の硬化処理法として、例えば特開昭６
２−４８０１８号、特開昭６２−５４９１７号等に記載
されている。[0015] Irradiation with such actinic rays is carried out by a curing method using a resist film containing O-naphthoquinonediazide as a photosensitive agent, for example, as disclosed in
2-48018 and JP-A-62-54917.

【００１６】この操作の露光不足の場合には、完全に気
体を発生させることができないために、光硬化性材料の
露光時に気体が発生することになる。また逆に、露光過
剰の場合には、固体層が熱流れを起こし、パターン崩れ
となり、精度の高い微細な液流路等を形成することが出
来なくなる。特にポジ型フォトレジストの膜厚が厚い場
合やポジ型フォトレジストのナフトキノンジアジド誘導
体の含有量が多い場合には、大量に気泡が発生するため
にポジ型フォトレジストが変形し、パターニングされた
ポジ型フォトレジストの除去によって最終的に形成され
る液流路が変形する。If the exposure is insufficient in this operation, a gas cannot be generated completely, so that a gas is generated during the exposure of the photocurable material. Conversely, when the exposure is excessive, the solid layer causes a heat flow, resulting in pattern collapse, and it becomes impossible to form a highly accurate fine liquid flow path or the like. In particular, when the thickness of the positive photoresist is large or when the content of the naphthoquinonediazide derivative in the positive photoresist is large, a large amount of bubbles are generated, so that the positive photoresist is deformed and patterned. The removal of the photoresist deforms the liquid flow path finally formed.

【００１７】従ってこの露光量としては、すべてのポジ
型フォトレジストが光分解するのに十分な露光量であっ
て、ポジ型フォトレジストを変形させるような急激の気
泡の発生や熱流れを起こさない程度の露光量であること
が望ましい。Therefore, the amount of exposure is sufficient to photodecompose all the positive photoresists, and does not cause rapid generation of air bubbles or heat flow that may deform the positive photoresists. It is desirable that the exposure amount is of the order of magnitude.

【００１８】更に、ポジ型フォトレジストの膜厚が厚い
場合やポジ型フォトレジストのナフトキノンジアジド誘
導体の含有量が多い場合には、低い露光量であって、し
かし長時間、または数回にわたって露光することによっ
て、ポジ型フォトレジストの変形を防止することも出来
る。Further, when the thickness of the positive type photoresist is large or when the content of the naphthoquinonediazide derivative of the positive type photoresist is large, the exposure is low, but is performed for a long time or several times. Thereby, the deformation of the positive photoresist can be prevented.

【００１９】また、ポジ型フォトレジストの全面露光後
に光分解によって発生した気泡はポジ型フォトレジスト
中に残っていることもある。そのためにポジ型フォトレ
ジストの全面露光後にポジ型フォトレジスト中の気泡を
排出することが必要となる。レジストパターンの全面露
光後に基板を放置することによっても徐々にではあるが
気泡の排出は進行する。しかしながら、放置による気泡
の排出の速度は非常に緩慢であり、レジストの膜厚が厚
くなるに従って長時間を必要とし、また再現性も劣化す
る。そのために、レジストパターンの全面露光後に脱気
処理を行うことによって効率良く液体噴射記録ヘッドを
作成することが出来る。また膜厚が厚い場合には、前述
の複数にわたる低露光量の露光に加えて脱気処理を行う
ことによって、更に良好な液体噴射記録を作製できる。
プロセスマージンを考慮して短時間で脱気処理を完了さ
せるためには基板を低圧の条件下に置くことが好まし
い。好ましい圧力条件は０．０１mmＨｇないし１０mmＨ
ｇ．ａｂｓ．の範囲であり、この際の所望の処理時間は
１０分ないし２時間である。Further, bubbles generated by photolysis after the entire surface of the positive photoresist is exposed may remain in the positive photoresist. Therefore, it is necessary to discharge bubbles in the positive photoresist after the entire exposure of the positive photoresist. Even if the substrate is allowed to stand after the entire exposure of the resist pattern, the discharge of the air bubbles progresses gradually, though. However, the speed at which bubbles are discharged by leaving the film is very slow, and a longer time is required as the film thickness of the resist increases, and reproducibility also deteriorates. Therefore, by performing degassing after the entire exposure of the resist pattern, a liquid jet recording head can be efficiently produced. Further, when the film thickness is large, by performing degassing treatment in addition to the above-described multiple low-exposure exposures, it is possible to produce better liquid jet recording.
In order to complete the deaeration process in a short time in consideration of the process margin, it is preferable that the substrate is placed under a low pressure condition. Preferred pressure conditions are 0.01 mmHg to 10 mmH
g. abs. In this case, the desired treatment time is 10 minutes to 2 hours.

