JP2943328B2 - レジスト現像装置 - Google Patents
レジスト現像装置Info
- Publication number
- JP2943328B2 JP2943328B2 JP40383290A JP40383290A JP2943328B2 JP 2943328 B2 JP2943328 B2 JP 2943328B2 JP 40383290 A JP40383290 A JP 40383290A JP 40383290 A JP40383290 A JP 40383290A JP 2943328 B2 JP2943328 B2 JP 2943328B2
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- JP
- Japan
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- resist
- substrate
- liquid supply
- processing liquid
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- Expired - Fee Related
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスク等に用いら
れる露光済みレジスト被膜を有する被処理基板（以下、
レジスト原盤という）のレジスト現象を均一に行うレジ
スト現像装置に関する。
れる露光済みレジスト被膜を有する被処理基板（以下、
レジスト原盤という）のレジスト現象を均一に行うレジ
スト現像装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のレジスト現像装置を図２を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【０００３】図２において、予めレーザ露光装置により
露光されたレジスト原盤１をカップ５内に設けられモー
ター３によって駆動され回転するターンテーブル２上に
固定する。次にターンテーブル２を低速回転させカップ
５に退避している液供給ノズル４ａをターンテーブル２
の回転中心付近に移動する。その後液供給ノズル４ａよ
り前水洗用の純水をレジスト原盤１の表面上に供給す
る。供給された純水モーター３の回転によって生ずる遠
心力によりレジスト原盤１の外周へ拡がりレジスト原盤
１の表面を洗浄する。次に純水と現像液の供給を切り替
え、液供給ノズル４ａより現像液を供給する。供給され
た現像液はモーター３の回転による遠心力によりレジス
ト原盤１の表面を均一に覆い、レーザ露光機で露光され
た部分のレジストをエッチングし凹凸の溝を形成してい
く。その後現像液を純水の供給に切り替え供給ノズル４
ａより純水を供給し後水洗を十分行った後、液供給ノズ
ル４ａよりの液供給を停止し液供給ノズル４ａをカップ
５外に退避させ、モーター３の回転数を高速回転させる
ことにより、レジスト原盤１の表面に付着している水を
遠心力で飛ばして乾燥させる。なお、現像によって生じ
た処理済み廃液は排水口６より排出される。
露光されたレジスト原盤１をカップ５内に設けられモー
ター３によって駆動され回転するターンテーブル２上に
固定する。次にターンテーブル２を低速回転させカップ
５に退避している液供給ノズル４ａをターンテーブル２
の回転中心付近に移動する。その後液供給ノズル４ａよ
り前水洗用の純水をレジスト原盤１の表面上に供給す
る。供給された純水モーター３の回転によって生ずる遠
心力によりレジスト原盤１の外周へ拡がりレジスト原盤
１の表面を洗浄する。次に純水と現像液の供給を切り替
え、液供給ノズル４ａより現像液を供給する。供給され
た現像液はモーター３の回転による遠心力によりレジス
ト原盤１の表面を均一に覆い、レーザ露光機で露光され
た部分のレジストをエッチングし凹凸の溝を形成してい
く。その後現像液を純水の供給に切り替え供給ノズル４
ａより純水を供給し後水洗を十分行った後、液供給ノズ
ル４ａよりの液供給を停止し液供給ノズル４ａをカップ
５外に退避させ、モーター３の回転数を高速回転させる
ことにより、レジスト原盤１の表面に付着している水を
遠心力で飛ばして乾燥させる。なお、現像によって生じ
た処理済み廃液は排水口６より排出される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の液供給
ノズル４ａを有するレジスト現像装置では、液供給によ
って生ずる処理液の吐出圧力によるレジストの機械的浸
食を防止するため処理液を未露光部であるレジスト原盤
の回転中心付近に供給し、モーター３の回転によって生
ずる遠心力によりレジスト原盤１の外周へ処理液を拡げ
ている。そのため、外周部は内周部に比べ表面積が広く
半径方向外側への処理液到達時間が不均一になり、レジ
スト原盤１の全面の現像が不均一になりやすいという問
題があった。
ノズル４ａを有するレジスト現像装置では、液供給によ
って生ずる処理液の吐出圧力によるレジストの機械的浸
食を防止するため処理液を未露光部であるレジスト原盤
の回転中心付近に供給し、モーター３の回転によって生
ずる遠心力によりレジスト原盤１の外周へ処理液を拡げ
ている。そのため、外周部は内周部に比べ表面積が広く
半径方向外側への処理液到達時間が不均一になり、レジ
スト原盤１の全面の現像が不均一になりやすいという問
題があった。
【０００５】本発明は、短時間内に処理液をレジスト原
盤の全面に拡散し、均一で安定した現像が可能なレジス
ト現像装置を提供することを目的とする。
盤の全面に拡散し、均一で安定した現像が可能なレジス
ト現像装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、露光済みレジスト被膜を有する被処理基板
をその被処理基板の中心を回転軸として回転させる回転
機構と、前記被処理基板の表面に現像液および純水を供
