JP2988466B2 - 液晶表示装置、その製造方法およびその駆動方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置、そ
の製造方法およびその駆動方法に関し、特に、製造が容
易であり、しかも視角特性の優れた液晶表示装置として
利用される該装置、その製造方法およびその駆動方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来広く使用されているねじれネマティ
ック（twisted nematic；以下”ＴＮ”と略記する）型
の液晶表示装置においては、電圧非印加時の液晶分子が
基板表面に平行になっている「白」表示状態から、印加
電圧に応じて液晶分子が電界方向に配向ベクトルの向き
を変化させていくことにより、「白」表示状態から次第
に「黒」表示となる。しかし、この電圧印加時の液晶分
子の特有の挙動により、ＴＮ型液晶表示装置は視野角が
狭いという問題がある。この視野角が狭いという問題
は、中間調表示における液晶分子の立ち上がり方向にお
いて特に著しい。

【０００３】液晶表示装置の視角特性を改善する方法と
して、特開平9−105041号公報に開示されているような
技術が提案されている。この技術では、一方の基板側で
基板面に対しほぼ垂直になるように液晶分子を配向さ
せ、もう一方の基板側で基板面に対しほぼ平行になるよ
うに液晶分子を配向させるとともに、各画素を液晶分子
の立ち上がり（垂直配向の部分からいえば立ち下がり）
方向の異なる複数の領域に分割し、視角特性が互いの領
域で補償しあうようにして、視野角をひろげるものであ
る。また特開平6−43461号公報には、ＴＮ配向させたセ
ルにおいて、一方の画素電極に切り込みを入れることに
より、斜め電界により各画素を２個以上のドメインに分
割し、視角特性を改善する技術が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
9−105041号公報に開示されている技術においては、各
画素を複数の領域に分割するためにフォトレジスト工
程、またはマスクを介した偏光の照射などの煩雑な工程
が付加される。図４に２つの領域に分けた場合を示す。
ラビングでは、液晶の配向方向を１８０°異なったもの
にするために、レジストマスク等で画素領域の半分の領
域を覆った状態で基板上を一方の向きにラビングし、そ
の後、レジストマスクを剥離し、今度は露出していた残
りの半分の画素領域をレジストマスクで覆った後、今度
は先ほどと反対向きにラビングを行う、という工程が付
加される。また、偏光照射を利用する場合には、同様の
マスクを用い、画素の半分に斜め方向から偏光を照射
し、次にマスクを変えて露光されなかった残りの半分に
１８０°異なる斜め方向から偏光を照射する、といった
工程が付加される。

【０００５】他方、特開平6−43461号公報に開示されて
いる技術においては、通常のＴＮ型の液晶表示装置の作
製工程では必要とされない「共通電極３２についてのフ
ォトレジスト工程等の微細加工工程」が必要となると共
に、上下基板２２，３３の高度な貼りあわせ技術が必要
とされるという問題がある。この問題はＴＦＴなどのス
イッチング素子を用いたアクティブマトリックス液晶表
示装置の場合、特に大きな問題である。すなわち、通常
のアクティブマトリックス液晶表示装置では、一方の透
明基板上に薄膜ダイオード等のアクティブ素子を作製す
るため、フォトレジスト工程等の微細加工工程が必要と
されるのは、アクティブ素子を作製する片側の基板のみ
であり、通常「共通電極」と呼ばれる他の基板において
は微細加工を施す必要はなく、全面に電極が形成されて
いるのみである。ところが、特開平6−43461号公報に開
示されている技術においては、通常は微細加工が必要と
されていない「共通電極」についても、フォトレジスト
工程等の微細加工工程が必要とされ、工程が増加すると
共に、上下基板２２，３３の高度な貼り合わせ技術が必
要とされることになる。また、この技術においては、画
素領域ごとの電極に開口部を設け、発生する電界によっ
て配向を制御しているが、図５、図６に示すように、開
口部３４の部分に電極がないため、電極３２に電圧を印
加した場合においても、この部分には十分な電界がかか
らず、液晶が印加電圧に対して十分に応答しないという
欠点があった。

【０００６】本発明の目的は、上記のような従来技術の
問題、すなわち、フォトレジスト工程などの煩雑な工程
を増加させることなく、高コントラストで、応答が速く
視角特性の優れた液晶表示装置を提供することである。

【０００７】本発明の別の目的は、そのような、液晶表
示装置を容易に作製する製造方法を提供することであ
る。

【０００８】本発明のさらに別の目的は、そのような高
コントラストで、応答が速く、視角特性の優れた液晶表
示装置の特性を十分に発揮させ得る駆動方法を提供する
ことにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示装
置は、一方の基板側で液晶が基板に対して垂直な配向を
とり、もう一方の基板側で液晶が基板と水平な配向をと
っており、２枚の基板のうち少なくとも一方の基板上に
開口部を有する電極があり、開口部の位置に液晶の初期
配向を制御するための第二の電極を設け、第二の電極と
それに対向する電極に電圧を印加することによって液晶
の初期配向を制御し、液晶層を２種以上の微小領域に分
けることで、フォトレジスト工程などの煩雑な工程を増
加させることなく、高コントラストで、応答が速く、広
視野角という優れた視角特性を実現している。

【００１０】このとき、「開口部の位置に」とは、液晶
表示装置を正面から見たときに、開口部と電極とがほぼ
同じ位置にあって、重なっていることを意味するもので
あり、本発明に係る液晶表示装置を断面として見たと
き、開口部と同じ位置に電極があることを意味するもの
ではない。すなわち、開口部と電極とは”同層”であっ
てもよいが、絶縁膜を介した”異なる層”であってもよ
いことを意味している。

【００１１】また、本発明による液晶表示装置は、一方
の基板側で液晶が基板に対して垂直な配向をとり、もう
一方の基板側で液晶が基板と水平な配向をとっており、
２枚の基板のうち少なくとも一方の電極に、この電極と
絶縁された液晶の初期配向を制御するための第二の電極
を設け、この第二の電極とそれに対向する電極に電圧を
印加することによって液晶の初期配向を制御し、液晶層
を２種以上の微小領域に分けることで、フォトレジスト
工程などの煩雑な工程を増加させることなく、高コント
ラストで、応答が速く、広視野角という優れた視角特性
を実現している。ここで液晶の初期配向とは、広く駆動
開始時の液晶配向のことでもあるが、パネルを作製する
際の初期配向をも意味する。

