JP2955442B2 - セラミックス回路基板の製造方法 - Google Patents

セラミックス回路基板の製造方法

Info

Publication number
JP2955442B2
JP2955442B2 JP5146927A JP14692793A JP2955442B2 JP 2955442 B2 JP2955442 B2 JP 2955442B2 JP 5146927 A JP5146927 A JP 5146927A JP 14692793 A JP14692793 A JP 14692793A JP 2955442 B2 JP2955442 B2 JP 2955442B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green sheet
ceramic
manufacturing
unsintered
circuit board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP5146927A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06329476A (ja
Inventor
英明 荒木
順三 福田
昌志 深谷
俊博 中居
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=15418725&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2955442(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc filed Critical Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Priority to JP5146927A priority Critical patent/JP2955442B2/ja
Publication of JPH06329476A publication Critical patent/JPH06329476A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2955442B2 publication Critical patent/JP2955442B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,回路を形成するための
セラミックス基板を製造するセラミックス基板の製造方
法に関する。
【0002】
【従来技術】セラミックス基板は,機械的強度,絶縁抵
抗が強く,温度,湿度等の環境にも強いセラミックス特
有の優れた性質を有する。この性質を利用して,従来よ
り,セラミックス基板は,導体,誘電体等よりなる回路
を形成するための基板として用いられている。上記セラ
ミックス基板を製造する方法としては,まず,セラミッ
クス材料にバインダー,可塑剤,溶剤等を加えて混練
し,これをドクターブレード法によりシート状に成形
し,セラミックスグリーンシートを得る。次に,該セラ
ミックスグリーンシートの表面に,上記回路を形成す
る。次いで,上記セラミックスグリーンシートを,他の
セラミックスグリーンシートと共に積層し,焼成して,
セラミックス基板を得る。
【0003】
【解決しようとする課題】しかしながら,上記製造方法
によれば,得られたセラミックス基板に反りが発生す
る。この反りの原因は,セラミックス材料と,回路の材
料である導体又は誘電体との焼成収縮カーブとしては大
きく異なるため,セラミックス基板と回路との収縮速度
に差が生じ,反りが発生すると考えられる。
【0004】この反りを防止する方法としては,セラミ
ックスグリーンシートを焼成する際に,その上におもし
を載置することが考えられる。しかし,この場合には,
セラミックス基板のガラス成分がおもしに付着するとい
う問題が生じる。また,他の防止対策としては,セラミ
ックスグリーンシートと,おもしの間に目砂を敷く方法
がある。しかし,この方法においても,目砂を均一な厚
みに敷くことが困難であること,一部の目砂がセラミッ
クスグリーンシートの中に入り込み,表面状態を悪化さ
せるという問題がある。そこで,本発明はかかる従来の
問題点に鑑み,反りの発生を抑制することができるセラ
ミックス基板の製造方法を提供しようとするものであ
る。
【0005】
【課題の解決手段】本発明は,表層又は/及び内層に,
少なくとも誘電体,導体又は抵抗体のいずれか1種以上
を有するセラミック回路基板を製造する方法において,
表層又は/及び内層に,少なくとも誘電体,導体又は抵
抗体のいずれか1種以上を形成した1000℃以下の低
温で焼結する低温焼結基板材料からなるセラミックスグ
リーンシートと,該セラミックスグリーンシートの焼結
温度では焼結しない未焼結グリーンシートとを準備し,
上記セラミックスグリーンシートの上面側及び下面側に
上記未焼結グリーンシートを配置し,最上層の上記未焼
結グリーンシートの上面に更に硬質多孔質体を載置して
荷重を加えた状態で,焼成することにより,上記セラミ
ックスグリーンシートを焼結させ,焼成体となし,その
後上記焼成体の上面側及び下面側の未焼結グリーンシー
ト及び上記硬質多孔質体を除去してセラミックス回路
板を作製することを特徴とするセラミックス回路基板の
製造方法にある。
【0006】本発明において最も注目すべきことは,セ
ラミックスグリーンシートの焼成の際に,セラミックス
グリーンシートの両面に未焼結グリーンシートを配置
し,かつセラミックスグリーンシートの上面に配置され
た上記未焼結グリーンシートの上に硬質多孔質体を載置
焼成することである。上記セラミックスグリーンシート
の内部又は表層には,誘電体,導体,抵抗体等よりなる
回路が形成されている。
【0007】上記セラミックスグリーンシートにはキャ
ビティを設けることもできる。この場合には,上記キャ
ビティ内に内部用の未焼結グリーンシートを配置するこ
とが好ましい。これにより,セラミックス基板のキャビ
ティに反りが発生することを防止することができる。上
