JP2962831B2 - 圧力測定センサに用いられるプロセス接続フランジ - Google Patents
圧力測定センサに用いられるプロセス接続フランジInfo
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- JP2962831B2 JP2962831B2 JP6507686A JP50768694A JP2962831B2 JP 2962831 B2 JP2962831 B2 JP 2962831B2 JP 6507686 A JP6507686 A JP 6507686A JP 50768694 A JP50768694 A JP 50768694A JP 2962831 B2 JP2962831 B2 JP 2962831B2
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- G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
- G01L19/00—Details of, or accessories for, apparatus for measuring steady or quasi-steady pressure of a fluent medium insofar as such details or accessories are not special to particular types of pressure gauges
- G01L19/06—Means for preventing overload or deleterious influence of the measured medium on the measuring device or vice versa
- G01L19/0627—Protection against aggressive medium in general
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- G01L19/0007—Fluidic connecting means
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、測定ダイヤフラムを備えたセラミックス製
の測定セルを有する圧力測定センサに用いられるプロセ
ス接続フランジであって、 （イ）解離可能な結合部が設けられており、該結合部に
よって、金属製のプロセス接続フランジが圧力測定セン
サに形状接続的に結合されており、 （ロ）非金属製のプロセス接続ピンが設けられており、
該プロセス接続ピンがプロセス接続フランジを貫通して
おり、 （ハ）接続手段が設けられており、該接続手段を介し
て、圧力測定センサが、圧力を測定しようとする測定媒
体に空間的に接触している形式のものに関する。
の測定セルを有する圧力測定センサに用いられるプロセ
ス接続フランジであって、 （イ）解離可能な結合部が設けられており、該結合部に
よって、金属製のプロセス接続フランジが圧力測定セン
サに形状接続的に結合されており、 （ロ）非金属製のプロセス接続ピンが設けられており、
該プロセス接続ピンがプロセス接続フランジを貫通して
おり、 （ハ）接続手段が設けられており、該接続手段を介し
て、圧力測定センサが、圧力を測定しようとする測定媒
体に空間的に接触している形式のものに関する。
プロセス接続フランジに空間的かつ形状接続的に接続
されたこのような圧力測定センサは、差圧、正圧および
負圧を測定したり、気体、蒸気および液体の貫流を測定
したり、容器の充填状態をハイドロスタティック式に測
定するために役立つ。
されたこのような圧力測定センサは、差圧、正圧および
負圧を測定したり、気体、蒸気および液体の貫流を測定
したり、容器の充填状態をハイドロスタティック式に測
定するために役立つ。
公知技術によれば、例えば出願人の文献［「Mess−um
former fuer Differenzdruck,Deltabar PMD 130」,1991
年１月］の、特に第６頁の図面「Aufbau des Mess−umf
ormers」に示したように、この種の測定変換器は、測定
セルケーシングの内室に配置された、セラミックスの本
来の測定セルと、環状の測定セルケーシングと、互いに
鏡像的に配置された同形の２つのプロセス接続フランジ
とから成っている。これらのプロセス接続フランジは互