【００１２】本発明における液晶表示装置は、さらに、
視角特性を改善するために、偏光板と液晶セルの間に少
なくとも１枚の光学補償板を有している。光学的に負の
補償板を使用することが、斜め方向から見たときのリタ
デーションの変化を打ち消す観点から、好ましい。この
ような補償板は２軸延伸のような方法で作製した１枚の
フィルムであってもよいし、１軸延伸したフィルムを２
枚以上重ねて、実質的に光学的に負の１軸の補償板とし
て用いても同様の効果が得られる。

【００１３】また、必要に応じ、光学的に正の補償板を
用い、面内方向での液晶層の光学異方性を補償すると、
黒表示時の斜め方向から見たときの白浮きをより効果的
に抑えることができる。

【００１４】本発明における液晶表示装置の製造方法
は、制御電極に電圧を印加することによって、初期配向
を制御した後、液晶中に少量混合した重合性のモノマー
またはオリゴマーを高分子化することによって、初期の
液晶配向をさらに確実なものにすることができる。初期
配向を制御する際には、加熱により液晶層を等方相にし
た後、制御電極に電圧を加えながら、温度を降下させて
も、室温で制御電極に電圧を印加するだけでもよい。ま
た、モノマーの反応も等方相に加熱する前に起こさせて
も、加熱中に起こさせてもよいし、冷却後に起こさせて
もよい。室温で制御電極に電圧を印加し、初期配向を制
御する場合も、電圧印加の前に反応を起こさせておいて
もよいし、電圧印加後に反応を起こさせてもよい。

【００１５】また、本発明における液晶表示装置の製造
方法は、基板にあらかじめラビング、または光配向など
の方法を使用して、分割形状に従ったプレチルト角の制
御を行い、制御電極による初期配向の制御を極めて確実
にし、駆動電圧により、このような配向が乱れることを
防止するために、さらに液晶中に少量混合した重合性の
モノマーまたはオリゴマーを高分子化するとより優れた
効果が得られる。この際、ラビングの場合はフォトレジ
ストを用いた分割配向を行う。また、光配向の場合は、
例えば、エーエムエルシーディー’９６／アイディーダ
ブリュ’９６のダイジェストオブテクニカルペイパーズ
（AM−LCD’９６／IDW’９６ Digest ofTechnical Pape
rs） P．337に記載されているような偏光照射により感
光基が重合するような高分子を用いて、分割形状にそっ
た方向にプレチルト角がつくように、各部にマスクを介
して、斜め方向から偏光を照射する。このような分割配
向の方法はよく知られているが、分割の安定性に関して
は、本発明にあるような制御電極を用いた方がはるかに
優れている。かつ液晶中に少量混合した重合性のモノマ
ーまたはオリゴマーを高分子化することにより、駆動時
においてもより確実に分割を維持することができる。さ
らにこのように液晶の配向を記憶させるためにモノマー
またはオリゴマーを高分子化することにより、応答速度
も速くなるという利点もある。

【００１６】本発明に使用するモノマー、オリゴマーと
しては、光硬化性モノマー、熱硬化性モノマー、あるい
はこれらのオリゴマー等のいずれを使用することもで
き、また、これらを含むものであれば他の成分を含んで
いてもよい。本発明に使用する「光硬化性モノマー又は
オリゴマー」とは、可視光線により反応するものだけで
なく、紫外線により反応する紫外線硬化モノマー等を含
み、操作の容易性からは特に後者が望ましい。

【００１７】また、本発明で使用する高分子化合物は、
液晶性を示すモノマー、オリゴマーを含む液晶分子と類
似の構造を有するものでもよいが、必ずしも液晶を配向
させる目的で使用されるものではないため、アルキレン
鎖を有するような柔軟性のあるものであってもよい。ま
た、単官能性のものであってもよいし、２官能性のも
の、３官能以上の多官能性を有するモノマー等でもよ
い。

【００１８】本発明で使用する光または紫外線硬化モノ
マーとしては、例えば、２−エチルへキシルアクリレー
ト、ブチルエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリ
レート、２−シアノエチルアクリレート、ベンジルアク
リレート、シクロヘキシルアクリレート、２−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレ
ート、Ｎ，Ｎ−エチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、ジシクロペン
タニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレー
ト、グリシジルアクリレート、テトラヒドロフルフリル
アクリレート、イソボニルアクリレート、イソデシルア
クリレート、ラウリルアクリレート、モルホリンアクリ
レート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジ
エチレングリコールアクリレート、２，２，２−トリフ
ルオロエチルアクリレート、２，２，２，２，３−ペン
タフルオロプロピルアクレート、２，２，２，３−テト
ラフルオロプロピルアクリレート、２，２，２，４，
４，４−ヘキサフルオロブチルアクリレート等の単官能
アクリレート化合物を使用することができる。

【００１９】また、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、ブチルエチルメタクリレート、ブトキシエチルメタ
クリレート、２−シアノエチルメタクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２
−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−エトキシエ
チルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペ
ンテニルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、イソボニルメ
タクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメ
タクリレート、モルホリンメタクリレート、フェノキシ
エチルメタクリレート、フェノキシジエチレングリコー
ルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメ
タクリレート、２，２，２，３−テトラフルオロプロピ
ルメタクリレート、２，２，２，４，４，４−ヘキサフ
ルオロブチルメタクリレート等の単官能メタクリレート
化合物を使用することができる。

