JP3008503B2 - Position detection device - Google Patents

Position detection device

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JP3008503B2
JP3008503B2 JP2416675A JP41667590A JP3008503B2 JP 3008503 B2 JP3008503 B2 JP 3008503B2 JP 2416675 A JP2416675 A JP 2416675A JP 41667590 A JP41667590 A JP 41667590A JP 3008503 B2 JP3008503 B2 JP 3008503B2
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  • Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は,磁気抵抗(MR)素子
を用いた位置検出装置に関するものであり,特に,複数
相のMR素子からの位置検出信号を内挿して高い分解能
をもつ位置検出信号を出力する位置検出装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a position detecting device using a magnetoresistive (MR) element, and more particularly to a position detecting apparatus having a high resolution by interpolating position detecting signals from a plurality of phases of MR elements. The present invention relates to a position detection device that outputs a signal.

【0002】[0002]

【従来の技術】ズーム機構,フォーカス機構などを持つ
レンズシステムにおいては,合焦点における被写体距
離,ズームレンズ位置,フォーカスレンズ位置とはレン
ズ設計からある位置関係になければならない。特に,マ
ニュアルフォーカスのときにズーム機構を働かせる場合
にはピントボケを防止するため上記位置関係を保たなけ
ればならない。
2. Description of the Related Art In a lens system having a zoom mechanism, a focus mechanism, and the like, the subject distance at the focal point, the zoom lens position, and the focus lens position must be in a certain positional relationship from the lens design. In particular, when the zoom mechanism is operated during manual focus, the above positional relationship must be maintained in order to prevent out-of-focus.

【0003】この位置関係を満足させるため,従来,機
械的なカムを用いる方法,または,ズームレンズ位置と
マスタレンズ位置を検出して演算による電子カムを構成
する方法が取られている。機械的なカムを用いる方法は
装置構成が大きくなる,機械的磨耗により精度が低下す
る,精度が充分に得られないなどの問題がある。電子カ
ムによる方法においては,位置検出として,ポテンショ
メータを用いる方法,または,ズームレンズを移動させ
るステッピングモータの制御ステップを計数する方法な
どが知られている。しかしながら,ポテンショメータを
用いる方法は接触式であるからモータにかかる負荷が増
加するという問題,信頼性が低いという問題,抵抗膜の
ばらつきにより直線性に劣るという問題がある。ステッ
ピグモータのステップ数を計数する方法はレンズ駆動に
ステッピングモータを用いたレンズ系でなければ適用で
きない。
Conventionally, in order to satisfy this positional relationship, a method using a mechanical cam or a method of detecting a zoom lens position and a master lens position to form an electronic cam by calculation has been adopted. The method using a mechanical cam has problems such as an increase in the configuration of the device, a decrease in accuracy due to mechanical wear, and an insufficient accuracy. In the method using an electronic cam, a method using a potentiometer or a method of counting the number of control steps of a stepping motor for moving a zoom lens is known as position detection. However, since the method using a potentiometer is a contact type, there are problems in that the load on the motor increases, reliability is low, and linearity is poor due to variations in the resistance film. The method of counting the number of steps of the stepping motor is not applicable unless the lens system uses a stepping motor for driving the lens.