いの間で、解離可能なねじ結合部によって形状接続的か
つ密に、測定セルを測定セルケーシングと共に緊定して
いる。この測定セルは、電気的な接続線路を介して電子
回路に接続されている。この電子回路は、ケーシングに
よって取り囲まれている。さらに、電子装置ケーシング
は、中央エネルギ供給装置及び又は中央情報処理装置に
測定値センサを電気的に接続するための接続手段を有し
ている。しかしこの電子装置ケーシングは、圧力を直接
表示するための表示装置を備えることもできる。
former fuer Differenzdruck,Deltabar PMD 130」,1991
年１月］の、特に第６頁の図面「Aufbau des Mess−umf
ormers」に示したように、この種の測定変換器は、測定
セルケーシングの内室に配置された、セラミックスの本
来の測定セルと、環状の測定セルケーシングと、互いに
鏡像的に配置された同形の２つのプロセス接続フランジ
とから成っている。これらのプロセス接続フランジは互
いの間で、解離可能なねじ結合部によって形状接続的か
つ密に、測定セルを測定セルケーシングと共に緊定して
いる。この測定セルは、電気的な接続線路を介して電子
回路に接続されている。この電子回路は、ケーシングに
よって取り囲まれている。さらに、電子装置ケーシング
は、中央エネルギ供給装置及び又は中央情報処理装置に
測定値センサを電気的に接続するための接続手段を有し
ている。しかしこの電子装置ケーシングは、圧力を直接
表示するための表示装置を備えることもできる。
測定媒体に測定セルを空間的に接触させるために、各
孔が両プロセス接続フランジを貫通している。これらの
孔には導管が接続可能である。これらの導管を介して測
定室、ひいては測定媒体が圧力測定センサに空間的に接
触する。
孔が両プロセス接続フランジを貫通している。これらの
孔には導管が接続可能である。これらの導管を介して測
定室、ひいては測定媒体が圧力測定センサに空間的に接
触する。
極めて多くの場合、測定値センサの測定課題は、攻撃
性または腐食性の媒体を、気体状および液状で圧力測定
することにある。このような課題に対しては、プロセス
接続フランジを、測定媒体の攻撃性または腐食性に対し
て耐性の材料から製造することが必要とされ、かつこの
ような製造が通常行なわれる。しかし、セラミックスの
測定セルとプロセス接続フランジとの間もしくは測定セ
ルケーシングとプロセス接続フランジとの間に緊定され
た環状のシール部材も、やはり測定媒体に対して耐性の
材料から成っていなければならない。高度に合金された
ステンレス鋼、例えば X6 CrNiMoTi 17122 1.4571
または高度に耐腐食性のNi,Co,Cr,Mo,Fe−合金から成る
プロセス接続フランジが特にこれに適している。
性または腐食性の媒体を、気体状および液状で圧力測定
することにある。このような課題に対しては、プロセス
接続フランジを、測定媒体の攻撃性または腐食性に対し
て耐性の材料から製造することが必要とされ、かつこの
ような製造が通常行なわれる。しかし、セラミックスの
測定セルとプロセス接続フランジとの間もしくは測定セ
ルケーシングとプロセス接続フランジとの間に緊定され
た環状のシール部材も、やはり測定媒体に対して耐性の
材料から成っていなければならない。高度に合金された
ステンレス鋼、例えば X6 CrNiMoTi 17122 1.4571
または高度に耐腐食性のNi,Co,Cr,Mo,Fe−合金から成る
プロセス接続フランジが特にこれに適している。
しかしながら、例えば化学設備におけるような特に困
難な条件下で圧力測定装置を使用する場合には、その攻
撃性及び又は腐食性が、通常使用されているフランジ材
料の耐性をはるかに上回るような媒体を測定しなければ
ならない必要性が生じる。このような媒体は、例えば塩
化銅または塩化ナトリウム、塩酸と硝酸との混合物、ま
たは加熱された状態における硫酸であり得る。攻撃性ま
たは腐食性に対して非耐性の材料が測定媒体に接触する
ことを回避するために、プロセス接続フランジを金属材
料から製造する代わりに、大抵の酸または塩基に対して
耐性のあるポリマーのプラスチックから製造されること
が既に提案されている。
難な条件下で圧力測定装置を使用する場合には、その攻
撃性及び又は腐食性が、通常使用されているフランジ材
料の耐性をはるかに上回るような媒体を測定しなければ
ならない必要性が生じる。このような媒体は、例えば塩
化銅または塩化ナトリウム、塩酸と硝酸との混合物、ま