【００２０】さらに、４，４’−ビフェニルジアクリレ
ート、ジエチルスチルベストロールジアクリレート、
１，４−ビスアクリロイルオキシベンゼン、４，４’−
ビスアクリロイルオキシジフェニルエーテル、４，４’
−ビスアクリロイルオキシジフェニルメタン、２，９−
ビス［１，１−ジメチル−２−アクリロイルオキシエチ
ル］−２，４，８，１０−テトラスピロ［５，５］ウン
デカン、α，α′−ビス［４−アクリロイルオキシフェ
ニル］−１，４−ジイソプロピルベンゼン、１，４−ビ
スアクリロイルオキシテトラフルオロベンゼン、４，
４’−ビスアクリロイルオキシオクタフルオロビフェニ
ル、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコ
ールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、１，６−ヘキサンジ
オールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアク
リレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアク
リレート、４，４’−ジアクリロイルオキシスチルベ
ン、４，４’−ジアクリロイルオキシジメチルスチルベ
ン、４，４’−ジアクリロイルオキシジエチルスチルベ
ン、４，４’−ジアクリロイルオキシジプロピルスチル
ベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジブチルスチル
ベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジペンチルスチ
ルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジヘキシルス
チルベン、４，４’−ジアクリロイルオキシジフルオロ
スチルベン、２，２，２，２，４，４−ヘキサフルオロ
ペンタンジオール−１，５−ジアクリレート、１，１，
２，２，２，３−ヘキサフルオロプロピル−１，３−ジ
アクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー等の多
官能アクリレート化合物を用いることができる。

【００２１】さらにまた、ジエチレングリコールジメタ
クリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレー
ト、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、ジ
シクロペンタニルジメタクリレート、グリセロールジメ
タクリレート、１，６−へキサンジオールジメタクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、テト
ラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタ
クリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタメタ
クリレート、２，２，２，２，４，４−ヘキサフルオロ
ペンタンジオール−１，５−ジメタクリレート、ウレタ
ンメタクリレートオリゴマー等の多官能メタクリレート
化合物、その他スチレン、アミノスチレン、酢酸ビニル
等があるが、これらに限定されるものではない。

【００２２】また、本発明の素子の駆動電圧は、高分子
材料と液晶材料の界面相互作用にも影響されるため、フ
ッ素原子を含む高分子化合物であってもよい。このよう
な高分子化合物として、２，２，２，２，４，４−へキ
サフルオロペンタンジオール−１，５−ジアクリレー
ト、１，１，２，２，２，３−へキサフルオロプロピル
−１，３−ジアクリレート、２，２，２−トリフルオロ
エチルアクリレート、２，２，２，２，３−ペンタフル
オロプロピルアクリレート、２，２，２，３−テトラフ
ルオロプロピルアクリレート、２，２，２，４，４，４
−へキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−ト
リフルオロエチルメタクリレート、２，２，２，３−テ
トラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，２，
４，４，４−ヘキサフルオロブチルメタクリレート、ウ
レタンアクリレートオリゴマー等を含む化合物から合成
された高分子化合物が挙げられるが、これに限定される
ものではない。

【００２３】本発明に使用する高分子化合物として光ま
たは紫外線硬化モノマーを使用する場合には、光または
紫外線用の開始剤を使用することもできる。この開始剤
としては、種々のものが使用可能であり、たとえば、
２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−フェニル−１−オン、１−（４−イソ
プロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
パン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−
ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン等のアセト
フェノン系、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイ
ン系、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、４−フェ
ニルベンゾフェノン、２，３−ジメチル−４−メトキシ
ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系、チオキサンソ
ン、２−クロルチオキサンソン、２−メチルチオキサン
ソン等のチオキサンソン系、ジアゾニウム塩系、スルホ
ニウム塩系、ヨードニウム塩系、セレニウム塩系等が使
用できる。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、具体的に説明する。

【００２５】（実施の形態１）本発明の液晶表示装置
は、図１に示すように、それぞれ電極２２，３２を有す
る２枚の基板２２，３３の間に、液晶分子１１からなる
層が設けられている。いずれか一方の電極には垂直配向
膜３１が塗布されており、必要に応じて、ラビングされ
ている。また、一方の電極には、液晶を基板面に対して
ほぼ平行に配向させる配向膜２１が塗布され、必要に応
じてラビングされている。一方の基板２３の電極２２に
開口部２４が設けられており、さらにこれと同位置に液
晶の初期配向を制御するための第二の電極２５が設けら
れており、電極２２と第二の電極２５には、異なる電圧
をかけられるようになっている。

【００２６】開口部２４および第二の電極２５が設けら
れていない場合には、電圧を印加したときに液晶分子が
倒れる方向（チルトする方向）は、垂直配向基板側で
は、配向膜にラビングをしていない場合はランダムであ
り、ラビングされている場合はラビング方向に一致す
る。このため、液晶の倒れる方向を分割するためにはフ
ォトレジスト工程、またはマスクを介した偏光照射工程
が必要となる。また、水平配向基板側では、ラビング方
向にプレチルト角がついており、電圧を印加した場合の
液晶分子の立ち上がる方向は、このプレチルト角の方向
と一致する。そのため、立ち上がり方向はどちらか一方
に限定される。従って、この場合も立ち上がり方向を分
割するためには、フォトレジスト工程、またはマスクを
介した偏光照射工程を必要とする。これに対して、本発
明の液晶表示装置においては、電極２２のほかに、液晶
の初期配向を制御するための第二の電極２５が存在する
ため、第二の電極２５と電極３２の間に電圧を印加する
ことにより、液晶層内に斜め電界が発生する。そのた
め、液晶分子１１は、図１に示すように、この斜め電界
に沿った方向に倒れる。このとき、水平配向基板側はラ
ビングを行い面内での液晶の配向方向を規定するが、配
向膜のプレチルト角が非常に小さく、好ましくは０°の
配向膜を使用すれば、斜め電界による配向の規制が効果
的に行われる。このとき制御電極は垂直配向基板側、水
平配向基板側のどちらにあってもよいが、配向の安定性
の観点からいえば、水平配向側にあることが望ましい。