【0004】かかる問題を解決する方法としては,磁気
抵抗(MR)素子を用いることが考えられる。すなわ
ち,MR素子が磁界の変化によってその抵抗値が変化す
ることを利用する。たとえば,レンズ側にMR素子を装
着し,固定側に磁石を配設し,レンズの移動によりMR
素子を磁石に対して移動させ,その抵抗変化を位置変化
として取り出すものである。MR素子を用いる位置検出
方法としては,通常,MR素子の出力とMR素子の中点
電位とを比較する方法,多相のMR素子の相間電位を比
較する方法,MR素子からの正弦波,余弦波信号から任
意の位相差の正弦波信号を内挿する方法が知られてい
る。
As a method for solving such a problem, it is conceivable to use a magnetoresistive (MR) element. That is, the fact that the resistance value of the MR element changes due to the change of the magnetic field is used. For example, an MR element is mounted on the lens side, a magnet is provided on the fixed side, and the MR is moved by moving the lens.
The element is moved with respect to the magnet, and its resistance change is extracted as a position change. As a position detection method using the MR element, a method of comparing the output of the MR element with the midpoint potential of the MR element, a method of comparing the interphase potentials of the multi-phase MR element, a sine wave from the MR element, a cosine A method of interpolating a sine wave signal having an arbitrary phase difference from a wave signal is known.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら,これら
の方法では,MR素子形成パターンの1周期から最大4
個の出力しか得られず,正弦波信号の歪み,オフセット
による影響を受けやすいという問題がある。かかる問題
はカメラなどのレンズ位置を検出する場合だけでなく,
MR素子を用いた位置検出においても上記同様の問題に
遭遇している。したがって,本発明は,MR素子を用い
た位置検出において,信頼性が高く,かつ,精度の高い
位置検出を行うことを目的とする。
However, according to these methods, one cycle of the MR element forming pattern can be up to four times.
There is a problem in that only outputs are obtained, and the sine wave signal is easily affected by distortion and offset. The problem is not only when detecting the position of a lens such as a camera, but also
The same problem as described above is encountered in position detection using an MR element. Therefore, an object of the present invention is to perform highly reliable and accurate position detection in position detection using an MR element.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記問題を解決するた
め,本発明の位置検出装置においては,複数相のMR素
子を用いた位置検出において,各相のMR素子からの正
弦波状の信号成分のうち直線性に優れた信号成分をサン
プリングしてそのサンプリング値を内挿して,位置検出
信号を出力する。すなわち,本発明の位置検出装置は,
所定の分解能で位置を検出するため磁界発生手段の位置
変化に応じて複数の相の正弦波状の位置検出信号を出力
するように形成されたMR素子と,該MR素子からの複
数相の位置検出信号の各相の信号の交点間の信号を取り
出し,その信号を内挿して位置検出信号を出力する位置
算出手段とを有する。
In order to solve the above-mentioned problems, in the position detecting apparatus of the present invention, in position detection using a plurality of phases of MR elements, a sinusoidal signal component from each phase MR element is detected. Among them, a signal component having excellent linearity is sampled, and the sampled value is interpolated to output a position detection signal. That is, the position detecting device of the present invention
An MR element formed to output a sinusoidal position detection signal of a plurality of phases in accordance with a position change of a magnetic field generating means for detecting a position with a predetermined resolution; and a position detection of a plurality of phases from the MR element Position calculating means for extracting a signal between intersections of signals of each phase of the signal, interpolating the signal, and outputting a position detection signal.

【0007】[0007]

【作用】位置算出手段はMR素子から複数の位置検出信
号の位相を考慮して各相との交点間の直線性を示す部分
の信号を直線内挿(補間)して分解能の高い,正確な位
置信号を出力する。
The position calculating means linearly interpolates (interpolates) the signal indicating the linearity between the intersections with the respective phases in consideration of the phases of the plurality of position detection signals from the MR element, thereby obtaining a high-resolution, accurate Output the position signal.

【0008】[0008]

【実施例】図1は本発明の1実施例としてVTRカメラ
の位置検出にMR素子を用いた位置検出装置の回路構成
を示す。図において,位置検出装置は,MRセンサ1,
バッファ2〜4,サンプリングホルダ5〜7,スイッチ
9〜11,A/Dコンバータ12,およびマイクロコン
ピュータ本体(CPU)14が図示のごとく接続されて
いる。この位置検出装置はVTRカメラに内蔵されてい
る。MRセンサ1は,ズームレンズ,および,フォーカ
スレンズに固定されており,ズームレンズおよびフォー
カスレンズの移動とともに移動する。ただし,以下の記
述においてはMRセンサ1がズームレンズに固定された
場合について述べる。
FIG. 1 shows a circuit configuration of a position detecting device using an MR element for detecting the position of a VTR camera as an embodiment of the present invention. In the figure, the position detecting device is an MR sensor 1,
The buffers 2 to 4, the sampling holders 5 to 7, the switches 9 to 11, the A / D converter 12, and the microcomputer body (CPU) 14 are connected as shown. This position detecting device is built in the VTR camera. The MR sensor 1 is fixed to a zoom lens and a focus lens, and moves as the zoom lens and the focus lens move. However, in the following description, a case where the MR sensor 1 is fixed to a zoom lens will be described.