記内部用の未焼結グリーンシートは,セラミックスグリ
ーンシートが焼成収縮した時点でキャビティ底面に荷重
が加わるようにするために,キャビティ内にその上方
向,平面方向に,セラミックスグリーンシートの焼成収
縮量に相当する空隙を設けて配置されることが好まし
い。
【0008】上記セラミックスグリーンシートは,セラ
ミックス材料をバインダー,可塑剤,溶剤等の混合剤と
混練し,これをシート状に成形したものである。上記セ
ラミックスグリーンシートとしては,1000℃以下の
温度で焼結する低温焼結基板材料を用いる上記低温焼
結基板材料としては,ガラス,ガラスセラミック等を用
いる。
【0009】上記導体としては,Ag系ペースト,Au
系ペースト等を用いる。上記誘電体としては,Pbペロ
ブスカイト系ペースト,BaTiO3 系ペースト等を用
いる。
【0010】上記未焼結グリーンシートは,上記セラミ
ックスグリーンシートの上面及び下面に配置される。未
焼結グリーンシートは,上記セラミックスグリーンシー
トの焼結温度では焼結しない,アルミナ,ムライト等の
材料を用いたものである。上記硬質多孔質体としては,
ハニカム構造のセラミック又は金属,空孔率の多いセラ
ミック板又は金属等がある。上記硬質多孔質体の空孔率
は30%以上であることが好ましい。30%未満の場合
には,焼成の際にセラミックスグリーンシートの脱バイ
ンダーを妨げるおそれがある。
【0011】セラミックスグリーンシートの上に載置さ
れる未焼結グリーンシート及び硬質多孔質体は,セラミ
ックスグリーンシートに対し均等な荷重を与えるもので
ある。上記荷重とは,未焼結グリーンシート及び硬質多
孔質体がセラミックスグリーンシートの上面に与える単
位面積当たりの圧力をいう。上記荷重は0.5g/cm
2 以上であることが好ましい。0.5g/cm2 未満の
場合には,セラミックス基板の反りを抑制することが困
難である。
【0012】
【作用及び効果】本発明においては,セラミックスグリ
ーンシートの上に未焼結グリーンシート及び硬質多孔質
体を載置して,セラミックスグリーンシートを焼成して
いる。そのため,セラミックスグリーンシートは,その
上面側から均等に荷重を受けながら焼結する。それ故,
反りが少ないセラミックス基板を得ることができる。
【0013】また,セラミックスグリーンシートの上面
側及び下面側には未焼結グリーンシートが配置されてい
る。そのため,セラミックスグリーンシート中のガラス
成分が硬質多孔質体に付着することがない。また,硬質
多孔質体は多孔質構造を有するため,セラミックスグリ
ーンシート及び未焼結グリーンシート中のバインダーを
外方に蒸散させやすい。そのため,セラミックスグリー
ンシートの内部まで十分に焼結させることができる。
【0014】また,上記未焼結グリーンシートは,焼成
による脱バインダー終了後に目砂状の微粉末となる。そ
のため,焼成後の未焼結グリーンシートは,セラミック
ス基板の表面から容易に剥離し易い状態となる。従っ
て,焼成により得られた焼成体を軽く叩く等の容易な操
作により,未焼結グリーンシートを上記焼成体から除去
することができる。本発明によれば,反りの発生を抑制
することができるセラミックス基板の製造方法を提供す
ることができる。
【0015】
【実施例】
実施例1 本発明のセラミックス基板の製造方法について,図1〜
図4を用いて説明する。本例の製造方法により得られた
多層板3は,図1に示すごとく,複数のセラミックス基
板31,32,33を積層してなる。多層板3の内部に
は,コンデンサ4と,導体5が充填されたバイアホール
38,39とが設けられている。上記コンデンサ4は,
導体パターン52,53を介して,バイアホール38,
39と導通している。バイアホール38,39は,多層
板3の下面側に設けられた端子51,54と電気的に接
続している。
【0016】次に,上記セラミックス基板の製造方法に
ついて説明する。まず,CaO−Al2 3 ─SiO2
─B2 3 系ガラス60重量%とアルミナ40重量%と
を混合してなるセラミックス材料に,バインダー,可塑
剤,溶剤を加えて混練し,これをドクターブレード法に
より成形し,厚さ0.3mmのセラミックスグリーンシ
ートを得た。
【0017】次に,図2に示すごとく,上記セラミック
スグリーンシート310に,バイアホール38,39を
穿設し,該バイアホール38,39内に導体5を充填し
た。次いで,セラミックスグリーンシート310の上面
側に,導体パターン53,コンデンサ4,及び導体パタ
ーン52を順次印刷した。また,セラミックスグリーン
シート310の下面には端子51,54を形成した。
【0018】導体パターン52,53,端子51,5
4,及び導体5としては,Ag系ペーストを用いた。コ
ンデンサ4としては,誘電体としてのPbペロブスカイ
ト系ペーストを用いた。次に,上記セラミックスグリー
ンシート310の上に,上記と同様に成形されたセラミ
ックスグリーンシート320,330を積層し,図3に
示す積層体30を得た。
【0019】次に,図4に示すごとく,上記積層体30
の上面側及び下面側に未焼結グリーンシート11,12
を配置し,これらをセッター6の上に配置した。未焼結
グリーンシート11,12は,アルミナ粉末100重量
%よりなる未焼結材料に,バインダー,可塑剤,溶剤を
加えて混練し,これをドクターブレード法により厚さ
0.25mmのシート状に成形したものである。
【0020】次いで,上記未焼結グリーンシート11の
上面側に,硬質多孔質体2を載置して,上記積層体30
に均等に荷重を加えた状態で,900℃以下にて焼成し
た。これにより,上記セラミックスグリーンシートを焼
結させ,焼成体を得た。硬質多孔質体2は,空孔率75
%のハニカム板である。また,積層体30には,未焼結
シート11及び多孔質体2により10g/cm2 の荷重
が均等に与えられる。その後,硬質多孔質体2及び未焼
結グリーンシート11,12を除去して,セラミックス
基板31,32,33からなる多層板3を得た(図
1)。
【0021】実施例2 本例の製造方法により得られた多層板36は,図5,図
6に示すごとく,複数のセラミックス基板31,32,