【００２０】以上の工程に示す方法で固体層中の感光剤
を完全に反応させた後に図４の工程（ｃ）に示すよう
に、凹部形成層１０３を形成するため、活性エネルギー
線等によって硬化する材料を基板の固体層が形成された
側に積層する。After the photosensitizer in the solid layer is completely reacted by the method shown in the above steps, as shown in step (c) of FIG. The material to be formed is laminated on the side of the substrate on which the solid layer is formed.

【００２１】凹部形成層の材料としては、固体層を被覆
し得るものであれば好適に使用できるが、基板との接着
性、機械的強度、寸法安定性、耐触性等の面で優れたも
のを選択し、用いることが望ましい。具体的には、液状
で、活性エネルギー線硬化性を有する材料が好ましく、
エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ジグリコールジアルキル
カーボネート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレ
タン樹脂、ポリイミド樹脂、メラニン樹脂、フェノール
樹脂、尿素樹脂等が使用される。As the material of the concave portion forming layer, any material capable of covering the solid layer can be suitably used, but it is excellent in terms of adhesion to a substrate, mechanical strength, dimensional stability, and contact resistance. It is desirable to select and use one. Specifically, a material having an active energy ray curability in a liquid state is preferable,
Epoxy resin, acrylic resin, diglycol dialkyl carbonate resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, polyimide resin, melanin resin, phenol resin, urea resin and the like are used.

【００２２】上記の液状の活性エネルギー線硬化性材料
はカーテン・コート、ロール・コート、スプレー・コー
ト等の公知の手段によって所望の膜厚で基板上の固体層
上に塗布される。活性エネルギー線硬化性材料の脱気を
行った後には大気の混入を避けながら行うのが好まし
い。The above liquid active energy ray-curable material is applied to a solid layer on a substrate in a desired thickness by a known means such as curtain coating, roll coating, spray coating and the like. After the active energy ray-curable material is degassed, it is preferable to carry out the degassing while avoiding mixing with the atmosphere.

【００２３】次いで、（ｄ）に示すように、これらの凹
部形成層を露光により硬化させる。このとき、上述の工
程（ｂ）で固体層への露光によってポジ型フォトレジス
トは完全に反応しているので、工程（ｄ）では固体層か
ら新たに気泡が発生することはない。Next, as shown in (d), these concave portion forming layers are cured by exposure. At this time, since the positive type photoresist has completely reacted by the exposure of the solid layer in the above step (b), no new bubbles are generated from the solid layer in the step (d).

【００２４】さらに工程（ｅ）に示すように、固体層お
よび凹部形成層が積層された基板から固体層を除去し
て、液流路等が形成される。固体層の除去手段としては
特に限定されるものではないが、例えば、固体層を溶解
または膨潤または剥離する液体中に基板を浸漬して除去
する等の方法が好ましい方法として挙げられる。この時
必要に応じて加熱、超音波処理、撹拌等のその他の除去
手段を用いることも可能である。Further, as shown in step (e), the solid layer is removed from the substrate on which the solid layer and the concave portion forming layer are laminated to form a liquid flow path and the like. The means for removing the solid layer is not particularly limited, but a preferred method is, for example, a method of immersing and removing the substrate in a liquid that dissolves, swells or separates the solid layer. At this time, if necessary, other removing means such as heating, ultrasonic treatment, and stirring can be used.

【００２５】本発明は特にインクジェット記録方式のな
かでも、インク吐出を行わせるために利用されるエネル
ギーとして熱エネルギーを発生する手段（例えば電気熱
変換体やレーザ光等）を備え、前記熱エネルギーにより
インクの状態変化を生起させる方式の記録ヘッド、記録
装置において優れた効果をもたらすものであり、このよ
うな方式によれば記録の高密度化、高精細化が達成でき
るので、本発明は極めて有効であり、その経済的効果は
極めて大きい。The present invention is particularly provided with a means (for example, an electrothermal converter or a laser beam) for generating thermal energy as energy used for performing ink ejection in an ink jet recording system. The present invention brings about an excellent effect in a recording head and a recording apparatus of a system that causes a change in the state of ink. According to such a system, high-density and high-definition recording can be achieved. The economic effect is extremely large.