【0009】図2にズームレンズに装着されたMRセン
サ1の形成パターンを示す。このMRセンサ1に対向す
る位置に間隔λでN磁極,S磁極が配設されている永久
磁石が配設されている。MRセンサ1は,3相の位置検
出信号を出力するように,それぞれλ/2の間隔で配設
された第1相位置検出用MR素子パターンA1 ,A 2
第2相位置検出用MR素子パターンB1 ,B 2,第3相
位置検出用MR素子パターンC1 ,C 2が,間隔λで配
設されているN,S磁石(磁界)に直交する方向に設け
られている。第1相位置検出用MR素子パターンA1
第2相位置検出用MR素子パターンB1 との間の間隔は
λ/3である。磁界と平行する方向に配設された図示の
太い線は給電線を示す。また,整合用抵抗パターン
1 ,S2 が配設されている。図2に示したMRセンサ
1の等価回路を図3に示す。磁石N,Sに対してMRセ
ンサ1が移動すると,大地Gと電源電圧VCCとの間に接
続されている第1相位置検出用MR素子パターンA1
2,第2相位置検出用MR素子パターンB1 ,B 2
第3相位置検出用MR素子パターンC1 ,C 2のそれぞ
れの磁気抵抗が変化して,その抵抗変化が,図4(a)
に示す交流電圧の第1相位置検出信号A0 ,第2相位置
検出信号B0 ,第3相位置検出信号C0 として出力され
る。これらの3相の信号A0 ,B0 ,C0 は,ズームレ
ンズの移動速度によってその周波数は規定されるが,そ
れぞれ正弦波(または余弦波)の波形であり,相互に1
20度の位相差がある。図4(b)は,これらの位置検
出信号A0 ,B0 ,C0 が相互に交差する点間の各相の
信号波形である。これら信号はほぼ直線である。
FIG. 2 shows a pattern of the MR sensor 1 mounted on the zoom lens. At the position facing the MR sensor 1, permanent magnets having N magnetic poles and S magnetic poles at intervals of λ are provided. The MR sensor 1 outputs first-phase position detecting MR element patterns A 1 , A 2 , and A 3 arranged at an interval of λ / 2 so as to output three-phase position detection signals.
The direction in which the MR element patterns B 1 and B 2 for detecting the second phase position and the MR element patterns C 1 and C 2 for detecting the third phase position are orthogonal to the N and S magnets (magnetic fields) arranged at the interval λ. It is provided in. The interval between the first phase position detecting MR element pattern A 1 and the second phase position detecting MR element pattern B 1 is λ / 3. The thick line shown in the drawing arranged in a direction parallel to the magnetic field indicates a feed line. Further, matching resistance patterns S 1 and S 2 are provided. FIG. 3 shows an equivalent circuit of the MR sensor 1 shown in FIG. When the MR sensor 1 moves with respect to the magnets N and S, the first phase position detecting MR element patterns A 1 , connected between the ground G and the power supply voltage V CC .
A 2 , the second phase position detecting MR element patterns B 1 , B 2 ,
The magnetic resistance of each of the third-phase position detecting MR element patterns C 1 and C 2 changes, and the change in the resistance changes as shown in FIG.
Are output as a first phase position detection signal A 0 , a second phase position detection signal B 0 , and a third phase position detection signal C 0 of the AC voltage shown in FIG. The frequency of these three-phase signals A 0 , B 0 , and C 0 is defined by the moving speed of the zoom lens, but each has a sine wave (or cosine wave) waveform.
There is a phase difference of 20 degrees. FIG. 4B shows a signal waveform of each phase between points where these position detection signals A 0 , B 0 , and C 0 cross each other. These signals are almost linear.