33を積層してなる。最上層のセラミックス基板33に
は,電子部品搭載用のキャビティ35が設けられてい
る。キャビティ35の周囲には,Auペーストよりなる
ワイヤーボンディングパッド50が設けられている。
【0022】上記多層板36を製造するに当たっては,
まず,実施例1と同様に成形されたセラミックスグリー
ンシートを打ち抜き加工して,キャビティ35を形成す
る。次いで,キャビティ35の周囲にAuペーストによ
りワイヤーボンディングパッド50を印刷する。次い
で,上記セラミックスグリーンシートを,他のセラミッ
クスグリーンシートの上に配置し,積層体とした。
【0023】次いで,図7に示すごとく,上記積層体3
60に形成されたキャビティ35の中に,内部用の未焼
結グリーンシート13を配置した。該内部用の未焼結グ
リーンシート13は,キャビティ35における上方向,
左右方向の空間内に,セラミックスグリーンシートの焼
成収縮量に相当する空隙350,351を設けて配置さ
れる。
【0024】これにより,セラミックスグリーンシート
が焼成収縮するために,セラミックスグリーンシートが
焼成収縮した時点でキャビティ35の底面及びセラミッ
クス基板33の表面に10g/cm2 の荷重が均等に加
わるようにした。その後,実施例1と同様にして,未焼
結グリーンシート11,12,セッター6,及び硬質多
孔質体2を用いて,多層板36を作製した。その他は,
実施例1と同様である。
【0025】実施例3 本例においては,セラミックスグリーンシートの焼成の
際に用いる未焼結グリーンシート及び硬質多孔質体を種
々に変えて,セラミックス基板の多層板を作製した(試
料1〜15)。そして,その外観評価をし,その結果を
表1に示した。試料1〜12は,内部にコンデンサを設
けた,実施例1と同様の多層板である。試料13〜15
は,キャビティを設けた,実施例2と同様の多層板であ
る。上記試料1〜15は,表1に示すごとく,セラミッ
クスグリーンシートの積層体の焼成時の条件を種々に変
えて作製されたものである。
【0026】焼成の際に用いる硬質多孔質体としては,
ハニカム板,アルミナ板,アルミナ目砂を用いた。アル
ミナ板とアルミナ目板を共に用いる場合には,未焼結グ
リーンシートの上面にアルミナ目砂を敷き,その上にア
ルミナ板を配置した(試料2)。未焼結グリーンシート
としては,実施例1と同様の未焼結グリーンシートを用
いた。
【0027】同表中,「空孔率」とは,硬質多孔質体の
空孔率をいう。「荷重」は,積層板の上面に加えられる
荷重をいう。試料13のキャビティ内には内部用の未焼
結グリーンシートが載置されており,その荷重は,セラ
ミックスグリーンシートが焼成収縮した時点でキャビテ
ィ35の底面及びセラミックス基板33の表面に10g
/cm2 の荷重が均等に加わるようにした。「*」は,
積層板に加わる荷重が,未焼結グリーンシートだけの重
さに由来することを示す。
【0028】上記評価をした結果,試料1〜試料5,試
料13,試料14(未焼結グリーンシート使用,硬質多
孔質体の空孔率30%以上,荷重0.5g/cm2
上)は,多層板の反りは70μm以下であった。また,
キャビティ内にも未焼結グリーンシートを載置した試料
13の多層板は,キャビティの反りも30μmと僅かで
あった。そして,試料1〜5,7,13の多層板は外観
も良好であった。
【0029】一方,試料8,9,10,15(荷重0.
5g/cm2 未満)は,多層板の反りが90μm以上で
あった。試料14,15(キャビティ内の未焼結グリー
ンシート無し)は,キャビティ35の反りが120μm
以上であった。図8に,キャビティ35に反りが発生し
た多層板39(試料14)を示す。試料6(空孔率0%
の硬質多孔質体使用)は,セラミックス基板の脱バイン
ダーが不十分であった。
【0030】試料11(セラミックスグリーンシートの
上面に直接硬質多孔質体を載置した)は,硬質多孔質体
としてのアルミナ板にセラミックスグリーンシートの材
料が付着した。また,試料12(セラミックスグリーン
シートの上面に目砂を敷いた)は,多層板の表面に目砂
が付着した。
【0031】これらのことは,以下のことを示す。即
ち,セラミックスグリーンシートの積層板の両面に未焼
結グリーンシートを配置すること,及び積層板の上に該
未焼結グリーンシートを介在させて硬質多孔質体を載置
することにより,セラミックス基板の反りを抑制するこ
とができる。また,キャビティ内にも未焼結グリーンシ
ートを載置して,キャビティの底面に荷重を加えること
により,キャビティの反りを抑制することができる。ま
た,セラミックスグリーンシートの上面への荷重は0.
5g/cm2 以上,硬質多孔質体の空孔率は30%以上
であることが好ましいことがわかる。
【0032】
【表1】
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1のセラミックス基板の断面図。
【図2】実施例1のセラミックス基板の製造方法を示す
説明図。
【図3】図2に続く,製造工程説明図。
【図4】実施例1のセラミックスグリーンシートの焼成
方法を示す説明図。
【図5】実施例2のセラミックス基板の断面図。
【図6】実施例2のセラミックス基板の平面図。
【図7】実施例2のセラミックスグリーンシートの焼成
方法を示す説明図。
【図8】実施例3における,試料14の多層板の反り具
合を示す説明図。
【符号の説明】
11,12,13...未焼結グリーンシート, 2...硬質多孔質体, 3,36...多層板, 31,32,33...セラミックス基板, 310,320,330...セラミックスグリーンシ
ート, 35...キャビティ, 4...コンデンサ, 50...ワイヤーボンディングパッド, 6...セッター,
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中居 俊博 山口県美祢市大嶺町東分字岩倉2701番1 株式会社住友金属セラミックス内 (56)参考文献 特開 昭60−246269(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C04B 35/64