【００２７】斜め電界を利用して液晶の配向を分割する
ことは、図５、図６の従来例にあるように、開口部を設
けた電極を使用しても、実現することができる。しかし
ながら、従来技術においては、図５、図６に示すよう
に、開口部３４の部分に電極がないため、電極３２に電
圧を印加した場合においても、この部分には十分な電界
がかからず、液晶が印加電圧に対して十分に応答しない
という欠点があった。

【００２８】また、特にアクティブ素子で駆動する場合
には、単に開口部を設けるだけでは、所望の効果が得ら
れないことがわかった。すなわち、一般に作製されてい
るアクティブ素子の場合には、カラーフィルター側の電
極（通常共通電極と呼ばれる）にはフォトレジスト工程
が必要とされず、全面に電極が形成されている。また、
アクティブ素子側の基板は各画素ごとにスイッチング素
子が形成され、画素電極が孤立して存在している。この
ような形態の素子では、上下の電極の大きさの違いによ
って、斜め電界の効果で液晶を分割して倒すためには、
開口部は共通電極に開けることが不可欠である。図５、
図６に共通電極に開口部を開けた場合、図７にアクティ
ブ素子側の電極に開口部を開けた場合の断面を示す。図
７から明らかなように、アクティブ素子側の電極２２が
小さい場合には、共通電極側に開口部を設けなければ、
逆にチルトする部分、およびその間に斜め電界が生じな
い部分が存在してしまい、この部分は、ディスクリネー
ションが発生する、また液晶分子のチルト方向が規定で
きないなど所望の配向が得られず、その結果、均質な表
示が得られなくなる。ところが、共通電極に開口部を開
けるためには、共通電極側にフォトレジスト工程を必要
とする。このため、通常の液晶表示装置では必要としな
いフォトレジスト工程が増えることになり、歩留まりの
低下、価格の上昇などにつながる。

【００２９】本発明のように、アクティブ素子側の画素
電極に開口部を設けた場合は、マスクの変更のみで、フ
ォトレジスト工程の増加はない。また、これのみでは、
上下の電極の大きさの違いから、斜め電界が生じないと
いう欠点があるため、開口部に液晶配向制御用の第二の
電極を作製し、これに電圧を印加し、斜め電界を生じさ
せる。この様子を図１に破線で示す。この制御用の第二
の電極は、アクティブ素子を作製する際の信号線、ドレ
イン線などの電極層と別層で形成することもできるが、
いずれかの電極層と同層で作製することが望ましい。こ
れによりマスクの変更のみで、全くフォトレジスト工程
の増加なく所望の斜め電界を形成することができる。例
えば、ゲート電極層を構成する電極層を第二の電極層と
して使用することが挙げられる。なお第二の電極は開口
部にあっても、絶縁層を介して開口部と同じ位置にあっ
ても効果に変わりはない。

【００３０】本発明における制御電極の形状は、図３
（ａ）に示すように「―」型が基本であるが、図３
（ｂ）のように「｜」型であってもよい。さらに分割の
単位は小さい方が制御電界がより効果的に働くので、図
３（ｃ）、（ｄ）に示すように「―」型または「｜」型
が複数個存在するような形状がより望ましい。また、横
方向電界の影響を考慮して、画素に対して斜め方向に形
成されていてもよい。「―」型または「｜」型の電極は
制御電極として他の制御電極部につながっていてもフロ
ーティングになっていてもよい。なお、図では、便宜
上、各画素の制御電極が独立しているように描いてある
が、実際にはつながっていてパネル端の取り出し端子か
ら一括して電圧が印加できるようになっている。

【００３１】本発明のさらに望ましい形態は、図１に示
すような構造の液晶セルを作製した後、液晶を注入し、
制御電極２５と対向電極３２に電圧を印加しながら、液
晶の等方相−液晶層転移温度以上にセルを加熱し、等方
相−液晶層転移温度以下の温度まで、冷却することによ
って実現される。この操作により、液晶の初期配向の制
御がより均一に行われる。

【００３２】本発明のさらに別の形態は、図１に示すよ
うな構造の液晶セルを作製した後、少量のモノマーまた
はオリゴマーを含む液晶を注入し、制御電極２５と対向
電極３２に電圧を印加しながら、モノマーまたはオリゴ
マーを光または熱で高分子化することである。これによ
り、液晶の初期配向がより強固なものとなり、その後の
使用時の物理的ショックなどにも強くなる。

【００３３】この高分子化の工程は、必要に応じ、前述
のように、液晶の等方相−液晶層転移温度以上にセルを
加熱し、等方相−液晶層転移温度以下の温度まで、冷却
し、液晶の配向を十分に均一にした後、行ってもよい。

【００３４】また、制御電極構造に従った形に、ラビン
グ方向を変える、偏光を斜めから照射するなどの通常の
分割配向処理を行った基板を作製してから、制御電極２
５と対向電極３２に電圧を印加すると、分割境界の固定
をパネル全面にわたって強固に行うことができ、信頼性
が大幅に向上する。また、このとき、モノマーまたはオ
リゴマーを含む液晶を使用し、分割状態を作製してか
ら、高分子化することによってさらに信頼性が向上す
る。なお、このときの一方の基板に塗布する垂直配向膜
は、ラビングの場合は通常の垂直配向膜を使用でき、偏
光を斜めから照射する場合には、例えば、エーエムエル
シーディー’９６／アイディーダブリュ’９６のダイジ
ェストオブテクニカルペイパーズ（AM−LCD’９６／ID
W’９６ Digest of Technical Papers） P．337に記載
されているような偏光照射により感光基が重合するよう
な高分子を用いることができる。

【００３５】（実施の形態２）本発明のさらに別の実施
の形態は、液晶の初期の配向を制御するための第二の電
極が液晶を駆動するための電極のどちらか一方の上に絶
縁膜を介して存在するものである。図２にこの構造を示
す。この場合にもアクティブ素子を使用して液晶を駆動
する液晶表示装置の場合はその電極の形状から、アクテ
ィブ素子がある側の基板の電極上に液晶の初期の配向を
制御するための第二の電極が存在することが望ましい。
この形態の場合も、アクティブ素子の形態を選べば、フ
ォトリソグラフィーの工程を増加させず、また、駆動時
において、単に開口部を設けた場合と比べ、画素におい
て電圧が印加されない部分がなくなるので、コントラス
ト、開口率の観点から優れた画像が得られる。