【００２６】その代表的な構成や原理については、例え
ば、米国特許第４７２３１２９号、同第４７４０７９６
号に開示されている基本的な原理を用いて行うものが好
ましい。この方式は所謂オンデマンド型、コンティニュ
アス型のいずれにも適用可能であるが、特に、オンデマ
ンド型の場合には、液体（インク）が保持されているシ
ートや液路に対応して配置されている電気熱変換体に記
録情報に対応し、かつ膜沸騰を越える急速な温度情報を
与える少なくとも１つの駆動信号を印加する。これによ
って、電気熱変換体に熱エネルギーを発生させ、記録ヘ
ッドの熱作用面に膜沸騰を生じさせ、結果的にこの駆動
信号に一対一で対応した液体（インク）内の気泡を形成
できるので有効である。この気泡の成長、収縮により吐
出用開口を介して液体（インク）を吐出させて、少なく
とも１つの滴を形成する。この駆動信号をパルス形状と
すると、即時適切に気泡の成長収縮が行われるので、特
に応答性に優れた液体（インク）の吐出が達成できて、
極めて好ましい。このパルス形状の駆動信号としては、
米国特許第４４６３３５９号、同第４３４５２６２号に
記載されているような信号が適している。なお、上記熱
作用面の温度上昇率に関する発明である米国特許第４３
１３１２４号に記載されている条件を採用すると、さら
に優れた記録を行うことができる。The typical configuration and principle are described in, for example, US Pat. Nos. 4,723,129 and 4,740,796.
It is preferable to use the basic principle disclosed in the above publication. This method can be applied to both the so-called on-demand type and the continuous type. In particular, in the case of the on-demand type, it is arranged corresponding to the sheet or the liquid path holding the liquid (ink). At least one drive signal corresponding to the recorded information and providing rapid temperature information exceeding film boiling is applied to the electrothermal transducer. As a result, thermal energy is generated in the electrothermal transducer, causing film boiling on the heat-acting surface of the recording head, and as a result, bubbles in the liquid (ink) corresponding one-to-one to the drive signal can be formed. It is valid. By discharging the liquid (ink) through the discharge opening by the growth and contraction of the bubble, at least one droplet is formed. When this drive signal is pulse-shaped, the growth and shrinkage of the bubbles are performed immediately and appropriately, so that a liquid (ink) having particularly excellent responsiveness can be discharged,
Very preferred. As the drive signal in the form of a pulse,
Signals such as those described in U.S. Pat. Nos. 4,463,359 and 4,345,262 are suitable. Incidentally, US Pat.
If the conditions described in JP-A No. 13124 are adopted, more excellent recording can be performed.

【００２７】記録ヘッドの構成としては、上述の各公知
明細書に開示されているような吐出口、液路、電気熱変
換体の組合せ構成（直線状液流路または直角液流路）の
他に熱作用部が屈曲する領域に配置されている構成を開
示する米国特許第４５５８３３３号、米国特許第４４５
９６００号の構成も本発明に含むことができる。さら
に、複数の電気熱変換体に対しては共通するスリットを
電気熱変換体の吐出部とする構成を開示する特開昭５９
−１２３６７０号や熱エネルギーの圧力波を吸収する開
孔を吐出部に対応させた構成を開示する特開昭５９−１
３８４６１号の構成にも本発明の効果は有効である。す
なわち、記録ヘッドの形態がどのような形態であって
も、本発明は記録を確実に、しかも効率良く行うことが
可能である。さらに、記録装置が記録できる記録媒体の
最大幅に対応した長さを有するフルラインタイプの記録
ヘッドに対しても本発明は有効に適用できる。そのよう
な記録ヘッドとしては、複数記録ヘッドの組合せによっ
てその長さを満足させる構成や、一体的に形成された１
個の記録ヘッドとしての構成のいずれでもよい。The structure of the recording head may be a combination of a discharge port, a liquid path, and an electrothermal converter (a linear liquid flow path or a right-angle liquid flow path) as disclosed in the above-mentioned known specifications. U.S. Pat. No. 4,558,333 and U.S. Pat.
No. 9600 can also be included in the present invention. Japanese Patent Application Laid-Open No. S59-5959 discloses a configuration in which a common slit is used as a discharge portion of an electrothermal converter for a plurality of electrothermal converters.
JP-A-59-1370 discloses a structure in which an opening for absorbing a pressure wave of thermal energy is made to correspond to a discharge portion.
The effect of the present invention is also effective in the configuration of No. 38461. That is, the present invention can perform recording reliably and efficiently regardless of the form of the recording head. Further, the present invention can be effectively applied to a full-line type recording head having a length corresponding to the maximum width of a recording medium on which a recording apparatus can record. As such a recording head, a configuration that satisfies the length by a combination of a plurality of recording heads, or a single recording head that is integrally formed.
Any of the configurations as individual recording heads may be used.