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表層又は/及び内層に,少なくとも誘電
    体,導体又は抵抗体のいずれか1種以上を有するセラミ
    ック回路基板を製造する方法において, 表層又は/及び内層に,少なくとも誘電体,導体又は抵
    抗体のいずれか1種以上を形成した1000℃以下の低
    温で焼結する低温焼結基板材料からなる セラミックスグ
    リーンシートと,該セラミックスグリーンシートの焼結
    温度では焼結しない未焼結グリーンシートとを準備し, 上記セラミックスグリーンシートの上面側及び下面側に
    上記未焼結グリーンシートを配置し,最上層の上記未焼
    結グリーンシートの上面に更に硬質多孔質体を載置して
    荷重を加えた状態で,焼成することにより,上記セラミ
    ックスグリーンシートを焼結させ,焼成体となし, その後上記焼成体の上面側及び下面側の未焼結グリーン
    シート及び上記硬質多孔質体を除去してセラミックス
    基板を作製することを特徴とするセラミックス回路
    板の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1において,上記未焼結グリーン
    シートはアルミナであることを特徴とするセラミックス
    回路基板の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1において,上記硬質多孔質体の
    空孔率は30%以上であることを特徴とするセラミック
    回路基板の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項1において,上記硬質多孔質体は
    ハニカム板であることを特徴とするセラミックス回路
    板の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1において,上記焼成時の荷重は
    0.5g/cm2 以上であることを特徴とするセラミッ
    クス回路基板の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項1において,上記セラミックスグ
    リーンシートはキャビティを有し,該キャビティ内に
    は,未焼結グリーンシートが配置されていることを特徴
    とするセラミックス回路基板の製造方法。
JP5146927A 1993-05-25 1993-05-25 セラミックス回路基板の製造方法 Expired - Lifetime JP2955442B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5146927A JP2955442B2 (ja) 1993-05-25 1993-05-25 セラミックス回路基板の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5146927A JP2955442B2 (ja) 1993-05-25 1993-05-25 セラミックス回路基板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06329476A JPH06329476A (ja) 1994-11-29
JP2955442B2 true JP2955442B2 (ja) 1999-10-04