【００３６】この形態の場合も、液晶を注入した後に、
液晶の初期配向を制御するための第二の電極と対向基板
の電極に電圧を印加しながら、液晶の液晶相−等方相転
移点温度より高い温度に加熱し、液晶相−等方相転移点
以下の温度に冷却するとより液晶の配向が確実となる。

【００３７】また、実施の形態１の場合と全く同様に、
液晶に少量のモノマーまたはオリゴマーを混合してお
き、液晶の初期配向を制御するための第二の電極と対向
基板の電極に電圧を印加しながら、光または熱によりモ
ノマーまたはオリゴマーを高分子化することにより、液
晶の配向がより強固なものとなり、駆動時においてもデ
ィスクリネーションの発生などがより確実に抑えられ
る。

【００３８】さらに、ラビング、光配向などにより第二
の電極の形状に沿った分割配向を行った基板を使用する
ことにより、液晶の分割および駆動時における液晶の配
向が強固になり、駆動時におけるディスクリネーション
の発生などがより抑えられる。この際、液晶の初期配向
を制御するための第二の電極と対向基板の電極に電圧を
印加しながら、必要に応じ、液晶の液晶相−等方相転移
点温度より高い温度に加熱し、液晶相−等方相転移点以
下の温度に冷却しても、また、液晶に少量のモノマーま
たはオリゴマーを混合しておき、液晶の初期配向を制御
するための第二の電極と対向基板の電極に電圧を印加し
ながら、光または熱によりモノマーまたはオリゴマーを
高分子化することにより、より確実な配向の規制が可能
となり、優れた画質が得られる。

【００３９】

【実施例】次に本発明を実施例を用いて、詳細に説明す
る。 （実施例１）一画素の大きさ：１００μｍ×３００μ
ｍ、画素数：４８０×６４０×２，表示画面の対角サイ
ズ：２４０ｍｍのアモルファスシリコン薄膜トランジス
タアレイ（ＴＦＴ）を有する基板を、成膜過程とリソグ
ラフィー過程を繰り返して、ガラス基板上に作製した。

【００４０】本実施例１におけるＴＦＴは、逆スタガ構
造であり、基板側よりゲート−クロム層、窒化珪素−絶
縁層、アモルファスシリコン−半導体層、ドレイン・ソ
ース−クロム層、画素−ＩＴＯ層から構成されている。
作製した各画素電極のＩＴＯには、対角方向に幅５μｍ
の「―」形状の開口部を設け、この開口部と一致するよ
うにクロムにより「―」形状の電極を作製した。この電
極には、外部から画素部とは別の電圧を印加できるよう
に設計した。（なお、この電極は、ゲート電極と同層の
クロムで作製したため、従来の製造工程と比較して新た
な付加工程はなかった。）また、本実施例１における液
晶パネル作製の対向基板として、ＲＧＢのカラーフィル
ター基板を使用した。

【００４１】これらの基板を洗浄した後、カラーフィル
ター基板側にポリイミド垂直配向剤：ＳＥ１２１１（日
産化学社製の商品名）からなる配向膜２１，３１を塗布
し、９０℃、１５分及び２００℃、１時間の焼成を行っ
た。ＴＦＴ基板側にポリイミドＪＡＬＳ４２８（ＪＳＲ
社製の商品名）を塗布し、９０℃、１５分及び２００
℃、１時間の焼成を行った。ＴＦＴ基板側の配向膜に
は、「―」形状の電極の長辺に平行な方向にラビング処
理を施した。なお、この配向膜はラビング方向と垂直に
液晶が配向し、プレチルト角はほとんど０°であった。

【００４２】その後、基板の周辺部に接着剤を塗布し、
スペーサーとして径６μｍのラテックス球を散布した。
続いて、両基板を目合わせし、加圧しながら貼りあわせ
た。貼りあわせた基板を真空槽内に置き、真空排気後、
カイラル剤を除いた通常のネマチック液晶を注入した。
次に、得られた液晶パネルに、ポリカーボネイト製の延
伸フィルム２枚を延伸軸が直交するように貼り合わせ、
実質的に光学的に１軸で負の異方性を持つフィルムを△
ｎｄが液晶セルの△ｎｄと符号が反対で等しくなるよう
に設定し、液晶パネルに貼り付けた。さらにこの上に２
枚の偏光フィルムが直交するように貼り付け、液晶表示
装置とした。

【００４３】得られた液晶表示装置の「―」形状電極
に、対向電極に対して８Ｖの電圧を印加し、通常と同様
に表示を行った。画素表示の電圧は、約５．５Ｖであ
る。いずれの方向においても階調反転がなく、優れた画
像を与えることがわかった。

【００４４】（比較例１）比較のため、前記実施例１で
使用した液晶表示装置について、「―」形状の電極に電
圧を印加することなく駆動した以外は、前記実施例１と
同様に駆動させた。この比較例１では、残像が多く見ら
れた。また、斜め方向から見るとざらつき感が認められ
た。顕微鏡で観察すると、各画素内にディスクリネーシ
ョンが生成し、電圧印加直後より経時的に変化するのが
観察された。

【００４５】（実施例２）ＴＦＴ基板として、順スタガ
構造のＴＦＴを作製した以外は、前記実施例１と同様に
パネルを作製した。一画素の大きさ：１００μｍ×３０
０μｍ、画素数：４８０×６４０×２，表示画面の対角
サイズ：２４０ｍｍのアモルファスシリコン薄膜トラン
ジスタアレイ（ＴＦＴ）を有する基板を、成膜過程とリ
ソグラフィー過程を繰り返して、ガラス基板上に作製し
た。