【００２８】更に、上例のようなシリアルタイプの型で
あっても、装置本体に固定された記録ヘッド、あるいは
装置本体に装着されるために装置本体との電気的な接続
や装置本体からのインクの供給が可能になる交換自在の
チップタイプの記録ヘッド、あるいは記録ヘッド自体に
一体的にインクタンクが設けられたカートリッジタイプ
の記録ヘッドを用いた場合にも、本発明は有効である。Further, even in the case of the serial type as described above, the recording head fixed to the apparatus main body, or the electrical connection with the apparatus main body to be mounted on the apparatus main body or the connection from the apparatus main body. The present invention is also effective when a replaceable chip-type recording head capable of supplying ink or a cartridge-type recording head having an ink tank provided integrally with the recording head itself is used.

【００２９】また、本発明の記録装置の構成としては記
録ヘッドの吐出回復手段、予備的な補助手段等を付加す
ることは本発明の効果を一層安定できるので、好ましい
構成である。これらを具体的に例示すれば、記録ヘッド
のためのキャッピング手段、クリーニング手段、加圧あ
るいは吸引手段、電気熱変換体あるいはこれとは別の吐
出を行う予備吐出手段を挙げることができる。As a configuration of the recording apparatus of the present invention, it is preferable to add a recording head ejection recovery unit, a preliminary auxiliary unit, and the like because the effect of the present invention can be further stabilized. Specific examples thereof include a capping unit for the recording head, a cleaning unit, a pressurizing or suctioning unit, an electrothermal converter, and a preliminary discharging unit for performing another discharging.

【００３０】また、搭載される記録ヘッドの種類ないし
個数についても、例えば単色のインクに対応して１個の
みが設けられた記録ヘッドの他に、記録色や、濃度を異
にする複数のインクに対応して複数個数設けられる記録
ヘッドであってもよい。すなわち、例えば記録装置の記
録モードとしては黒色等の主流色だけの記録モードだけ
ではなく、記録ヘッドを一体的に構成するか、複数個の
組み合せ構成にするかいずれの構成でもよいが、異なる
色の複色カラー、または混色によるフルカラーの各記録
モードの少なくとも一つを備えた装置にも本発明は極め
て有効である。さらに加えて、以下に説明する本発明実
施例においてはインクを液体として説明しているが、室
温あるいはそれ以下の温度で固化するインクであって
も、室温で軟化もしくは液化するインクを用いてもよ
く、あるいはインクジェット方式ではインク自体を３０
℃以上７０℃以下の範囲内に温度調整を行ってインクの
粘性を安定吐出範囲になるように温度制御する方式が一
般的であるから、使用記録信号付与時にインクが液状を
なすインクを用いてもよい。加えて、エネルギーをイン
クの固形状態から液体状態への変換エネルギーとして使
用することによって熱エネルギーによるインクの昇温を
積極的に防止するために、またはインクの蒸発を防止す
るために、放置状態で固化し、かつ加熱によって液化す
るインクを用いてもよい。いずれにしても熱エネルギー
を記録信号に応じて付与することによってインクが液化
し、その液状インクが吐出される構成や、記録媒体に到
達した時点ではすでに固化しはじめている構成等のよう
な、熱エネルギーの付与によって初めて液化する性質の
インクを使用する場合にも本発明は適用可能である。こ
のような場合にはインクは特開昭５４−５６８４７号、
あるいは特開昭６０−７１２６０号に記載されているよ
うに、多孔質シート凹部または貫通孔に液状又は固形物
として保持された状態であって、電気熱変換体に対して
対向するような形態としてもよい。本発明においては上
述した各インクに対して最も有効な方式は上述の膜沸騰
方式を実行するものである。Regarding the type and number of recording heads to be mounted, for example, in addition to a recording head provided with only one corresponding to a single color ink, a plurality of recording heads having different recording colors or densities are used. A plurality of recording heads may be provided corresponding to the above. That is, for example, the recording mode of the recording apparatus is not limited to the recording mode of only the mainstream color such as black, and may be either a single recording head or a combination of plural recording heads. The present invention is extremely effective also in an apparatus having at least one of the recording modes of full-color by multi-color or mixed-color. In addition, in the embodiments of the present invention described below, the ink is described as a liquid.However, an ink that solidifies at room temperature or lower, or an ink that softens or liquefies at room temperature may be used. Good, or in the ink jet method, the ink itself is 30
In general, a method of controlling the temperature so that the viscosity of the ink is in a stable ejection range by adjusting the temperature within a range of not less than 70 ° C. and not more than 70 ° C. Is also good. In addition, in order to positively prevent the temperature rise of the ink due to thermal energy by using energy as conversion energy from the solid state of the ink to the liquid state, or to prevent evaporation of the ink, An ink that solidifies and liquefies by heating may be used. In any case, by applying thermal energy according to the recording signal, the ink is liquefied and the liquid ink is ejected, or when the ink reaches the recording medium, the thermal ink starts to solidify. The present invention is also applicable to a case where an ink that liquefies for the first time by applying energy is used. In such a case, the ink is disclosed in JP-A-54-56847,
Alternatively, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-71260, a state in which the porous sheet is held as a liquid or solid substance in a concave portion or through hole of the porous sheet and faces the electrothermal converter. Is also good. In the present invention, the most effective method for each of the above-described inks is to execute the above-described film boiling method.