【0010】MRセンサ1の各相の位置検出信号A0
0 ,C0 をそれぞれ, V=VP sinθ ・・・(1) と近似した場合,図4の各相の交点電圧Vcross は次の
式で規定される。 Vcross =VP sin(π/2n) ・・・(2) n:相数,ただし,nは奇数。 =VP sin(π/m) ・・・(3) m:相数,ただし,mは偶数。式(2),(3)から明
らかなように,MRセンサ1の相数nまたはmが増加す
れば,交点電圧Vcross は低下し,図4(b)に示した
波形の直線性は向上する。したがって,MRセンサ1の
相数Nまたはmは多い方が望ましいが,以下の記述にお
いては,図2に示したように3相の場合について述べ
る。なお,2相の場合には,中心電圧を基準に折り返し
て4相にする。
[0010] The position detection signals A 0 ,
B 0, the C 0, respectively, when approximated to V = V P sinθ ··· (1 ), the intersection voltage V cross of each phase in FIG. 4 is defined by the following equation. V cross = V P sin (π / 2n) ··· (2) n: number of phases, where, n is an odd number. = V P sin (π / m ) ··· (3) m: the number of phases, however, m is an even number. As is clear from equations (2) and (3), when the number n or m of phases of the MR sensor 1 increases, the intersection voltage V cross decreases, and the linearity of the waveform shown in FIG. I do. Therefore, it is desirable that the number of phases N or m of the MR sensor 1 is large. However, in the following description, a case of three phases as shown in FIG. 2 will be described. In the case of two phases, the phase is turned back to four phases based on the center voltage.

【0011】図1の回路において,バッファ2〜4は第
1相位置検出信号A0 ,第2相位置検出信号B0 ,第3
相位置検出信号C0 を入力し,サンプリングホルダ5〜
7に出力する。必要に応じて,バッファ2〜4を増幅回
路にしてもよい。サンプリングホルダ5〜7はA/Dコ
ンバータ12のA/D変換速度およびタイミングに応じ
て入力された位置検出信号A0 ,B0 ,C0 をそれぞれ
サンプルホールドする。アナログスイッチ9〜11は順
次,所定時間オンにされる。それにより,サンプリング
ホルダ5〜7でサンプルホールドされた信号がA/Dコ
ンバータ12で順次ディジタル信号に変換される。A/
Dコンバータ12の出力はCPU14に入力されて、以
下に述べる信号処理が行われる。
In the circuit shown in FIG. 1, buffers 2 to 4 store a first phase position detection signal A 0 , a second phase position detection signal B 0 , and a third phase position detection signal B 0 .
Enter the phase position detection signal C 0, the sampling holder 5
7 is output. If necessary, the buffers 2 to 4 may be amplifier circuits. The sampling holders 5 to 7 sample and hold the position detection signals A 0 , B 0 , and C 0 input according to the A / D conversion speed and timing of the A / D converter 12, respectively. The analog switches 9 to 11 are sequentially turned on for a predetermined time. Thus, the signals sampled and held by the sampling holders 5 to 7 are sequentially converted into digital signals by the A / D converter 12. A /
The output of the D converter 12 is input to the CPU 14 and the signal processing described below is performed.

【0012】図5はCPU14の処理を示すフローチャ
ートである。ステップS01〜S08:CPU14は3
相の位置検出信号について以下の処理を行う。ステップS02 :MPU14は各相の位置検出信号の交
点電圧の最大値MAXと最低値MINを上記A/Dコン
バータ12からの読みに基づいて決定する。ステップS03 :次いで,CPU14は(MAX+MI
N)/2を計算して,中点電位,すなわち,オフセット
電圧を計算する。ステップS04 :CPU14は位置検出信号をステップ
S03で計算したオフセット電圧で補正する。ステップS05 :CPU14はMAXとMINとの差か
らゲインを算出し,位置検出信号にこのゲインを乗ず
る。以上の処理によって,各相の位置検出信号のオフセ
ット補正およびドリフト補正が行われる。ステップS08 :CPU14は各相の電位を比較して交
点電圧を求める。ステップS09 :CPU14は各交点電圧から,直線性
を示す相の位置検出信号を選択し,位置検出信号を直線
内挿する。すなわち,サンプリングホルダ5〜7および
A/Dコンバータ12を介して入力されるMRセンサ1
の各位置検出信号A0 ,B0 ,C0 はサンプリングされ
たものであるから,そのサンプリング時間の離散性を直
線的に内挿する。CPU14は直線内挿によって算出さ
れた位置信号を,ズームレンズの位置制御系(図示せ
ず)に出力する。このズームレンズの位置制御系はCP
U14を共用して処理させてもよい。
FIG. 5 is a flowchart showing the processing of the CPU 14. Steps S01 to S08: CPU 14
The following processing is performed on the phase position detection signal. Step S02 : The MPU 14 determines the maximum value MAX and the minimum value MIN of the intersection voltage of the position detection signals of each phase based on the reading from the A / D converter 12. Step S03 : Next, the CPU 14 sets (MAX + MI
N) / 2 to calculate the midpoint potential, that is, the offset voltage. Step S04 : The CPU 14 corrects the position detection signal with the offset voltage calculated in step S03. Step S05 : The CPU 14 calculates a gain from the difference between MAX and MIN, and multiplies the position detection signal by this gain. Through the above processing, offset correction and drift correction of the position detection signal of each phase are performed. Step S08 : The CPU 14 determines the intersection voltage by comparing the potentials of the respective phases. Step S09 : The CPU 14 selects a position detection signal of a phase exhibiting linearity from each intersection voltage, and linearly interpolates the position detection signal. That is, the MR sensor 1 input via the sampling holders 5 to 7 and the A / D converter 12
Since the position detection signals A 0 , B 0 , and C 0 are sampled, the discreteness of the sampling time is linearly interpolated. The CPU 14 outputs a position signal calculated by linear interpolation to a position control system (not shown) of the zoom lens. The position control system of this zoom lens is CP
U14 may be shared and processed.