【００４６】本実施例２におけるＴＦＴは、順スタガ構
造であり、基板側より画素−ＩＴＯ層、ソース・ドレイ
ン−クロム層、アモルファスシリコン−半導体層、窒化
珪素−絶縁層、ゲート−クロム層膜から構成されてい
る。作製した各画素電極のＩＴＯには、対角方向に幅５
μｍの「―」形状の開口部を設け、この開口部と一致す
るようにクロムにより「―」形状の電極を作製した。こ
の電極には、外部から画素部とは別の電圧を印加できる
ように設計した。（なお、この電極は、ゲート電極と同
層のクロムで作製したため、従来の製造工程と比較して
新たな付加工程はなかった。）

【００４７】実施例１と同様にパネルを組み立てて液晶
を注入して液晶表示装置を作製した。得られた液晶表示
装置の「―」形状電極に、対向電極に対して８Ｖの電圧
を印加し、通常と同様に表示を行った。画素表示の電圧
は、約５Ｖである。

【００４８】本実施例２においても、前記実施例１と同
様、いずれの方向においても階調反転がなく、優れた画
像を与えることがわかった。

【００４９】（比較例２）比較のため、電圧印加時に
「―」形状の電極に電圧を印加しない以外は、実施例２
と同様に素子を作製、駆動した。２領域の分割状態は不
規則であり、残像および斜め方向においてざらつき感が
認められた。

【００５０】（実施例３）実施例１と同様にＴＦＴ基板
を作製し、カラーフィルター基板と組み合わせてパネル
を作製した。貼りあわせた基板を真空槽内に置き、真空
排気後、カイラル剤を除いたネマチック液晶と紫外線硬
化モノマー（日本化薬社製商品名ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥ
Ｔ−３０）（液晶に対して１．０ｗｔ％）、開始剤（商
品名イルガノックス９０７、モノマーに対して５ｗｔ
％）からなる液晶溶液を注入した。

【００５１】得られたパネルを１１０℃まで加熱し、そ
の温度で紫外線（０．１ｍＷ／ｃｍ ²）を３０分照射し
た。その後、「―」形状の電極に１０Ｖ、５Ｈｚの正弦
波電圧、画素に５Ｖ、５Ｈｚの正弦波電圧を印加しつ
つ、１℃／分で基板を冷却した。得られたセルを偏光顕
微鏡で観測すると、各区画が「―」形状の電極に従い、
２つの微小領域に分割されていた。セルを傾けたときの
明るさの変化から、２つの微小領域が図１に示す配向と
なっていることが確認できた。

【００５２】光学補償板、偏光板を貼り付け、得られた
液晶表示装置の「―」形状の電極の電圧を切り、通常の
状態で表示を行った。中間調においても、階調反転の生
じない広視野角で、良好な表示が得られた。また、液晶
評価装置（ＬＣＤ−５０００：商品名）で方位角４５゜
間隔で階調表示時の視角特性を測定したところ、すべて
の方向に対して殆ど同一の視角特性が得られ、階調反転
は認められなかった。

【００５３】（実施例４）実施例３と全く同様にして、
液晶表示装置を作製、液晶と紫外線硬化モノマー、開始
剤との混合物を注入し、室温において「―」形状の電極
に４０Ｖ、１Ｈｚの状態の矩形波電圧を印加し、対向基
板の画素電極とドレイン線、ゲート線は０Ｖに保った。
電圧を１５Ｖ、３０Ｈｚに変えて、この状態で高圧水銀
灯からの紫外線（０．１ｍＷ／ｃｍ²）を１時間照射し
た。得られたセルを偏光顕微鏡で観測すると、各区画が
「―」形状の電極に従い、２つの微小領域に分割されて
いた。セルを傾けたときの明るさの変化から、２つの微
小領域が図１に示す配向となっていることが確認でき
た。

【００５４】光学補償板、偏光板を貼り付け、得られた
液晶表示装置の「―」形状の電極の電圧を切り、通常の
状態で表示を行った。中間調においても、階調反転の生
じない広視野角で、良好な表示が得られた。また、液晶
評価装置（ＬＣＤ−５０００：商品名）で方位角４５゜
間隔で階調表示時の視角特性を測定したところ、すべて
の方向に対して殆ど同一の視角特性が得られ、階調反転
は認められなかった。

【００５５】（実施例５）実施例４と全く同様にして、
開口部の形状のみ図３（ｂ）にあるように、長方形に
し、画素の中央に設置した液晶表示装置を作製した。実
施例４と全く同様に［―］形状の制御電極に４０Ｖ、１
Ｈｚの状態の矩形波電圧を印加し、対向基板の画素電極
とドレイン線、ゲート線は０Ｖに保った。電圧を１０
Ｖ、３０Ｈｚに変えて、この状態で高圧水銀灯からの紫
外線（０．１ｍＷ／ｃｍ²）を１時間照射した。得られ
たセルを偏光顕微鏡で観測すると、各区画が「―」形状
の電極に従い、２つの微小領域に分割されていた。セル
を傾けたときの明るさの変化から、２つの微小領域が図
１に示すような液晶配向となっていることが確認でき
た。

【００５６】光学補償板、偏光板を貼り付け、得られた
液晶表示装置の「―」形状の電極の電圧を切り、通常の
状態で表示を行った。中間調においても、階調反転の生
じない広視野角で、良好な表示が得られた。また、液晶
評価装置（ＬＣＤ−５０００：商品名）で方位角４５゜
間隔で階調表示時の視角特性を測定したところ、すべて
の方向に対して殆ど同一の視角特性が得られ、階調反転
は認められなかった。

【００５７】（実施例６）液晶表示装置のみ実施例２と
同様の方法で作製したものを用い、実施例４と同様の方
法で液晶と紫外線硬化モノマー、開始剤との混合物を注
入し、モノマーを紫外線で硬化させた。得られたセルを
偏光顕微鏡で観測すると、各区画が「―」形状の電極に
従い、２つの微小領域に分割されていた。セルを傾けた
ときの明るさの変化から、２つの微小領域が図１に示す
配向となっていることが確認できた。

【００５８】光学補償板、偏光板を貼り付け、得られた
液晶表示装置の「―」形状の電極の電圧を切り、通常の
状態で表示を行った。中間調においても、階調反転の生
じない広視野角で、良好な表示が得られた。また、液晶
評価装置（ＬＣＤ−５０００：商品名）で方位角４５゜
間隔で階調表示時の視角特性を測定したところ、すべて
の方向に対して殆ど同一の視角特性が得られ、階調反転
は認められなかった。