【００３１】さらに加えて、本発明によるインクジェッ
ト記録装置の適用形態としては、コンピュータ等の情報
処理機器の画像出力端末として用いられる装置の他に、
リーダ等と組合わせた複写装置、さらには送受信機能を
有するファクシミリ装置の形態を採る装置等であっても
よい。Further, as an application form of the ink jet recording apparatus according to the present invention, in addition to an apparatus used as an image output terminal of an information processing apparatus such as a computer,
A copying apparatus combined with a reader or the like, or a facsimile apparatus having a transmission / reception function may be used.

【００３２】[0032]

【実施例】以下に実施例により本発明を具体的に説明す
る。The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【００３３】実施例１ 液体用のエネルギー発生素子としての電気熱変換体を形
成したガラス基板上にポジ型フォトレジストＡＺ−４９
０３（ヘキスト社製）を膜厚２０μｍになるようにスピ
ンコートし、オーブン中で９０℃で２０分間のプリベー
クを行って、レジスト層を形成した。このレジスト層上
にノズルパターンのマスクを介してマスクアライナーＰ
ＬＡ−５０１（キヤノン製）により、２００ｍＪ／ｃｍ
² の露光量でパターン露光した後に０．７５％の水酸化
ナトリウム水溶液を用いて現像を行い、次いでイオン交
換水でリンス処理を行い、オーブン中で７０℃で３０分
間のポストベークを行って、レジストパターンを得た。Example 1 A positive photoresist AZ-49 was formed on a glass substrate on which an electrothermal transducer as an energy generating element for liquid was formed.
03 (manufactured by Hoechst) was spin-coated so as to have a film thickness of 20 μm, and prebaked in an oven at 90 ° C. for 20 minutes to form a resist layer. A mask aligner P is formed on the resist layer through a nozzle pattern mask.
200 mJ / cm by LA-501 (manufactured by Canon)
After pattern exposure with the exposure amount of ² , development was performed using a 0.75% aqueous sodium hydroxide solution, followed by rinsing with ion-exchanged water, and post-baking in an oven at 70 ° C. for 30 minutes, A resist pattern was obtained.