【0013】磁石N,Sの間隔λを150μm,各相の
位置検出MR素子パターン,たとえば,A1 とA 2との
間隔λ/2を75μm,したがって,図4(b)の間隔
d=25μmとし,この間隔dを1msでサンプリング
して64個のサンプリングデータを入手した場合,内挿
によって最小分解能,約0.39μmの位置検出信号を
得ることができる。なお,CPU14から出力される位
置信号は,MRセンサ1が磁界の変動,すなわち,N,
S磁石の位置変化に対して抵抗が変化するので,インク
リメンタルな信号である。絶対位置はこのインクリメン
タルな信号を,たとえば,CPU14内のメモリで,あ
るいは,カウンタで積分(累積)することにより得られ
る。磁石の間隔λ=150μmとし単相のMR素子で位
置検出を行った場合の分解能はλ=150μmであり,
3相にしても分解能はたかだか50μmであるが,内挿
演算することにより,上記のように分解能が非常に向上
する。この内挿演算は直線性のある信号成分を用いてお
り,しかも,オフセット補正およびドリフト補正がされ
ているから精度が高い。サンプリング周期を上げれば,
内挿する信号の間隔が短くなるから,内挿演算によって
得られる分解能(精度)はさらに高くなる。なお,上述
したように,MRセンサ1の相を増やすと,内挿に用い
る信号成分の直線性が向上するから,精度が一層向上す
る。
The interval λ between the magnets N and S is 150 μm, and the position detecting MR element pattern of each phase, for example, the interval λ / 2 between A 1 and A 2 is 75 μm. Therefore, the interval d in FIG. 4B is 25 μm. If this interval d is sampled at 1 ms to obtain 64 pieces of sampling data, a position detection signal with a minimum resolution of about 0.39 μm can be obtained by interpolation. Note that the position signal output from the CPU 14 indicates that the MR sensor 1 has a change in the magnetic field, that is, N,
Since the resistance changes with respect to the change in the position of the S magnet, the signal is an incremental signal. The absolute position is obtained by integrating (accumulating) this incremental signal in, for example, a memory in the CPU 14 or using a counter. The resolution when the position is detected by a single-phase MR element with the magnet spacing λ = 150 μm is λ = 150 μm.
Although the resolution is at most 50 μm even with three phases, the resolution is greatly improved as described above by performing the interpolation operation. This interpolation operation uses a linear signal component, and is highly accurate since offset correction and drift correction are performed. By increasing the sampling period,
Since the interval between signals to be interpolated is shortened, the resolution (accuracy) obtained by the interpolation operation is further increased. As described above, when the number of phases of the MR sensor 1 is increased, the linearity of the signal component used for interpolation is improved, so that the accuracy is further improved.