【００５９】（実施例７）実施例１と全く同様の基板を
用い、カラーフィルター基板側にポリイミド垂直配向剤
を塗布、焼成し、ＴＦＴ基板に水平配向膜を塗布、焼成
した後、ＴＦＴ素子側の基板のみフォトレジスト工程を
用いて画素内の各部分を制御電極に電圧を印加した際に
液晶のチルトする方向とラビング方向とが一致するよう
に分割配向を施した。その後、実施例１と全く同様にし
てスペーサー剤を散布し、両基板を貼りあわせ、液晶を
注入後、補償板、偏光フィルムを貼り付け、液晶表示装
置を作製した。

【００６０】得られた液晶表示装置の「―」形状電極
に、対向電極に対して８Ｖの電圧を印加し、通常と同様
に表示を行った。画素表示の電圧は、約５．５Ｖであ
る。いずれの方向においても階調反転がなく、優れた画
像を与えることがわかった。また、ディスクリネーショ
ンの発生も認められなかった。

【００６１】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、視
野角特性に優れた液晶表示装置を、フォトリソグラフィ
ーの工程数を増やすことなく作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示装置の一形態の断面図であ
る。

【図２】本発明の液晶表示装置の別の形態の断面図であ
る。

【図３】本発明の液晶表示装置の一例の一画素の平面図
である。

【図４】従来の液晶表示装置を示す断面図である。

【図５】従来の液晶表示装置を示す断面図である。

【図６】従来の液晶表示装置の一例の一画素の平面図で
ある。

【図７】従来の液晶表示装置を示す断面図である。

【符号の説明】

１１ 液晶分子 ２１，３１ 配向膜 ２２，３２ 透明電極 ２２，３３ 基板 ２４，３４ 開口部 ２５ 電極 ２６ 絶縁膜 ４１ ラビング方向

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村井 秀哉 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気 株式会社内 (72)発明者 小林 和美 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気 株式会社内 (72)発明者 平井 良彦 東京都港区芝五丁目７番１号 日本電気 株式会社内 (56)参考文献 特開 平11−109393（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G02F 1/1337 G02F 1/133