【００３４】次に、このレジストパターン上に５００ｍ
Ｊ／ｃｍ² の露光量で全面露光を行い、クリーンルーム
内（気温２３℃、湿度５０％）に２４時間放置した後に
レジストパターン上に日本ユニオンカーバイト社製エポ
キシ樹脂 Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＲ−６１１０ ４０重量部 Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＲ−６２００ ２０重量部 Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＲ−６３５１ ４０重量部 および トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネー
ト １重量部 からなる光硬化型の液流路形成用材料を被覆し、８．５
Ｊ／ｃｍ² の露光量で全面露光を行うことによって液流
路形成用材料を硬化させた。次いで基板を３．０％の水
酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、レジストパターンを
溶解除去した。Next, 500 m above the resist pattern
The entire surface is exposed at an exposure amount of J / cm ² , and after standing in a clean room (temperature 23 ° C., humidity 50%) for 24 hours, 40 parts by weight of epoxy resin Cyracure UVR-6110 manufactured by Nippon Union Carbide Co., Ltd. on the resist pattern UVR-6200 20 parts by weight Cycure UVR-6351 40 parts by weight and triphenylsulfonium hexafluoroantimonate 1 part by weight were coated with a material for forming a photocurable liquid flow path, and 8.5.
The liquid channel forming material was cured by performing the entire surface exposure with an exposure amount of J / cm ² . Next, the substrate was immersed in a 3.0% aqueous sodium hydroxide solution to dissolve and remove the resist pattern.

【００３５】このようにして作製された微細ノズルを光
学顕微鏡により観察した結果では、流路形成用材料中に
気泡は全く観察されなかった。また、ノズルの精度も非
常に高く、信頼性の高いノズルが作製された。さらに、
このようにして作製された液体噴射記録ヘッドによって
安定な印字が可能であった。As a result of observing the fine nozzle manufactured in this manner with an optical microscope, no bubbles were observed in the material for forming a flow path. In addition, the accuracy of the nozzle was very high, and a highly reliable nozzle was manufactured. further,
Stable printing was possible with the liquid jet recording head manufactured in this manner.

【００３６】実施例２ レジストパターン作製後に全面露光を行った後に、クリ
ーンルーム内に放置する代わりに、０．１ｍｍＨｇの真
空条件下で３０分間の脱気処理を行った以外は実施例１
と同様にして液体噴射記録ヘッドを作成した。Example 2 Example 1 was repeated except that after the entire surface was exposed after the formation of the resist pattern, deaeration was performed for 30 minutes under a vacuum of 0.1 mmHg, instead of leaving in a clean room.
A liquid jet recording head was prepared in the same manner as described above.

【００３７】この様に作製された微細ノズルを光学顕微
鏡により観察した結果では、流路形成用材料中に気泡は
全く観察されなかった。また、ノズルの精度も非常に高
く、信頼性の高いノズルが作製された。更にこの様にし
て作製された液体噴射記録ヘッドによって安定な印字が
可能であった。As a result of observing the thus prepared fine nozzle with an optical microscope, no bubbles were observed in the material for forming a flow path. In addition, the accuracy of the nozzle was very high, and a highly reliable nozzle was manufactured. Further, stable printing was possible with the liquid jet recording head manufactured in this manner.

【００３８】実施例３ ポジ型フォトレジストの膜厚を３０μｍとし、レジスト
パターン作製後にクリーンルーム内に放置する代わり
に、１５０ｍＪ／ｃｍ² の露光量での全面露光、および
０．１ｍｍＨｇの真空条件下での３０分間の脱気処理の
一連の工程を２度繰り返した以外には実施例１と同様に
して液体噴射記録ヘッドを作製した。Example 3 The thickness of the positive photoresist was set to 30 μm, and instead of leaving the resist pattern in a clean room after forming the resist pattern, the entire surface was exposed at an exposure amount of 150 mJ / cm ² and under a vacuum condition of 0.1 mmHg. A liquid jet recording head was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the series of steps of the deaeration treatment for 30 minutes was repeated twice.

【００３９】この様に作製された微細ノズルを光学顕微
鏡により観察した結果では、流路形成用材料中に気泡は
全く観察されなかった。更にこの様にして作製された液
体噴射記録ヘッドによって安定な印字が可能であった。As a result of observing the thus prepared fine nozzle with an optical microscope, no air bubbles were observed in the material for forming a flow path. Further, stable printing was possible with the liquid jet recording head manufactured in this manner.

【００４０】比較例１ レジストパターン作製後に直ちに液流路形成用材料を被
覆した以外には実施例１と同様にして液体噴射記録ヘッ
ドを作製した。Comparative Example 1 A liquid jet recording head was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the material for forming a liquid flow path was coated immediately after the formation of the resist pattern.