【0014】以上に述べた上記実施例はCPU14を用
いて内挿演算を行ったが,上記内挿演算をハードウエア
回路で行うこともできる。図6はハードウエア回路で実
現した位置検出装置の回路図を示す。この回路は,差動
増幅回路21〜23,マルチプレクサ24,位相弁別回
路25,アップ・ダウンカウンタ26,比較回路27〜
29,および,論理回路30が図示のごとく接続されて
いる。
In the above-described embodiment, the interpolation operation is performed by using the CPU 14, but the interpolation operation may be performed by a hardware circuit. FIG. 6 shows a circuit diagram of a position detecting device realized by a hardware circuit. This circuit includes differential amplifier circuits 21 to 23, a multiplexer 24, a phase discrimination circuit 25, an up / down counter 26, a comparison circuit 27 to
29 and a logic circuit 30 are connected as shown.

【0015】差動増幅回路,たとえば,差動増幅回路2
1は,演算増幅回路21a,負帰還抵抗器21bからな
り,可変抵抗器で構成された負帰還抵抗器21bはゲイ
ン調整にも用いる。演算増幅回路21aは,信号S0
第1相位置検出信号A0 との差動信号を増幅する。した
がって,信号S0 と第1相位置検出信号A0 とに共通に
重畳されるノイズ成分が相殺される。差動増幅回路21
aには,オフセット信号S31が印加され,オフセット
補正が行われる。
A differential amplifier circuit, for example, a differential amplifier circuit 2
Reference numeral 1 denotes an operational amplifier circuit 21a and a negative feedback resistor 21b, and the negative feedback resistor 21b composed of a variable resistor is also used for gain adjustment. The operational amplifier circuit 21a amplifies a differential signal between the signal S 0 and the first phase position detection signal A 0 . Therefore, noise components commonly superimposed on the signal S 0 and the first phase position detection signal A 0 are canceled. Differential amplifier circuit 21
The offset signal S31 is applied to a, and offset correction is performed.

【0016】位相弁別回路25は差動増幅回路21〜2
3からの位置検出信号を入力して,これら信号の高低関
係から位相を検出する。位相弁別回路25で検出される
位相は遅れ位相と進み位相とが検出され,進み位相のと
きはアップパルスUPが,遅れ位相のときはダウンパル
スDOWNがアップ・ダウンカウンタ26に出力され,
アップ・ダウンカウンタ26がアップパルスUPのとき
はカウンタの値を増加させ,ダウンパルスDOWNのと
きはカウンタの値を減少させる。これにより,λ/2の
分解能で絶対位置が検出される。
The phase discrimination circuit 25 includes differential amplifier circuits 21 to 2
3, and the phase is detected from the level relationship between these signals. As for the phase detected by the phase discriminating circuit 25, a lag phase and an advanced phase are detected. When the phase is an advanced phase, an up pulse UP is output. When the phase is a lag phase, a down pulse DOWN is output to an up / down counter 26.
When the up / down counter 26 has an up pulse UP, the counter value is increased, and when the down pulse DOWN is present, the counter value is decreased. Thus, the absolute position is detected with a resolution of λ / 2.

【0017】位相弁別回路25は上記検出した位相に基
づいてマルチプレクサ24内の対応する位相選択スイッ
チ24a〜24cのいずれかをオンにする。たとえば,
図4(b)の期間T1の場合は第1相位置検出信号A0
を選択するため位相選択スイッチ24aをオンにし,期
間T2の場合は第3相位置検出信号C0 を選択するため
位相選択スイッチ24cをオンにし,期間T3の場合は
第2相位置検出信号B0 を選択するため位相選択スイッ
チ24bをオンにする。このように位相選択スイッチの
オンによって選択された差動増幅回路21〜23からの
信号は比較回路27〜29に印加されて対応する基準電
圧REF1〜REF3と比較され,基準電圧より高い電
圧の場合,「1」出力が出力される。論理回路30は複
数の比較回路で構成され,比較回路27〜29からの論
理信号の組合せに基づいて位置信号の内挿を行う。
The phase discrimination circuit 25 turns on one of the corresponding phase selection switches 24a to 24c in the multiplexer 24 based on the detected phase. For example,
In the case of the period T1 in FIG. 4B, the first phase position detection signal A 0
Is turned on, the phase selection switch 24c is turned on to select the third phase position detection signal C 0 during the period T2, and the second phase position detection signal B 0 is turned on during the period T3. Is turned on, the phase selection switch 24b is turned on. The signals from the differential amplifier circuits 21 to 23 selected by turning on the phase selection switches are applied to the comparison circuits 27 to 29 and compared with the corresponding reference voltages REF1 to REF3. , "1" are output. The logic circuit 30 is composed of a plurality of comparison circuits, and interpolates the position signal based on a combination of the logic signals from the comparison circuits 27 to 29.