たは加熱された状態における硫酸であり得る。攻撃性ま
たは腐食性に対して非耐性の材料が測定媒体に接触する
ことを回避するために、プロセス接続フランジを金属材
料から製造する代わりに、大抵の酸または塩基に対して
耐性のあるポリマーのプラスチックから製造されること
が既に提案されている。
しかし、このような化学設備におけるプロセス経過に
関連した、測定媒体の著しい加熱は次のような欠点をも
たらす。すなわち、このようなプラスチックのフランジ
は、測定媒体に対して耐性を有してはいるが、しかし、
高温によってその安定性を損なう。このことは、プロセ
ス接続フランジと測定セルケーシングとの形状接続的な
結合部における非シール性、ひいては、測定媒体の危険
な流出を生ぜしめることがある。
関連した、測定媒体の著しい加熱は次のような欠点をも
たらす。すなわち、このようなプラスチックのフランジ
は、測定媒体に対して耐性を有してはいるが、しかし、
高温によってその安定性を損なう。このことは、プロセ
ス接続フランジと測定セルケーシングとの形状接続的な
結合部における非シール性、ひいては、測定媒体の危険
な流出を生ぜしめることがある。
これに対して本発明の課題は、冒頭で述べた形式のプ
ロセス接続フランジを改良して、圧力測定セルのセラミ
ックス材料の他には、攻撃性及び又は腐食性の測定媒体
に対して耐性のプラスチックから成る部分のみが、これ
らの測定媒体に接触可能であり、この場合、高温が生じ
るにもかかわらず、圧力測定センサの圧力シール性を保
証する、プラスチック部分の形状安定性が付与されてい
るような、プロセス接続フランジを提供することであ
る。
ロセス接続フランジを改良して、圧力測定セルのセラミ
ックス材料の他には、攻撃性及び又は腐食性の測定媒体
に対して耐性のプラスチックから成る部分のみが、これ
らの測定媒体に接触可能であり、この場合、高温が生じ
るにもかかわらず、圧力測定センサの圧力シール性を保
証する、プラスチック部分の形状安定性が付与されてい
るような、プロセス接続フランジを提供することであ
る。
この課題は請求項１に記載された特徴により解決され
る。本発明の別の特徴は請求項２以下に記載されてい
る。
る。本発明の別の特徴は請求項２以下に記載されてい
る。
第１図は、本発明によるプロセス接続フランジが使用
されている圧力測定センサを示した図である。
されている圧力測定センサを示した図である。
第２図は、プロセス接続フランジの断面図である。
第３図は、プロセス接続ピンの断面図である。
第１図には、符号１で圧力測定センサが示されてい
る。この圧力測定センサは例えば差圧センサであるのが
望ましいが、しかし、本発明によるプロセス接続フラン
ジの使用がこの差圧測定センサに限定されるわけではな
い。差圧を測定するためには、圧力を測定するための測
定セルを両圧力で負荷することが必要となる。従って、
この差圧測定センサは、互いに向き合う２つのプロセス
接続フランジを有している。これらの両プロセス接続フ
ランジは、互いに鏡像的に構成されかつ配置されてい
る。しかしながら、より判りやすくするために、以下に
は差圧センサとして形成された圧力測定センサ１の一方
の側についてのみ説明する。
る。この圧力測定センサは例えば差圧センサであるのが
望ましいが、しかし、本発明によるプロセス接続フラン
ジの使用がこの差圧測定センサに限定されるわけではな
い。差圧を測定するためには、圧力を測定するための測
定セルを両圧力で負荷することが必要となる。従って、
この差圧測定センサは、互いに向き合う２つのプロセス
接続フランジを有している。これらの両プロセス接続フ
ランジは、互いに鏡像的に構成されかつ配置されてい
る。しかしながら、より判りやすくするために、以下に
は差圧センサとして形成された圧力測定センサ１の一方
の側についてのみ説明する。
圧力測定センサ１は、セラミックスの測定セル２と、
この測定セル２を取り囲む測定セルケーシング３と、プ
ロセス接続フランジ4,5と、プロセス接続ピン6,7と、電
子装置ケーシング８とから構成されている。解離可能な
ねじ・ナット結合部10,11によって、両プロセス接続フ
ランジ4,5が互いに緊定されているので、両プロセス接
続フランジは、これらが互いの間で測定セルケーシング
３を緊定するような位置を成している。これらの両プロ
セス接続フランジ4,5は、環状シール部材12,13の介在下
で、測定セルケーシング３にもセラミックスの測定セル
２にも支持されている。解離可能なねじ・ナット結合部