Claims (24)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２枚の基板間に液晶層が挟持され、液晶
   層に２種以上の微小領域が共存する液晶表示装置におい
   て、少なくとも一方の基板上に開口部を有する電極があ
   り、開口部の位置に液晶の初期配向を制御するための第
   二の電極を設け、一方の基板側で液晶が基板に対して垂
   直な配向をとり、もう一方の基板側で液晶が基板と水平
   な配向をとることを特微とする液晶表示装置。
2. 【請求項２】 ２枚の基板間に液晶層が挟持され、液晶
   層に２種以上の微小領域が共存する液晶表示装置におい
   て、少なくとも一方の基板上の電極に、この電極と絶縁
   された液晶の初期配向を制御するための第二の電極を設
   け、一方の基板側で液晶が基板に対して垂直な配向をと
   り、もう一方の基板側で液晶が基板と水平な配向をとる
   ことを特微とする液晶表示装置。
3. 【請求項３】 上下少なくとも一方の基板と偏光板の間
   に、少なくとも１枚の光学補償板を有することを特徴と
   する請求項１または２に記載の液晶表示装置。
4. 【請求項４】 第二の電極が各画素の短辺に平行な部分
   を有していることを特徴する請求項１〜３のいずれか１
   項に記載の液晶表示装置。
5. 【請求項５】 第二の電極が各画素の対角線上に設けら
   れていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項
   に記載の液晶表示装置。
6. 【請求項６】 第二の電極が各画素の長辺に平行な部分
   を有していることを特徴する請求項１〜３のいずれか１
   項に記載の液晶表示装置。
7. 【請求項７】 請求項１及び３〜６のいずれか１項に記
   載の液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方
   の基板上に、開口部を有する電極があり、開口部の位置
   に液晶の初期配向を制御するための第二の電極が設けら
   れた空パネルに液晶を注入し、その後、第二の電極と対
   向する電極間に電圧を印加した状態で、液晶の等方相−
   液晶層転移温度以上の温度から等方相−液晶層転移温度
   以下の温度まで、冷却することを特徴とする液晶表示装
   置の製造方法。
8. 【請求項８】 請求項１及び３〜６のいずれか１項に記
   載の液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方
   の基板上に、開口部を有する電極があり、開口部の位置
   に液晶の初期配向を制御するための第二の電極が設けら
   れ、少なくとも一方の基板に液晶の配向方向を分割する
   操作を施した空パネルに液晶を注入し、その後、第二の
   電極と対向する電極間に電圧を印加した状態で、液晶の
   等方相−液晶層転移温度以上の温度から等方相−液晶層
   転移温度以下の温度まで、冷却することを特徴とする液
   晶表示装置の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項２〜６のいずれか１項に記載の液
   晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方の基板
   の電極上に、この電極と絶縁された液晶の初期配向を制
   御するための第二の電極が設けられた空パネルに液晶を
   注入し、その後、第二の電極と対向する電極間に電圧を
   印加した状態で、液晶の等方相−液晶層転移温度以上の
   温度から等方相−液晶層転移温度以下の温度まで、冷却
   することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項２〜６のいずれか１項に記載の
    液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方の基
    板の電極上に、この電極と絶縁された液晶の初期配向を
    制御するための第二の電極が設けられ、少なくとも一方
    の基板に液晶の配向方向を分割する操作を施した空パネ
    ルに液晶を注入し、その後、第二の電極と対向する電極
    間に電圧を印加した状態で、液晶の等方相−液晶層転移
    温度以上の温度から等方相−液晶層転移温度以下の温度
    まで、冷却することを特徴とする液晶表示装置の製造方
    法。
11. 【請求項１１】 液晶が高分子有機化合物を含むことを
    特徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載の液晶
    表示装置の製造方法。
12. 【請求項１２】 液晶がモノマーまたはオリゴマーを含
    み、液晶を基板間に注入した後に、モノマー、オリゴマ
    ーを液晶中で高分子化することを特徴とする請求項７〜
    １０のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
13. 【請求項１３】 請求項１及び３〜６のいずれか１項に
    記載の液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一
    方の基板上に、開口部を有する電極があり、開口部の位
    置に液晶の初期配向を制御するための第二の電極が設け
    られた空パネルにモノマーまたはオリゴマーを含む液晶
    を注入し、その後、第二の電極と対向する電極間に電圧
    を印加した状態で、光を照射し、モノマーまたはオリゴ
    マーを高分子化することを特徴とする液晶表示装置の製
    造方法。
14. 【請求項１４】 請求項１及び３〜６のいずれか１項に
    記載の液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一
    方の基板上に、開口部を有する電極があり、開口部の位
    置に液晶の初期配向を制御するための第二の電極が設け
    られ、少なくとも一方の基板に液晶の配向方向を分割す
    る操作を施した空パネルにモノマーまたはオリゴマーを
    含む液晶を注入し、その後、第二の電極と対向する電極
    間に電圧を印加した状態で、光を照射し、モノマーまた
    はオリゴマーを高分子化することを特徴とする液晶表示
    装置の製造方法。
15. 【請求項１５】 請求項１及び３〜６のいずれか１項に
    記載の液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一
    方の基板上に、開口部を有する電極があり、開口部の位
    置に液晶の初期配向を制御するための第二の電極が設け
    られた空パネルに、モノマーまたはオリゴマーを含む液
    晶を注入した後、等方相まで加熱し、第二の電極と対向
    する電極間に電圧を印加した状態で、液晶の等方相−液
    晶層転移温度以上の温度から等方相−液晶層転移温度以
    下の温度まで、冷却し、光を照射し、モノマーまたはオ
    リゴマーを高分子化することを特徴とする液晶表示装置
    の製造方法。
16. 【請求項１６】 請求項１及び請求項３〜６のいずれか
    １項に記載の液晶表示装置の製造方法であって、少なく
    とも一方の基板上に、開口部を有する電極があり、開口
    部の位置に液晶の初期配向を制御するための第二の電極
    が設けられ、少なくとも一方の基板に液晶の配向方向を
    分割する操作を施した空パネルに、モノマーまたはオリ
    ゴマーを含む液晶を注入した後、等方相まで加熱し、第
    二の電極と対向する電極間に電圧を印加した状態で、液
    晶の等方相−液晶層転移温度以上の温度から等方相−液
    晶層転移温度以下の温度まで、冷却し、光を照射し、モ
    ノマーまたはオリゴマーを高分子化することを特徴とす
    る液晶表示装置の製造方法。
17. 【請求項１７】 請求項２〜６のいずれか１項に記載の
    液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方の基
    板の電極上に、この電極と絶縁された液晶の初期配向を
    制御するための第二の電極が設けられた空パネルにモノ
    マーまたはオリゴマーを含む液晶を注入し、その後、第
    二の電極と対向する電極間に電圧を印加した状態で、光
    を照射し、モノマーまたはオリゴマーを高分子化するこ
    とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
18. 【請求項１８】 請求項２〜６のいずれか１項に記載の
    液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方の基
    板の電極上に、この電極と絶縁された液晶の初期配向を
    制御するための第二の電極が設けられ、少なくとも一方
    の基板に液晶の配向方向を分割する操作を施した空パネ
    ルにモノマーまたはオリゴマーを含む液晶を注入し、そ
    の後、第二の電極と対向する電極間に電圧を印加した状
    態で、光を照射し、モノマーまたはオリゴマーを高分子
    化することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
19. 【請求項１９】 請求項２〜６のいずれか１項に記載の
    液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方の基
    板の電極上に、この電極と絶縁された液晶の初期配向を
    制御するための第二の電極が設けられた空パネルにモノ
    マーまたはオリゴマーを含む液晶を注入した後、等方相
    まで加熱し、第二の電極と対向する電極間に電圧を印加
    した状態で、光を照射し、モノマーまたはオリゴマーを
    高分子化することを特徴とする液晶表示装置の製造方
    法。
20. 【請求項２０】 請求項２〜６のいずれか１項に記載の
    液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方の基
    板の電極上に、この電極と絶縁された液晶の初期配向を
    制御するための第二の電極が設けられ、少なくとも一方
    の基板に液晶の配向方向を分割する操作を施した空パネ
    ルにモノマーまたはオリゴマーを含む液晶を注入した
    後、等方相まで加熱し、第二の電極と対向する電極間に
    電圧を印加した状態で、光を照射し、モノマーまたはオ
    リゴマーを高分子化することを特徴とする液晶表示装置
    の製造方法。
21. 【請求項２１】 液晶の配向方向を分割する操作が、異
    なる方向のラビングであることを特徴とする請求項８、
    １０、１４、１６、１８または２０に記載の液晶表示装
    置の製造方法。
22. 【請求項２２】 液晶の配向方向を分割する操作が、光
    照射であることを特徴とする請求項８、１０、１４、１
    ６、１８または２０に記載の液晶表示装置の製造方法。
23. 【請求項２３】 少なくとも一方の基板上に開口部を有
    する電極があり、開口部の位置に第二の電極が設けられ
    た、請求項１及び３〜６のいずれか１項に記載の液晶表
    示装置の駆動方法であって、開口部を有する電極と対向
    する電極間に印加される電圧以上の電圧を、第二の電極
    と対向する電極間に印加することを特徴とする液晶表示
    装置の駆動方法。
24. 【請求項２４】 少なくとも一方の基板上に、この電極
    と絶縁された液晶の初期配向を制御するための第二の電
    極が設けられた、請求項２〜６のいずれか１項に記載の
    液晶表示装置の駆動方法であって、第二の電極を有する
    電極と対向する電極間に印加される電圧以上の電圧を、
    前記第二の電極と対向する電極間に印加することを特徴
    とする液晶表示装置の駆動方法。