【0018】図6の回路においては,カウンタ26の出
力と論理回路30の論理判断結果と組合せで位置信号が
決定される。図6の回路においても,上述したようにオ
フセット補正,ドリフト補正を行った内挿位置信号が得
られる。
In the circuit shown in FIG. 6, the position signal is determined by a combination of the output of the counter 26 and the result of the logical judgment of the logic circuit 30. In the circuit of FIG. 6 as well, an interpolation position signal for which offset correction and drift correction have been performed as described above can be obtained.

【0019】図1におけるスイッチ9〜11はもし相数
だけのA/Dコンバータが設けられる場合,同様に,図
6におけるマルチプレクサ24におけるスイッチはも
し,相数だけの比較回路27〜29が設けられる場合に
は不用となる。
If switches 9 to 11 in FIG. 1 are provided with A / D converters corresponding to the number of phases, similarly, switches in multiplexer 24 in FIG. 6 are provided with comparison circuits 27 to 29 corresponding to the number of phases. In some cases, it is unnecessary.

【0020】以上,本発明の1実施例としてVTRカメ
ラのズームレンズの位置検出について例示したが,本発
明の位置検出装置は他の種々の精密な位置検出にも適用
できる。
As described above, the position detection of the zoom lens of the VTR camera has been described as an embodiment of the present invention. However, the position detecting device of the present invention can be applied to other various kinds of precise position detection.

【0021】[0021]

【発明の効果】以上述べたように,本発明の位置検出装
置によれば,分解能が高く,精度の高い位置検出が可能
となる。
As described above, according to the position detecting device of the present invention, it is possible to detect a position with high resolution and high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例の位置検出装置の構成図で
ある。
FIG. 1 is a configuration diagram of a position detection device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1におけるMRセンサのパターンである。FIG. 2 is a pattern of the MR sensor in FIG. 1;

【図3】図2のMRセンサの等価回路である。FIG. 3 is an equivalent circuit of the MR sensor of FIG. 2;

【図4】図3における位置検出信号波形である。FIG. 4 is a waveform of a position detection signal in FIG.

【図5】図1のマイクロコンピュータの動作フローチャ
ートである。
FIG. 5 is an operation flowchart of the microcomputer of FIG. 1;

【図6】本発明の第2実施例の位置検出装置の構成図で
ある。
FIG. 6 is a configuration diagram of a position detection device according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・MRセンサ, 2〜4・・バッファ, 5〜7・・サンプリングホルダ, 9〜11・・スイッ
チ, 12・・A/Dコンバータ, 14・・マイクロコン
ピュータ。
1. MR sensor, 2-4 buffer, 5-7 sampling holder, 9-11 switch, 12 A / D converter, 14 microcomputer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 7/00 - 7/34 G01D 5/00 - 5/252 G01D 5/39 - 5/62 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G01B 7 /00-7/34 G01D 5/00-5/252 G01D 5/39-5/62

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 所定の分解能で位置を検出するため磁界
発生手段の位置変化に応じて複数の相の正弦波状の位置
検出信号を出力するように形成された磁気抵抗素子と,
該磁気抵抗素子からの複数相の位置検出信号の各相の信
号の交点間の信号を取り出しその信号を内挿して位置検
出信号を算出する位置算出手段とを有する位置検出装
置。
A magnetoresistive element formed to output a sinusoidal position detection signal of a plurality of phases in response to a position change of a magnetic field generating means for detecting a position with a predetermined resolution;
A position calculating means for extracting a signal between the intersections of the signals of the respective phases of the plurality of phase detection signals from the magnetoresistive element and interpolating the signal to calculate a position detection signal.
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