10,11を形成するために、ねじのピンがプロセス接続フ
ランジ4,5を貫通している。
この測定セル２を取り囲む測定セルケーシング３と、プ
ロセス接続フランジ4,5と、プロセス接続ピン6,7と、電
子装置ケーシング８とから構成されている。解離可能な
ねじ・ナット結合部10,11によって、両プロセス接続フ
ランジ4,5が互いに緊定されているので、両プロセス接
続フランジは、これらが互いの間で測定セルケーシング
３を緊定するような位置を成している。これらの両プロ
セス接続フランジ4,5は、環状シール部材12,13の介在下
で、測定セルケーシング３にもセラミックスの測定セル
２にも支持されている。解離可能なねじ・ナット結合部
10,11を形成するために、ねじのピンがプロセス接続フ
ランジ4,5を貫通している。
円筒形の中間部材31は、測定セルケーシング３と電子
装置ケーシング８との空間的な接続を形成している。中
間部材31の内部には電気的な線路（図示せず）が配置さ
れている。これらの線路を介して測定セル２が、電子装
置ケーシング８の内部に位置する電子回路に電気的に接
続されている。
装置ケーシング８との空間的な接続を形成している。中
間部材31の内部には電気的な線路（図示せず）が配置さ
れている。これらの線路を介して測定セル２が、電子装
置ケーシング８の内部に位置する電子回路に電気的に接
続されている。
電子装置ケーシング８の、中間部材31に向いた側で
は、６角体81が一体成形されている。この６角体81はト
ルクの導入に役立つ。このトルクによって電子装置ケー
シング８は、ねじ山（図示せず）を介して測定セルケー
シング３の中間部材31のねじ山に螺合している。この電
子装置ケーシング８は、電気的な回路の他に電気的な接
続エレメントをも取り囲んでいる。これらの接続エレメ
ントを介して、圧力測定センサは中央エネルギ供給装置
及び又は中央情報処理装置に電気的に接続されている。
さらにこの電子装置ケーシング８は、電気的な表示装置
を備えていてよい。この表示装置は電気的な測定値を表
示する。この測定値は測定媒体の、測定セルから検出さ
れた圧力に相当する。ねじ山付き孔15を備えたフランジ
状の面14は、圧力測定センサ１を測定位置に固定するた
めに規定されている。
は、６角体81が一体成形されている。この６角体81はト
ルクの導入に役立つ。このトルクによって電子装置ケー
シング８は、ねじ山（図示せず）を介して測定セルケー
シング３の中間部材31のねじ山に螺合している。この電
子装置ケーシング８は、電気的な回路の他に電気的な接
続エレメントをも取り囲んでいる。これらの接続エレメ
ントを介して、圧力測定センサは中央エネルギ供給装置
及び又は中央情報処理装置に電気的に接続されている。
さらにこの電子装置ケーシング８は、電気的な表示装置
を備えていてよい。この表示装置は電気的な測定値を表
示する。この測定値は測定媒体の、測定セルから検出さ
れた圧力に相当する。ねじ山付き孔15を備えたフランジ
状の面14は、圧力測定センサ１を測定位置に固定するた
めに規定されている。
測定値を検出するためには、測定セル２が、内部に測
定媒体を有する測定室に空間的に接続され、ひいてはこ
の測定媒体自体にも空間的に接触していることが必要と
なる。このような空間的な接触は、接続導管（図示せ
ず）を介して形成されている。この接続導管の一方の端
部は、測定室を取り囲む壁に接続されており、他方の端
部はプロセス接続フランジ４に接続されている。接続導
管と測定セル２とを空間的に接続するために、孔61がプ
ロセス接続フランジ４を貫通している。この孔61は円筒
形の短い中空室62（第３図）に開口している。この中空
室は、測定媒体の圧力を測定ダイヤフラム21の円形の面
に均一に分配するために役立つ。プロセス接続フランジ
４に接続導管を接続するために、孔61には雌ねじ山63が
取り付けられている。
定媒体を有する測定室に空間的に接続され、ひいてはこ
の測定媒体自体にも空間的に接触していることが必要と
なる。このような空間的な接触は、接続導管（図示せ
ず）を介して形成されている。この接続導管の一方の端
部は、測定室を取り囲む壁に接続されており、他方の端
部はプロセス接続フランジ４に接続されている。接続導
管と測定セル２とを空間的に接続するために、孔61がプ
ロセス接続フランジ４を貫通している。この孔61は円筒
形の短い中空室62（第３図）に開口している。この中空
室は、測定媒体の圧力を測定ダイヤフラム21の円形の面