給する処理液供給機構と、前記被処理基板の周囲を囲む
カップと、前記被処理基板の回転中心上方に位置する処
理液供給機構の液供給ノズル先端に、前記被処理基板と
間隙ができるように前記被処理基板中央部で平行に対面
させた前記ノズルと一体化した処理液整流円盤とを備
え、処理液を前記処理液整流円盤の中心より供給し、前
記回転機構による遠心力で前記表面に前記処理液を供給
できるようにしたものである。
に本発明は、露光済みレジスト被膜を有する被処理基板
をその被処理基板の中心を回転軸として回転させる回転
機構と、前記被処理基板の表面に現像液および純水を供
給する処理液供給機構と、前記被処理基板の周囲を囲む
カップと、前記被処理基板の回転中心上方に位置する処
理液供給機構の液供給ノズル先端に、前記被処理基板と
間隙ができるように前記被処理基板中央部で平行に対面
させた前記ノズルと一体化した処理液整流円盤とを備
え、処理液を前記処理液整流円盤の中心より供給し、前
記回転機構による遠心力で前記表面に前記処理液を供給
できるようにしたものである。
【０００７】
【作用】上記した構成により、液供給ノズルを配管する
ことにより圧送されてくる処理液は、液供給ノズル先端
に取り付けられた処理液整流円盤とレジスト原盤の表面
とからなる微小の間隙により、レジスト原盤の表面外周
方向へ噴出すると共に、当該噴出は回転機構の回転軸に
よるレジスト原盤に付与される遠心力によりレジスト原
盤の外周部まで拡散する。すなわち回転による遠心力と
処理液の噴出力により短時間で均一に拡散し、均一な現
像を行うことができ、ノズルに一体化した回転しない処
理液整流円盤と、中央部からの距離に伴い回転線速度が
速くなるレジスト原盤との間での処理液の不要な攪拌を
抑制できるため、露光表面の吐出圧力及びレジスト表面
の処理液の攪拌力が加わらなく、レジストの機械的浸食
を防止できる。
ことにより圧送されてくる処理液は、液供給ノズル先端
に取り付けられた処理液整流円盤とレジスト原盤の表面
とからなる微小の間隙により、レジスト原盤の表面外周
方向へ噴出すると共に、当該噴出は回転機構の回転軸に
よるレジスト原盤に付与される遠心力によりレジスト原
盤の外周部まで拡散する。すなわち回転による遠心力と
処理液の噴出力により短時間で均一に拡散し、均一な現
像を行うことができ、ノズルに一体化した回転しない処
理液整流円盤と、中央部からの距離に伴い回転線速度が
速くなるレジスト原盤との間での処理液の不要な攪拌を
抑制できるため、露光表面の吐出圧力及びレジスト表面
の処理液の攪拌力が加わらなく、レジストの機械的浸食
を防止できる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例について、図面に基
づいて説明する。
づいて説明する。
【０００９】図１に本発明の一実施例を示す。レーザ露
光装置により予め露光されたレジスト原盤１をカップ５
内に設けられたモーター３によって駆動され回転するタ
ーンテーブル２上に固定する。次にターンテーブル２を
低速回転させカップ５外に退避しているレジスト原盤１
の中央部の未露光領域内の大きさを有する処理液整流円
盤７を先端に設けた液供給ノズル４をターンテーブル２
の回転中心付近に移動する。その後液供給ノズル４、処
理液整流円盤７とレジスト原盤１の表面によって構成さ
れた間隙８より前水洗用の純水をレジスト原盤１表面上
に供給する。供給された純水はモーター３の回転によっ
て生ずる遠心力と間隙８からの処理液噴出圧力により短
時間でレジスト原盤１の外周へ拡がりレジスト原盤１の
表面を洗浄する。次いで純水と現像液の供給を切り替
え、液供給ノズル４の先端に設けられた処理液整流円盤
７とレジスト原盤１の表面で構成された間隙８より現像
液をレジスト原盤１の表面上に供給する。供給された現
像液はモーター３の回転力によって生ずる遠心力と間隙
８からの現像液噴出圧力により短時間でレジスト原盤１
の外周へ到達し、レーザ露光機で露光された部分のレジ
ストを均一にエッチングし凹凸の溝を形成していく。そ
の後現像液を純水の供給に切り替え液供給ノズル４、間
隙８より純水を供給し水洗を十分行った後、処理液整流
円盤７を設けた液供給ノズル４からの液供給を停止し、
処理液整流円盤７を設けた液供給ノズル４をカップ５の
外に退避させる。その後モーター３の回転数を上記水洗
及び現像時よりさらに高速回転させることにより、レジ
スト原盤１の表面に付着している水を遠心力により飛ば
し、乾燥させる。なお、現像によって生じた処理済み廃
液は排水口６より排出される。
光装置により予め露光されたレジスト原盤１をカップ５
内に設けられたモーター３によって駆動され回転するタ
ーンテーブル２上に固定する。次にターンテーブル２を
低速回転させカップ５外に退避しているレジスト原盤１
の中央部の未露光領域内の大きさを有する処理液整流円
盤７を先端に設けた液供給ノズル４をターンテーブル２
の回転中心付近に移動する。その後液供給ノズル４、処
理液整流円盤７とレジスト原盤１の表面によって構成さ
れた間隙８より前水洗用の純水をレジスト原盤１表面上
に供給する。供給された純水はモーター３の回転によっ
て生ずる遠心力と間隙８からの処理液噴出圧力により短
時間でレジスト原盤１の外周へ拡がりレジスト原盤１の
表面を洗浄する。次いで純水と現像液の供給を切り替
え、液供給ノズル４の先端に設けられた処理液整流円盤
７とレジスト原盤１の表面で構成された間隙８より現像
液をレジスト原盤１の表面上に供給する。供給された現
像液はモーター３の回転力によって生ずる遠心力と間隙
８からの現像液噴出圧力により短時間でレジスト原盤１
の外周へ到達し、レーザ露光機で露光された部分のレジ
ストを均一にエッチングし凹凸の溝を形成していく。そ
の後現像液を純水の供給に切り替え液供給ノズル４、間
隙８より純水を供給し水洗を十分行った後、処理液整流
円盤７を設けた液供給ノズル４からの液供給を停止し、
処理液整流円盤７を設けた液供給ノズル４をカップ５の