【００４１】この様に作製された微細ノズルを観察した
結果では、液流路形成用材料の被覆直後から気泡の発生
が生じ、その気泡が液流路形成用材料中に混入するのが
観察された。Observation of the fine nozzle manufactured in this manner shows that bubbles are generated immediately after the coating of the material for forming a liquid flow path, and the bubbles are mixed into the material for forming a liquid flow path. Was.

【００４２】比較例２ クリーンルーム内に放置する工程を省略した以外には実
施例１と同様にして液体噴射記録ヘッドを作製した。Comparative Example 2 A liquid jet recording head was produced in the same manner as in Example 1 except that the step of leaving the substrate in a clean room was omitted.

【００４３】この様に作製された微細ノズルを光学顕微
鏡により観察した結果では、流路形成用材料中に気泡が
多数観察され、ノズルの形状はその原型をとどめない形
状であった。As a result of observing the thus prepared fine nozzle with an optical microscope, a number of air bubbles were observed in the material for forming the flow channel, and the shape of the nozzle was not limited to its original shape.

【００４４】比較例３ ポジ型フォトレジストの膜厚を３０μｍとし、レジスト
パターン作成後にクリーンルーム内に放置する代わり
に、５００ｍＪ／ｃｍ² の露光量での全面露光、および
０．１ｍｍＨｇの真空条件下での３０分間の脱気処理以
外には実施例１と同様にして液体噴射記録ヘッドを作製
した。Comparative Example 3 The thickness of the positive type photoresist was set to 30 μm, and instead of leaving the resist pattern in a clean room after forming the resist pattern, the entire surface was exposed at an exposure amount of 500 mJ / cm ² , and under a vacuum condition of 0.1 mmHg. A liquid jet recording head was produced in the same manner as in Example 1 except for the deaeration treatment for 30 minutes.

【００４５】この様に作製された微細ノズルを光学顕微
鏡により観察した結果では、流路形成用材料中に気泡が
多数観察され、ノズルの形状には気泡による変形が認め
られた。As a result of observing the thus prepared fine nozzle with an optical microscope, a number of air bubbles were observed in the material for forming the flow path, and the nozzle was deformed by the air bubbles.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】従来法による液体噴射記録ヘッドの製造工程を
説明するための概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a manufacturing process of a liquid jet recording head according to a conventional method.

【図２】インクジェット記録ヘッドの一構成例を示す概
略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view showing one configuration example of an ink jet recording head.

【図３】本発明の液体噴射記録ヘッドを搭載したインク
ジェット記録装置の一例を示す外観斜視図である。FIG. 3 is an external perspective view showing an example of an ink jet recording apparatus equipped with the liquid jet recording head of the present invention.

【図４】本発明の一実施例にかかるインクジェット記録
ヘッドの製造方法を工程順に示す記録ヘッドの模式的断
面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a recording head showing a method of manufacturing an ink jet recording head according to one embodiment of the present invention in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 基板 ２ ポジ型フォトレジスト ３ マスク ４ レジストパターン ５ 液体流路形成材料 ６ 液流路 １０１ 基板 １０３ 凹部形成層 １０３ａ 隔壁 １０４ 吐出口 １０５ 液流路 １０５ａ 固体層 １０６ 共通液室 １０８ 電気熱変換体 ５０１ インクジェット記録ヘッドカートリッジ ５０２ キャリッジ ５０３ 駆動モーター ５０４ 駆動ベルト ５０５ ガイドシャフト ５０６ 同上 ５０７ プラテン ５０８ ヘッド回復装置 ５０９ 伝動機構 ５１０ モーター ５１１ キャップ部 ５１２ クリーニングブレード ５１３ ブレード保持部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Positive photoresist 3 Mask 4 Resist pattern 5 Liquid flow path forming material 6 Liquid flow path 101 Substrate 103 Depression forming layer 103a Partition wall 104 Discharge port 105 Liquid flow path 105a Solid layer 106 Common liquid chamber 108 Electrothermal converter 501 Inkjet recording head cartridge 502 Carriage 503 Drive motor 504 Drive belt 505 Guide shaft 506 Same as above 507 Platen 508 Head recovery device 509 Transmission mechanism 510 Motor 511 Cap part 512 Cleaning blade 513 Blade holding member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−154947（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−10156（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B41J 2/16 G03F 7/20 ────────────────────────────────────────────────── (5) References JP-A-61-154947 (JP, A) JP-A-63-10156 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. ⁷ , DB name) B41J 2/16 G03F 7/20