に均一に分配するために役立つ。プロセス接続フランジ
４に接続導管を接続するために、孔61には雌ねじ山63が
取り付けられている。
攻撃性または腐食性の媒体の圧力を測定可能にするた
めには、測定媒体に対して耐性を有する材料のみをこの
測定媒体に接触させることが必要となる。セラミックス
の測定セルはこのような特性を有している。このことは
適当な材料の選択に際して、接続導管に対しても言え
る。しかしながら、金属のプロセス接続フランジは、媒
体が極端に攻撃性かつ腐食性の場合には、極めて多くの
場合使用することができない。従って、非金属材料、例
えばポリマーのプラスチックを採用せざるを得ない。し
かしこの種のプラスチックは次のような欠点を有してい
る。すなわち、この種のプラスチックの形状安定性は、
加熱が増大するにつれて著しく減少するので、測定セル
２と測定セルケーシング３の内室との間のシールおよ
び、測定セルケーシング３と環境周囲との間のシール
は、環状のシール部材12,13の介在によっても、もはや
保証されない。このような欠点を除去するために、プロ
セス接続ピン６が設けられている。このプロセス接続ピ
ンは、プロセス接続フランジ４を貫通して、測定ダイヤ
フラム21の他にはこのプロセス接続ピン６のみが測定媒
体に接触できるようになっている。この場合、金属のフ
ランジによって与えられた、プロセス接続フランジ４の
耐熱的な安定性を放棄せずにすむ。
めには、測定媒体に対して耐性を有する材料のみをこの
測定媒体に接触させることが必要となる。セラミックス
の測定セルはこのような特性を有している。このことは
適当な材料の選択に際して、接続導管に対しても言え
る。しかしながら、金属のプロセス接続フランジは、媒
体が極端に攻撃性かつ腐食性の場合には、極めて多くの
場合使用することができない。従って、非金属材料、例
えばポリマーのプラスチックを採用せざるを得ない。し
かしこの種のプラスチックは次のような欠点を有してい
る。すなわち、この種のプラスチックの形状安定性は、
加熱が増大するにつれて著しく減少するので、測定セル
２と測定セルケーシング３の内室との間のシールおよ
び、測定セルケーシング３と環境周囲との間のシール
は、環状のシール部材12,13の介在によっても、もはや
保証されない。このような欠点を除去するために、プロ
セス接続ピン６が設けられている。このプロセス接続ピ
ンは、プロセス接続フランジ４を貫通して、測定ダイヤ
フラム21の他にはこのプロセス接続ピン６のみが測定媒
体に接触できるようになっている。この場合、金属のフ
ランジによって与えられた、プロセス接続フランジ４の
耐熱的な安定性を放棄せずにすむ。
第２図から判るように、孔41はプロセス接続フランジ
４を、その対称軸線に対して同軸的に貫通している。こ
のプロセス接続フランジ４は従来と同様に、形状安定性
のある金属材料から製造されている。この孔41の周面
は、雌ねじ山42を備えている。測定セル２に向いた側
で、この孔41は、より大きな直径の円筒形の区分43に開
口している。この区分43は周面47を有している。孔41の
直径と円筒形の区分43の直径とが異なっていることによ
り、円筒形の区分43の底部には、半径方向に延びる環状
のショルダ44が形成されている。さらに、プロセス接続
フランジ４の前記測定セル２に向いた端面には、横断面
方形の溝45が一体成形されている。この溝45は孔41を同
軸的に取り囲んでいる。この場合、この溝45の対称軸線
は、孔41の対称軸線、ひいてはプロセス接続フランジ４
の対称軸線と合致している。溝45の底部は、別の溝46に
よって貫通されている。組み付けられた状態において、
測定セルケーシング３のケーシング壁は、溝45の底部に
支持され、さらに、溝46に配置された環状のシール部材
12に圧着される。
４を、その対称軸線に対して同軸的に貫通している。こ
のプロセス接続フランジ４は従来と同様に、形状安定性
のある金属材料から製造されている。この孔41の周面
は、雌ねじ山42を備えている。測定セル２に向いた側
で、この孔41は、より大きな直径の円筒形の区分43に開
口している。この区分43は周面47を有している。孔41の
直径と円筒形の区分43の直径とが異なっていることによ
り、円筒形の区分43の底部には、半径方向に延びる環状
のショルダ44が形成されている。さらに、プロセス接続
フランジ４の前記測定セル２に向いた端面には、横断面
方形の溝45が一体成形されている。この溝45は孔41を同
軸的に取り囲んでいる。この場合、この溝45の対称軸線