Family

ID=15418725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5146927A Expired - Lifetime JP2955442B2 (ja) 1993-05-25 1993-05-25 セラミックス回路基板の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2955442B2 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3601671B2 (ja) * 1998-04-28 2004-12-15 株式会社村田製作所 複合積層体の製造方法
JP3687484B2 (ja) * 1999-06-16 2005-08-24 株式会社村田製作所 セラミック基板の製造方法および未焼成セラミック基板
JP3554962B2 (ja) 1999-10-28 2004-08-18 株式会社村田製作所 複合積層体およびその製造方法
JP3709802B2 (ja) 2001-03-28 2005-10-26 株式会社村田製作所 多層セラミック基板の製造方法
JP4599783B2 (ja) * 2001-09-20 2010-12-15 株式会社村田製作所 低温焼成セラミック回路基板の製造方法
JP2003249756A (ja) * 2002-02-26 2003-09-05 Kyocera Corp ガラスセラミック基板の製造方法
CN100418769C (zh) * 2002-11-25 2008-09-17 京瓷株式会社 压电陶瓷、促动器及其制造方法、印刷头及喷墨打印机
CN115557795A (zh) * 2022-09-07 2023-01-03 广东环波新材料有限责任公司 一种低温共烧陶瓷基板烧平方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH06329476A (ja) 1994-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3322199B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JP3687484B2 (ja) セラミック基板の製造方法および未焼成セラミック基板
US7618843B2 (en) Method of fabricating multilayer ceramic substrate
KR100356678B1 (ko) 다층 세라믹 기판의 제조방법
US20050126682A1 (en) Monolithic ceramic substrate and method for making the same
JP2001119143A (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JP2584911B2 (ja) ガラス−セラミック多層回路基板の製造方法
JP2955442B2 (ja) セラミックス回路基板の製造方法
JP3646587B2 (ja) 多層セラミック基板およびその製造方法
JPH10308584A (ja) セラミック多層基板およびその製造方法
JPH06100377A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP4122612B2 (ja) 低温焼成セラミック回路基板
JP4688460B2 (ja) コンデンサ内蔵ガラスセラミック多層配線基板
JPH11354924A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
EP1189495A1 (en) Method of manufacturing multilayer ceramic substrate, and conductor paste
JP2001085839A (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP4089356B2 (ja) 多層セラミック基板の製造方法
JP2004095767A (ja) セラミック多層基板およびその製造方法
JP3898653B2 (ja) ガラスセラミック多層配線基板の製造方法
JP4084696B2 (ja) 低温焼成多層セラミック配線基板の製法
JP3111865B2 (ja) セラミック基板の製造方法
JPH04125990A (ja) 多層セラミックス回路基板およびその製造方法
US6395337B1 (en) Substrate with ceramic coating for camber modification and method for making
JP2681328B2 (ja) 回路基板の製造方法
JP2700920B2 (ja) コンデンサー内蔵複合回路基板

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080716

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090716

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090716

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100716

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100716

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110716

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110716

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120716

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130716

Year of fee payment: 14

EXPY Cancellation because of completion of term