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】 液体吐出エネルギー発生部が配設されて
いる基板の上にナフトキノンジアジド誘導体を含有する
ポジ型フォトレジストからなる感光層を形成し、所要の
露光、現像処理を行ってこのレジストをパターニングす
る工程、レジストパターン及び基板上に光硬化型の液流
路形成用材料を被覆し、続いて全面露光を行って液流路
形成用材料を硬化させる工程、パターニング処理された
ポジ型フォトレジストを溶解除去することによって液流
路を形成する工程を有する液体噴射記録ヘッドの製造方
法において、前記ポジ型フォトレジストの レジストパターン上に全面
露光を行い、低圧条件下に置くことにより脱気処理を行
ってレジストパターン中の気泡を排出した後に、レジス
トパターン及び基板上に光硬化型の液流路形成用材料を
被覆することを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方
法。1. A photosensitive layer made of a positive photoresist containing a naphthoquinonediazide derivative is formed on a substrate on which a liquid discharge energy generating section is provided, and the resist is subjected to necessary exposure and development treatments. It is patterned
That process, a resist pattern and a photocurable liquid flow path forming material is coated onto a substrate, followed by Ru curing the liquid flow path forming material performs overall exposure step, patterning treatment positive photoresist In the method for manufacturing a liquid jet recording head having a step of forming a liquid flow path by dissolving and removing the resist, the entire surface is exposed on the resist pattern of the positive type photoresist, and the deaeration treatment is performed by placing the resist under a low pressure condition. line
Resist bubbles in the pattern after the discharge, the resist pattern and method for manufacturing a liquid jet recording head is characterized in that coating the photocurable liquid flow path forming material on a substrate I. 【請求項２】 液体吐出エネルギー発生部が配設されて
いる基板の上にナフトキノンジアジド誘導体を含有する
ポジ型フォトレジストからなる感光層を形成し、所要の
露光、現像処理を行ってこのレジストをパターニングす
る工程、レジストパターン及び基板上に光硬化型の液流
路形成用材料を被覆し、続いて全面露光を行って液流路
形成用材料を硬化させる工程、パターニング処理された
ポジ型フォトレジストを溶解除去することによって液流
路を形成する工程を有する液体噴射記録ヘッドの製造方
法において、前記 ポジ型フォトレジストのレジストパターンに加熱処
理、全面露光、さらに低圧条件下に置くことによる脱気
処理を行う工程を数回繰り返した後に、レジストパター
ン及び基板上に光硬化型の液流路形成用材料を被覆する
ことを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。2. A photosensitive layer comprising a positive photoresist containing a naphthoquinonediazide derivative is formed on a substrate on which a liquid discharge energy generating section is provided, and the resist is subjected to necessary exposure and development treatments to form a resist. It is patterned
That process, a resist pattern and a photocurable liquid flow path forming material is coated onto a substrate, followed by Ru curing the liquid flow path forming material performs overall exposure step, patterning treatment positive photoresist the method of manufacturing a liquid jet recording head comprising the step of forming the liquid flow path by the dissolving and removing the positive type heat treatment on the resist pattern of the photoresist, the entire surface exposure, further degassed by placing the low-pressure conditions The method of manufacturing a liquid jet recording head according to any one of claims 1 to 3, wherein the step of repeating the step is repeated several times, and then a resist pattern and a substrate are coated with a photocurable liquid channel forming material. 【請求項３】 パターニングされたナフトキノンジアジ
ド誘導体を含有するポジ型フォトレジストの全面露光時
の総露光量が、レジストのパターニング時に用いた露光
量以上であることを特徴とする請求項１又は２記載の製
造方法。3. A total exposure of the entire surface exposure of the photoacid-patterned naphthoquinone diazide derivative, according to claim 1 or 2, wherein the at least exposure dose used in patterning of the resist manufacturing <br/> method for producing. 【請求項４】 低圧条件が０．０１ｍｍＨｇないし１０4. The low pressure condition is 0.01 mmHg to 10 mmHg.
ｍｍＨｇ．ａｂｓ．の範囲である請求項１、２又は３記mmHg. abs. 4. The method according to claim 1, 2 or 3, wherein
載の製造方法。Manufacturing method.