は、孔41の対称軸線、ひいてはプロセス接続フランジ４
の対称軸線と合致している。溝45の底部は、別の溝46に
よって貫通されている。組み付けられた状態において、
測定セルケーシング３のケーシング壁は、溝45の底部に
支持され、さらに、溝46に配置された環状のシール部材
12に圧着される。
第３図は、ポリマーのプラスチック、有利にはポリふ
っ化ビニリデン（PVDF）から製造されたプロセス接続ピ
ン６の断面を示している。このプロセス接続ピン６は、
小さめの直径を有する長めの区分64と、大きめの直径を
有する短めの区分65とから構成されている。この区分64
の周面は雄ねじ山66を備えている。プロセス接続フラン
ジ４の孔41の場合と同様に、プロセス接続ピン６にも、
両区分64,65の異なる直径により、環状のショルダ67が
形成されている。このショルダは半径方向に延びて、区
分64を直角に取り囲んでいる。さらに、測定セル２に向
いた端面には、溝68が孔61の対称軸線に対して、ひいて
はプロセス接続ピン６の対称軸線に対して同軸的に円筒
形の中空室62を取り囲んでいる。組み付けられた状態に
おいて、測定セル２の測定ダイヤフラム21の外側の環状
の面が、プロセス接続ピン６の、中空室62によって貫通
されていない環状のシール面69に支持されて、溝68に配
置された環状のシール部材13に圧着されている。
っ化ビニリデン（PVDF）から製造されたプロセス接続ピ
ン６の断面を示している。このプロセス接続ピン６は、
小さめの直径を有する長めの区分64と、大きめの直径を
有する短めの区分65とから構成されている。この区分64
の周面は雄ねじ山66を備えている。プロセス接続フラン
ジ４の孔41の場合と同様に、プロセス接続ピン６にも、
両区分64,65の異なる直径により、環状のショルダ67が
形成されている。このショルダは半径方向に延びて、区
分64を直角に取り囲んでいる。さらに、測定セル２に向
いた端面には、溝68が孔61の対称軸線に対して、ひいて
はプロセス接続ピン６の対称軸線に対して同軸的に円筒
形の中空室62を取り囲んでいる。組み付けられた状態に
おいて、測定セル２の測定ダイヤフラム21の外側の環状
の面が、プロセス接続ピン６の、中空室62によって貫通
されていない環状のシール面69に支持されて、溝68に配
置された環状のシール部材13に圧着されている。
攻撃性または腐食性の媒体が金属のプロセス接続フラ
ンジ４に接触することを回避するために、プロセス接続
ピン６の雄ねじ山66はプロセス接続ピン４の雌ねじ山42
に螺合して、区分64が孔41を貫通し、ショルダ67がショ
ルダ44に支持されるようになっている。プロセス接続ピ
ン６の区分65の一部は、プロセス接続フランジ４の円筒
形の区分43を貫通している。従って、ショルダ44は全て
の軸方向の力を吸収し、区分43の周面47は全ての半径方
向の力を吸収する。これらの力は、プロセス接続ピン６
のポリマー材料の、熱に起因する変形によって生じる。
ンジ４に接触することを回避するために、プロセス接続
ピン６の雄ねじ山66はプロセス接続ピン４の雌ねじ山42
に螺合して、区分64が孔41を貫通し、ショルダ67がショ
ルダ44に支持されるようになっている。プロセス接続ピ
ン６の区分65の一部は、プロセス接続フランジ４の円筒
形の区分43を貫通している。従って、ショルダ44は全て
の軸方向の力を吸収し、区分43の周面47は全ての半径方
向の力を吸収する。これらの力は、プロセス接続ピン６
のポリマー材料の、熱に起因する変形によって生じる。
プロセス接続ピン６に接続導管が接続されており、ひ
いては、測定セル２が孔61を介して接続導管に空間的に
接続されており、さらに、シール面69と測定ダイヤフラ
ム21の環状面とシール部材13とにより、測定セルケーシ
ング３の内室に対して測定セル２がシールされているこ
とによって、測定媒体が、測定セル２のセラミックス材
料とプロセス接続ピン６のポリマーのプラスチック材料
との他に、別の材料とは接触しないことが保証される。
プロセス接続ピン６は、金属のプロセス接続フランジ４
によって支持されかつ保持されているので、測定媒体ま
たはプロセス温度が高くなっても、シール面のシール性
が保証される。
いては、測定セル２が孔61を介して接続導管に空間的に
接続されており、さらに、シール面69と測定ダイヤフラ
ム21の環状面とシール部材13とにより、測定セルケーシ
ング３の内室に対して測定セル２がシールされているこ