外に退避させる。その後モーター３の回転数を上記水洗
及び現像時よりさらに高速回転させることにより、レジ
スト原盤１の表面に付着している水を遠心力により飛ば
し、乾燥させる。なお、現像によって生じた処理済み廃
液は排水口６より排出される。
【００１０】この実施例では、レーザ露光機で露光した
部分のレジストをエッチングする場合について説明した
が露光しない部分のレジストをエッチングする場合につ
いても同様であることはいうまでもない。
部分のレジストをエッチングする場合について説明した
が露光しない部分のレジストをエッチングする場合につ
いても同様であることはいうまでもない。
【００１１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、現像に使用する処理液を短時間内にレジスト原
盤全面に拡散し、均一で安定した現像が可能であり、中
央部からの距離に伴い回転線速度が大きくなる原盤表面
のレジストに対し不要な処理液の攪拌を抑制しながら処
理液を分散できるため、処理液の吐出圧力による未露光
領域と露光領域との境界部におけるレジストの機械的な
浸食を受けることもないレジスト現像装置を実現するこ
とができる。
よれば、現像に使用する処理液を短時間内にレジスト原
盤全面に拡散し、均一で安定した現像が可能であり、中
央部からの距離に伴い回転線速度が大きくなる原盤表面
のレジストに対し不要な処理液の攪拌を抑制しながら処
理液を分散できるため、処理液の吐出圧力による未露光
領域と露光領域との境界部におけるレジストの機械的な
浸食を受けることもないレジスト現像装置を実現するこ
とができる。
【図１】本発明の一実施例におけるレジスト現像装置の
構成図
構成図
【図２】従来のレジスト現像装置の構成図
１ レジスト原盤（被処理基板） ２ ターンテーブル（回転機構） ３ モーター（回転機構） ４ 液供給ノズル ５ カップ ７ 処理液整流円盤 ８ 間隙
Claims (1)
- 【請求項１】 光ディスク基板を作成するレジスト付基
板のレジストを現像する装置であって、 露光済みレジスト被膜を有する被処理基板をその被処理
基板の中心を回転軸として回転させる回転機構と、 前記被処理基板の表面に現像液および純水を供給する処
理液供給機構と、 前記被処理基板の周囲を囲むカップと、 前記被処理基板の回転中心上方に位置する処理液供給機
構の液供給ノズル先端に、前記被処理基板と間隙ができ
るように前記被処理基板中央部で平行に対面させた前記
ノズルと一体化した処理液整流円盤とを備え、 処理液を前記処理液整流円盤の中心より供給し、前記回
転機構による遠心力で前記表面に前記処理液を供給する
レジスト現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40383290A JP2943328B2 (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | レジスト現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40383290A JP2943328B2 (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | レジスト現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04217257A JPH04217257A (ja) | 1992-08-07 |
| JP2943328B2 true JP2943328B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=18513561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40383290A Expired - Fee Related JP2943328B2 (ja) | 1990-12-19 | 1990-12-19 | レジスト現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2943328B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11301049A (ja) | 1998-03-27 | 1999-11-02 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | プリンタ、プリンタ・システム、印字属性を変更して印字をおこなう方法、プリンタを制御するプログラムを格納した記録媒体 |
| JP6215787B2 (ja) * | 2014-07-25 | 2017-10-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| JP6482597B2 (ja) * | 2017-05-23 | 2019-03-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像方法、現像装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
1990
- 1990-12-19 JP JP40383290A patent/JP2943328B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04217257A (ja) | 1992-08-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080625 Year of fee payment: 9 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090625 |
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