とによって、測定媒体が、測定セル２のセラミックス材
料とプロセス接続ピン６のポリマーのプラスチック材料
との他に、別の材料とは接触しないことが保証される。
プロセス接続ピン６は、金属のプロセス接続フランジ４
によって支持されかつ保持されているので、測定媒体ま
たはプロセス温度が高くなっても、シール面のシール性
が保証される。
もちろん、雌ねじ山63を介してプロセス接続ピン６に
接続導管を接続する代わりに、別の適当な接続形式を実
現することもできる。
接続導管を接続する代わりに、別の適当な接続形式を実
現することもできる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マイアー，ヴィンフリート ドイツ連邦共和国 Ｄ―79689 マオル ブルク ザンクト クララシュトラーセ ６ (56)参考文献 特開 昭55−164088（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−67141（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−190731（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−161328（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−210446（ＪＰ，Ａ) 国際公開81／3678（ＷＯ，Ａ１) ＮＴＩＳ ＴＥＣＨ ＮＯＴＥＳ （1987−11）Ｐ1144
Claims (5)
- 【請求項１】測定ダイヤフラムを備えたセラミックス製
の測定セルを有する圧力測定センサに用いられるプロセ
ス接続フランジであって、 （イ）解離可能な結合部が設けられており、該結合部に
よって、金属製のプロセス接続フランジが圧力測定セン
サに形状接続的に結合されており、 （ロ）非金属製のプロセス接続ピンが設けられており、
該プロセス接続ピンがプロセス接続フランジを貫通して
おり、 （ハ）接続手段が設けられており、該接続手段を介し
て、圧力測定センサが、圧力を測定しようとする測定媒
体に空間的に接触している形式のものにおいて、 （ニ）プロセス接続ピン（６）が測定媒体に対して耐性
を有するプラスチックから成っていて、接続手段として
の孔（61）を備えており、該孔を介して測定媒体が、測
定セル（２）とプロセス接続ピン（６）とにだけ接触す
るようになっており、孔（61）が、プロセス接続ピン
（６）に設けられた円筒状の中空室（62）に開口してお
り、 （ホ）プロセス接続ピン（６）が、軸方向ではプロセス
接続フランジ（４）のショルダ（44）に支持されてお
り、半径方向ではプロセス接続フランジ（４）の周面
（47）に支持されており、 （ヘ）プロセス接続ピン（６）が測定セル（２）の測定
ダイヤフラム（21）に密に接触しており、中空室（62）
が測定セル（２）の測定ダイヤフラム（21）とプロセス
接続ピン（６）とによって完全に閉鎖されていることを
特徴とする、圧力測定センサに用いられるプロセス接続
フランジ。 - 【請求項２】プロセス接続フランジ（４）の雌ねじ山
（42）とプロセス接続ピン（６）の雄ねじ山（66）とか
ら、ねじ結合部が形成されており、該ねじ結合部を通し
て、プロセス接続ピン（６）がプロセス接続フランジ
（４）に挿入されかつ保持されている、請求項１記載の
プロセス接続フランジ。 - 【請求項３】プロセス接続ピン（６）が、ポリふっ化ビ
ニリデン（PVDF）から製造されている、請求項１記載の
プロセス接続フランジ。 - 【請求項４】円筒状の中空室（62）が、測定セルケーシ
ング（３）の内部に対してシールされており、該測定セ
ルケーシング（３）が、環境周囲に対してシールされて
いる、請求項１記載のプロセス接続フランジ。 - 【請求項５】プロセス接続フランジ（４）に設けられた
溝（45）の底部が、環状のシール部材（12）の介在下
で、測定セルケーシング（３）の環状面に密に支持され
ており、プロセス接続ピン（６）のシール面（69）が、
環状のシール部材（13）の介在下で、測定セル（２）の
ダイヤフラム（21）の環状のシール面に密に支持されて
いる、請求項４記載のプロセス接続フランジ。
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-
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